JPS5932138A - 半導体被覆用ガラス - Google Patents

半導体被覆用ガラス

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Publication number
JPS5932138A
JPS5932138A JP57143056A JP14305682A JPS5932138A JP S5932138 A JPS5932138 A JP S5932138A JP 57143056 A JP57143056 A JP 57143056A JP 14305682 A JP14305682 A JP 14305682A JP S5932138 A JPS5932138 A JP S5932138A
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JP
Japan
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glass
pbo
weight
powder
zno
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Granted
Application number
JP57143056A
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English (en)
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JPS6366417B2 (ja
Inventor
Takehiro Shibuya
武宏 渋谷
Kazuo Hatano
和夫 波多野
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Nippon Electric Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Electric Glass Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Electric Glass Co Ltd filed Critical Nippon Electric Glass Co Ltd
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Publication of JPS5932138A publication Critical patent/JPS5932138A/ja
Publication of JPS6366417B2 publication Critical patent/JPS6366417B2/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104Forming layers
    • H01L21/02107Forming insulating materials on a substrate

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Formation Of Insulating Films (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、シリコン単結晶を素材としたダイオード、サ
イリスター、トランジスター等の半導体素子のPN接合
部を含む表面を、保護あるいは安定化(パシベーション
)のために、被覆するガラスに係り、特にシリコンウエ
ハーの表面に直接被覆するのに好適なガラスに関する。
この半導体被覆用ガラスに要求される特性としては、(
1)ガラスの熱膨張係数が半導体素子のそれに適合する
こと、(2)半導体素子表面に悪影響を与えるアルカリ
成分等の不純物を含まないこと、(3)高温では半導体
素子の特性が劣化する恐れがあるため、封着温度が90
0℃以下であること、(4)半導体素子に対する密着性
が良いこと、(5)エッチング処理による電極形成など
の半導体製造工程のために良好な耐酸性を有すること、
(6)ガラスが被覆された半導体素子を逆バイアスにし
て、高温で熱処理する、いわゆるブロッキング試験に対
して、特性劣化が生じないこと等があげられる。
従来、この種の被覆用ガラスとして、ZnOを主成分と
するZnO−B2O3系ガラス、いわゆる亜鉛系ガラス
と、PbOを主成分とするPbO−SiO2系ガラス、
いわゆる鉛系ガラスが用いられている。
しかし、この従来の被覆用ガラスのうち、亜鉛系ガラス
は、電気特性、特にブロッキング特性が優れている反面
、耐酸性が劣っており、半導体の製造工程が複雑になる
欠点をもっている。一方、鉛系ガラスは亜鉛系ガラスに
比べ耐酸性が優れているという利点がある反面、高温で
のブロッキング試験において、時間経過とともに、逆漏
れ電流が増加するという欠点をもっている。
本発明の目的は、先記の被覆用ガラスとして要求される
諸特性に優れた半導体被覆用ガラス、特に、従来の鉛系
ガラスと亜鉛系ガラスの欠点を解消し、耐酸性に優れ、
ブロッキング試験に対して安定なガラスを提供すること
である。
本発明によれば、PbOを40〜70重量%含有する非
結晶性のPbO−SiO2系ガラス粉末に、ZnO−B
2O3系ガラス粉末を重量%比で45%まで混合するこ
とにより、前記目的に合致する半導体被覆用ガラスを得
ることに成功した。
本発明の被覆用ガラスにおいて、非結晶性のPbO−S
iO2系ガラス粉末としては、主たる成分が重量%で、
PbO40〜70%、SiO220〜50%、Al2O
30〜20%、B2O30〜15%からなるガラスが使
用され得る。
この鉛系ガラスは、封着温度を900℃以下にするため
に550〜800℃の軟化点を有すること、またシリコ
ンの熱膨張係数に適合するために30〜55×10−7
/℃(30〜300℃)の熱膨張係数を有することが必
要である。前記、PbO−SiO2系ガラスに混合され
るZnO−B2O3系ガラス粉末としては、主たる成分
が重量%でZnO45〜75%、B2O315〜35%
、SiO22〜20%からなるガラスが使用され、必要
に応じて更にPbO、CeO2、Sb2O3、Bi2O
3、Ta2O5、MnO2、AS2O3、Al2O3、
Nb2O5、SnO2等が含有され得る。本発明におい
ては、非結晶性PbO−SiO2系ガラス粉末に、Zn
O−B2O3系ガラス粉末が重量比で45%まで混合さ
れる。45%を超えると耐酸性が大巾に減少するので不
適当である。
下記第1表にPbO−SiO2系の鉛系ガラス(A、B
、C)とZnO−B2O3系の亜鉛系ガラス(D、E)
の組成例を示す。第2表に第1表のガラスを各々混合し
た本発明にかかるガラスの実施例を示す。表中の耐酸性
は、ガラス粉末を焼成したブロックを25℃の37%H
Cl:49%HF=9:1の溶液に1分間浸漬し、その
ブロックの厚み減を測定することにより行った。
以下余白 上記表から、第2表の本発明にかかるガラスは、第1表
中の亜鉛系ガラスD、Eに比べて優れた耐酸性を示し、
実施例4、8のように、ガラスD、Eを40%と多く混
合した場合にも良好な耐酸性を示すことがわかる。第2
表に示した本発明のガラスを半導体素子に被覆し、これ
に700Vの逆方向電圧を印加し、150℃で1000
時間保持するブロッキング試験をしたところ、逆漏れ電
流の増加はなく安定していることが認められた。
以上説明した本発明にかかるガラスは、優れた諸特性、
特に耐酸性が優れているので、電極形成時のエッチング
液にさらしても腐蝕が全く認められず、良好な保護作用
をし、また、高温高電圧のブロッキング試験にも長時間
に亘って安定なため、信頼性の高い半導体素子を得るこ
とができる。
本発明のガラスは半導体素子の表面に直接被覆する半導
体装置だけでなく、電極を含めて半導体素子全体を厚い
ガラス層で被覆する、いわゆるモールド型半導体装置に
も適用できる。
特許出願人 日本電気硝子株式会社 代表者 長崎 準■

