JPS5924099B2 - 焼結結晶セラミツク物品のクリストバライト相発生を阻止する方法 - Google Patents
焼結結晶セラミツク物品のクリストバライト相発生を阻止する方法Info
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- JPS5924099B2 JPS5924099B2 JP51012149A JP1214976A JPS5924099B2 JP S5924099 B2 JPS5924099 B2 JP S5924099B2 JP 51012149 A JP51012149 A JP 51012149A JP 1214976 A JP1214976 A JP 1214976A JP S5924099 B2 JPS5924099 B2 JP S5924099B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0018—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents
- C03C10/0027—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents containing SiO2, Al2O3, Li2O as main constituents
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Description
【発明の詳細な説明】
高シリカガラスフリットを焼結して原位置で主として低
膨張β−スポジュメン固溶体相を結晶化させる際に高膨
張クリストバライト相の抑制が、抑制剤化合物をガラス
バッチとともに溶融するかまたは焼結前に抑制剤をガラ
スフリットに添加することにより行われ、クリストバラ
イト抑制剤はアルカリ金属、アルカリ土類金属、イツト
リウム、ランタン、チタン、ニオブ、タンタル、硼素、
亜鉛、鉛およびアンチモンの酸化物から選ばれる。
膨張β−スポジュメン固溶体相を結晶化させる際に高膨
張クリストバライト相の抑制が、抑制剤化合物をガラス
バッチとともに溶融するかまたは焼結前に抑制剤をガラ
スフリットに添加することにより行われ、クリストバラ
イト抑制剤はアルカリ金属、アルカリ土類金属、イツト
リウム、ランタン、チタン、ニオブ、タンタル、硼素、
亜鉛、鉛およびアンチモンの酸化物から選ばれる。
2価および3価のカチオンを有する酸化物がガラス10
0?Gこつき抑制剤化合物0.02モルの量で選ばれ、
他の抑制剤はガラス100グにつき最大約0.01モル
の量で選ばれる。
0?Gこつき抑制剤化合物0.02モルの量で選ばれ、
他の抑制剤はガラス100グにつき最大約0.01モル
の量で選ばれる。
米国特許第3,600,204号明細書は、成形、焼成
してβ−スポジュメン固溶体結晶に基づく非常に低い平
均熱膨張および最大900℃までの温度における長期間
の優れた寸法安定性を有する結晶セラミック(またはガ
ラスセラミック)物品を形成するために開発されたL
120−At203−8102ガラスフリツトの分野を
開示している。
してβ−スポジュメン固溶体結晶に基づく非常に低い平
均熱膨張および最大900℃までの温度における長期間
の優れた寸法安定性を有する結晶セラミック(またはガ
ラスセラミック)物品を形成するために開発されたL
120−At203−8102ガラスフリツトの分野を
開示している。
このようなフリットの1つは米国特許第3,112,1
84および3,251,403号明細書に記載されてい
るように複合蓄熱式熱交換器の数個の部品の製造に特に
有利に使用されている。
84および3,251,403号明細書に記載されてい
るように複合蓄熱式熱交換器の数個の部品の製造に特に
有利に使用されている。
米国特許第3,839,001号明細書は上記β−スポ
ジュメンガラスーセラミックを生成するガラスフリット
