JPS5926331B2 - 高温排ガス用脱硝触媒 - Google Patents
高温排ガス用脱硝触媒Info
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- JPS5926331B2 JPS5926331B2 JP54074707A JP7470779A JPS5926331B2 JP S5926331 B2 JPS5926331 B2 JP S5926331B2 JP 54074707 A JP54074707 A JP 54074707A JP 7470779 A JP7470779 A JP 7470779A JP S5926331 B2 JPS5926331 B2 JP S5926331B2
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- Japan
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- titanium
- exhaust gas
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は窒素酸化物(以下NOx と略記する。
)と酸素とを含有するガス状混合物を処理してNOxを
無害な窒素に還元する触媒に関するものである。
無害な窒素に還元する触媒に関するものである。
更に詳細には、ボイラー、ガスタービン排ガス、各種工
業窯炉等から排出される燃焼排ガス中のNOx ヲ50
0℃以上の高温でアンモニア及ヒ酸素の存在下で還元分
解する触媒に関するものである。
業窯炉等から排出される燃焼排ガス中のNOx ヲ50
0℃以上の高温でアンモニア及ヒ酸素の存在下で還元分
解する触媒に関するものである。
現在、排ガス中のNOxを除去する方法に関してはアン
モニアを還元剤として用い排ガス中のNOxを触媒の存
在下で無害な窒素に還元する乾式接触還元脱硝法が主流
となっており、これまでこの脱硝用として多くの触媒が
知られている。
モニアを還元剤として用い排ガス中のNOxを触媒の存
在下で無害な窒素に還元する乾式接触還元脱硝法が主流
となっており、これまでこの脱硝用として多くの触媒が
知られている。
例えばTi02−V2O3(特開昭49−122473
)、TiO2−Fe203 (特公昭52−6954)
、Ti02−Mo03(特公昭52−17830)など
が知られており、それぞれ処理対象ガスの性状に応じて
組成などに工夫をこらして使用されているが、実用的な
使用温度範囲は200℃〜450℃の比較的狭い範囲で
あり、それ以上の高温度範囲に対してはアンモニアの酸
化等により充分な活性を示さないという欠点を有してい
る。
)、TiO2−Fe203 (特公昭52−6954)
、Ti02−Mo03(特公昭52−17830)など
が知られており、それぞれ処理対象ガスの性状に応じて
組成などに工夫をこらして使用されているが、実用的な
使用温度範囲は200℃〜450℃の比較的狭い範囲で
あり、それ以上の高温度範囲に対してはアンモニアの酸
化等により充分な活性を示さないという欠点を有してい
る。
一方、ガスタービン排ガスや工業用窯炉のなかでガラス
溶解炉等のように排ガス温度が500℃以上の排ガスを
排出するものがある。
溶解炉等のように排ガス温度が500℃以上の排ガスを
排出するものがある。
例えばガスタービンの場合には燃料と空気から成る可燃
ガスを燃焼させた後、多量の空気で希釈し1000℃以
上の高温のガス流でタービンを回転させ発電するがその
排ガスは500〜600℃に達する。
ガスを燃焼させた後、多量の空気で希釈し1000℃以
上の高温のガス流でタービンを回転させ発電するがその
排ガスは500〜600℃に達する。
またガラス溶解炉における煙道排ガスは450〜650
℃の範囲にあるといわれている。
℃の範囲にあるといわれている。
このような高温排ガス中のNOxを処理できる触媒はこ
れまでほとんど開発されておらず、従来の無触媒下にお
いてアンモニアとNOxの反応による気相還元法が知ら
れている程度である。
れまでほとんど開発されておらず、従来の無触媒下にお
いてアンモニアとNOxの反応による気相還元法が知ら
