JPS5927074B2 - X線管 - Google Patents
X線管Info
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- JPS5927074B2 JPS5927074B2 JP51082424A JP8242476A JPS5927074B2 JP S5927074 B2 JPS5927074 B2 JP S5927074B2 JP 51082424 A JP51082424 A JP 51082424A JP 8242476 A JP8242476 A JP 8242476A JP S5927074 B2 JPS5927074 B2 JP S5927074B2
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Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
- A61B6/02—Arrangements for diagnosis sequentially in different planes; Stereoscopic radiation diagnosis
- A61B6/03—Computed tomography [CT]
- A61B6/032—Transmission computed tomography [CT]
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
- A61B6/40—Arrangements for generating radiation specially adapted for radiation diagnosis
- A61B6/4021—Arrangements for generating radiation specially adapted for radiation diagnosis involving movement of the focal spot
- A61B6/4028—Arrangements for generating radiation specially adapted for radiation diagnosis involving movement of the focal spot resulting in acquisition of views from substantially different positions, e.g. EBCT
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/14—Arrangements for concentrating, focusing, or directing the cathode ray
- H01J35/153—Spot position control
Landscapes
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- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はX線管におけるリボン状電子ビームの゛偏向に
関し、さらに詳細には例えば走査放射線装置において使
用されるX線管のビーム偏向に関するものである。
関し、さらに詳細には例えば走査放射線装置において使
用されるX線管のビーム偏向に関するものである。
1またはそれ以上の放射線ビームが被検査体の横断面を
横切る方向に走査されるようになされた例えば特願昭4
9−99443号に記載されているような走査放射線写
真装置においては、X線ビームに対して非機械的な走査
を与えるのが好都合であることがありうる。
横切る方向に走査されるようになされた例えば特願昭4
9−99443号に記載されているような走査放射線写
真装置においては、X線ビームに対して非機械的な走査
を与えるのが好都合であることがありうる。
そのような走査は、延長されたアノードターゲットを横
切る方向に典型的にはリボン状の入射電子ビームを走査
させて入射点従って放出されるX線の位置を変化させる
ようにすることによって実現されうる。
切る方向に典型的にはリボン状の入射電子ビームを走査
させて入射点従って放出されるX線の位置を変化させる
ようにすることによって実現されうる。
このような走査X線管を使用した典型的な装置が特願昭
50−136127号に記載されている。
50−136127号に記載されている。
このような走査の過程においては、非偏向時に平担なリ
ボン状ストリップであるようになされた電子ビームが走
査磁界のために歪まされて、その結果、X線ビームに歪
みを生せしめることがありうる。
ボン状ストリップであるようになされた電子ビームが走
査磁界のために歪まされて、その結果、X線ビームに歪
みを生せしめることがありうる。
X線ビームの歪みはリボン状の電子ビームがアノードに
傾斜角度をもって入射する結果としても発生しうるもの
である。
傾斜角度をもって入射する結果としても発生しうるもの
である。
しかしながら、所望のX線分布を保持するために、走査
時にターゲットに対する電子ビームの入射を同じ配向状
態に維持することが望ましい。
時にターゲットに対する電子ビームの入射を同じ配向状
態に維持することが望ましい。
電子ビームを走査させることは例えはテレビジョンや電
子ビーム溶接技術においてよく知られている。
子ビーム溶接技術においてよく知られている。
そのような走査は通常円形状に対称な電子ビームの歪み
を与えることになりうる。
を与えることになりうる。
典型的には反対方向の歪みを導入することによって、前
記のような歪みを補正するための円形状に対称なコイル
装置を用いる方法が提案されている。
記のような歪みを補正するための円形状に対称なコイル
装置を用いる方法が提案されている。