処理の改良を開示しており、この場合成形前に少量の粒
状結晶種物質がフリットに添加され、種物質添加剤を用
いない場合より均一な熱膨張ヒステリシスを有する焼結
物品が得られる。
ジュメンガラスーセラミックを生成するガラスフリット
処理の改良を開示しており、この場合成形前に少量の粒
状結晶種物質がフリットに添加され、種物質添加剤を用
いない場合より均一な熱膨張ヒステリシスを有する焼結
物品が得られる。
基本組成物および改良組成物ともモル比Al2O3:L
1□0が約1.0−1.5の3.5−7.5%Lt 2
0 %15−30%At203および65−80%S
t 02(酸化物として重量基準)組成範囲にわたって
有効である。
1□0が約1.0−1.5の3.5−7.5%Lt 2
0 %15−30%At203および65−80%S
t 02(酸化物として重量基準)組成範囲にわたって
有効である。
種物質(好ましい物質ではないが9の1つはチタニアで
ある。
ある。
他の種物質はβ−スポジュメン、β−スポジュメン固溶
体、α−スポジュメン、ペタライト、ジルコニア、珪素
およびこれらの混合物である。
体、α−スポジュメン、ペタライト、ジルコニア、珪素
およびこれらの混合物である。
上記の特定範囲の組成物で作った蓄熱器は一般に適当で
ある。
ある。
しかしながら、膨張は低いが、ガスタービンエンジンの
普通の運転温度すなわち約25−800”Cにわたる膨
張は実質的に零であれば望ましい。
普通の運転温度すなわち約25−800”Cにわたる膨
張は実質的に零であれば望ましい。
そのような目的に対する研究によれば、最大800℃ま
で零膨張物品をつくる(こはシリカ水準を上記範囲の上
限まで高めることが必要であり、しかもより高いシリカ
水準(74力以上シリカ)では、クリストバライトの結
晶化が問題となり、クリストバライトは結晶化物品(こ
より太きいおよびより変化し得る膨張性を引起すことが
見出されている。
で零膨張物品をつくる(こはシリカ水準を上記範囲の上
限まで高めることが必要であり、しかもより高いシリカ
水準(74力以上シリカ)では、クリストバライトの結
晶化が問題となり、クリストバライトは結晶化物品(こ
より太きいおよびより変化し得る膨張性を引起すことが
見出されている。
また、クリストバライトはより高い温度への焼成により
避けることが出来るが、これらのより高い温度はフリッ
トの融点に近づき、その場合スランピング(slump
ing)および過度の結晶粒成長が生じる。
避けることが出来るが、これらのより高い温度はフリッ
トの融点に近づき、その場合スランピング(slump
ing)および過度の結晶粒成長が生じる。
最後に、クリストバライトの回避とフリットの部分溶融
間の焼成温度は高シリカ(74〜80%S i02 )
ではより狭くなり、77%5iO2(プラス19.1%
At203および4.2%L i20 )では絶対差は
約15℃に過ぎない。
間の焼成温度は高シリカ(74〜80%S i02 )
ではより狭くなり、77%5iO2(プラス19.1%
At203および4.2%L i20 )では絶対差は
約15℃に過ぎない。
このような狭い焼成範囲で物品を効果的に製造すること
は非常に高価につき、したがってより低い焼成温度でク
リストバライトを抑制する方法が必要とされる。
は非常に高価につき、したがってより低い焼成温度でク
リストバライトを抑制する方法が必要とされる。
したがって、本発明の目的は、高シリカ、リチウム−ア
ルミノシリケート(LAS)ガラスおよびガラス−セラ
ミックにおいてスランピングおよび過度の結晶粒成長に
より特徴づけられるようなガラスの部分溶融点より実質
的に低い焼成温度でクリストバライトの生成を抑制する
方法を提供することである。
ルミノシリケート(LAS)ガラスおよびガラス−セラ
ミックにおいてスランピングおよび過度の結晶粒成長に
より特徴づけられるようなガラスの部分溶融点より実質