れている程度である。
しかし、この方法では反応温度が800℃以上と高く、
かつ選択性が悪いためにNOxに対して大過束のアンモ
ニアを必要とするばかりか高い脱硝率を得ることは困難
である。
かつ選択性が悪いためにNOxに対して大過束のアンモ
ニアを必要とするばかりか高い脱硝率を得ることは困難
である。
本発明者等は既にチタン−タングステンから成る比較的
高温においても比較的安定なNOx除去率を示す触媒を
提案しているが(特公昭52−35342)この触媒に
おいても500℃以上特に600℃付近からアンモニア
の酸化等により急激に活性の低下が起り、実用的には充
分でないことがわかった。
高温においても比較的安定なNOx除去率を示す触媒を
提案しているが(特公昭52−35342)この触媒に
おいても500℃以上特に600℃付近からアンモニア
の酸化等により急激に活性の低下が起り、実用的には充
分でないことがわかった。
本発発の目的は以上の従来技術の欠点をなくして高温度
(500〜700℃)の排ガスを処理するにあたり、N
Oxの還元除去率が高(、かつ高温下でも耐久性の優れ
た触媒を提供することにある。
(500〜700℃)の排ガスを処理するにあたり、N
Oxの還元除去率が高(、かつ高温下でも耐久性の優れ
た触媒を提供することにある。
本発明の特徴とするところは、触媒がA成分としてチタ
ン酸化物、B成分としてアルミニウム酸化物、シリカ、
シリカ−アルミナ、ジルコニウム酸化物、マグネシウム
酸化物、カルシウム酸化物、ランタン酸化物の中から選
ばれた少なくとも一種以上を含み、かつC成分としてタ
ングステン酸化物を含有する触媒であって、該触媒の組
成がチタンに対するB成分の原子比がチタン1に対して
0.05〜0,7、好ましくは0.05〜0.5の範囲
で含有し、かつチタンに対するタングステンの原子比が
チタン1に対して0.01〜1の範囲で、含有し、60
0〜700℃で焼成された触媒を用いるところにある。
ン酸化物、B成分としてアルミニウム酸化物、シリカ、
シリカ−アルミナ、ジルコニウム酸化物、マグネシウム
酸化物、カルシウム酸化物、ランタン酸化物の中から選
ばれた少なくとも一種以上を含み、かつC成分としてタ
ングステン酸化物を含有する触媒であって、該触媒の組
成がチタンに対するB成分の原子比がチタン1に対して
0.05〜0,7、好ましくは0.05〜0.5の範囲
で含有し、かつチタンに対するタングステンの原子比が
チタン1に対して0.01〜1の範囲で、含有し、60
0〜700℃で焼成された触媒を用いるところにある。
この場合の触媒組成は上記のような範囲が良く、例えば
チタンに対するB成分の原子比が0.05以下ではB成
分の添加効果が発現出来ず、また0、7以上ではチタン
の効果が少なくなりいずれも高温での活性が低下する。
チタンに対するB成分の原子比が0.05以下ではB成
分の添加効果が発現出来ず、また0、7以上ではチタン
の効果が少なくなりいずれも高温での活性が低下する。
またチタンに対するタングステンの原子比が0.01以
下では全体の活性が不充分であり、1以上添加すると高
温活性が低下してくるため好ましくない。
下では全体の活性が不充分であり、1以上添加すると高
温活性が低下してくるため好ましくない。
本発明の触媒組成物がチタンとB成分との均一な混合物
を、それらの酸化物の形で含有するということは、上記
成分がそれらの酸化物の形でなるべく微細かつ緊密な混
合状態にあることを意味する。
を、それらの酸化物の形で含有するということは、上記
成分がそれらの酸化物の形でなるべく微細かつ緊密な混
合状態にあることを意味する。
従って本発明においていう均一混合物とは、例えば高温
で焼成され、化学的に安定化されたルチル型チタニア粉
体とα〜アルミナ粉体を単に混合した物を意味するもの
ではない。
で焼成され、化学的に安定化されたルチル型チタニア粉
体とα〜アルミナ粉体を単に混合した物を意味するもの
ではない。
本発明触媒の特徴は焼成を600〜750℃の範囲で行
なうことにある。
なうことにある。
600℃以下で焼成された触媒は使用条件下において不
安定であり、安定した高い活性を示さない。
安定であり、安定した高い活性を示さない。
また750℃以上で焼成すると、触媒成分の結晶化が進
