JPS5926041A - ガス検出素子 - Google Patents
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は金属酸化物半導体の抵抗値の変化を利用した
ガス検出素子に関し、とりわけ基体により金属酸化物半
導体を支持した素子の改良に関する。
ガス検出素子に関し、とりわけ基体により金属酸化物半
導体を支持した素子の改良に関する。
Ag2O3製の基体で金属酸化物1017体を支持した
ガス検出素子は広く用いられている。ここでA4□03
を基体の材料とするのは、ガス敏感性金属酸化物事導
体の多くは焼結性が低く磁器化が困難なためである。し
かしAl2O3と金属酸化物半導体とては熱膨張率が異
なる。
ガス検出素子は広く用いられている。ここでA4□03
を基体の材料とするのは、ガス敏感性金属酸化物事導
体の多くは焼結性が低く磁器化が困難なためである。し
かしAl2O3と金属酸化物半導体とては熱膨張率が異
なる。
S n O2とA4゜08との組み合せては、S n
02の力が5×l0−6/に0だけ線膨張率が小さく、
1000°Cの温度変化を与えるとSnOはAg2O3
に対し0.5%収縮することになる。セラミックの弾性
限界は小さく、05%の変形であっても充分に素子を破
壊しうる。
02の力が5×l0−6/に0だけ線膨張率が小さく、
1000°Cの温度変化を与えるとSnOはAg2O3
に対し0.5%収縮することになる。セラミックの弾性
限界は小さく、05%の変形であっても充分に素子を破
壊しうる。
この発明は、ガス敏感性金属酸化物゛14導体への収縮
剤の探求によりなされたもので、゛1′導体と基体との
間の熱応力をなくすことを目的とする。
剤の探求によりなされたもので、゛1′導体と基体との
間の熱応力をなくすことを目的とする。
なお特開昭51−65997号(特願昭49−1400
27号)は、四価の金属が14 Q (本の焼結に有効
であることを示しているが、ここで用いる収縮剤につい
ては触れていない。寸た基体をガス斂感性金属酸化物−
’l’、 3W体で構成することも検削していない。
27号)は、四価の金属が14 Q (本の焼結に有効
であることを示しているが、ここで用いる収縮剤につい
ては触れていない。寸た基体をガス斂感性金属酸化物−
’l’、 3W体で構成することも検削していない。
この発明のガス検出素子は、基体をガス敏感性金属酸化
物半導体で構成し、基体の収縮剤として銅、亜鉛、マン
ガン等の特定の元素を用いるようにしたものである。
物半導体で構成し、基体の収縮剤として銅、亜鉛、マン
ガン等の特定の元素を用いるようにしたものである。
以Fにこの発明の実施例について説明する。
「基体」 基体には雰囲気の組成により抵抗値が変化す
る金属酸化物半導体を用いる。例えばS n 02やT
402 、 I s】20B 、 ZnOを用いる。捷
た金属酸化物半導体は中味で用いる必要はない。焼結時
の焼き縮みを小さくするためには、仮焼して焼結性を抑
制した金属酸化物半導体を、混入しておくことが望まし
い。
る金属酸化物半導体を用いる。例えばS n 02やT
402 、 I s】20B 、 ZnOを用いる。捷
た金属酸化物半導体は中味で用いる必要はない。焼結時
の焼き縮みを小さくするためには、仮焼して焼結性を抑
制した金属酸化物半導体を、混入しておくことが望まし
い。
「収縮剤」 収縮剤には、Cr、Mn、Fe、Co。
Ni 、Cu、Zn、Cd、Hg、A6.Ga、In、
Tn。
Tn。
Bi、ランクニド、及びアクチニドの酸化物、もしくは
貴金属元素の金属または酸化物を用いる。
貴金属元素の金属または酸化物を用いる。
収縮剤の種類は5n02への焼結促進効果についての検
討を中心に、決定したものである。なお収縮剤は基体の
金属酸化物゛1′導体とV1ゲシ神のものを用いるのは
当然である。例えはIn2O3の焼結にIn化合物を用
いることは何の効果もないからである。
討を中心に、決定したものである。なお収縮剤は基体の
金属酸化物゛1′導体とV1ゲシ神のものを用いるのは
当然である。例えはIn2O3の焼結にIn化合物を用
いることは何の効果もないからである。
収縮剤なしては金属酸化物゛14導体の焼結性は低く、
例えばS n 02全弔味のオま1450”rシて2時