的に低い焼成温度でクリストバライトの生成を抑制する
方法を提供することである。
本発明の目的によれば、本出願人は焼結前に成形LAS
物品に存在させた場合抑制剤を用いない場合に可能であ
るよりはより低い焼成温度でクリストバライトの生成を
抑制する一連のクリストバライト抑制剤化合物を見出し
た。
物品に存在させた場合抑制剤を用いない場合に可能であ
るよりはより低い焼成温度でクリストバライトの生成を
抑制する一連のクリストバライト抑制剤化合物を見出し
た。
抑制剤化合物は゛溶融前にガラス原料バッチに添加する
ことが出来または物品の成形前にガラスフリットに添加
することが出来る。
ことが出来または物品の成形前にガラスフリットに添加
することが出来る。
従来、実質的に3.5−7.5%L i 2o、 1
5−30%A t203および65−80%5in2(
酸化物基準として重量による)からなりかつAt203
コL120のモル比が約1.0−1.5の微細ガラスフ
リットからLAS結晶セラミック物品を製造する方法は
、(a)フリット(こ0.01−3.5%の粒状種物質
を添加または添加せずしてフリットを成形して生物品と
する工程、および(b)生物品を約900−1350℃
でフリットを焼結させて凝集物品となしかつガラスを現
場で結晶化させるのに十分な時間(普通1−24時間)
焼成する工程からなるものであった。
5−30%A t203および65−80%5in2(
酸化物基準として重量による)からなりかつAt203
コL120のモル比が約1.0−1.5の微細ガラスフ
リットからLAS結晶セラミック物品を製造する方法は
、(a)フリット(こ0.01−3.5%の粒状種物質
を添加または添加せずしてフリットを成形して生物品と
する工程、および(b)生物品を約900−1350℃
でフリットを焼結させて凝集物品となしかつガラスを現
場で結晶化させるのに十分な時間(普通1−24時間)
焼成する工程からなるものであった。
この従来法に対する本出願人の改良は、上記方法では結
晶化物品にスポジュメン相と共にクリストバライト相が
現われる前述の範囲の高シリカ(74−80%)組成物
にのみ関するものである。
晶化物品にスポジュメン相と共にクリストバライト相が
現われる前述の範囲の高シリカ(74−80%)組成物
にのみ関するものである。
驚くべきこと(こは、本出願人の改良は焼結物品のクリ
ストバライトを抑制する。
ストバライトを抑制する。
この改良は、ガラス原料バッチまたはフリットにNa2
O*に20゜Cs20−MgO−CaC52O−、Ba
O,Y2O35La203゜T 102− Nb2o5
− Ta 205 、ZnO−B2O3、PbOおよび
5b203から選ばれるクリットバライト抑制剤を添加
することからなり、2価および4価カチオン(偶数原子
価カチンつを有する酸化物はガラス1001当り最大約
0.02モル濃度で、また残りの酸化物はガラス100
7当り最大約0.01モルの濃度で添加するものである
。
O*に20゜Cs20−MgO−CaC52O−、Ba
O,Y2O35La203゜T 102− Nb2o5
− Ta 205 、ZnO−B2O3、PbOおよび
5b203から選ばれるクリットバライト抑制剤を添加
することからなり、2価および4価カチオン(偶数原子
価カチンつを有する酸化物はガラス1001当り最大約
0.02モル濃度で、また残りの酸化物はガラス100
7当り最大約0.01モルの濃度で添加するものである
。
抑制剤の1つまたはそれ以上たとえばTiO2を省略し
、残りの抑制剤を1つまたはそれ以上選ぶことが効果的
に出来る。
、残りの抑制剤を1つまたはそれ以上選ぶことが効果的
に出来る。
特に好ましいフリット組成物は76−78%SiO2、
18−19%At203.4−5%Li2Oおよび0.
5−1.5重量係Ti02(ガラス1007当り0.0
0625−0.0188モルTie2)である。
18−19%At203.4−5%Li2Oおよび0.