典型的な構成が、電子ビーム溶接に関する英国特許第1
078826号に記載されている。
078826号に記載されている。
その英国特許の明細書には、被加工物に対する走査時に
電子ビームに円形横断面を維持するようにその電子ビー
ムを予め歪ませるために用いられる6個のコイルを円形
状に対称に配置することが示されている。
電子ビームに円形横断面を維持するようにその電子ビー
ムを予め歪ませるために用いられる6個のコイルを円形
状に対称に配置することが示されている。
しかしながら、英国特許第1078826号および他の
刊行物は、頌斜されたX線ターゲットに対する被走査リ
ボン状電子ビームの入射の領域の配向を維持することが
望ましいということについては伺ら教示していない。
刊行物は、頌斜されたX線ターゲットに対する被走査リ
ボン状電子ビームの入射の領域の配向を維持することが
望ましいということについては伺ら教示していない。
また、それらの先行文献はこれを実現するための適当な
手段についても何ら教示していない。
手段についても何ら教示していない。
本発明の目的は、上述のようなX線管において上記入射
の領域の正しい配向を維持するための手段を提供するこ
とを目的とするものである。
の領域の正しい配向を維持するための手段を提供するこ
とを目的とするものである。
本発明によれば、ビームの進行方向に直交する第1の方
向に比較的狭くかつ該第1の方向および前記進行方向に
直交する第2の方向に比較的幅広いリボン状電子ビーム
の放出源と、前記第1の方向に延長せしめられかつ前記
第2の方向に対して傾斜せしめられた表面を有しており
、入射する電子に応答して前記第2の方向でありうる選
択された方向に関してX線を照射せしめるようになされ
たターゲットと、前記第1の方向に該ターゲットに沿っ
てビームの入射の領域を走査するように電子ビームを偏
向させる手段と、偏向されたビームの入射の領域が偏向
されていないビームの入射の領域に実質的に平行な直線
領域にあるように前記電子ビームの形状を前記偏向に依
存して変化させるための補正手段とを包含するX線管が
提供される。
向に比較的狭くかつ該第1の方向および前記進行方向に
直交する第2の方向に比較的幅広いリボン状電子ビーム
の放出源と、前記第1の方向に延長せしめられかつ前記
第2の方向に対して傾斜せしめられた表面を有しており
、入射する電子に応答して前記第2の方向でありうる選
択された方向に関してX線を照射せしめるようになされ
たターゲットと、前記第1の方向に該ターゲットに沿っ
てビームの入射の領域を走査するように電子ビームを偏
向させる手段と、偏向されたビームの入射の領域が偏向
されていないビームの入射の領域に実質的に平行な直線
領域にあるように前記電子ビームの形状を前記偏向に依
存して変化させるための補正手段とを包含するX線管が
提供される。
本発明の1つの実施例においては、前記補正手段は、前
記電子ビームを、該電子ビームが受けた偏向歪にもとづ
く屈曲とは反対方向に屈曲せしめることによって、偏向
の程度に依存した前記入射の領域の屈曲を補正するよう
になされる。
記電子ビームを、該電子ビームが受けた偏向歪にもとづ
く屈曲とは反対方向に屈曲せしめることによって、偏向
の程度に依存した前記入射の領域の屈曲を補正するよう
になされる。
本発明の他の実施例においては、前記補正手段は、前記
偏向に比例した角度だけ、前記電子ビームを前記偏向さ
れないビームに対して傾斜させて前記ターゲットの表面
の傾斜された配向にかかわらず前記偏向されたビームの
入射の領域を前記偏向されないビームのそれと実質的に
平行に維持するようになされる。
偏向に比例した角度だけ、前記電子ビームを前記偏向さ
れないビームに対して傾斜させて前記ターゲットの表面
の傾斜された配向にかかわらず前記偏向されたビームの
入射の領域を前記偏向されないビームのそれと実質的に
平行に維持するようになされる。
前記補正手段は、電子ビームを頌斜させるとともに、電
子ビームを、電子ビームが受けた偏向歪にもとづく屈曲
とは反対方向に屈曲せしめて偏向歪を打消すのが好まし
い。
子ビームを、電子ビームが受けた偏向歪にもとづく屈曲
とは反対方向に屈曲せしめて偏向歪を打消すのが好まし
い。
以下図面を参照して本発明の実施例につき説明しよう。
第1図には、走度用X線管を含むコンピユータ化された
軸線方向断層写真(CAT)用走査装置として知られて
いる型式の放射線写真装置の典型的な例が示されている
。
軸線方向断層写真(CAT)用走査装置として知られて
いる型式の放射線写真装置の典型的な例が示されている
。
横断面で示されている被検査体1は、横断面で示されて
いる適当な形状のベッド2上に支持されている。
いる適当な形状のベッド2上に支持されている。
X線に対する吸収の点で人体の組織に類似した物質3は
、被検査体1とベッド2との間にそれら間の間隙から空
気を実質的に排除するために配置されている。
、被検査体1とベッド2との間にそれら間の間隙から空
気を実質的に排除するために配置されている。
物質3はまた被検査体のまわりにも部分的に延長せしめ
られて放射線にほぼ円形の横断面を与えるようになされ
ている。
られて放射線にほぼ円形の横断面を与えるようになされ
ている。
被検査体はストラップ4のような手段によって所望の位
置にしっかりと保持される。
置にしっかりと保持される。
ベッド2と被検査体1は回転部材6の開孔5内に挿入さ
れ、被検査体の所望の部分がその開孔の中心に位置決め
される。
れ、被検査体の所望の部分がその開孔の中心に位置決め
される。
回転部材6は、被検査体の長手力向即ち図面の長面に直
交する方向の軸線のまわりで回転するようになされてい
る。
交する方向の軸線のまわりで回転するようになされてい
る。
その目的のために、回転部材6はそれの周面に形成され
た歯車歯に係合する3個の歯車8a、8b、8cによっ
て支持されている。