間焼結しても、その曲げ強度は50 kg 7′rl
にしか達しない。0.5wt%のCuC12(CuOに
換算)を加えると回し条件て1500kQ/clの曲げ
強度の焼結体が得られる。このように収縮剤のMl、加
により焼結体の強度は飛躍的に向上する。そして150
0/(g/C′Aの曲げ強曳け、緻密質のアルミf焼結
体とさして変らないもので、ガス検出素子の基体さして
は充分々ものである。強固な焼結体を得るには収縮剤の
添加が必要不可欠である。
例えばS n 02全弔味のオま1450”rシて2時
間焼結しても、その曲げ強度は50 kg 7′rl
にしか達しない。0.5wt%のCuC12(CuOに
換算)を加えると回し条件て1500kQ/clの曲げ
強度の焼結体が得られる。このように収縮剤のMl、加
により焼結体の強度は飛躍的に向上する。そして150
0/(g/C′Aの曲げ強曳け、緻密質のアルミf焼結
体とさして変らないもので、ガス検出素子の基体さして
は充分々ものである。強固な焼結体を得るには収縮剤の
添加が必要不可欠である。
収縮剤としては、CuOが最も有効である。これは基体
の金属酸化物半導体の種類によらず成立することである
。Cu0Kついで、Zn0c!=Mn02(焼結体にお
ける存在状態はMn ”+、 Mat 31− 、 M
n ” 。
の金属酸化物半導体の種類によらず成立することである
。Cu0Kついで、Zn0c!=Mn02(焼結体にお
ける存在状態はMn ”+、 Mat 31− 、 M
n ” 。
の混在した複雑なものと推定する。焼結体中ての収縮剤
の状態は、焼成時の酸化物の分解マ゛、金属酸化物半導
体中への収縮剤の固溶のため、がなり複雑なものと思わ
れる。ここでは常f1.aでの安定状態を基に収縮剤の
組成や添加はを表示する。)とが有効である。ZnOや
M n O2でCuOと回し強度の焼結体を得るには、
添加量を2倍にして焼結温度を70°C程度高くする。
の状態は、焼成時の酸化物の分解マ゛、金属酸化物半導
体中への収縮剤の固溶のため、がなり複雑なものと思わ
れる。ここでは常f1.aでの安定状態を基に収縮剤の
組成や添加はを表示する。)とが有効である。ZnOや
M n O2でCuOと回し強度の焼結体を得るには、
添加量を2倍にして焼結温度を70°C程度高くする。
ZnOやM n 02について、CoO,NiO,Cr
20B 、Fe20g 、Ga2O3,Bi2O3が有
効である。これらの場合には、cuoの場合よりも、添
加量を2倍とし焼結温度を100−150°C高くすれ
ば、同程度の効果が得られる。AgやLa2O3でも5
n02 の焼結が促進てきることを確認したが、その効
果はやや低い。
20B 、Fe20g 、Ga2O3,Bi2O3が有
効である。これらの場合には、cuoの場合よりも、添
加量を2倍とし焼結温度を100−150°C高くすれ
ば、同程度の効果が得られる。AgやLa2O3でも5
n02 の焼結が促進てきることを確認したが、その効
果はやや低い。
収縮剤の機能については複雑な而が多く、収縮剤の分解
に伴う液相の成牛(CuOCu2Oのような)や、金属
酸化物半導体中への固溶による格子の弛緩2等が寄り、
シているものと推定できる。
に伴う液相の成牛(CuOCu2Oのような)や、金属
酸化物半導体中への固溶による格子の弛緩2等が寄り、
シているものと推定できる。
また収縮剤の活性には、その原子価が関与しているもの
と思われる。例えばS n 02に対してCuOやZn
Oは良い収縮剤であるが、T+C4として0.5wt%
のT t 02を、(TI02換算で0.5wt%、以
下同じ)、S n 02に加え145o′c′コ2時間
焼結しても、120kQ/ca程反の曲は強1すのもの
しが得られず、・TiO3は有効な収縮剤とは呂乏−な
い。原子価の低いものか収縮剤として゛自効−(ある。
と思われる。例えばS n 02に対してCuOやZn
Oは良い収縮剤であるが、T+C4として0.5wt%
のT t 02を、(TI02換算で0.5wt%、以
下同じ)、S n 02に加え145o′c′コ2時間
焼結しても、120kQ/ca程反の曲は強1すのもの
しが得られず、・TiO3は有効な収縮剤とは呂乏−な
い。原子価の低いものか収縮剤として゛自効−(ある。
収縮剤の添化形態は、塩が望ましいが、炭化物。
窒化物、また金属や酸化物の微粉等でも良い。ただしア
