JPS5932138A - 半導体被覆用ガラス - Google Patents
半導体被覆用ガラスInfo
- Publication number
- JPS5932138A JPS5932138A JP57143056A JP14305682A JPS5932138A JP S5932138 A JPS5932138 A JP S5932138A JP 57143056 A JP57143056 A JP 57143056A JP 14305682 A JP14305682 A JP 14305682A JP S5932138 A JPS5932138 A JP S5932138A
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- JP
- Japan
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- glass
- pbo
- weight
- powder
- zno
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、シリコン単結晶を素材としたダイオード、サ
イリスター、トランジスター等の半導体素子のPN接合
部を含む表面を、保護あるいは安定化(パシベーション
)のために、被覆するガラスに係り、特にシリコンウエ
ハーの表面に直接被覆するのに好適なガラスに関する。
イリスター、トランジスター等の半導体素子のPN接合
部を含む表面を、保護あるいは安定化(パシベーション
)のために、被覆するガラスに係り、特にシリコンウエ
ハーの表面に直接被覆するのに好適なガラスに関する。
この半導体被覆用ガラスに要求される特性としては、(
1)ガラスの熱膨張係数が半導体素子のそれに適合する
こと、(2)半導体素子表面に悪影響を与えるアルカリ
成分等の不純物を含まないこと、(3)高温では半導体
素子の特性が劣化する恐れがあるため、封着温度が90
0℃以下であること、(4)半導体素子に対する密着性
が良いこと、(5)エッチング処理による電極形成など
の半導体製造工程のために良好な耐酸性を有すること、
(6)ガラスが被覆された半導体素子を逆バイアスにし
て、高温で熱処理する、いわゆるブロッキング試験に対
して、特性劣化が生じないこと等があげられる。
1)ガラスの熱膨張係数が半導体素子のそれに適合する
こと、(2)半導体素子表面に悪影響を与えるアルカリ
成分等の不純物を含まないこと、(3)高温では半導体
素子の特性が劣化する恐れがあるため、封着温度が90
0℃以下であること、(4)半導体素子に対する密着性
が良いこと、(5)エッチング処理による電極形成など
の半導体製造工程のために良好な耐酸性を有すること、
(6)ガラスが被覆された半導体素子を逆バイアスにし
て、高温で熱処理する、いわゆるブロッキング試験に対
して、特性劣化が生じないこと等があげられる。
従来、この種の被覆用ガラスとして、ZnOを主成分と
するZnO−B2O3系ガラス、いわゆる亜鉛系ガラス
と、PbOを主成分とするPbO−SiO2系ガラス、
いわゆる鉛系ガラスが用いられている。
するZnO−B2O3系ガラス、いわゆる亜鉛系ガラス
と、PbOを主成分とするPbO−SiO2系ガラス、
いわゆる鉛系ガラスが用いられている。
しかし、この従来の被覆用ガラスのうち、亜鉛系ガラス
は、電気特性、特にブロッキング特性が優れている反面
、耐酸性が劣っており、半導体の製造工程が複雑になる
欠点をもっている。一方、鉛系ガラスは亜鉛系ガラスに
比べ耐酸性が優れているという利点がある反面、高温で
のブロッキング試験において、時間経過とともに、逆漏
れ電流が増加するという欠点をもっている。
は、電気特性、特にブロッキング特性が優れている反面
、耐酸性が劣っており、半導体の製造工程が複雑になる
欠点をもっている。一方、鉛系ガラスは亜鉛系ガラスに
比べ耐酸性が優れているという利点がある反面、高温で
のブロッキング試験において、時間経過とともに、逆漏
れ電流が増加するという欠点をもっている。
本発明の目的は、先記の被覆用ガラスとして要求される
諸特性に優れた半導体被覆用ガラス、特に、従来の鉛系
ガラスと亜鉛系ガラスの欠点を解消し、耐酸性に優れ、
ブロッキング試験に対して安定なガラスを提供すること
である。
諸特性に優れた半導体被覆用ガラス、特に、従来の鉛系
ガラスと亜鉛系ガラスの欠点を解消し、耐酸性に優れ、
ブロッキング試験に対して安定なガラスを提供すること
である。
本発明によれば、PbOを40〜70重量%含有する非
結晶性のPbO−SiO2系ガラス粉末に、ZnO−B
2O3系ガラス粉末を重量%比で45%まで混合するこ
とにより、前記目的に合致する半導体被覆用ガラスを得
ることに成功した。
結晶性のPbO−SiO2系ガラス粉末に、ZnO−B
2O3系ガラス粉末を重量%比で45%まで混合するこ
とにより、前記目的に合致する半導体被覆用ガラスを得
ることに成功した。
本発明の被覆用ガラスにおいて、非結晶性のPbO−S
iO2系ガラス粉末としては、主たる成分が重量%で、
PbO40〜70%、SiO220〜50%、Al2O
30〜20%、B2O30〜15%からなるガラスが使
用され得る。
iO2系ガラス粉末としては、主たる成分が重量%で、
PbO40〜70%、SiO220〜50%、Al2O
30〜20%、B2O30〜15%からなるガラスが使
用され得る。
この鉛系ガラスは、封着温度を900℃以下にするため
に550〜800℃の軟化点を有すること、またシリコ
ンの熱膨張係数に適合するために30〜55×10−7
/℃(30〜300℃)の熱膨張係数を有することが必
要である。前記、PbO−SiO2系ガラスに混合され
るZnO−B2O3系ガラス粉末としては、主たる成分
が重量%でZnO45〜75%、B2O315〜35%
、SiO22〜20%からなるガラスが使用され、必要
に応じて更にPbO、CeO2、Sb2O3、Bi2O
3、Ta2O5、MnO2、AS2O3、Al2O3、
Nb2O5、SnO2等が含有され得る。本発明におい
ては、非結晶性PbO−SiO2系ガラス粉末に、Zn
O−B2O3系ガラス粉末が重量比で45%まで混合さ
れる。45%を超えると耐酸性が大巾に減少するので不
適当である。
に550〜800℃の軟化点を有すること、またシリコ
ンの熱膨張係数に適合するために30〜55×10−7
