JPS59209480A - 円筒体の溶接装置 - Google Patents
円筒体の溶接装置Info
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- JPS59209480A JPS59209480A JP6882484A JP6882484A JPS59209480A JP S59209480 A JPS59209480 A JP S59209480A JP 6882484 A JP6882484 A JP 6882484A JP 6882484 A JP6882484 A JP 6882484A JP S59209480 A JPS59209480 A JP S59209480A
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- welding line
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K9/00—Arc welding or cutting
- B23K9/02—Seam welding; Backing means; Inserts
- B23K9/025—Seam welding; Backing means; Inserts for rectilinear seams
- B23K9/0253—Seam welding; Backing means; Inserts for rectilinear seams for the longitudinal seam of tubes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はパイプのような円筒体の溶接装置に関するも
のであり、その周壁の長手方向1ど形成される溶接ライ
ンの上下両側を、不活性ガス雰囲気で適確に被包し、大
気からの汚染を防ぎブローホールや割れなどの溶接欠か
んのない適正な溶接を可能にした溶接装置を提供するこ
とを目的とする。
のであり、その周壁の長手方向1ど形成される溶接ライ
ンの上下両側を、不活性ガス雰囲気で適確に被包し、大
気からの汚染を防ぎブローホールや割れなどの溶接欠か
んのない適正な溶接を可能にした溶接装置を提供するこ
とを目的とする。
以下、この発明の実施例を図面にしたがって説明する。
第1図において1は基盤であり、その上面に保持台2と
門形支柱3が固定されている。4はパイプのような円筒
体であり、周壁5の長手方向に形成される溶接ラインA
を上向きにして、複数のクランプ機構6によって保持台
2上に保持されている。7は不活性ガスアーク溶接用プ
ラズマトーチ本体で、保持体8とアーム9を介して走行
機構10に連結されており、この走行機構10は門形支
柱3に架設されたレール11を案内として溶接時に矢印
す方向へ走行するようになっている。7aは上記のトー
チ本体7に取付けられたシールド機構であり、溶接ライ
ンAに向けて開口している。
門形支柱3が固定されている。4はパイプのような円筒
体であり、周壁5の長手方向に形成される溶接ラインA
を上向きにして、複数のクランプ機構6によって保持台
2上に保持されている。7は不活性ガスアーク溶接用プ
ラズマトーチ本体で、保持体8とアーム9を介して走行
機構10に連結されており、この走行機構10は門形支
柱3に架設されたレール11を案内として溶接時に矢印
す方向へ走行するようになっている。7aは上記のトー
チ本体7に取付けられたシールド機構であり、溶接ライ
ンAに向けて開口している。
そしてアルゴンやヘリウムのような不活性ガスを、溶接
ラインA上に噴出させて、溶接ラインAの上面を不活性
ガス雰囲気で被包するようになっている。
ラインA上に噴出させて、溶接ラインAの上面を不活性
ガス雰囲気で被包するようになっている。
12は上記の円筒体4内に挿入されて、溶接ラインAの
下側を不活性ガス雰囲気で被包するバックシールド機構
であり、押上機構13の押上によって、円筒体4の周壁
に内接するようになっている。
下側を不活性ガス雰囲気で被包するバックシールド機構
であり、押上機構13の押上によって、円筒体4の周壁
に内接するようになっている。
上記クランプ機構6は、第2図に示すように、保持台2
の両側に突出したアーム14に枢支されているクランプ
棒15と、このクランプ捧15の下部に連結されて、ク
ランプ棒15を開閉動作させるエアシリンダのような駆
動体16をもって構成されており、駆動体16の動作に
追従して、クランプ棒15が仮想線aで示す開放された
状態から、実線で示す状態に廻動したとき、クランプ棒
15の先端に形成されている押圧面17で円筒体4の周
壁5の表面を押圧して、円筒体4を保持台2上に保持す