ルミニウムの場合には特別の注、斡、が必要である。S
n O2に8wt%のα−アルミナを加え、1600
°Cて3時間焼結したものの曲げ強度は120kg/c
a Vcすきナカ)ft。8wt%の(Ae2o3とし
て)金属アルミニウム微粉を用いると、回し条件で80
0 kg/cノの曲げ強度が得ら八た。このことから、
アルミニウムが安定て不活性な(1アルミナに転化する
mfJに収縮剤として作用しtILるように、金属や窒
化物、炭化物として加えれV1良いことがわかる。
ルミニウムの場合には特別の注、斡、が必要である。S
n O2に8wt%のα−アルミナを加え、1600
°Cて3時間焼結したものの曲げ強度は120kg/c
a Vcすきナカ)ft。8wt%の(Ae2o3とし
て)金属アルミニウム微粉を用いると、回し条件で80
0 kg/cノの曲げ強度が得ら八た。このことから、
アルミニウムが安定て不活性な(1アルミナに転化する
mfJに収縮剤として作用しtILるように、金属や窒
化物、炭化物として加えれV1良いことがわかる。
収縮剤の添加量は0.5〜2wL%(金属酸化物半導体
と収縮剤の重量比を%単位で示したものをwt%として
示す。)が一般に望捷しい。S n 02を金属酸化物
半導体とし、CuOを収縮剤とする場合を例にすると、
0.1wt%で既に大きな効果が得られ、添加効果は以
後添加喰とともに増大し、0.5wt%程度から飽和す
る。ZnOやMnO□収縮剤の場合には2wt%程度で
効果が飽和する。収縮剤の添加風を不必要に増すと、収
縮剤の遊離用が増すので好ましくない。
と収縮剤の重量比を%単位で示したものをwt%として
示す。)が一般に望捷しい。S n 02を金属酸化物
半導体とし、CuOを収縮剤とする場合を例にすると、
0.1wt%で既に大きな効果が得られ、添加効果は以
後添加喰とともに増大し、0.5wt%程度から飽和す
る。ZnOやMnO□収縮剤の場合には2wt%程度で
効果が飽和する。収縮剤の添加風を不必要に増すと、収
縮剤の遊離用が増すので好ましくない。
表1に収縮剤の添加例を示す。実験は、十分に高純度の
金属酸化物半導体を600°Cで3時間加熱しく T
i02の場合のみ80−0°Cて3時間加熱し)、粉砕
したものを、金属酸化物半導体原料とし、塩化物水溶液
さして収縮剤を加えた後、700kq/cdの圧力で断
面1ctA、長さ8cmの直方体にプレス成型した後、
焼成することによって行った。なお加熱雰囲気は大気で
、昇温速度rri200’C/hour。
金属酸化物半導体を600°Cで3時間加熱しく T
i02の場合のみ80−0°Cて3時間加熱し)、粉砕
したものを、金属酸化物半導体原料とし、塩化物水溶液
さして収縮剤を加えた後、700kq/cdの圧力で断
面1ctA、長さ8cmの直方体にプレス成型した後、
焼成することによって行った。なお加熱雰囲気は大気で
、昇温速度rri200’C/hour。
かつ最高温度に2時間保つようにした。測定は相対密度
(理論密度との密度の比)、常温での曲げ強度、800
°Cの空気中での比抵抗を求めることにより行った。
(理論密度との密度の比)、常温での曲げ強度、800
°Cの空気中での比抵抗を求めることにより行った。
表1から明らかな様に得られる焼結体の大部分は絶縁体
で、絶縁性基体として用いるのに適している。なお絶縁
性が不充分な場合、電気伝導度を抑制するための原子価
制御不純物を収縮剤と併用すれば良い。
で、絶縁性基体として用いるのに適している。なお絶縁
性が不充分な場合、電気伝導度を抑制するための原子価
制御不純物を収縮剤と併用すれば良い。
「導電体化」 ガス検出素子には少くとも電極が必要で
あり、多くの場合にはヒータも必要である。電極やヒー
タは常法、例えばPL−Rh合金線の埋設や、厚膜導電
体の印刷、により設けても良い。しかし基体と異種の金
属とを結合するとその間に大きな熱応力が発生し得る。
あり、多くの場合にはヒータも必要である。電極やヒー
タは常法、例えばPL−Rh合金線の埋設や、厚膜導電
体の印刷、により設けても良い。しかし基体と異種の金
属とを結合するとその間に大きな熱応力が発生し得る。
そしてこの問題は排ガスの検出のように素子を高11^
で用いる場合に特に著しい。この問題をさけるためには
、基体を部分的に導電体化し、電極やヒータを金属酸化