/℃(30〜300℃)の熱膨張係数を有することが必
要である。前記、PbO−SiO2系ガラスに混合され
るZnO−B2O3系ガラス粉末としては、主たる成分
が重量%でZnO45〜75%、B2O315〜35%
、SiO22〜20%からなるガラスが使用され、必要
に応じて更にPbO、CeO2、Sb2O3、Bi2O
3、Ta2O5、MnO2、AS2O3、Al2O3、
Nb2O5、SnO2等が含有され得る。本発明におい
ては、非結晶性PbO−SiO2系ガラス粉末に、Zn
O−B2O3系ガラス粉末が重量比で45%まで混合さ
れる。45%を超えると耐酸性が大巾に減少するので不
適当である。
下記第1表にPbO−SiO2系の鉛系ガラス(A、B
、C)とZnO−B2O3系の亜鉛系ガラス(D、E)
の組成例を示す。第2表に第1表のガラスを各々混合し
た本発明にかかるガラスの実施例を示す。表中の耐酸性
は、ガラス粉末を焼成したブロックを25℃の37%H
Cl:49%HF=9:1の溶液に1分間浸漬し、その
ブロックの厚み減を測定することにより行った。
、C)とZnO−B2O3系の亜鉛系ガラス(D、E)
の組成例を示す。第2表に第1表のガラスを各々混合し
た本発明にかかるガラスの実施例を示す。表中の耐酸性
は、ガラス粉末を焼成したブロックを25℃の37%H
Cl:49%HF=9:1の溶液に1分間浸漬し、その
ブロックの厚み減を測定することにより行った。
以下余白
上記表から、第2表の本発明にかかるガラスは、第1表
中の亜鉛系ガラスD、Eに比べて優れた耐酸性を示し、
実施例4、8のように、ガラスD、Eを40%と多く混
合した場合にも良好な耐酸性を示すことがわかる。第2
表に示した本発明のガラスを半導体素子に被覆し、これ
に700Vの逆方向電圧を印加し、150℃で1000
時間保持するブロッキング試験をしたところ、逆漏れ電
流の増加はなく安定していることが認められた。
中の亜鉛系ガラスD、Eに比べて優れた耐酸性を示し、
実施例4、8のように、ガラスD、Eを40%と多く混
合した場合にも良好な耐酸性を示すことがわかる。第2
表に示した本発明のガラスを半導体素子に被覆し、これ
に700Vの逆方向電圧を印加し、150℃で1000
時間保持するブロッキング試験をしたところ、逆漏れ電
流の増加はなく安定していることが認められた。
以上説明した本発明にかかるガラスは、優れた諸特性、
特に耐酸性が優れているので、電極形成時のエッチング
液にさらしても腐蝕が全く認められず、良好な保護作用
をし、また、高温高電圧のブロッキング試験にも長時間
に亘って安定なため、信頼性の高い半導体素子を得るこ
とができる。
特に耐酸性が優れているので、電極形成時のエッチング
液にさらしても腐蝕が全く認められず、良好な保護作用
をし、また、高温高電圧のブロッキング試験にも長時間
に亘って安定なため、信頼性の高い半導体素子を得るこ
とができる。
本発明のガラスは半導体素子の表面に直接被覆する半導
体装置だけでなく、電極を含めて半導体素子全体を厚い
ガラス層で被覆する、いわゆるモールド型半導体装置に
も適用できる。
体装置だけでなく、電極を含めて半導体素子全体を厚い
ガラス層で被覆する、いわゆるモールド型半導体装置に
も適用できる。
特許出願人
日本電気硝子株式会社
代表者 長崎 準■
Claims (3)
- (1)PbOを40〜70重量%含有し、軟化点が55
0〜800℃熱膨張係数が30〜55×10−7/℃(
30〜300℃)の非結晶性のPbO−SiO2系ガラ
ス粉末に、ZnO−B2O3系ガラス粉末を重量比で4
5%まで混合してなる半導体被覆用ガラス。 - (2)前記PbO−SiO2系ガラス粉末は、主たる成
分が重量%でPbO40〜70%、SiO220〜50
%、Al2O30〜20%、B2O30〜15%からな
る特許請求の範囲第1項記載の半導体被覆用ガラス。 - (3)前記ZnO−B2O3系ガラス粉末は、主たる成
分が、重量%でZnO45〜75%、B2O315〜3
5%、SiO22〜20%からなる特許請求の範囲第1
項記載の半導体被覆用ガラス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57143056A JPS5932138A (ja) | 1982-08-18 | 1982-08-18 | 半導体被覆用ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57143056A JPS5932138A (ja) | 1982-08-18 | 1982-08-18 | 半導体被覆用ガラス |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5932138A true JPS5932138A (ja) | 1984-02-21 |
JPS6366417B2 JPS6366417B2 (ja) | 1988-12-20 |
Family
ID=15329880
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57143056A Granted JPS5932138A (ja) | 1982-08-18 | 1982-08-18 | 半導体被覆用ガラス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5932138A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009008237A (ja) * | 2007-06-29 | 2009-01-15 | Nok Corp | エンジン騒音低減装置 |
-
1982
- 1982-08-18 JP JP57143056A patent/JPS5932138A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009008237A (ja) * | 2007-06-29 | 2009-01-15 | Nok Corp | エンジン騒音低減装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6366417B2 (ja) | 1988-12-20 |
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