5−1.5重量係Ti02(ガラス1007当り0.0
0625−0.0188モルTie2)である。
所要量以上の抑制剤は長時間の使用に際して機械的およ
び熱的安定性に有害であり得ることが見出された。
び熱的安定性に有害であり得ることが見出された。
2つの異なるモル範囲は濃度範囲にわたって各抑制剤酸
化物について同じ分子数よりは同じカチオン数を結晶化
し得るガラスζこ与えるためζこ偶数および奇数原子価
カチオンの酸化物について述べられる。
化物について同じ分子数よりは同じカチオン数を結晶化
し得るガラスζこ与えるためζこ偶数および奇数原子価
カチオンの酸化物について述べられる。
酸化物物質は極めて低濃度たとえばガラス1001当り
0.001モルという低濃度または酸化物の種々のもの
についてそれ以下の濃度存在させると本発明のLASガ
ラスセラミックでクリストバライトを抑制するのに有効
であると思はれる。
0.001モルという低濃度または酸化物の種々のもの
についてそれ以下の濃度存在させると本発明のLASガ
ラスセラミックでクリストバライトを抑制するのに有効
であると思はれる。
さらに、ソリストパライトの抑制に有効な抑制剤の量は
温度に依存し、したがって少量は1つの温度では部分的
に有効であり得るし、また10−20℃高い温度ではク
リストバライトの除去ζこ完全に効果がある。
温度に依存し、したがって少量は1つの温度では部分的
に有効であり得るし、また10−20℃高い温度ではク
リストバライトの除去ζこ完全に効果がある。
酸化物は部分溶融温度以下の適度の焼成範囲、適当には
1200−1350℃(好ましくは約1250−131
0℃)で焼成した際Li2体からクリストバライト相を
実質的に除去する時効果的であると考えられる。
1200−1350℃(好ましくは約1250−131
0℃)で焼成した際Li2体からクリストバライト相を
実質的に除去する時効果的であると考えられる。
ガラスフリットを調製し、成形、焼成して焼結結晶セラ
ミック(またはガラスセラミック)物品を製造する例示
方法は、米国特許第3,600,204号明細書および
こ5で特に言及した2つの特許(これらすべては参考と
して引用した)に記載されている。
ミック(またはガラスセラミック)物品を製造する例示
方法は、米国特許第3,600,204号明細書および
こ5で特に言及した2つの特許(これらすべては参考と
して引用した)に記載されている。
しかしながら、フリットおよび抑制剤物質から所望に応
じて他の形および種類の成形物品をつくることが出来る
。
じて他の形および種類の成形物品をつくることが出来る
。
また、特定物品の製造に必要なら、他の適当な通常のセ
ラミック成形または製造方法(たとえば乾式または可塑
式プレス、押出、射出成形、均衡プレス、スリップ注形
等)を用いることが出来る。
ラミック成形または製造方法(たとえば乾式または可塑
式プレス、押出、射出成形、均衡プレス、スリップ注形
等)を用いることが出来る。
本発明により解決すべき問題を定義するに尚って、組成
5係Li20−23係A 403−72%SiO2よび
100%5IO2を連結する連結線に横たわる試料ガラ
ス組成物を溶融し、フリットにし、最後に焼結して調製
した。
5係Li20−23係A 403−72%SiO2よび
100%5IO2を連結する連結線に横たわる試料ガラ
ス組成物を溶融し、フリットにし、最後に焼結して調製
した。
試料(こついて相分析を行い、70−80%シリカ範囲
にわたって試料の状態図を理論つけた。
にわたって試料の状態図を理論つけた。
状態図のその部分の近似化が第1図として示され、この
図は焼成物品において大した溶融なしに所望のβ−スポ
ジュメンおよびムライト相を得るためのフリット焼結温
度範囲は連結線に沿ってシリカ含量が増大するにつれて
減少することを証明している。
図は焼成物品において大した溶融なしに所望のβ−スポ
ジュメンおよびムライト相を得るためのフリット焼結温
度範囲は連結線に沿ってシリカ含量が増大するにつれて
減少することを証明している。
熱膨張は同じ方向に減少し、したがって本発明の目的物
は前述の組成範囲の高シリカ端で焼成範囲を増大させる
に至った。
は前述の組成範囲の高シリカ端で焼成範囲を増大させる
に至った。
例■
本発明の典型的な例として、炭酸リチウム、仮焼アルミ
ナ、シリカ砂および微細Na2CO3,TiO□または
BaOのバッチを溶融して基本ガラス組成物および種々
の量のN a 20 * T t O2およびBaOを
含有する3系列の基本ガラス組成物を調製した。
ナ、シリカ砂および微細Na2CO3,TiO□または
BaOのバッチを溶融して基本ガラス組成物および種々
の量のN a 20 * T t O2およびBaOを
含有する3系列の基本ガラス組成物を調製した。
基本ガラス組成物は酸化物を基準として重量で4.3%
Li20−19.7楚kt203−76.0%S t
02 であり、抑制剤またはドープ剤の添加割合は基本
ガラス重量を基準とした。
Li20−19.7楚kt203−76.0%S t