た歯車歯に係合する3個の歯車8a、8b、8cによっ
て支持されている。
それらの歯車8は装置の主フレームに承支されている。
回転部材6は、それの周囲をめぐりかつ図面の平面に対
して直交する方向に歯車8から偏位された位置において
該周囲に係合する有歯ベルトを介してモータ10によっ
て駆動される。
して直交する方向に歯車8から偏位された位置において
該周囲に係合する有歯ベルトを介してモータ10によっ
て駆動される。
回転部材6はまたX線13の放射線源12と、検知器の
列14と、それらの検知器に関連せしめられたコリメー
ク14′とを担持している。
列14と、それらの検知器に関連せしめられたコリメー
ク14′とを担持している。
放射線源12は細長いターゲット・アノード構体15,
16と、電子ビーム18を発生する電子銃17と、偏向
コイル19とを包含している。
16と、電子ビーム18を発生する電子銃17と、偏向
コイル19とを包含している。
偏向コイル19はトロイダル状のものとして示されてい
るが、必要に応じそれにかえてサドル状コイルまたは偏
向板を用いてもよい。
るが、必要に応じそれにかえてサドル状コイルまたは偏
向板を用いてもよい。
X線の扇形13aおよび13cを発生する両端放射線源
スポット位置20a、20cが示されており、これから
れかるように、放射線源スポットの任意の位置において
、X線の扇形13は被検査体を包含しかつ検知器14に
入射するようになされている。
スポット位置20a、20cが示されており、これから
れかるように、放射線源スポットの任意の位置において
、X線の扇形13は被検査体を包含しかつ検知器14に
入射するようになされている。
それらの検知器は放射線源スポット20の任意の位置に
対して放射線を受取ることができなけれはならないこと
およびコリメータ14′はそれを許容するのに適したも
のでなけれはならないことが理解されるであろう。
対して放射線を受取ることができなけれはならないこと
およびコリメータ14′はそれを許容するのに適したも
のでなけれはならないことが理解されるであろう。
動作時においては、検知器(典型的な例では200個設
けられる)が放射線源スポット20から放射線を受取る
。
けられる)が放射線源スポット20から放射線を受取る
。
モータ10は回転部材6とその上に取付けられた装置と
を回転させ、そして検知器の出力が適当な期間にわたっ
て積分されて、個々のビーム通路に沿って被検査体中を
通る放射線に関連した出力信号が得られる。
を回転させ、そして検知器の出力が適当な期間にわたっ
て積分されて、個々のビーム通路に沿って被検査体中を
通る放射線に関連した出力信号が得られる。
スポット20は回転運動と予め定められた関係をもって
ターゲット・アノード構体15,16に沿っても移動さ
れ、所望の配向をもって上記ビーム通路を被検査体中に
与える。
ターゲット・アノード構体15,16に沿っても移動さ
れ、所望の配向をもって上記ビーム通路を被検査体中に
与える。
然る後、上記出力信号は例えば特願昭49−47032
号に記載されているようにして(全体として36で示さ
れている処理回路で)処理されて、表示ユニット37上
に表示するために被検査体の1つの領域における放射線
の吸収の分布が与えられうる。
号に記載されているようにして(全体として36で示さ
れている処理回路で)処理されて、表示ユニット37上
に表示するために被検査体の1つの領域における放射線
の吸収の分布が与えられうる。
放射線源スポットと回転との間の適当な関係は特願昭5
0−136127号に記載されている。
0−136127号に記載されている。
回転部材6は、彫り込み線を有する透明基板である目盛
21をも担持している。
21をも担持している。
フォトセル・光源ユニット22は上記彫り込み線による
光通路の断続によって生ぜしめられかつ回転を表わす信
号を与える。
光通路の断続によって生ぜしめられかつ回転を表わす信
号を与える。
これらの信号は、出力信号を積分するために処理回路3
6に包含されている積分器を動作させるために用いられ
る。
6に包含されている積分器を動作させるために用いられ
る。
それらの信号はまたタイミングパルス整形回路23にも
与えられ、その整形回路はコントロールスイッチ24か
ら始動および停市信号をも受取る。
与えられ、その整形回路はコントロールスイッチ24か
ら始動および停市信号をも受取る。
回路32からの整形されたパルスは、放射線源スポット
を回転と関連づけるためにX線管12のコイル19に与
えるための偏向波形を発生させるようになされた主タイ
ミング回路25に供給される。
を回転と関連づけるためにX線管12のコイル19に与
えるための偏向波形を発生させるようになされた主タイ
ミング回路25に供給される。
タイミング信号を発生させかつ放射線源スポット走査を
制御するためにそれらのタイミング信号を使用する方法
としては、必要に応じて任意適当なものを用いうろこと
が理解されるであろう。
制御するためにそれらのタイミング信号を使用する方法
としては、必要に応じて任意適当なものを用いうろこと
が理解されるであろう。
X線管12の構成要素の配向は簡明のために第1図にお
けるごとく示されたが、後で示される配向のほうがより
実用的であることに注意すべきである。
けるごとく示されたが、後で示される配向のほうがより
実用的であることに注意すべきである。
X線管12についてさらに詳細にみると、そのX線管は
第2図に簡略化された形で示されており、そこでは、本
発明を理解するのに不必要な管の外被体(エンベロープ
)や冷却用接続具等のような構成要素は省略されている
。
第2図に簡略化された形で示されており、そこでは、本
発明を理解するのに不必要な管の外被体(エンベロープ
)や冷却用接続具等のような構成要素は省略されている
。
本発明の説明を助けるために、X、yおよび2方向にお
ける直角座標軸が示されている。
ける直角座標軸が示されている。