物半導体で構成すれば良い。
で用いる場合に特に著しい。この問題をさけるためには
、基体を部分的に導電体化し、電極やヒータを金属酸化
物半導体で構成すれば良い。
基体の導電体化には、■Pt等の貴金属の大量投与、■
半導体への原子価制御が有効である。これらについての
例を表1の下部に示す。
半導体への原子価制御が有効である。これらについての
例を表1の下部に示す。
いずれの場合も導電体化により、焼結体の強度が低下す
るので、収縮剤の添加量を増すようにする。安定な導電
体をtIIるには貴金属の大は投与が望ましく、原子価
制御では抵抗値が経時的に変動することがある。例えば
S n 02に1.0wt%のCuOと2.0wt%の
5b203を加えた試t1ては、600°Cで12時間
ag i ngすると比抵抗は20Ωcmから8Ωcm
に低下し、以後600°Cてのagingでは抵抗値は
変化しない。逆に1400°Cて8時間ag i ng
すると比抵抗は25Ω(7)に増大する。なおここては
800°Cの大気中の比抵抗を示した。しかし貴金属の
大量投与ではこのようなことはない。
るので、収縮剤の添加量を増すようにする。安定な導電
体をtIIるには貴金属の大は投与が望ましく、原子価
制御では抵抗値が経時的に変動することがある。例えば
S n 02に1.0wt%のCuOと2.0wt%の
5b203を加えた試t1ては、600°Cで12時間
ag i ngすると比抵抗は20Ωcmから8Ωcm
に低下し、以後600°Cてのagingでは抵抗値は
変化しない。逆に1400°Cて8時間ag i ng
すると比抵抗は25Ω(7)に増大する。なおここては
800°Cの大気中の比抵抗を示した。しかし貴金属の
大量投与ではこのようなことはない。
貴金属を用いる場合、高融点のものを用いるようにする
。5nO2f 1450°Cて焼成する際にAu(融点
1064°C)や、銀(融点962°C)を用いると、
AuやAgは1450°Cてはほとんど粘性をもたない
ため、基体中に拡散してしまい、電極やヒータの形状精
度が低下してし甘うからである。
。5nO2f 1450°Cて焼成する際にAu(融点
1064°C)や、銀(融点962°C)を用いると、
AuやAgは1450°Cてはほとんど粘性をもたない
ため、基体中に拡散してしまい、電極やヒータの形状精
度が低下してし甘うからである。
貴金属や原子価制御不純物は、金属微粉や酸化物として
加えても良いが、塩の〆液として加える力が良い。所望
の位置に添加するのが容易となるためである。貴金属を
大量に加えるためには、添加を数回にわけ、添加と乾燥
を繰り返して、添加量を増すようにする。例えば表1の
SnO3に25W[%のptl加えた試別では、P t
t H4F tc16として5wt%ずつ加え、添加
・乾燥・200°Cでの分解を5回繰り返した。
加えても良いが、塩の〆液として加える力が良い。所望
の位置に添加するのが容易となるためである。貴金属を
大量に加えるためには、添加を数回にわけ、添加と乾燥
を繰り返して、添加量を増すようにする。例えば表1の
SnO3に25W[%のptl加えた試別では、P t
t H4F tc16として5wt%ずつ加え、添加
・乾燥・200°Cでの分解を5回繰り返した。
素子の温度を測定する必要がある場合、基体の一部を測
温抵抗体として用いるようにする。測温抵抗体とする部
分は、■収縮剤を加えず半導体本来の抵抗値を用いる、
■収縮剤の添加と導電体化とを併用する、様にする。
温抵抗体として用いるようにする。測温抵抗体とする部
分は、■収縮剤を加えず半導体本来の抵抗値を用いる、
■収縮剤の添加と導電体化とを併用する、様にする。
「ガス感応部」 ガス感応部には基体と同種の金属酸化
物半導体を用いるのが望ましく、最初から基体と一体に
成型して製造するのか好ましい。
物半導体を用いるのが望ましく、最初から基体と一体に
成型して製造するのか好ましい。
「素子の製造例と構造」
第1図にヒータつきのガス検出素子の構造例を示す。図
において(1)は、5n02 、 TiO2、In20
3ZnO等の金属酸化物に015wt%のCuO’5加
え、やや低温(SnO2i用いた場合で1000°C)
で焼成した基体である。基体(1)の中心部にはFe−
Cr合6線コイルからなるヒータ(2)を埋設し、外周