る。
の両側に突出したアーム14に枢支されているクランプ
棒15と、このクランプ捧15の下部に連結されて、ク
ランプ棒15を開閉動作させるエアシリンダのような駆
動体16をもって構成されており、駆動体16の動作に
追従して、クランプ棒15が仮想線aで示す開放された
状態から、実線で示す状態に廻動したとき、クランプ棒
15の先端に形成されている押圧面17で円筒体4の周
壁5の表面を押圧して、円筒体4を保持台2上に保持す
る。
バックシールド機構12は、第3図および第4図に示す
ように、溶接ラインAの下側に位置する上面開口のガス
集合溝18と、このガス集合溝18を挾んで、その両側
に形成された1対の立壁19゜19および、この立壁1
9,19を一体的に連結する底盤20とで構成されてお
り、ガス集合溝18の長手方向両端は遮蔽板21によっ
て閉塞されている。上記立壁19,19の体内には、長
手方向に、アルゴンやヘリウムなどの不活性ガス供給通
路22と、冷却水の循環路23が形成され、不活性ガス
供給通路22は、ガス集合溝18に向けて開口している
複数のガス噴出孔24に連通している。また、立壁19
,19の上端には、円筒体4の周壁5に内接可能な曲率
をもって曲率端面25が形成されている。
ように、溶接ラインAの下側に位置する上面開口のガス
集合溝18と、このガス集合溝18を挾んで、その両側
に形成された1対の立壁19゜19および、この立壁1
9,19を一体的に連結する底盤20とで構成されてお
り、ガス集合溝18の長手方向両端は遮蔽板21によっ
て閉塞されている。上記立壁19,19の体内には、長
手方向に、アルゴンやヘリウムなどの不活性ガス供給通
路22と、冷却水の循環路23が形成され、不活性ガス
供給通路22は、ガス集合溝18に向けて開口している
複数のガス噴出孔24に連通している。また、立壁19
,19の上端には、円筒体4の周壁5に内接可能な曲率
をもって曲率端面25が形成されている。
26.26はバックシールド機構12の両側に設けられ
たシールド板であり、シールド板26゜26の上端折返
し縁部27は円筒体40周壁5に内接するようになって
いる。
たシールド板であり、シールド板26゜26の上端折返
し縁部27は円筒体40周壁5に内接するようになって
いる。
押上機構13は、バックシールド機構12の底盤20の
下面に連結されているエアシリンダのような複数の駆動
体28によって構成され、この駆動体28動作によって
、バックシールド機構12を昇降させて、曲率端面25
を円筒体2の周壁5の内面に接離させるようになってい
る。
下面に連結されているエアシリンダのような複数の駆動
体28によって構成され、この駆動体28動作によって
、バックシールド機構12を昇降させて、曲率端面25
を円筒体2の周壁5の内面に接離させるようになってい
る。
なお、第1図において、29は不活性ガスボンベ、30
はコントロールボックス、31は冷却水循環装置、32
はワイヤフィーダ、33はワイヤ。
はコントロールボックス、31は冷却水循環装置、32
はワイヤフィーダ、33はワイヤ。
34はガス配管、35は冷却水用配管を示す。
上記構成において、円筒体4の溶接ラインAを上向きに
した状態で、クランプ機構6によって円筒体4を保持台
2上に保持し、その後、バックシールド機構12を押上
機構13によって押上げ、立p19,19の曲率端面2
5を円筒体4の周壁5に内接させ、しかる後、プラズマ
溶接トーチ本体7を溶接ラインAに沿って第1図に示す
矢印す方向へ走行させる手順によって溶接を行うことが
できる。
した状態で、クランプ機構6によって円筒体4を保持台
2上に保持し、その後、バックシールド機構12を押上
機構13によって押上げ、立p19,19の曲率端面2
5を円筒体4の周壁5に内接させ、しかる後、プラズマ
溶接トーチ本体7を溶接ラインAに沿って第1図に示す
矢印す方向へ走行させる手順によって溶接を行うことが
できる。
この場合、溶接ラインAの溶接個所は、プラズマトーチ
本体7の体内から噴出する不活性ガスで被包されるとと
もに、溶接個所の周囲上側もシールド機構7aから噴出
する不活性ガス流に・よって被包されるから、溶接個所
が酸化しない。さらに溶接ラインAの下側は、バックシ
ールド機構12におけるガス集合溝18の開口部に面し
ているから、立壁19,19の不活性ガス供給通路22
を通り、ガス噴出孔24を経て、ガス集合溝18に噴出
する不活性ガス流によって、上記溶接ラインAの下側が
被包されることになり、そのため、溶接ラインAの下側
も大気に触れることがなく、大気からの汚染を防止でき
る。また、バックシールド機構12の両側に設けられた
シールド板26゜26の上端折返し縁部27が円筒体4