電子ビーム18は適当に集束されて図示された座標のX
方向における小さい寸法の領域においてターゲット15
に衝突するようになされている。
方向における小さい寸法の領域においてターゲット15
に衝突するようになされている。
タングステンで形成されうるターゲット15は、電子銃
17に対して適当な正の電位を有するアノード部材16
に組み込まれている。
17に対して適当な正の電位を有するアノード部材16
に組み込まれている。
アノード部材16は銅で形成されうるものでありかつ適
当に冷却される。
当に冷却される。
アノード部材とターゲットは任意適当な公知のX線源の
ものと同様の横断面を有しうるものである。
ものと同様の横断面を有しうるものである。
しかしながら、本発明においては、それらはX方向に延
長せしめられた長さを有している。
長せしめられた長さを有している。
第1図において概略的なトロイダル状として示された電
子ビーム走査手段19は電子ビームをターゲット15に
沿ってX方向に走査して、そのターゲットに沿った一連
の位置(それらの位置のうちの幾つかが18a、18b
および18cで示されいる)を採らしめるために設けら
れている。
子ビーム走査手段19は電子ビームをターゲット15に
沿ってX方向に走査して、そのターゲットに沿った一連
の位置(それらの位置のうちの幾つかが18a、18b
および18cで示されいる)を採らしめるために設けら
れている。
X線13は、10キロ電子ボルトの領域のエネルギーを
有する電子によって発生される場合には、電子ビームが
ターゲットに衝突する点において、その電子ビームに対
して約50°の角度をなしてターゲットから放出される
。
有する電子によって発生される場合には、電子ビームが
ターゲットに衝突する点において、その電子ビームに対
して約50°の角度をなしてターゲットから放出される
。
放射線源から放出されたX線を矢印13で示された所定
の方向に実質的に制限するための手段(これについては
後でさらに説明する)が設けられており、そしてこれら
のX線は適当な窓を通じてX線管から外に出るようにな
されている。
の方向に実質的に制限するための手段(これについては
後でさらに説明する)が設けられており、そしてこれら
のX線は適当な窓を通じてX線管から外に出るようにな
されている。
前述のように必要とされた直線走査運動は偏向手段19
がターゲット15に沿って電子ビームを適当に走査せし
めるようにすることによって与えられる。
がターゲット15に沿って電子ビームを適当に走査せし
めるようにすることによって与えられる。
放射線源と検知器の配列は前述のように第1図において
X方向に示された共通の軸線のまわりで回転される。
X方向に示された共通の軸線のまわりで回転される。
放出されたX線を所望の領域に制限するための適当なコ
リメータ機構が、座標’xtYおよび2で示されている
ように第2図に関連せしめられた第3図に示されている
。
リメータ機構が、座標’xtYおよび2で示されている
ように第2図に関連せしめられた第3図に示されている
。
X方向におけるX線ビームの走査は吸収シールド27の
スリット26によって制限されて、そのX線ビームが、
X方向には、被検査体1の検査されるべき領域の所要の
厚さよりも大きい領域に照射しないようになされる。
スリット26によって制限されて、そのX線ビームが、
X方向には、被検査体1の検査されるべき領域の所要の
厚さよりも大きい領域に照射しないようになされる。
吸収シールド27はもし所望されればX線管の壁に設け
られてもよくあるいはそのX線管の内部または外部に設
けられてもよい。
られてもよくあるいはそのX線管の内部または外部に設
けられてもよい。
スリット26は所望の範囲の走査を許容するように選定
された長さを有している。
された長さを有している。
このコリメータ機構は図面に示されているようにX方向
におけるビームのある程度の拡がりを許容することが理
解されるであろう。
におけるビームのある程度の拡がりを許容することが理
解されるであろう。
この拡がりが全検知器配列に照射するのに必要な拡がり
より大きい場合には、そのような拡がりを制限するため
に他のコリメータ(図示せず)が設けられうる。
より大きい場合には、そのような拡がりを制限するため
に他のコリメータ(図示せず)が設けられうる。
さらに、X線系統の扇形ビームにおけるエネルギーの角
度分布に基因する誤差は吸収係数のマツプを計算する場
合に補償されうる。
度分布に基因する誤差は吸収係数のマツプを計算する場
合に補償されうる。
その目的のために、系統がまず較正される。
即ち、放射線源と検知器との間の吸収を既知とした状態
でX線分布が測定される。
でX線分布が測定される。
アノード部材16とターゲット15の形状は走査X線源
の任意所要の適用に適合するように選定されうる。
の任意所要の適用に適合するように選定されうる。
これまで説明してきた構成はすべての必須不可欠の点に
おいて特願昭50−103883号および特願昭50−
136127号に記載されているものと同様である。
おいて特願昭50−103883号および特願昭50−
136127号に記載されているものと同様である。
典型的な実施例においては、電子ビーム18は、第3a
図に示されているようにX方向に所望の厚さを有するX
線ビームを発生するためにX方向に直交する線に沿って
ターゲット15に入射するようにリボン状をなしている
。
図に示されているようにX方向に所望の厚さを有するX
線ビームを発生するためにX方向に直交する線に沿って
ターゲット15に入射するようにリボン状をなしている
。
ターゲット15上におけるX線源の走査のすべての位置
に対して、そのターゲットに対する電子の入射線は、X
線ビームの望ましくない歪みを防上するためにX方向に
対して直交する状態にあることが必要とされる。
に対して、そのターゲットに対する電子の入射線は、X