むことと、焼結による比表面積及び細孔容積の減少によ
り充分な活性を示さなくなる。
むことと、焼結による比表面積及び細孔容積の減少によ
り充分な活性を示さなくなる。
本発明触媒の調製法は通常の方法を用いることができる
が、代表的な方法を示すと例えば下記の通りである。
が、代表的な方法を示すと例えば下記の通りである。
(1)各成分の均一混合溶液を濃縮、乾燥後、例えば加
熱分解等の方法により均一な混合物の酸化物となす方法 (2)上記(1)の均一混合溶液に例えばアンモニア水
、苛性アルカリ、炭酸アルカリ等を加えて各成分を例え
ば水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩のような加熱分解により
容易に酸化物に変化する混合沈澱物とした後加熱分解し
て、均一な混合物の酸化物とする方法 (3)各成分の中の一部、例えばチタンをその溶液から
あらかじめ例えば水酸化物等の形で沈殿を生成し、これ
に他成分の単一または混合溶液を加え充分に攪拌混合し
た後乾燥し、加熱分解して均一な混合物の酸化物となす
方法 (4)各成分の単独溶液から、例えば水酸化物の如き加
熱分解により比較的容易に酸化物を形成する沈殿を作り
、これら各成分の沈殿を充分に攪拌混練した後、乾燥し
加熱分解して均一な混合物の酸化物とする方法 上記各種の調製法で得られる均一な混合物の酸化物はそ
のままで、あるいは所望の形、大きさに成形され前述し
た温度で焼成後触媒として使用される。
熱分解等の方法により均一な混合物の酸化物となす方法 (2)上記(1)の均一混合溶液に例えばアンモニア水
、苛性アルカリ、炭酸アルカリ等を加えて各成分を例え
ば水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩のような加熱分解により
容易に酸化物に変化する混合沈澱物とした後加熱分解し
て、均一な混合物の酸化物とする方法 (3)各成分の中の一部、例えばチタンをその溶液から
あらかじめ例えば水酸化物等の形で沈殿を生成し、これ
に他成分の単一または混合溶液を加え充分に攪拌混合し
た後乾燥し、加熱分解して均一な混合物の酸化物となす
方法 (4)各成分の単独溶液から、例えば水酸化物の如き加
熱分解により比較的容易に酸化物を形成する沈殿を作り
、これら各成分の沈殿を充分に攪拌混練した後、乾燥し
加熱分解して均一な混合物の酸化物とする方法 上記各種の調製法で得られる均一な混合物の酸化物はそ
のままで、あるいは所望の形、大きさに成形され前述し
た温度で焼成後触媒として使用される。
成形操作としては、例えば押出成形、打錠成形、転動造
粒等如何なる方法でもよい。
粒等如何なる方法でもよい。
また本発明で使用する触媒の形状は特に制限はなく、ペ
レット状、リング状、球状、パイプ状、ハニカム状が用
いられる。
レット状、リング状、球状、パイプ状、ハニカム状が用
いられる。
また小径のエンベロツブ状でも良く、金網やラスメタル
等の金属基村上に添着させるなどの方法で触媒成分を担
持させても良い。
等の金属基村上に添着させるなどの方法で触媒成分を担
持させても良い。
又コージライト、シリカ−アルミナあるいはムライト等
のハニカム状の担体に触媒成分のスラリーを通常の方法
でコーティングするのも好ましいものである。
のハニカム状の担体に触媒成分のスラリーを通常の方法
でコーティングするのも好ましいものである。
本発明触媒組成物を調製するチタン原料としては、例え
ば各種のチタン酸、水酸化チタン、ハロゲン化チタン、
硫酸チタン、硫酸チタニル等がある。
ば各種のチタン酸、水酸化チタン、ハロゲン化チタン、
硫酸チタン、硫酸チタニル等がある。
また、例えばチタニウムイソプロポキシドの如きチタン
の有機化合物もそのままあるいはこれを加水分解してチ
タンの水酸化物とすることにより、本発明のチタン原料
として用いることができる。
の有機化合物もそのままあるいはこれを加水分解してチ
タンの水酸化物とすることにより、本発明のチタン原料
として用いることができる。
B成分のうち、アルミニウム、ジルコニウム、マグネシ
ウム、ランタンの原料としては加熱分解により酸化物と
なる塩、例えば硝酸塩、塩化物、硫酸塩、酢酸塩、炭酸