の周壁5に内接しているから、ガス集合溝18内の不活
性ガスが、もし立壁19,19の曲率端面25と、円筒
体4の周壁5内面との僅かな間隙から漏出しても、立壁
19,19とシールド板26.26との間に形成される
空隙B(第4図参照)に貯留しておくことができ、その
ために溶接ラインAの下側はガス集合溝18内の不活性
ガスと、空隙B内の不活性ガスとの両者によってガスシ
ールされることになり、より一層適確に大気の浸入を防
止して汚染を防ぐことができる。
本体7の体内から噴出する不活性ガスで被包されるとと
もに、溶接個所の周囲上側もシールド機構7aから噴出
する不活性ガス流に・よって被包されるから、溶接個所
が酸化しない。さらに溶接ラインAの下側は、バックシ
ールド機構12におけるガス集合溝18の開口部に面し
ているから、立壁19,19の不活性ガス供給通路22
を通り、ガス噴出孔24を経て、ガス集合溝18に噴出
する不活性ガス流によって、上記溶接ラインAの下側が
被包されることになり、そのため、溶接ラインAの下側
も大気に触れることがなく、大気からの汚染を防止でき
る。また、バックシールド機構12の両側に設けられた
シールド板26゜26の上端折返し縁部27が円筒体4
の周壁5に内接しているから、ガス集合溝18内の不活
性ガスが、もし立壁19,19の曲率端面25と、円筒
体4の周壁5内面との僅かな間隙から漏出しても、立壁
19,19とシールド板26.26との間に形成される
空隙B(第4図参照)に貯留しておくことができ、その
ために溶接ラインAの下側はガス集合溝18内の不活性
ガスと、空隙B内の不活性ガスとの両者によってガスシ
ールされることになり、より一層適確に大気の浸入を防
止して汚染を防ぐことができる。
以上のようにこの発明は、円筒体の周壁の長手方向にわ
たって形成される溶接ラインを、その上下から不活性ガ
ス雰囲気で被包して溶接個所の大気からの汚染を防止し
、溶接欠かんのない適正な溶接を可能にする効果がある
。
たって形成される溶接ラインを、その上下から不活性ガ
ス雰囲気で被包して溶接個所の大気からの汚染を防止し
、溶接欠かんのない適正な溶接を可能にする効果がある
。
第1図はこの発明に係る溶接装置の全体的斜視図、第2
図は円筒体のクランプ状態の説明図、第3図はバックシ
ールド機構の斜視図、第4図はバックシールド機構の断
面図である。 4・・・円筒体、6・・・クランプ機構、7・・・トー
チ本体、7a・・・シールド機構、12・・・バックシ
ールド機構、13・・・押上機構、18・・・ガス集合
溝、19゜19・・・立壁、22・・・不活性ガス供給
通路、24・・・ガス噴出孔、25・・・曲率端面、A
・・・溶接ライン。 第2図 Δ 第4趨 第1頁の続き 0発 明 者 武田俊− 神戸市生田区東用崎町2丁目14 番地川崎重工業株式会社神戸工 場内 1、事件の表示 2、発明 の名称 円筒体の溶接装置 3、補正をする者 4、代理人 郵(更番月 550 5、補正命令の日付 −−−−−−−〜−−自発的 6 荊tt il−の対象 明細力の全文ならびに図面。 7、補正の内容 A、明細よ。 (1)明浦j書の全文を別紙のとおり再提出しま−4−
0 B1図面: 「1)i′ジ5図、第6図、第7[4を別紙のとおり提
出します。 以 上 訂正明細書 1、発明の名称 円筒体の溶接装置 2、特許請求の範囲 (1)円筒体の周壁長手方向に形成される溶接ライ圧す
ることによシ円筒体を保持台上に保持するクランプ機構
と、保持された円筒体の溶接ラインに6ってその上側を
走行する不活性ガスアーク溶接性し、この溶接ライン上
を不活性ガス雰囲気で被包するシールド機構と、上記溶
接ラインの全長にわたって、その下側に位置する不活性
ガス集金面を挾んでその両側に上記集合溝内へ不宿性ガ
スをほぼ水平方向に噴出する複数のガス噴出孔およびと
のμ噴出孔に連通ずるガス供給通路を設けた1対の立壁
を形成するとともに、これら立壁の上端に上記円筒体の
周壁に内接する曲率端面を形成機構の両側に装着されて
、円筒体の周壁に弾性的構を押見上げてよ上記曲率端面
およびシールド板特徴とする円筒体の溶接装置。 3、発明の詳細な説明 (産業上の利用分野) この発明は、パイプのような円筒体の溶接装置に関する
ものである。 (従来技術) 従来、大気による数比、窒化などの汚染の影響を受は易
いTi9M?の平板を突き合せてその表面片側から溶接
する場合、裏面から不活性ガスを供給して大気による酸
化、窒化のような汚染を抑制する技術は知られている(
特公昭51−30860号公報、特公昭51−2160
7号公報参照)。 しかしながら、これら従来技術は溶接トーチと連動して
走行するシールド機構と、装面全体を均一にシールドす
るバックシールド機構とが一体具備されておらず、また