線ビームの望ましくない歪みを防上するためにX方向に
対して直交する状態にあることが必要とされる。
しかしながら、2つの要因がこの入射線を乱そうとする
。
。
それらの要因は両方ともビームの形を後述するように変
化させるべく電子ビーム走査機構を修正することによっ
て補正される。
化させるべく電子ビーム走査機構を修正することによっ
て補正される。
しかしながら、これら2つの要因は実際には異なる作用
をなすものであるから、個々に説明することにする。
をなすものであるから、個々に説明することにする。
リボン状の電子ビームは、電子の進行方向に直交する1
つの方向に大きい寸法を有しかつ直交方向に比較的狭く
なっている薄いスt−IJツブの形をなしている。
つの方向に大きい寸法を有しかつ直交方向に比較的狭く
なっている薄いスt−IJツブの形をなしている。
リボンの幅と呼ばれうる大きい寸法の方向はこの実施例
では2方向として与えられているものであり、厚さと呼
ばれうる狭い寸法とビームの進行方向とは直交関係にあ
り、従ってそれらはそれぞれX方向およびX方向である
。
では2方向として与えられているものであり、厚さと呼
ばれうる狭い寸法とビームの進行方向とは直交関係にあ
り、従ってそれらはそれぞれX方向およびX方向である
。
第4図を参照すると、偏向されていないビームが18で
示されており、この場合、ビームの進行方向即ちy軸は
紙面に垂直に入り込む方向であり、y軸、y軸は図示の
ごとくである。
示されており、この場合、ビームの進行方向即ちy軸は
紙面に垂直に入り込む方向であり、y軸、y軸は図示の
ごとくである。
走査の目的のためには、ビームはX方向に左右に偏向さ
れかつ2軸に平行な状態に保持されなけれはならない。
れかつ2軸に平行な状態に保持されなけれはならない。
しかしながら、正弦波電流分布の典型的な公知の偏向コ
イルによって偏向すると、左右における偏向されたビー
ム18Lおよび18Rのようにビーム形状に歪みが生じ
てしまう。
イルによって偏向すると、左右における偏向されたビー
ム18Lおよび18Rのようにビーム形状に歪みが生じ
てしまう。
従って、ターゲット15に対するビーム18Lおよび1
8Rの入射線についてもそれに対応する歪みが生ずる。
8Rの入射線についてもそれに対応する歪みが生ずる。
ビーム幅はその幅と偏向角度の二乗に依存した大きさだ
け減少され、そしてその偏向角度とビーム幅の二乗に比
例する大きさだけ屈曲される。
け減少され、そしてその偏向角度とビーム幅の二乗に比
例する大きさだけ屈曲される。
電子ビームの幅の変化は公知の手段によって補正されう
るが、しかしながら、その手段は上記の屈曲を補正しな
いから、本発明の一局面においてはそのような補正を与
えることが意図されている。
るが、しかしながら、その手段は上記の屈曲を補正しな
いから、本発明の一局面においてはそのような補正を与
えることが意図されている。
本発明はビーム幅の変化に対する補正をも与えうるもの
であることに注意されるべきである。
であることに注意されるべきである。
本発明のこの局面のための構成が第5図に示されている
。
。
トロイダル磁気コア33上に巻線31a。31b、31
cおよび32a、32b、32cが設けられている。
cおよび32a、32b、32cが設けられている。
この磁気コアは主走査コイルに使用されるものと同じも
のであってもよくあるいは別個に設けられてもよい。
のであってもよくあるいは別個に設けられてもよい。
上記巻線はビームの寸法と実質的に同じコアの長さを占
めるようになされている。
めるようになされている。
外側部分31a、31cおよび32a。32cはそれぞ
れ同じ方向にT回巻回されていてビームの外側部分を1
つの方向に偏向させ、他方、中心部分31bおよび32
bはそれぞれ反対方向に2T回巻回されていてビームの
中心部分を反対方向に偏向させる。
れ同じ方向にT回巻回されていてビームの外側部分を1
つの方向に偏向させ、他方、中心部分31bおよび32
bはそれぞれ反対方向に2T回巻回されていてビームの
中心部分を反対方向に偏向させる。
このようにして発生される磁界が破線で示されており、
このような構成は第4図に示された屈曲を補正すること
がわかるであろう。
このような構成は第4図に示された屈曲を補正すること
がわかるであろう。
コイルに流される電流は主走査電流と同じ波形を有しか
つ適切な補正に適した振幅を有している。
つ適切な補正に適した振幅を有している。
X線ビームの歪みの第2の形態は使用されるX線ターゲ
ットの配置およびそのターゲットに対する偏向された電
子ビームの入射に基因して生ずる。
ットの配置およびそのターゲットに対する偏向された電
子ビームの入射に基因して生ずる。
この点の構成については第6図に斜視図で示されている
。
。
第6図において実線で示された表面HMLKは、電子が
右側から入射するターゲット15の表面の一部分を表わ
している。
右側から入射するターゲット15の表面の一部分を表わ
している。
電子ビームの可能な位置が矢印線で示されており、破線
はこの構成の幾何学的形状についての理解を助けるため
に示されているものである。
はこの構成の幾何学的形状についての理解を助けるため
に示されているものである。
直角記号もそれと同じ目的のために示されているもので
ある。
ある。
ターゲットHMLKは、放出されたX線を所望の下方向
に照射させるためにxz平面HIJKに対して角度αだ
け傾斜されている。
に照射させるためにxz平面HIJKに対して角度αだ
け傾斜されている。
偏向されていないビーム18はBRにおいて平面HIJ
Kと交差しそしてzy面内にあってZ軸に対して角度α
だけ傾斜された線BSにおいてターゲットに入射する。
Kと交差しそしてzy面内にあってZ軸に対して角度α
だけ傾斜された線BSにおいてターゲットに入射する。
勿論、偏向されるビームは同じ放射線源によって放出さ