塩、修酸塩等が使用できる。
ウム、ランタンの原料としては加熱分解により酸化物と
なる塩、例えば硝酸塩、塩化物、硫酸塩、酢酸塩、炭酸
塩、修酸塩等が使用できる。
またそれぞれの水酸化物や水和物も好ましい原料の一つ
である。
である。
更にアルミニウムイソプロポキシドの如き有機化合物も
チタンの場合と同様に用いることができる。
チタンの場合と同様に用いることができる。
ケイ素源としてはコロイド状シリカ、四塩化ケイ素、シ
リカゲルおよびテトラエチルシリケートなど有機ケイ素
化合物などから選ぶことができる。
リカゲルおよびテトラエチルシリケートなど有機ケイ素
化合物などから選ぶことができる。
またタングステン原料としては酸化タングステン、パラ
タングステン酸アンモニウムなどが好ましい。
タングステン酸アンモニウムなどが好ましい。
更にケイ素を含有したケイタングステン酸およびその塩
も好ましい原料である。
も好ましい原料である。
本発明の触媒は上記の如き各成分の原料を用いて、前述
した触媒調製法のいずれかに基づいて調製することがで
きる。
した触媒調製法のいずれかに基づいて調製することがで
きる。
ちなみに本発明触媒の調製法の一例を示すと以下の通り
である。
である。
所定量の四塩化チタンを氷水中に溶解し、これに所定量
の硝酸アルミニウムを加え溶解する。
の硝酸アルミニウムを加え溶解する。
次いでこの混合溶液に所定量の5規定アンモニア水を加
えて中和する。
えて中和する。
生じた沈殿を戸別し充分に蒸留水で洗浄する。
かくして得られたケーキの所定量をとり、これに所定量
のパラタングステン酸アンモニウムを加え、充分に混練
しつつ水分を蒸発させる。
のパラタングステン酸アンモニウムを加え、充分に混練
しつつ水分を蒸発させる。
得られたケーキを乾燥後、粉砕し200メツシユ以下の
粉体とする。
粉体とする。
この粉体原料を550℃で約2〜3時間焼成したのち、
蒸留水を加え湿式磨砕し所定の形状に成形する。
蒸留水を加え湿式磨砕し所定の形状に成形する。
得られた成形物を最終的に600〜750℃で1〜10
時間程度焼成し反応に供する。
時間程度焼成し反応に供する。
本発明の触媒が使用される処理の対象となる排ガスにN
Ox及び酸素を含む以外は特にガス組成を限定しない。
Ox及び酸素を含む以外は特にガス組成を限定しない。
アンモニアは排ガス中のNOx 1モル当り0.5〜
2.0モルカ好マしい。
2.0モルカ好マしい。
0.5モル以下では充分な活性が得られず、2モル以上
では未反応のアンモニアが排出されるために好ましくな
い。
では未反応のアンモニアが排出されるために好ましくな
い。
反応温度は500〜700℃が良い。500°C以下で
は反応が不充分であり、実施するに当っては多量の触媒
を必要とするため反応器その他の設備が大型化する。
は反応が不充分であり、実施するに当っては多量の触媒
を必要とするため反応器その他の設備が大型化する。
700℃以上の高温ではアンモニアの一部が酸素と反応
しNOx まで酸化され脱硝率の低下が起る。
しNOx まで酸化され脱硝率の低下が起る。
空間速度は1000〜100000hr 1好ましく
は1500〜30000hr 1の範囲で通じられる
。
は1500〜30000hr 1の範囲で通じられる
。
圧力は特に限定はないが大気圧から10kg/crAの
範囲が好ましい。
範囲が好ましい。
本発明を実施する反応器の形式としては特に限定はない
が、通常の固定床、移動床、流動床型の反応器が使用で
きる。
が、通常の固定床、移動床、流動床型の反応器が使用で
きる。
次に実施例及び比較例をあげて本発明をさらに詳細に説
明する。
明する。
実施例 1
四塩化チタン(TiC14)569Pをとり11の氷水
中に注ぐ。
中に注ぐ。
これに硝酸ランタンCLa(NO3)3−6H20)3
84?を溶解し、攪拌しつつ5Nアンモニア水を滴下し
て中和する。
84?を溶解し、攪拌しつつ5Nアンモニア水を滴下し
て中和する。
生じた沈殿を戸別し充分に蒸留水で洗浄する。
得られたケーキにパラタングステン酸アンモニウム〔5
(N′H4)2012WO3・5H20)s8.2@を
蒸留水3000TILlに溶解したものを加え、ニーダ
−中で加熱しながら充分に混練する。