、上記裏面へ溶接前及び溶接後のいずれにおいても十分
均一に不活性ガスを供給することができないので、溶接
部の表・裏面の汚染を有効に防止できず局部的な溶接欠
陥が発生し易いという弱点がめった。さらに、溶接の進
行に伴なって表面のバックシールド機構内の不活性ガス
が高温化される。ここで、不活性ガスの供給駕を増やせ
ば、上記局温化は多少なシとも免れるが、大量の不活性
ガスの流動により、溶接部に対し安定したシールドが確
保できなくなるおそれがある。 (発明の目的) この発明は上記従来の欠点を解消するためになされたも
ので、溶接部の汚染と局部的な浴接欠陥の発生を有効に
防止するとともに、被溶接部材に接した裏面バックシー
ルド機構内の不活性ガスを一定温度以下に常に保持して
、溶接部の材質を良好な状態に維持でき、さらには、溶
接による円筒体の変形をも防止できる円筒体の溶接装置
を提供することを目的とする。 (発明の構成) 上記目的を達成するために、この発明は、円筒体の長手
方向に沿った溶接ラインの上面(表面)および下面(裏
面)から、それぞれ溶接の進行に伴なって併走するシー
ルド機構と溶接ラインに沿って延びるバックシールド機
構により不活性ガスを供給して溶接部をガスシールドす
るとともに、上記バックシールド機構に設けられて溶接
ラインの下側に位置する集合溝へ、複数のガス噴出孔か
ら不活性ガスを噴出することによシ、溶接ラインの下側
に沿ってリーな圧力の不活性ガスを供給し、さらに、バ
ックシールド機構を冷却装置で冷却することにより、不
活性ガスを一定温度以下に維持している。また、バック
シールド機構に上記円筒体の周壁に内接する曲率端面と
、上記周壁に弾性的に内接するシールド板とを設け、バ
ックシールド機構を押上機構で円筒体の周壁に押し付け
ることにより、21のシールドを行なって、外部の大気
がバックシールド機禍゛内の不活性ガスに混入してガス
シールドの安定性を損うのを防止し゛ている。 つまり、万一被溶接部の変形により、内接する上記曲率
端面と円筒体内面との間に空隙ができても、弾性的に内
接するシールド板を有することにょシ、裏面シールド性
を確実に保持しうる。 さらに、クランプ機構により円筒体の溶接ラインを上向
きにして保拘台に保持する一方で、バックシールトイ裂
檜を介して押上b3e Mlにより円筒体を押し上げて
、円筒体が溶接時の高温で変形するのも防止している。 (実力山側) 以下、この発明の実施例を図面にしたがって説明する。 第1図において1は基盤であり、その上面に保持台2と
門形支柱3が固定されている。4はパイプのような円筒
体であり、周壁5の長手方向に形成される溶接ラインA
を上向きにして、複数のクランプ機構6によって保持台
2上に保持されている。7は不活性ガスアーク溶接用プ
ラズマトーチ本体で、保持体8とアーム9を介して走行
機構工0に連結されており、この走行機構10は門形支
柱3に架設されたレール11を案内として溶接時に矢印
す方向へ走行するようになっている。7aは上記のトー
チ本体7に取り付けられて、どのトーチ本体7とともに
走行するシールド機構であシ、溶接ラインAに向けて開
口している。そしてアルゴンやヘリウムのような不活性
ガスを、溶接ラインA上に噴出させて、溶接ラインAの
上面を不活性ガス雰囲気で被包するようになっている。 12は上記の円筒体4(ハ)に挿入されて、溶接ライン
Aの全長にわたって、その下側を不活性ガス雰囲気で被
包するバックシールド機構であり、押上機構13の押上
によって、円筒体40周壁に内接するようになっている
。 上記クランプ機構6は、第2図に示すように、保持台2
の両側に突出したアーム14に枢支されているクランプ
棒15と、このクランプ棒15の下部に連結されて、ク
ランプ棒15を開閉動作させるエアシリンダのような駆
動体16をもって構成されておシ、駆動体16の動作に
追従して、クランプ種15が仮想WMaで示す開放さす
Lだ状態から、実線で示す状態に廻動したとき、クラン
プ棒15の先端に形成されている抑圧面17で円筒体4
の周壁5の外表面を斜め下方へ押圧して、円筒体4を保
持台2上に保持する。 バックシールド機構12は、第3図および第4図に示す
ように、溶接ラインAの全長にわたって、その下側に位
置する上面開口のカス集合溝18と、このガス集合溝1
8を挾んで、その両側に形成された1対の立壁19.1
9および、この立壁19゜19を一体的に連結する底盤
20とで構成されており、ガス集合溝18の長手方向両
端は遮蔽板21によって閉塞されている。上記立4g1
9.19の体内には、長手方向に、アルゴンやヘリウム
などの不活性ガス供給進路22と、冷却水通路23が形
成され、不活性ガス供給通路22は、ガス集合溝18に