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)PbOを40〜70重量%含有し、軟化点が55
    0〜800℃熱膨張係数が30〜55×10−7/℃(
    30〜300℃)の非結晶性のPbO−SiO2系ガラ
    ス粉末に、ZnO−B2O3系ガラス粉末を重量比で4
    5%まで混合してなる半導体被覆用ガラス。
  2. (2)前記PbO−SiO2系ガラス粉末は、主たる成
    分が重量%でPbO40〜70%、SiO220〜50
    %、Al2O30〜20%、B2O30〜15%からな
    る特許請求の範囲第1項記載の半導体被覆用ガラス。
  3. (3)前記ZnO−B2O3系ガラス粉末は、主たる成
    分が、重量%でZnO45〜75%、B2O315〜3
    5%、SiO22〜20%からなる特許請求の範囲第1
    項記載の半導体被覆用ガラス。
JP57143056A 1982-08-18 1982-08-18 半導体被覆用ガラス Granted JPS5932138A (ja)

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JP57143056A JPS5932138A (ja) 1982-08-18 1982-08-18 半導体被覆用ガラス

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JP57143056A JPS5932138A (ja) 1982-08-18 1982-08-18 半導体被覆用ガラス

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JPS5932138A true JPS5932138A (ja) 1984-02-21
JPS6366417B2 JPS6366417B2 (ja) 1988-12-20

Family

ID=15329880

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JP57143056A Granted JPS5932138A (ja) 1982-08-18 1982-08-18 半導体被覆用ガラス

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JP (1) JPS5932138A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009008237A (ja) * 2007-06-29 2009-01-15 Nok Corp エンジン騒音低減装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009008237A (ja) * 2007-06-29 2009-01-15 Nok Corp エンジン騒音低減装置

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JPS6366417B2 (ja) 1988-12-20

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