部には金属酸化物21′−導体に0.5wt%のCuO
と25wt%のPt、!:を添加した電極(3) 、
(4)を設け、リード線(5) 、 (6)を接ん゛ご
する。基体(1)の表面へ基体(1)と同種の金属酸化
物半導体からなるガス感応部(7)を設ける。
において(1)は、5n02 、 TiO2、In20
3ZnO等の金属酸化物に015wt%のCuO’5加
え、やや低温(SnO2i用いた場合で1000°C)
で焼成した基体である。基体(1)の中心部にはFe−
Cr合6線コイルからなるヒータ(2)を埋設し、外周
部には金属酸化物21′−導体に0.5wt%のCuO
と25wt%のPt、!:を添加した電極(3) 、
(4)を設け、リード線(5) 、 (6)を接ん゛ご
する。基体(1)の表面へ基体(1)と同種の金属酸化
物半導体からなるガス感応部(7)を設ける。
この素子の製造例について説明する。
金属酸化物事3(7体に少量の水を加えて可塑性を持た
せ、あらかじめヒータ(2)をセットした金型に充填し
て、丸棒状に成型する。加える水には所要量のCu C
l! 2を混合しておく。−!た水の量を可能な限り少
くし、成型時の圧力をヒータ(2)全変形させない範囲
で大きくし、成型体の密度を高めるようにする。このも
のを700’Cに加熱して、ある程度の焼結を行う。焼
結によって強度をもたせる代りに、半導体にプラスチッ
ク系等の結合剤を加えておいても良い。つぃイ塩化白金
酸溶液を印刷し、電極(3) 、 (4)を形成させる
。1回に加え得る白金の量は少いので、5回にわけて添
加し、各々添加、風乾、200’Cでの分解のサイクル
を繰り返す。成型体の外周部に、基体(1)と同種の金
属酸化物109体を印刷し、ガス感応部(7)を形成す
る。電極(3)。
せ、あらかじめヒータ(2)をセットした金型に充填し
て、丸棒状に成型する。加える水には所要量のCu C
l! 2を混合しておく。−!た水の量を可能な限り少
くし、成型時の圧力をヒータ(2)全変形させない範囲
で大きくし、成型体の密度を高めるようにする。このも
のを700’Cに加熱して、ある程度の焼結を行う。焼
結によって強度をもたせる代りに、半導体にプラスチッ
ク系等の結合剤を加えておいても良い。つぃイ塩化白金
酸溶液を印刷し、電極(3) 、 (4)を形成させる
。1回に加え得る白金の量は少いので、5回にわけて添
加し、各々添加、風乾、200’Cでの分解のサイクル
を繰り返す。成型体の外周部に、基体(1)と同種の金
属酸化物109体を印刷し、ガス感応部(7)を形成す
る。電極(3)。
(4)の露出部に、導電ペーストを用いてリード線(5
)。
)。
(6)を固定する。最後に全体を1000 ’cに2時
間保って、焼結を行う。
間保って、焼結を行う。
第2図および第3図に点火プラグ状の形状の素子を示す
。図においてθυはS n 02等の金属酸化物半導体
に0.5 w L%のCuOを加えた棒状の基体で、そ
の先端に設けたくほみ部αつの底面にガス感応部03が
形成しである。ガス感応部o3には、基体0υの局面に
軸方向に沿って設けた一対の電極(14) 、 aυが
接続しである。電極θ荀、 05には、Cu70wt%
、ホクケイ酸ガラス80wt%からなる導電性ガラスQ
QI 、 O7) k介して、Fe−Cr合金線o8)
、O1りを接続する。基体01)の中央部に、スリーブ
(イ)により素子の装着用の金属部材Qυを固定する。
。図においてθυはS n 02等の金属酸化物半導体
に0.5 w L%のCuOを加えた棒状の基体で、そ
の先端に設けたくほみ部αつの底面にガス感応部03が
形成しである。ガス感応部o3には、基体0υの局面に
軸方向に沿って設けた一対の電極(14) 、 aυが
接続しである。電極θ荀、 05には、Cu70wt%
、ホクケイ酸ガラス80wt%からなる導電性ガラスQ
QI 、 O7) k介して、Fe−Cr合金線o8)
、O1りを接続する。基体01)の中央部に、スリーブ
(イ)により素子の装着用の金属部材Qυを固定する。
この素子の製法例を以下に示す。金属酸化物半導体をプ
レス成型し、基体0υ、電極a< 、α〜およびガス感
応部0■を一体に成型し、焼結あるいは結合剤の添加に
より強度を与える。ガス感応部03に有機高分子溶液を
含浸させて乾燥し、収縮剤やPt等からマスキングする