向けて水平に開口している複数のガス噴出孔24に連逃
している。また、立fi19 、19の上端には、円筒
体4の周壁5に内接可能な曲葦をもって曲率端面25が
形成されている。 26.26はバックシールド機構120両側に装着され
た褥板状のシールド板であり、シールド似26,26の
上端折返し縁部27は、円筒体4の周壁5に、褥板のも
つ弾性力によシ弾性的°にF’E接するようになってい
る。 押上機構13は、バックシールド機構12の底盤20の
下面に連結されているエアシリンダのような似4又のi
K動体28によってオ再取され、この駆動体28の動作
によって、ノ(ツクシールド1isi2を昇降させて、
曲率端面25およびシールド板2Gを円筒体20周壁5
の内面に接離させるようになっている。上記押上機構1
3により円筒体4に作用する上向きの力は、クランプ機
構6により支えられる。 なお、第1図において、29は不活性ガスボンベ、30
はコントロールボックス、31は冷却水伽環装誼、32
はワイヤフィーダ、33はワイヤ、34はガス配管、3
5は冷却水用配管を示す。 上記構成において、円筒体4の溶接ラインAを上向きに
した状態で、クランプ4茨榊6によって円筒体4を保持
台2上に保持し、その俊、バックシールド機構12を押
上機構13によって押上げ、立壁19,19の曲率蕗1
面25を円筒体4の周壁5に内接させ、しかる後、プラ
ズマ浴接トーチ本体7を溶接ラインA VC?Gって第
1図に示す矢印す方向へ走行させる手順によって浴接を
行うことができる。 この場合、溶接ラインAの#恢個所は、プラズマトーチ
本体7の体内から噴出する不活性ガスで被包されるとと
もに、浴接個H丁の周囲上側もシールド機構7aから噴
出する不活性ガス流によって仮住されるから、溶接個所
が大気によって汚染しない。さらに浴接ラインAの下側
は、第4図のバックシールド機構12におけるカス集合
溝18の開口部に面しているから、立壁19,19の不
活性ガス供給通路22を通り、ガス噴出孔24を経て、
ガス集合溝18に噴出する不活性ガス流によって、上記
浴接ラインAの下側か仮住されることになり、そのため
、溶接ラインAの下側も大気に触れることがなく、酸化
・窒化のような大気からの汚染を防止できる。つま如、
溶接ライン人の上下両側からガスシールドを行なってい
るので、溶接個所の大気からの汚染を極めて有効に防止
できるのである。 ここで、バックシールド機構12のガス噴出孔24は水
平に不活性ガスを噴出するので、噴出ガスが直接溶接個
所に当って牲弁専溶接の安定性を妨げることはない。 また、溶接個所の局部的な欠陥をなくし、良好な溶接を
行なうには、溶接ラインの下側に供給される不活性ガス
圧を溶接ラインの下面全域にわたり均一に保ち、かつ、
外部からの空気の混入を防いで不活性ガスを高純度に保
持する必要があるが、上記構成では、不活性ガスを嶺赦
のガス噴出孔24からガス集合溝18へ噴出しているの
で、ガス集合溝18内の全体にわたって不活性ガスが均
一に供給され、しかも、バックシールド機構12と、こ
れを押し上げる押上機構13とにより、大気が上記ガス
集合溝18内へ局部的に混入するのが防止されるので、
ガス集合溝18円の不活性ガス圧が均等化され、かつ、
ガス集合溝18内の°不活性 ゛ガスが高純度に
保持される利点がある。 さらに、番W場爾千この発明では、バックシールド機構
12が水冷されているから、集合溝18内の不活性ガス
が一定温度以下に保持されるので、尚温による不活性ガ
スの尚流動化が抑制されて、溶接個所が常に安定したシ
ールド状態に保持される。 また、円筒体4は溶接の際の高熱を受けて、第1図の破
MJで示すように、長十万同にそり返シ変形を起こそう
とするが、第2図のクランプ4幾構6と、円筒体4の全
長にわたって延びるバックシールド機構12およびその
押上機構13とにより、円筒体4が強固に保持されて、
第5図のそシ返シ要形Jが防止される。 さらに、円筒体4の横断面形状は、浴接の際の高熱を受
けて、第6図の破線にで示すように変形しようとする。 これは、溶接ラインAの周囲が溶接後に冷却されて収縮
を起こすだめである。ところが、この発明では、第7図
に示すように、円筒体4の溶接ラインAの下側をバック
シールド機構12で上方へ押し上げ、円筒体4の両側部
4aをクランプ機構6で下方へ押圧しているから、上記
破線にで示す変形と逆方向へ変形させるモーメントが円
筒体4に加えられることになり、その結果、上記変形が
有効に防止される。 ここで、万一、上記破線にで示す変形がわずかに起こっ
て、円筒体4の周壁5と曲率端面25との間にすき間4
1が生じても、バックシールド桟構12の両側に設けら
れたシールド板26 、26の上端折返し縁部27が円