02 であり、抑制剤またはドープ剤の添加割合は基本
ガラス重量を基準とした。
ガラス水中で急冷し、乾燥し、粉砕してマイナス8タイ
ラーメツシユとし、ナフテン酸粉砕助剤を用いてミルで
16時間粉砕した。
ラーメツシユとし、ナフテン酸粉砕助剤を用いてミルで
16時間粉砕した。
次に、微細ガラス粉末を結晶種剤として作用するβ−ス
ポジュメン固爵体結晶0.5%およびトリクロロエタン
ビヒクルに溶解したポリエチレングリコール結合剤4係
と混合した。
ポジュメン固爵体結晶0.5%およびトリクロロエタン
ビヒクルに溶解したポリエチレングリコール結合剤4係
と混合した。
このバッチを16メツシユ篩に通して粒状物とし、銅鋳
型で5000psi でプレスして棒状および球状試
料をつくった。
型で5000psi でプレスして棒状および球状試
料をつくった。
下記の計画昏こより試料を1270−1310℃で焼成
した: 室温−750℃、ioo℃/時 750℃−1000℃、20℃/時 1000℃−熟成温度、80℃/時 熟成温度保持5時間;および 炉速度で冷却。
した: 室温−750℃、ioo℃/時 750℃−1000℃、20℃/時 1000℃−熟成温度、80℃/時 熟成温度保持5時間;および 炉速度で冷却。
焼成体(こ残ったクリストバライトの相対量を22°2
θクリストバライトX線回折ピークの高さを測定して決
定し、比較を行った。
θクリストバライトX線回折ピークの高さを測定して決
定し、比較を行った。
結果は次の通りである。
表の結果から、より高い温度とより多量のドープ剤添加
を組合せるとクリストバライト相を避けることが出来る
ことが分る。
を組合せるとクリストバライト相を避けることが出来る
ことが分る。
例■
添加剤はガラスと共に溶融する必要はないが、しかし試
料をプレスする前に基本ガラスフリットに添加すること
が出来る。
料をプレスする前に基本ガラスフリットに添加すること
が出来る。
下記の例で、前記と同様にして基本ガラスを調製したが
、酸化物組成物は4.2%L 120−19.1%At
203−76.7%SiO2であった。
、酸化物組成物は4.2%L 120−19.1%At
203−76.7%SiO2であった。
ガラス粉末を調製し、種々のクリストバライト抑制剤化
合物を微粉末(−325メツシユ)としてポリエチレン
グリコール結合剤およびビヒクルと共にガラス各100
グラムについて特定した量で添加した。
合物を微粉末(−325メツシユ)としてポリエチレン
グリコール結合剤およびビヒクルと共にガラス各100
グラムについて特定した量で添加した。
。球状試料をプレスし、上記焼成計画に従いピーク
温度1250℃、1275℃および1300℃まで焼成
した。
温度1250℃、1275℃および1300℃まで焼成
した。
また、基本組成物を焼成し、焼成試料でクリストバライ
ト相を完全に避けるには1315℃の焼成温度が必要で
あった。
ト相を完全に避けるには1315℃の焼成温度が必要で
あった。
再び22゜2θクリストバライトピークをすべての試料
について測定し、表■に報告して抑制剤効果の相対R度
を与えた。
について測定し、表■に報告して抑制剤効果の相対R度
を与えた。
第2図は1275℃で焼成した基本組成物4.2%L
12o−19,1%A720.−76.7係S t 0
2に対する上記例の酸化物の相対性能を示す。
12o−19,1%A720.−76.7係S t 0
2に対する上記例の酸化物の相対性能を示す。
カチオンのイオン半径を相対クリストバライト含量(X
RDピーク高さにより測定)に対してプロットし、これ
はより大きいカチオンは1275℃のより低い湿度で最
も効果を示す傾向があることを示す。
RDピーク高さにより測定)に対してプロットし、これ
はより大きいカチオンは1275℃のより低い湿度で最
も効果を示す傾向があることを示す。
ドープ剤はすべて1300℃でソリストパライトを実質
的に減少させる効果があり、この温度はガラス組成物の
部分溶融が認められる温度より少なくとも約30℃低い
。
的に減少させる効果があり、この温度はガラス組成物の
部分溶融が認められる温度より少なくとも約30℃低い
。
例■
米国特許第3,600,204号明細書に記載されてい
るようにしてつくったハニカム構造体またはマトリック
ス体を抑制剤T t 02を添加または添加せずして試
験したデータを比較して本発明の好ましい実施態様を証
明した。
るようにしてつくったハニカム構造体またはマトリック
ス体を抑制剤T t 02を添加または添加せずして試
験したデータを比較して本発明の好ましい実施態様を証
明した。
5重量%Li2O,23重量%At203および72重
量%5i02の酸化物組成を有するガラスフリット(組
成物X−3)からつくったマl−IJラックス、酸化物
基準で4.5重量%L 120.18.5重量%A、/
、、03および77重量%SiO2の基本組成を有しか
つクリストバライト抑制剤として1.0重量%TiO2
を添加したガラスフリット(組成物Y−3)からつくっ