。電極θ由、θ句に対応する頭載に、塩化白金酸とCu
C(J 2と有機高の子とを加えた溶液を印刷し、乾
燥と白金塩との分解を行う。
レス成型し、基体0υ、電極a< 、α〜およびガス感
応部0■を一体に成型し、焼結あるいは結合剤の添加に
より強度を与える。ガス感応部03に有機高分子溶液を
含浸させて乾燥し、収縮剤やPt等からマスキングする
。電極θ由、θ句に対応する頭載に、塩化白金酸とCu
C(J 2と有機高の子とを加えた溶液を印刷し、乾
燥と白金塩との分解を行う。
a )u((分K Cu C(12の水溶液を含浸させ
る。つきに乾燥と有機高分子の酸化除去とを行い、14
5゜’GK2時間保持して焼結を完γする。最後にFe
−01合金線O8) 、 On、導電性カラスOQ 、
074、金属製部材Q1)、スリーブ翰のセソティン
グヲ行う。
る。つきに乾燥と有機高分子の酸化除去とを行い、14
5゜’GK2時間保持して焼結を完γする。最後にFe
−01合金線O8) 、 On、導電性カラスOQ 、
074、金属製部材Q1)、スリーブ翰のセソティン
グヲ行う。
なおこの実施例での基体θυ、ガス感応部o1、電極θ
→、0υの組成は先の実施例と同様である。
→、0υの組成は先の実施例と同様である。
第4図に、点火プラグ状の素子の外周部に、測温抵抗体
兼用のヒータ6υを設けた素子を示す。このヒータOυ
は金属酸化物半導体VC0,5wt%のCuO収縮剤と
15wt%のP[とを加えたもので、その形状は周知で
あるので省略する。ヒータ431)の一部をガス感応部
01の電極として用い、他の電、(板θ5)を基体Qη
の中心部に設ける。そしてヒータODの両端と電極00
′とに、F e −Cr合金線Os) 、 O8)′、
(19) k接続する。
兼用のヒータ6υを設けた素子を示す。このヒータOυ
は金属酸化物半導体VC0,5wt%のCuO収縮剤と
15wt%のP[とを加えたもので、その形状は周知で
あるので省略する。ヒータ431)の一部をガス感応部
01の電極として用い、他の電、(板θ5)を基体Qη
の中心部に設ける。そしてヒータODの両端と電極00
′とに、F e −Cr合金線Os) 、 O8)′、
(19) k接続する。
この発明ては、基体とガス感応部との熱心力を無視し得
るので、熱応力による素子の破壊がない。
るので、熱応力による素子の破壊がない。
熱応力による制約がないので、任意の形状の素子を製造
し得る。また電極やヒータも金属酸化物半導体で構成す
ることが可能になるのて、金属とセラミックとの間の熱
応力も解消し得る。さらにプレス成型やマスキング、及
び印刷や焼結等の単純で制御の容易な手法で素子を製造
し得る。
し得る。また電極やヒータも金属酸化物半導体で構成す
ることが可能になるのて、金属とセラミックとの間の熱
応力も解消し得る。さらにプレス成型やマスキング、及
び印刷や焼結等の単純で制御の容易な手法で素子を製造
し得る。
第1図はこの発明の素子の1構造例を示す縦方向断面図
、第2図は他の構造例の正面図て第3図はそのA−A方
向断面図、第4図は他の変形例の縦方向断面図である。 (1) 、 (11)−・・基体、 (7) 、
Q3−・・ガス感応部、(3) 、 (4) 、 (1
4) 、 Qe 、 Qe −・・電極、(2)・・・
ヒータ、G])・・・ヒータ兼用電極。 特許出願人 フイガロ技研株式会社 代表者千葉 瑛づ口 第1図 第2図 第3図 第4図 特許庁長官着膨和犬殿 1.事件の表示 昭和57年 特訂願 第13C: (l G ijす
2、発明の名称 力゛ス検出素子 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 センノ〈ニジ 名称 フイガロ技研株式会社 チバアキラ 代表者 千葉瑛 4、代理人 住所 大阪市北区西天満4 ]’ It 7番1号北ビ
ル1号館5階50 L+ ’′、室(発送日57年1(
)月2611)
、第2図は他の構造例の正面図て第3図はそのA−A方
向断面図、第4図は他の変形例の縦方向断面図である。 (1) 、 (11)−・・基体、 (7) 、
Q3−・・ガス感応部、(3) 、 (4) 、 (1
4) 、 Qe 、 Qe −・・電極、(2)・・・
ヒータ、G])・・・ヒータ兼用電極。 特許出願人 フイガロ技研株式会社 代表者千葉 瑛づ口 第1図 第2図 第3図 第4図 特許庁長官着膨和犬殿 1.事件の表示 昭和57年 特訂願 第13C: (l G ijす