筒体4の周壁5に弾性的に内懐しているから、この折返
し縁部27が上りじ変形に追従し7てシール性を保つの
で、ガス集合溝18内の不活性ガスが、上記すき間41
から漏出しても、立壁19,19とシールド板26.2
6との間に形成される空隙Bに貯留しておくことができ
、そのために、溶接ラインAの下側は、ガス集合溝18
内の不活性ガスと、空HB内の不活性ガスとの両省によ
ってガスシールされることになシ、適確に大気の侵入を
防止して汚染を防ぐことができる。 つまり、上記曲率端面25とシールド板26の上端折返
し縁部27とで2筆のシールがなされる結果、シール性
が向上しており、この構造は、いわば、赤ん坊のおしめ
とおしめカバーの機能を有するものである。 また、上記実施例のように、押上慎構13をエアシリン
ダで形成すれは、エアシリンダ自身のもつ弾性により、
バックシールド慎41イ12を円筒体4の変形にある程
度追従させることが可tjeにな9、大気の浸入防止効
果が向上する利点がある。 なお、バックシールド機tf* 12と一見類似の技術
がl団公昭53−27225号公報に記載されているが
、この公報の裏当金装置は、単に溶接ビードが表面側へ
抜は出るのを防止するだめのものであって、不油性ガス
を溶接ラインの表側へ供給する機能を全く有しないもの
である。しかも、この裏当金装置は、円筒体の全長にわ
たって延びているものではなく、溶接個所とその近傍の
みを柑う鉛寸のものであり、溶接トーチとともに溶接ラ
インに宿って走行するので、上記したクランプ機構6と
の組合せで円筒体の変形を防止するという。 この発明のバックシールド機構12がもつ効果を奏し得
ないことは明白である。 (発明の効果) 以上説明したように、この発明によれば、溶接ラインの
上側のシールド機構と、下側のバックシールド機構の果
合溝および複数のガス噴出孔と、シールド板と、押上機
構とからなる装置の提供により、溶接個所の上下を不活
性ガスで十分覆って、大気の混入を防さ゛、溶接部の大
気による汚染および局部的な溶接欠陥の発生をきわめて
有効に防止できる。 また、冷却装置により不活性ガスを一定温度以下に保つ
ことにより、溶接中の溶接部へのシールド性をより安定
した状態に維持でき、浴接部の性質を艮好な状態に維持
できる。 さらに、クランプ機構とバックシールド機構およびその
押上機構との組合せにより、溶接の際の円筒体の熱変形
を有効に防止できる。 4、図面の簡単な説明 第1図はこの発明に係る溶接装置の全体的斜視図、第2
図は円荊体のクランプ状態の説明図、第3図はバックシ
ールド機構の斜視図、第4図はパックシールド(残構の
断面図、第5図ないし第7図は円筒体の変形を示す瓶明
図である。 2・−・保持台、4・・・円筒体、6・・・クランプl
Gtg、7・・・トーチ本体、7a・・・シールド機構
、12・・・バックシールド機構、13・・・押上機構
、18・・・ガス集合溝、19,19・・・立壁、22
・・・不活性ガス供給:1ffl路、23,31,35
・・・冷却装置、24−・・ガス噴出孔、25・・・曲
率端面、26・・・シールド板、A・・・溶接ライン。
図は円筒体のクランプ状態の説明図、第3図はバックシ
ールド機構の斜視図、第4図はバックシールド機構の断
面図である。 4・・・円筒体、6・・・クランプ機構、7・・・トー
チ本体、7a・・・シールド機構、12・・・バックシ
ールド機構、13・・・押上機構、18・・・ガス集合
溝、19゜19・・・立壁、22・・・不活性ガス供給
通路、24・・・ガス噴出孔、25・・・曲率端面、A
・・・溶接ライン。 第2図 Δ 第4趨 第1頁の続き 0発 明 者 武田俊− 神戸市生田区東用崎町2丁目14 番地川崎重工業株式会社神戸工 場内 1、事件の表示 2、発明 の名称 円筒体の溶接装置 3、補正をする者 4、代理人 郵(更番月 550 5、補正命令の日付 −−−−−−−〜−−自発的 6 荊tt il−の対象 明細力の全文ならびに図面。 7、補正の内容 A、明細よ。 (1)明浦j書の全文を別紙のとおり再提出しま−4−
0 B1図面: 「1)i′ジ5図、第6図、第7[4を別紙のとおり提
出します。 以 上 訂正明細書 1、発明の名称 円筒体の溶接装置 2、特許請求の範囲 (1)円筒体の周壁長手方向に形成される溶接ライ圧す
ることによシ円筒体を保持台上に保持するクランプ機構
と、保持された円筒体の溶接ラインに6ってその上側を
走行する不活性ガスアーク溶接性し、この溶接ライン上
を不活性ガス雰囲気で被包するシールド機構と、上記溶
接ラインの全長にわたって、その下側に位置する不活性
ガス集金面を挾んでその両側に上記集合溝内へ不宿性ガ
スをほぼ水平方向に噴出する複数のガス噴出孔およびと
のμ噴出孔に連通ずるガス供給通路を設けた1対の立壁