れかつ異なる点において平面HIJKと交差する。
れかつ異なる点において平面HIJKと交差する。
しかしながら、幾何学的形状の観点からは、偏向された
ビーム18Rが同じ線BR上で平面HIJKと交差し、
偏向がxy平面内のみにあるように放射線源を動かすこ
とによって角度θの偏向が得られたと考えるのが都合が
よい。
ビーム18Rが同じ線BR上で平面HIJKと交差し、
偏向がxy平面内のみにあるように放射線源を動かすこ
とによって角度θの偏向が得られたと考えるのが都合が
よい。
その場合には、偏向されたビーム18Rは線BG上でタ
ーゲットに衝突しかつそのターゲットが傾斜しているが
ために、線BGはX方向に傾斜していることが明らかで
あろう。
ーゲットに衝突しかつそのターゲットが傾斜しているが
ために、線BGはX方向に傾斜していることが明らかで
あろう。
このことは補正することを所望されるX線ビームの望ま
しくない歪みを生せしめるものであり、理想的な状況は
ターゲットに対するビームの入射線が常にyz平面内に
あるということである。
しくない歪みを生せしめるものであり、理想的な状況は
ターゲットに対するビームの入射線が常にyz平面内に
あるということである。
ビームが線BSに平行な線NGに入射すれは、ビーム偏
向角度θの場合に所望の効果が得られることが明らかで
あろう。
向角度θの場合に所望の効果が得られることが明らかで
あろう。
そのことが該当するところの偏向されたビーム18R′
は線BRに対して角度βだけ傾斜された線NRにおいて
平面HIJKと交差することも明らかであろう。
は線BRに対して角度βだけ傾斜された線NRにおいて
平面HIJKと交差することも明らかであろう。
事実、その偏向されたビームを2方向に対して角度βだ
け傾斜させることによって補正が実現される。
け傾斜させることによって補正が実現される。
上記の状況の幾何学的な点について解析すると、となる
。
。
従って、本発明の装置は、偏向角度θとターゲラt−1
1−J斜角度αに関して式(1)によって定義された角
度βだけ偏向ビームを回転させるようになされているも
のである。
1−J斜角度αに関して式(1)によって定義された角
度βだけ偏向ビームを回転させるようになされているも
のである。
第7図に示された構成には、第5図のコア33に類似し
たトロイダルコア36上に巻装された4つのコイル34
a、34bおよび35a、35bが設けられている。
たトロイダルコア36上に巻装された4つのコイル34
a、34bおよび35a、35bが設けられている。
一対のコイルの各半分aおよびbは等しい巻数を有して
おり、それら2つの半分は破線で示されている磁界パタ
ーンを与えるように互いに逆関係に接続されている。
おり、それら2つの半分は破線で示されている磁界パタ
ーンを与えるように互いに逆関係に接続されている。
tanαが一定であるとしてtanθに比例する走査電
流は、すべての走査位置についてビームを垂直方向に保
持するために適当な振幅でもってコイルに供給される。
流は、すべての走査位置についてビームを垂直方向に保
持するために適当な振幅でもってコイルに供給される。
上記の実施例の双方について示されたトロイダルコアは
必要に応じて主走査コイルの巻線に先行しうるかあるい
はそれに包含されうろことが理解されるであろう。
必要に応じて主走査コイルの巻線に先行しうるかあるい
はそれに包含されうろことが理解されるであろう。
同様の結果を得るためにはトロイドにかえて四角形のヨ
ークとサドル型のコイルを用いてもよく、あるいは同じ
結果を得るために静電型の偏向機構を用いてもよい。
ークとサドル型のコイルを用いてもよく、あるいは同じ
結果を得るために静電型の偏向機構を用いてもよい。
第1図は本発明によるX線管を用いた典型的な装置を示
す図、第2図および第3図はそのようなX線管の基本的
な動作を説明するための図、第4図は電子ビームの歪み
の一形態を説明するための図、第5図はこの歪みを補、
正するために用いられるコイル構成を示す図、第6図は
ターゲットにおける入射領域tこ対する電子ビームの偏
向の作用を示す図、第7図はこの作用を補正するために
用いられるコイル構成を示す図である。 1・・・・・・被検査体、2・・・・・・ベッド、5・
・・・・・開孔、6・・・・・・回転部材、12・・・
・・・放射線源(X線管)、13・・・・・・X線、1
4・・・・・・検知器の列、14′・・・・・・コリメ
ータ、15,16・・・・・・ターゲット・アノード構
体、17・・・・・・電子銃、18・・・・・・電子ビ
ーム、19・・・・・・偏向コイル、20・・・・・・
放射線源スポット、22・・・・・・フォトセル・光源
ユニット、23・・・・・・タイミングパルス整形回路
、26・・・・・・スリット、27・・・・・・吸収シ
ールド、31a、31b、31c・・・・・・巻線、3
2a、32b、32c・・・・・・巻線、33・・・・
・・トロイダル磁気コア、34a、34b・・・・・・
コイル、35 a 、 35 b・・−−コイル。
す図、第2図および第3図はそのようなX線管の基本的
な動作を説明するための図、第4図は電子ビームの歪み
の一形態を説明するための図、第5図はこの歪みを補、
正するために用いられるコイル構成を示す図、第6図は
ターゲットにおける入射領域tこ対する電子ビームの偏
向の作用を示す図、第7図はこの作用を補正するために
用いられるコイル構成を示す図である。 1・・・・・・被検査体、2・・・・・・ベッド、5・
・・・・・開孔、6・・・・・・回転部材、12・・・
・・・放射線源(X線管)、13・・・・・・X線、1
4・・・・・・検知器の列、14′・・・・・・コリメ
ータ、15,16・・・・・・ターゲット・アノード構
体、17・・・・・・電子銃、18・・・・・・電子ビ
ーム、19・・・・・・偏向コイル、20・・・・・・
放射線源スポット、22・・・・・・フォトセル・光源