2、発明の名称 力゛ス検出素子 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 センノ〈ニジ 名称 フイガロ技研株式会社 チバアキラ 代表者 千葉瑛 4、代理人 住所 大阪市北区西天満4 ]’ It 7番1号北ビ
ル1号館5階50 L+ ’′、室(発送日57年1(
)月2611)
Claims (1)
- (1)ガスにより抵抗値が変化する金属酸化物半導体と
収縮剤とを含む焼結体の耐熱絶縁性基体と、この基体に
より支持したガス敏感性金属酸化物半導体からなるガス
感応部と、このガス感応部に接続した少くとも一対の電
極とを含み、かつ前記収縮剤は、Cr 、Mn、Fe、
Co、Ni 、Cu。 Zn、Cd、Hg、Ad、Ga、In、T6.Bi、f
l金属元素、ランクニド、およびアクチニドからなる群
の少くとも一員であり、かつ基体の金属酸化物半導体と
は異なるものの、金属および酸化物の少くとも一員であ
ることを特徴とするガス検出素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13606882A JPS5926041A (ja) | 1982-08-04 | 1982-08-04 | ガス検出素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13606882A JPS5926041A (ja) | 1982-08-04 | 1982-08-04 | ガス検出素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5926041A true JPS5926041A (ja) | 1984-02-10 |
Family
ID=15166461
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13606882A Pending JPS5926041A (ja) | 1982-08-04 | 1982-08-04 | ガス検出素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5926041A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6134946A (en) * | 1998-04-29 | 2000-10-24 | Case Western Reserve University | Nano-crystalline porous tin oxide film for carbon monoxide sensing |
| CN110836913A (zh) * | 2019-11-05 | 2020-02-25 | 山东大学 | 一种铁掺杂多孔氧化铟气敏材料及其制备方法与应用 |
| JP2021196176A (ja) * | 2020-06-09 | 2021-12-27 | アルプスアルパイン株式会社 | 感ガス材料、感ガス材料の製造方法及びガス濃度測定装置 |
-
1982
- 1982-08-04 JP JP13606882A patent/JPS5926041A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6134946A (en) * | 1998-04-29 | 2000-10-24 | Case Western Reserve University | Nano-crystalline porous tin oxide film for carbon monoxide sensing |
| CN110836913A (zh) * | 2019-11-05 | 2020-02-25 | 山东大学 | 一种铁掺杂多孔氧化铟气敏材料及其制备方法与应用 |
| JP2021196176A (ja) * | 2020-06-09 | 2021-12-27 | アルプスアルパイン株式会社 | 感ガス材料、感ガス材料の製造方法及びガス濃度測定装置 |
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