(N′H4)2012WO3・5H20)s8.2@を
蒸留水3000TILlに溶解したものを加え、ニーダ
−中で加熱しながら充分に混練する。
得られたスラリーを120〜150℃で充分に乾燥後、
粉砕機により200メツシユ以下に粉砕する。
粉砕機により200メツシユ以下に粉砕する。
この粉末を550°Cで2〜3時間焼成したのち、1重
量%のメチルセルローズ(以下MCと記す)と25〜3
0重量%の蒸留水を加え二−タ沖で3時間混練する。
量%のメチルセルローズ(以下MCと記す)と25〜3
0重量%の蒸留水を加え二−タ沖で3時間混練する。
得られた粘土状物を直径5mmの大きさに押し出し成型
後、1夜室温で風乾する。
後、1夜室温で風乾する。
次いで120〜150℃で5時間乾燥し、720℃の電
気炉中で3時間焼成する。
気炉中で3時間焼成する。
かくして得られた触媒は金属原子比でTi :La :
W= 71 : 21 :8の組成を有する。
W= 71 : 21 :8の組成を有する。
これを反応に供した。反応管は内径40mmの石英ガラ
ス製で内部に外径4mmの石英製熱電対保護管を有して
いる。
ス製で内部に外径4mmの石英製熱電対保護管を有して
いる。
この反応管を電気炉で加熱して反応温度を設定する。
反応管の中央部に触媒24m1(触媒粒形的5φ×5h
mm)を充填し下記組成のガスを空間温度(以下SVと
略す)約10000hr’で触媒層にNO: 200
ppm、 NH3二 240 ppm、 02
:15%、CO2:8%、N20:12%、SO2:
30 ppm、 N2二残部 流通して、触媒層入口と出口のNOx濃度をケミルミネ
ッセンス方式のNOx分析計を用いて測定した。
mm)を充填し下記組成のガスを空間温度(以下SVと
略す)約10000hr’で触媒層にNO: 200
ppm、 NH3二 240 ppm、 02
:15%、CO2:8%、N20:12%、SO2:
30 ppm、 N2二残部 流通して、触媒層入口と出口のNOx濃度をケミルミネ
ッセンス方式のNOx分析計を用いて測定した。
得られたNO還元率を第1表に示す。実施例 2
チタンの出発原料としてメタチタン酸
(T iO(OH) 2 )スラリーをTiO2として
240?相当をとり、これ塩化ランタンLaCl3の2
17.1’を水300m1に溶解した溶液を加え、攪拌
しながら5Nアンモニア水を滴下させて中和し、以下実
施例1に準じて触媒を調製した。
240?相当をとり、これ塩化ランタンLaCl3の2
17.1’を水300m1に溶解した溶液を加え、攪拌
しながら5Nアンモニア水を滴下させて中和し、以下実
施例1に準じて触媒を調製した。
かくして得られた触媒は原子比でTi : La :W
−71:21 :8の組成を有する。
−71:21 :8の組成を有する。
この触媒を用いて実施例1と同様な条件で反応させた結
果を第1表に示す。
果を第1表に示す。
実施例Iおよび2より出発原料が異なっても活性は全く
変らない。
変らない。
実施例 3
チタン、ランタンおよびタングステンの組成比を変えた
以外は実施例2に準じて調製した触媒を用い、実施例1
と同様の条件下で反応させた結果を第2表に示す。
以外は実施例2に準じて調製した触媒を用い、実施例1
と同様の条件下で反応させた結果を第2表に示す。
比較例 1
実施例1の方法において硝酸ランタンを添加せず、また
焼成温度450℃で行なった以外は実施例1と同様な方
法で比較例触媒1を調製した。
焼成温度450℃で行なった以外は実施例1と同様な方
法で比較例触媒1を調製した。
この触媒を原子比でTi :W= 80 : 20の組
成を有する。
成を有する。
実施例1と同様な条件でNOx還元率を求めた結果を第
2表に併記する。
2表に併記する。
比較例 2
メタチタン酸スラリーをTiO2として240y′をと
り、これにメタバナジン酸アンモニウムの392を添加
しニーダ−中で充分に混練後乾燥し200メツシユ以下
に粉砕する。
り、これにメタバナジン酸アンモニウムの392を添加
しニーダ−中で充分に混練後乾燥し200メツシユ以下
に粉砕する。
得られた粉体に30重量%の水を加えニーダ−で混練後
、直径5mmの大きさに押出し成型し一夜風乾後、14