ユニット、23・・・・・・タイミングパルス整形回路
、26・・・・・・スリット、27・・・・・・吸収シ
ールド、31a、31b、31c・・・・・・巻線、3
2a、32b、32c・・・・・・巻線、33・・・・
・・トロイダル磁気コア、34a、34b・・・・・・
コイル、35 a 、 35 b・・−−コイル。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ビームの進行方向に直交する第1の方向に比較的狭
くかつ該第1の方向および前記進行方向に直交する第2
の方向に比較的幅広いリボン状電子ビームの放出源と、
前記第1の方向に延長せしめられかつ前記第2の方向に
対して傾斜せしめられた表面を有しており、入射する電
子に応答して前記第2の方向でありうる選択された方向
に関してX線を照射せしめるようになされたターゲット
と、前記第1の方向に該ターゲットに沿ってビームの入
射の領域を走査するように電子ビームを偏向させる手段
と、偏向されたビームの入射の領域が偏向されていない
ビームの入射の領域に実質的に平行な直線領域にあるよ
うに前記電子ビームの形状を前記偏向に依存して変化さ
せるための補正手段とを包含するX線管。 2 前記補正手段は、前記電子ビームを、該電子ビーム
が受けた偏向歪にもとづく屈曲とは反対方向に屈曲せし
めることによって、前記偏向の程度に関連した前記入射
の領域の屈曲を補正するようになされている特許請求の
範囲第1項に記載されたX線管。 3 前記補正手段が前記ビームの中心部分を1つの方向
にそして両端部分を反対方向に附加的に偏向させて前記
反対方向の屈曲を与えるようになされている特許請求の
範囲第2項に記載されたX線管。 4 前記補正手段は前記第1の方向における前記ビーム
の各側に複数のコイルを包含している特許請求の範囲第
3項に記載されたX線管。 5 前記補正手段が、隣接コイルが逆極性の磁界を発生
するようになされた6個のコイルを有している特許請求
の範囲第4項に記載されたX線管。 6 前記コイルは前記偏向手段を形成するようにもなさ
れたコイル系統に包含されている特許請求の範囲第4汁
たは5項に記載されたX線管。 7 前記補正手段は前記偏向に依存した角度だけ、前記
偏向されていないビームに対して前記電子ビームを傾斜
させて、前記ターゲットの表面の傾斜した配向に拘らず
、前記偏向されたビームの入射領域を前記偏向されない
ビームのそれに対して実質的に平行状態に維持するよう
になされている特許請求の範囲第1項に記載されたX線
管。 8 前記補正手段は前記電子ビームを偏向されていない
ビームに対して角度βだけ傾斜させる(ただしβはta
n’(tanθ・tanα)として与えられ、θは偏向
角度であり、αはターゲットの表面が前記第2の方向に
対して傾斜される角度である)ようになされている特許
請求の範囲第7項に記載されたX線管。 94つのコイルを包含しており、それらのコイルは前記
第1の方向における前記ビームの各側に2つずつ配置さ
れていて、隣接コイルが逆極性の磁界を発生するように
なされている特許請求の範囲第7または8項に記載され
たX線管。 和前記補正手段は、補正磁界を発生して前記ビ−ムを前
記偏向されていないビームに対して傾斜させかつ該ビー
ムを、該ビームが前記偏向手段によって受けた偏向歪に
もとづく屈曲とは反対方向に屈曲せしめることにより、
前記偏向されたビームの入射の領域を前記偏向されてい
ないビームのそれに対して実質的に平行に維持するよう
になされたコイルを包含している特許請求の範囲第7〜
9項のうちの1つに記載されたX線管。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB29182/75A GB1547964A (en) | 1975-07-11 | 1975-07-11 | Electron beam deflection arrangements |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5211791A JPS5211791A (en) | 1977-01-28 |
JPS5927074B2 true JPS5927074B2 (ja) | 1984-07-03 |
Family
ID=10287462
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP51082424A Expired JPS5927074B2 (ja) | 1975-07-11 | 1976-07-09 | X線管 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4039807A (ja) |
JP (1) | JPS5927074B2 (ja) |
DE (1) | DE2631516C3 (ja) |
FR (1) | FR2317849A1 (ja) |
GB (1) | GB1547964A (ja) |
NL (1) | NL183374C (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1536448A (en) * | 1976-06-01 | 1978-12-20 | Emi Ltd | Radiography |
FR2415876A1 (fr) * | 1978-01-27 | 1979-08-24 | Radiologie Cie Gle | Tube a rayons x, notamment pour tomodensitometre |
US4253027A (en) * | 1978-06-14 | 1981-02-24 | Ohio-Nuclear, Inc. | Tomographic scanner |