を形成するとともに、これら立壁の上端に上記円筒体の
周壁に内接する曲率端面を形成機構の両側に装着されて
、円筒体の周壁に弾性的構を押見上げてよ上記曲率端面
およびシールド板特徴とする円筒体の溶接装置。 3、発明の詳細な説明 (産業上の利用分野) この発明は、パイプのような円筒体の溶接装置に関する
ものである。 (従来技術) 従来、大気による数比、窒化などの汚染の影響を受は易
いTi9M?の平板を突き合せてその表面片側から溶接
する場合、裏面から不活性ガスを供給して大気による酸
化、窒化のような汚染を抑制する技術は知られている(
特公昭51−30860号公報、特公昭51−2160
7号公報参照)。 しかしながら、これら従来技術は溶接トーチと連動して
走行するシールド機構と、装面全体を均一にシールドす
るバックシールド機構とが一体具備されておらず、また
、上記裏面へ溶接前及び溶接後のいずれにおいても十分
均一に不活性ガスを供給することができないので、溶接
部の表・裏面の汚染を有効に防止できず局部的な溶接欠
陥が発生し易いという弱点がめった。さらに、溶接の進
行に伴なって表面のバックシールド機構内の不活性ガス
が高温化される。ここで、不活性ガスの供給駕を増やせ
ば、上記局温化は多少なシとも免れるが、大量の不活性
ガスの流動により、溶接部に対し安定したシールドが確
保できなくなるおそれがある。 (発明の目的) この発明は上記従来の欠点を解消するためになされたも
ので、溶接部の汚染と局部的な浴接欠陥の発生を有効に
防止するとともに、被溶接部材に接した裏面バックシー
ルド機構内の不活性ガスを一定温度以下に常に保持して
、溶接部の材質を良好な状態に維持でき、さらには、溶
接による円筒体の変形をも防止できる円筒体の溶接装置
を提供することを目的とする。 (発明の構成) 上記目的を達成するために、この発明は、円筒体の長手
方向に沿った溶接ラインの上面(表面)および下面(裏
面)から、それぞれ溶接の進行に伴なって併走するシー
ルド機構と溶接ラインに沿って延びるバックシールド機
構により不活性ガスを供給して溶接部をガスシールドす
るとともに、上記バックシールド機構に設けられて溶接
ラインの下側に位置する集合溝へ、複数のガス噴出孔か
ら不活性ガスを噴出することによシ、溶接ラインの下側
に沿ってリーな圧力の不活性ガスを供給し、さらに、バ
ックシールド機構を冷却装置で冷却することにより、不
活性ガスを一定温度以下に維持している。また、バック
シールド機構に上記円筒体の周壁に内接する曲率端面と
、上記周壁に弾性的に内接するシールド板とを設け、バ
ックシールド機構を押上機構で円筒体の周壁に押し付け
ることにより、21のシールドを行なって、外部の大気
がバックシールド機禍゛内の不活性ガスに混入してガス
シールドの安定性を損うのを防止し゛ている。 つまり、万一被溶接部の変形により、内接する上記曲率
端面と円筒体内面との間に空隙ができても、弾性的に内
接するシールド板を有することにょシ、裏面シールド性
を確実に保持しうる。 さらに、クランプ機構により円筒体の溶接ラインを上向
きにして保拘台に保持する一方で、バックシールトイ裂
檜を介して押上b3e Mlにより円筒体を押し上げて
、円筒体が溶接時の高温で変形するのも防止している。 (実力山側) 以下、この発明の実施例を図面にしたがって説明する。 第1図において1は基盤であり、その上面に保持台2と
門形支柱3が固定されている。4はパイプのような円筒
体であり、周壁5の長手方向に形成される溶接ラインA
を上向きにして、複数のクランプ機構6によって保持台
2上に保持されている。7は不活性ガスアーク溶接用プ
ラズマトーチ本体で、保持体8とアーム9を介して走行
機構工0に連結されており、この走行機構10は門形支
柱3に架設されたレール11を案内として溶接時に矢印
す方向へ走行するようになっている。7aは上記のトー
チ本体7に取り付けられて、どのトーチ本体7とともに
走行するシールド機構であシ、溶接ラインAに向けて開
口している。そしてアルゴンやヘリウムのような不活性
ガスを、溶接ラインA上に噴出させて、溶接ラインAの
上面を不活性ガス雰囲気で被包するようになっている。 12は上記の円筒体4(ハ)に挿入されて、溶接ライン
Aの全長にわたって、その下側を不活性ガス雰囲気で被
包するバックシールド機構であり、押上機構13の押上
によって、円筒体40周壁に内接するようになっている
。 上記クランプ機構6は、第2図に示すように、保持台2
の両側に突出したアーム14に枢支されているクランプ
棒15と、このクランプ棒15の下部に連結されて、ク
ランプ棒15を開閉動作させるエアシリンダのような駆
動体16をもって構成されておシ、駆動体16の動作に
