JPS59225772A - 塗工方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は塗布機構、印刷機構における塗工に適用して有
効な塗工方法に関するものである。

従来ロール方式のフィルムコーティングは、第１図及び
第２図に示す如く、基材１がバンクアップロール２に沿
って走り、各種の転写機構（リバース方式、ロールコー
タ等）で塗工液３を基材ｌに塗布していた。また塗布量
の制御は各種の転写機構で異なるが、ロール間隙、線圧
及び周速差等で調整されていた。

しかしながら前記従来のロール方式のフィルムコーティ
ングは、使用法の面で下記のような欠点があった。即ち
、リバースロール方式は第２図の如く塗布面は優れてい
るが、微少塗布に難があった。またロールコータ方式は
第１図の如く微少塗工は容易であるが、３ａの如く凹凸
があり、均一な塗布面が得られなかった。

本発明者等は、微少塗布のためロールコータ方式による
フィルムコーティングを行なったが、塗布面に塗工ムラ
が残るため、本発明は塗工直後に新たに平滑化を図る装
置を取り付けることにより、平滑な塗布面を得ようとす
るもので、塗布直後（未乾燥部）の走行基材に超音波振
動波を当てて塗布面の平滑化を計るようにした塗工方法
を提供せんとするものである。

以下本発明の実施例を図面について説明すると、第４図
は本発明の実施例を示し、ロール方式のフィルムコータ
において、塗布面４の塗布液を規定量に制御した後基材
１に転写せしめ、直後の反塗布面側に基材１の支持ロー
ル５を設け、同支持ロール５部の塗布面４側に超音波振
動発生器６を基材１の巾方向に設置し、塗布面４に沿わ
せている。

なお図中７はハソキングロール、８はアプリケ−クロー
ルである。

さて第４図の装置によると、支持ロール５で固定された
基材１に超音波振動発生器６により振動波を与え、塗布
膜の平滑作用を行なうことができる。この場合は塗布面
の不規則模様（特に厚みムラ等）を少なくするため、振
動波により塗布液の分散作用を行ない、レベリング効果
を狙っているが、基材ば走行物体であり、各条件δこ適
した振動波を選ぶ必要がある。この条件としては、基材
の材質、基材の巾、基材の速度、塗布膜厚、塗布液の物
性がある。

次に本発明を下記具体例に基づいて詳述する。

実施例１ 先ず低速塗布の場合について説明する。

テスト条件 （ｌｌ　　基材の材質：ポリエチレンフィルム（２）基
材の巾　：　１０００ｆｌ （３）基材の速度：１００μ／ｍ１ｎ （４）塗布膜厚　：１０μ （６）超音波の出力レヘル：］ＫＶ 超音波の周波数：３０ＫＨ２ 以上のテスト条件で塗工したところ、超音波振動処理前
には塗布面４の全域にわたり、基材の流れ方向に伸びる
長さ０．０２〜０．０６＋ｕ＋、前後左右の間隔が夫々
的０．Ｉｎ＋の塗布ムラ模様が形成されていたが、超音
波振動波を与えると、均一な塗布面が形成された。

実施例２ 次に高速塗布の場合について説明する。

テスト条件 〔１）　　基材の祠質：紙 （２）基材の巾　：　１０００鶴 （３）基材の速度：　１ｏｏｏμ／ｍ１ｎ（４）塗布膜
厚　：１４μ （５）塗布液の物性： （６）　　超音波の出力ヘル：ＬＫＶ 超音波の周波数：’　３００　Ｋ　ＨＺこの場合にも塗
布面に塗工ムラが残らず、平滑化を図ることができた。

次に周波数限定範囲について説明すると、実施例１にお
いて、 （塗布速度）１００μ／ｍ１ｎ Ｘ　１００　＝　１６６．７　ｃｍ／Ｓ、０ｓｅｃ １６６．７ 一＝１６６７０　ｎｚ ０．０１ （塗布ムラピッチ）　０．１　ｍ−Ｑ、Ｑ１ｃｍ塗布ム
ラ周波数×２倍＃３０ＫＨ２必要。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は夫々従来のロールコータ及びリバー
スコータの側断面図、第３図は第１図のＡ−Ａ＃ｒ面図
、第４図は本発明の実施例を示す塗工装置の側断面図で
ある。 図の主要部分の説明 １−基材　　　　　４−塗布面 ５−支持ロール　　６−超音波振動発生器７−バソキン
グロール ８−アプリケークロール ２　　　　第１図 第２図 ｏ− 第４図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. バッキングロールに沿って走行し、塗布液が転写された
   基材に接するアプリケ−クロールを備えたロール方式の
   コータにおいて、塗布後の湿り状態の基材面に超音波振
   動波を与えることを特徴とする塗工方法。