DE2920051C2 (de) * | 1979-05-18 | 1984-04-19 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Röntgengerät zur Ermittlung der Absorptionsverteilung in einem ebenen Untersuchungsbereich |
US4472823A (en) * | 1982-03-17 | 1984-09-18 | U.S. Philips Corporation | Computed tomography apparatus with detector sensitivity correction |
FR2565451B1 (fr) * | 1984-05-30 | 1986-08-22 | Thomson Cgr | Procede de controle de la position du foyer d'un tube radiogene et dispositif de controle mettant en oeuvre ce procede |
DE3817724C2 (de) * | 1988-05-25 | 1996-04-04 | Siemens Ag | Computertomograph |
SE9401300L (sv) * | 1994-04-18 | 1995-10-19 | Bgc Dev Ab | Roterande cylinderkollimator för kollimering av joniserande, elektromagnetisk strålning |
NL1003044C2 (nl) * | 1996-05-06 | 1997-11-07 | Optische Ind Oede Oude Delftoe | Röntgenbeeldinrichting. |
US7042975B2 (en) * | 2002-10-25 | 2006-05-09 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Four-dimensional helical tomographic scanner |
US20110075802A1 (en) * | 2009-09-29 | 2011-03-31 | Moritz Beckmann | Field emission x-ray source with magnetic focal spot screening |
WO2012123843A1 (en) * | 2011-03-15 | 2012-09-20 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Stereoscopic imaging |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE726595C (de) * | 1935-11-01 | 1942-10-16 | Mueller C H F Ag | Verfahren und Einrichtung zur Darstellung von Koerperschnitten mittels Roentgenstrahlen |
BE487996A (ja) * | 1946-10-23 | |||
DE1200962B (de) * | 1962-08-04 | 1965-09-16 | Siemens Reiniger Werke Ag | Drehanodenroentgenroehre |
US4002917A (en) * | 1974-08-28 | 1977-01-11 | Emi Limited | Sources of X-radiation |
GB1529799A (en) * | 1974-11-13 | 1978-10-25 | Emi Ltd | Radiography |
-
1975
- 1975-07-11 GB GB29182/75A patent/GB1547964A/en not_active Expired
-
1976
- 1976-07-07 US US05/703,238 patent/US4039807A/en not_active Expired - Lifetime
- 1976-07-09 JP JP51082424A patent/JPS5927074B2/ja not_active Expired
- 1976-07-09 FR FR7621086A patent/FR2317849A1/fr active Granted
- 1976-07-10 DE DE2631516A patent/DE2631516C3/de not_active Expired
- 1976-07-12 NL NLAANVRAGE7607715,A patent/NL183374C/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL183374B (nl) | 1988-05-02 |
JPS5211791A (en) | 1977-01-28 |
US4039807A (en) | 1977-08-02 |
NL7607715A (nl) | 1977-01-13 |
DE2631516A1 (de) | 1977-01-20 |
GB1547964A (en) | 1979-07-04 |
FR2317849B1 (ja) | 1981-12-24 |
NL183374C (nl) | 1988-10-03 |
FR2317849A1 (fr) | 1977-02-04 |
DE2631516B2 (de) | 1979-03-08 |
DE2631516C3 (de) | 1984-06-07 |
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