0 ’Cで5時間乾燥したのち450℃で3時間焼成す
る。
、直径5mmの大きさに押出し成型し一夜風乾後、14
0 ’Cで5時間乾燥したのち450℃で3時間焼成す
る。
かくして得られた触媒は原子比でTi:V=90:10
の組成を有する。
の組成を有する。
実施例1と同様な条件でNOx還元率を求めた結果を第
2表に併記する。
2表に併記する。
なお600℃以上では活性が低すぎるので測定は行なわ
かった。
かった。
第2表から明らかなように比較例触媒に比較してランタ
ンを添加したものは活性の向上がみられ、その効果は反
応温度550℃以上の高温域で顕著に表われている。
ンを添加したものは活性の向上がみられ、その効果は反
応温度550℃以上の高温域で顕著に表われている。
特に広い温度範囲で高活性を示すのはTiとLaの原子
比がTi 1に対して0.05〜0.5の範囲である。
比がTi 1に対して0.05〜0.5の範囲である。
実施例 4
触媒の焼成温度を変えた以外は実施例2と同様にして調
製した触媒を用い、実施例1と同様の条件で反応させた
結果を第3表に示す。
製した触媒を用い、実施例1と同様の条件で反応させた
結果を第3表に示す。
第3表に示されるごとく、500℃以下で焼成した触媒
は600℃以上の高温側で活性の低下が起り、また焼成
温度850°C以上では全体的に活性は低下している。
は600℃以上の高温側で活性の低下が起り、また焼成
温度850°C以上では全体的に活性は低下している。
一方、500℃以上850℃以下で焼成した触媒は60
0℃以上の高温側での活性低下が少なく、特に焼成温度
が600〜750°Cの範囲の触媒が安定した活性を持
っている。
0℃以上の高温側での活性低下が少なく、特に焼成温度
が600〜750°Cの範囲の触媒が安定した活性を持
っている。
実施例 5〜16
チタンの出発原料として四塩化チタンを用い、それにア
ルミニウム、ジルコニウム、マグネシウム、カルシウム
については硝酸塩、ケイ素についてはスノーテックス(
日量化学製シリカゾル)を、また水ガラスと硫酸アルミ
ニウムから通常の方法偵々で作られた5i02・A1□
03ヒドロゲルをそれぞれ別々に加え、以下実施例1の
調製法に準じて、Ti:A成分:Wから成る触媒を調製
した。
ルミニウム、ジルコニウム、マグネシウム、カルシウム
については硝酸塩、ケイ素についてはスノーテックス(
日量化学製シリカゾル)を、また水ガラスと硫酸アルミ
ニウムから通常の方法偵々で作られた5i02・A1□
03ヒドロゲルをそれぞれ別々に加え、以下実施例1の
調製法に準じて、Ti:A成分:Wから成る触媒を調製
した。
その触媒を用いて実施例1と同様の条件で反応させた結
果を第4表に示す。
果を第4表に示す。
第4表から本実施例の触媒は比較例触媒にくらべて低温
側ではい(発情性の低いものもあるが550℃以上の高
温領域ではいずれも高い活性を示していることが分かる
。
側ではい(発情性の低いものもあるが550℃以上の高
温領域ではいずれも高い活性を示していることが分かる
。
実施例 17〜22
チタンの出発原料として四塩化チタンを用い、それにア
ルミニウム、ジルコニウム、マグネシウム、カルシウム
については硝酸塩、ケイ素についジ※てはスノーテック
ス(日量化学製シリカゾル)を、また水ガラスと硫酸ア
ルミニウムから通常の方法で作られたSiO2・Al2
O3ヒドロゲルをそれぞれ別々に加え、以下、触媒の焼
成温度を変えた以外は実施例1の調積法に準じて、Ti
:A成分:Wから成る触媒を調製した。
ルミニウム、ジルコニウム、マグネシウム、カルシウム
については硝酸塩、ケイ素についジ※てはスノーテック
ス(日量化学製シリカゾル)を、また水ガラスと硫酸ア
ルミニウムから通常の方法で作られたSiO2・Al2
O3ヒドロゲルをそれぞれ別々に加え、以下、触媒の焼
成温度を変えた以外は実施例1の調積法に準じて、Ti
:A成分:Wから成る触媒を調製した。
その触媒を用いて実施例1と同様の条件で反応させた結
果を第5〜10表に示す。
果を第5〜10表に示す。
第5〜10表から明らかなように、500℃以下で焼成
した触媒は高温側でのNo還元率が低い。
した触媒は高温側でのNo還元率が低い。
800℃以上で焼成した触媒は、600℃〜750℃で