たマトリックスと比較した。
量%5i02の酸化物組成を有するガラスフリット(組
成物X−3)からつくったマl−IJラックス、酸化物
基準で4.5重量%L 120.18.5重量%A、/
、、03および77重量%SiO2の基本組成を有しか
つクリストバライト抑制剤として1.0重量%TiO2
を添加したガラスフリット(組成物Y−3)からつくっ
たマトリックスと比較した。
フリットの調製では抑制剤をガラスバッチと共に溶融し
た。
た。
両フリット共0.2重量俸β−スポジュメン固溶体結晶
を接種した。
を接種した。
マトリックスに用いた焼成計画は下記の通りであり、Y
−3抑制剤含有組成物のピーク温度は1295℃であり
、X−3組成物のそれは1310℃であった。
−3抑制剤含有組成物のピーク温度は1295℃であり
、X−3組成物のそれは1310℃であった。
いずれの焼結体にもクリストバライト相は実質的に存在
しなかった。
しなかった。
マトリックスから切断した試料の熱膨張曲線はY−3組
成物の場合より低い膨張を示す。
成物の場合より低い膨張を示す。
X−3は300℃で最大約75ppm収縮し、800℃
で全体で約300ppm膨張する。
で全体で約300ppm膨張する。
Y−3は0〜500℃で約250 ppm収縮し、80
0℃で膨張して全収縮的150 ppmになる。
0℃で膨張して全収縮的150 ppmになる。
Y−3は約900℃で約0の全膨張を示す。
2つの組成物の寸法安定性は800℃1000時間で同
じであるが、しかしX−3組成物(抑制剤なし)は10
00℃で同じ時間について優れている。
じであるが、しかしX−3組成物(抑制剤なし)は10
00℃で同じ時間について優れている。
X−3ははゾ1501)pm収縮を示し、¥−3は35
0 ppm以上の収縮を示す。
0 ppm以上の収縮を示す。
抑制剤が増大すると安定性はさらに低下し、したがって
制限することが必要である。
制限することが必要である。
TiO2は約1.5重量%(ガラスの重量に基づいて)
またはそれ以下に制限すべきであり、1重量%が好まし
い。
またはそれ以下に制限すべきであり、1重量%が好まし
い。
広範囲のLASガラス組成物において2重量%以上のT
iO2(普通約3.5重量%)が低温度で結晶核を形成
することがずっと以前に見出されていたことは注目すべ
きである。
iO2(普通約3.5重量%)が低温度で結晶核を形成
することがずっと以前に見出されていたことは注目すべ
きである。
本発明は実質的に2重量製以下のTiO2を必要とし、
実際にそれ以上のT 102はガラスフリットの不完全
焼結に通じる低温結晶化のために有害であることが見出
された。
実際にそれ以上のT 102はガラスフリットの不完全
焼結に通じる低温結晶化のために有害であることが見出
された。
約1.5重量%TiO2水準では、焼成は実質的に進行
してガラス状態で完結する。
してガラス状態で完結する。
第1図は溶融することなくβ−スポジュメン固溶体およ
びムライトのみを生じるのに必要な焼成範囲の狭小化を
示す5%L i20−23%At203−72〜100
%5i02からの連結線に沿う組成物についての状態図
の1部を示す図、第2図は表■からの抑制剤の相対効果
を1275℃で焼成した4、2チLi20−19.1%
At203−76.7%SiO□の物品についてカチオ
ン寸法の関数として示す図である。
びムライトのみを生じるのに必要な焼成範囲の狭小化を
示す5%L i20−23%At203−72〜100
%5i02からの連結線に沿う組成物についての状態図
の1部を示す図、第2図は表■からの抑制剤の相対効果
を1275℃で焼成した4、2チLi20−19.1%
At203−76.7%SiO□の物品についてカチオ
ン寸法の関数として示す図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 酸化物基準で重量により実質的に3.5−7.5%
Li2O,15−30%At203および74−80%
S 102からなりかつA403 : S t 02モ
ル比が約1.0−1.5である1種以上の微粉基本ガラ
スフリットからつくった焼結結晶セラミック物品のクリ
ストバライト相発生を阻止する方法で、然も、■、原料
バッチを溶融、急冷および粉砕して粒状ガラスフリット
を調製する工程、 ■、場合によっては粒状結晶種物質を含むフリットを成
形して生の成形物品とする工程、および■、前記生の成
形物品を約1200−1350℃でフリットを凝集物品
に焼結しかつガラスをその場で結晶化させるのに十分な
時間焼成する工程、 の諸工程からなる方法において、 工程■または工程■でNa2O,に20. C82C8
20s、CaO,SrO,BaO,Y2O3,La2O
3,Ti01゜Nb2O5s Ta205* ZnO*
B2O3* PbOおよび5b203から選ばれるク
リストバライト抑制剤酸化物を添加し;上記酸化物は、
焼結物品のクリストバライト相生成を抑制するのに有効
な量存在し、且つ偶数原子価を有する酸化物がガラスフ