焼成した触媒に(らべて相対的にNo還元率が低い。
焼成した触媒に(らべて相対的にNo還元率が低い。
600℃〜750℃で焼成した触媒が反応温度500〜
700℃の領域で最も高い特性を示している。
700℃の領域で最も高い特性を示している。
Claims (1)
- 1 窒素酸化物を含む排ガスを窒素酸化物に対して、0
.5〜2.0モルのアンモニアを添加し、反応温度50
0〜700℃の範囲において接触的に反応せしめて窒素
酸化物を還元する触媒において、A成分としてチタン酸
化物、B成分としてアルミニウム、ジルコニウム、マク
ネシウム、カルシウム及びランタンから選ばれた少くと
も一種の元素の酸化物又は、シリカあるいはシリカ−ア
ルミナ、C成分としてタングステン酸化物を含有する触
媒であって、チタン1原子に対して、B成分の原子比が
、0.05〜0.7の範囲にあり、かつタングステンの
原子比が0.01〜1の範囲にあり、該触媒は600〜
75Q’Cで焼成して得られるものであることを特徴と
する高温排ガス用脱硝触媒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54074707A JPS5926331B2 (ja) | 1979-06-15 | 1979-06-15 | 高温排ガス用脱硝触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54074707A JPS5926331B2 (ja) | 1979-06-15 | 1979-06-15 | 高温排ガス用脱硝触媒 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55167044A JPS55167044A (en) | 1980-12-26 |
| JPS5926331B2 true JPS5926331B2 (ja) | 1984-06-26 |
Family
ID=13554960
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54074707A Expired JPS5926331B2 (ja) | 1979-06-15 | 1979-06-15 | 高温排ガス用脱硝触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5926331B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52126690A (en) * | 1976-04-16 | 1977-10-24 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | Catalysts for reduction of nox |
| JPS52130493A (en) * | 1976-04-26 | 1977-11-01 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Catalysts for treating nox-containing gases |
| JPS53100984A (en) * | 1977-02-16 | 1978-09-02 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Production of exhaust gas treatment catalyst |
| JPS5520641A (en) * | 1978-07-31 | 1980-02-14 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Catalyst composition |
-
1979
- 1979-06-15 JP JP54074707A patent/JPS5926331B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55167044A (en) | 1980-12-26 |
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