リット1001当り最大0.02モル、残りの酸化物が
ガラスフリット1001当り最大o、oiモルになるよ
うに選択されることを特徴とする焼結結晶セラミック物
品のクリストバライト相発生を阻止する方法。 2 抑制剤酸化物がガラスフリット当り少なくとも0.
001モル濃度で添加される、前記第1項に記載の方法
。 3 セラミック物品が単一ガラスフリットからつくられ
、抑制剤酸化物が工程■で原料バッチと共に溶融される
、前記第2項に記載の方法。 4 基本ガラスが実質的に4−5%Li2O、IJ3−
19%At203および76−78俸S t 02から
なり、抑制剤酸化物がチタニアであり、焼成温度が約1
275−1310℃である、前記第1項に記載の方法。 5 セラミック物品が単一ガラスフリットからつくられ
、0.5−1.5重量係チタニアが工程■で原料バッチ
と共に溶融される、前記第4項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/548,548 US3951670A (en) | 1975-02-10 | 1975-02-10 | Cristobalite suppression in high-silica Li2 O-Al2 O-SiO2 devitrified glass frits |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS51103913A JPS51103913A (ja) | 1976-09-14 |
JPS5924099B2 true JPS5924099B2 (ja) | 1984-06-07 |
Family
ID=24189338
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP51012149A Expired JPS5924099B2 (ja) | 1975-02-10 | 1976-02-06 | 焼結結晶セラミツク物品のクリストバライト相発生を阻止する方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3951670A (ja) |
JP (1) | JPS5924099B2 (ja) |
DE (1) | DE2602106C2 (ja) |
FR (1) | FR2300050A1 (ja) |
GB (1) | GB1493743A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4042403A (en) * | 1975-05-19 | 1977-08-16 | Corning Glass Works | Thermally stable glass-ceramic articles |
US4047960A (en) * | 1976-06-18 | 1977-09-13 | Corning Glass Works | Refractory partially crystalline materials with good visible transparency |
US4162921A (en) * | 1977-01-05 | 1979-07-31 | Firsov Vitaly M | Glass-crystalline material and method of producing same |
JPS544914A (en) * | 1977-06-14 | 1979-01-16 | Asahi Glass Co Ltd | Highhdense lowwexpandable sintered body |
US4189325A (en) * | 1979-01-09 | 1980-02-19 | The Board of Regents, State of Florida, University of Florida | Glass-ceramic dental restorations |
US4353966A (en) * | 1980-12-12 | 1982-10-12 | United Technologies Corporation | Composite bonding |
JPS6345148A (ja) * | 1986-08-11 | 1988-02-26 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | 機械加工性の針状結晶析出結晶化ガラスの製造方法 |
US5096857A (en) * | 1990-10-22 | 1992-03-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Chemically stabilized cristobalite |
US5084328A (en) * | 1990-12-24 | 1992-01-28 | Corning Incorporated | Strong, surface crystallized glass articles |
US7229286B2 (en) * | 1998-07-10 | 2007-06-12 | Jones Derek W | Composite veneered cast glass-ceramic dental construct |
JP2000086289A (ja) * | 1998-09-10 | 2000-03-28 | Ngk Insulators Ltd | 結晶化ガラスの核形成剤、結晶化ガラス、磁気ディスク基板および磁気ディスク |
CN111051261A (zh) * | 2017-09-05 | 2020-04-21 | 日本电气硝子株式会社 | Las系结晶性玻璃、las系结晶化玻璃以及它们的制造方法 |
CN110386811A (zh) * | 2018-04-16 | 2019-10-29 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种具有零平均线热膨胀系数的复相陶瓷材料及其制备方法 |
CN111018506B (zh) * | 2019-11-28 | 2022-08-26 | 浙江锦诚新材料股份有限公司 | 一种用于水泥窑预热器抗结皮喷涂料 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL236367A (ja) * | 1958-03-03 | |||
US3112184A (en) * | 1958-09-08 | 1963-11-26 | Corning Glass Works | Method of making ceramic articles |
NL110268C (ja) * | 1959-07-01 | |||
US3006775A (en) * | 1959-09-23 | 1961-10-31 | Gen Electric | Ceramic material and method of making the same |
US3084053A (en) * | 1960-05-13 | 1963-04-02 | Robert H Arlett | Ceramic materials and method for making same |
US3251403A (en) * | 1962-01-05 | 1966-05-17 | Corning Glass Works | Ceramic heat exchanger structures |
US3279931A (en) * | 1963-02-13 | 1966-10-18 | Corning Glass Works | Glass-ceramic body and method of making it |
US3600204A (en) * | 1968-05-31 | 1971-08-17 | Corning Glass Works | Glass-ceramic article prepared from low expansion thermally devitrifiable glass frit |
US3839001A (en) * | 1973-07-20 | 1974-10-01 | Corning Glass Works | Manufacture of ceramic article |
-
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- 1975-02-10 US US05/548,548 patent/US3951670A/en not_active Expired - Lifetime
- 1975-10-31 GB GB45251/75A patent/GB1493743A/en not_active Expired
-
1976
- 1976-01-21 DE DE2602106A patent/DE2602106C2/de not_active Expired
- 1976-02-06 FR FR7603309A patent/FR2300050A1/fr active Granted
- 1976-02-06 JP JP51012149A patent/JPS5924099B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS51103913A (ja) | 1976-09-14 |
DE2602106A1 (de) | 1976-08-19 |
FR2300050A1 (fr) | 1976-09-03 |
FR2300050B1 (ja) | 1982-04-23 |
DE2602106C2 (de) | 1986-09-11 |
GB1493743A (en) | 1977-11-30 |
US3951670A (en) | 1976-04-20 |
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