追従して、クランプ種15が仮想WMaで示す開放さす
Lだ状態から、実線で示す状態に廻動したとき、クラン
プ棒15の先端に形成されている抑圧面17で円筒体4
の周壁5の外表面を斜め下方へ押圧して、円筒体4を保
持台2上に保持する。 バックシールド機構12は、第3図および第4図に示す
ように、溶接ラインAの全長にわたって、その下側に位
置する上面開口のカス集合溝18と、このガス集合溝1
8を挾んで、その両側に形成された1対の立壁19.1
9および、この立壁19゜19を一体的に連結する底盤
20とで構成されており、ガス集合溝18の長手方向両
端は遮蔽板21によって閉塞されている。上記立4g1
9.19の体内には、長手方向に、アルゴンやヘリウム
などの不活性ガス供給進路22と、冷却水通路23が形
成され、不活性ガス供給通路22は、ガス集合溝18に
向けて水平に開口している複数のガス噴出孔24に連逃
している。また、立fi19 、19の上端には、円筒
体4の周壁5に内接可能な曲葦をもって曲率端面25が
形成されている。 26.26はバックシールド機構120両側に装着され
た褥板状のシールド板であり、シールド似26,26の
上端折返し縁部27は、円筒体4の周壁5に、褥板のも
つ弾性力によシ弾性的°にF’E接するようになってい
る。 押上機構13は、バックシールド機構12の底盤20の
下面に連結されているエアシリンダのような似4又のi
K動体28によってオ再取され、この駆動体28の動作
によって、ノ(ツクシールド1isi2を昇降させて、
曲率端面25およびシールド板2Gを円筒体20周壁5
の内面に接離させるようになっている。上記押上機構1
3により円筒体4に作用する上向きの力は、クランプ機
構6により支えられる。 なお、第1図において、29は不活性ガスボンベ、30
はコントロールボックス、31は冷却水伽環装誼、32
はワイヤフィーダ、33はワイヤ、34はガス配管、3
5は冷却水用配管を示す。 上記構成において、円筒体4の溶接ラインAを上向きに
した状態で、クランプ4茨榊6によって円筒体4を保持
台2上に保持し、その俊、バックシールド機構12を押
上機構13によって押上げ、立壁19,19の曲率蕗1
面25を円筒体4の周壁5に内接させ、しかる後、プラ
ズマ浴接トーチ本体7を溶接ラインA VC?Gって第
1図に示す矢印す方向へ走行させる手順によって浴接を
行うことができる。 この場合、溶接ラインAの#恢個所は、プラズマトーチ
本体7の体内から噴出する不活性ガスで被包されるとと
もに、浴接個H丁の周囲上側もシールド機構7aから噴
出する不活性ガス流によって仮住されるから、溶接個所
が大気によって汚染しない。さらに浴接ラインAの下側
は、第4図のバックシールド機構12におけるカス集合
溝18の開口部に面しているから、立壁19,19の不
活性ガス供給通路22を通り、ガス噴出孔24を経て、
ガス集合溝18に噴出する不活性ガス流によって、上記
浴接ラインAの下側か仮住されることになり、そのため
、溶接ラインAの下側も大気に触れることがなく、酸化
・窒化のような大気からの汚染を防止できる。つま如、
溶接ライン人の上下両側からガスシールドを行なってい
るので、溶接個所の大気からの汚染を極めて有効に防止
できるのである。 ここで、バックシールド機構12のガス噴出孔24は水
平に不活性ガスを噴出するので、噴出ガスが直接溶接個
所に当って牲弁専溶接の安定性を妨げることはない。 また、溶接個所の局部的な欠陥をなくし、良好な溶接を
行なうには、溶接ラインの下側に供給される不活性ガス
圧を溶接ラインの下面全域にわたり均一に保ち、かつ、
外部からの空気の混入を防いで不活性ガスを高純度に保
持する必要があるが、上記構成では、不活性ガスを嶺赦
のガス噴出孔24からガス集合溝18へ噴出しているの
で、ガス集合溝18内の全体にわたって不活性ガスが均
一に供給され、しかも、バックシールド機構12と、こ
れを押し上げる押上機構13とにより、大気が上記ガス
集合溝18内へ局部的に混入するのが防止されるので、
ガス集合溝18円の不活性ガス圧が均等化され、かつ、
ガス集合溝18内の°不活性 ゛ガスが高純度に
保持される利点がある。 さらに、番W場爾千この発明では、バックシールド機構
12が水冷されているから、集合溝18内の不活性ガス
が一定温度以下に保持されるので、尚温による不活性ガ
スの尚流動化が抑制されて、溶接個所が常に安定したシ
ールド状態に保持される。 また、円筒体4は溶接の際の高熱を受けて、第1図の破
MJで示すように、長十万同にそり返シ変形を起こそう
とするが、第2図のクランプ4幾構6と、円筒体4の全
長にわたって延びるバックシールド機構12およびその
押上機構13とにより、円筒体4が強固に保持されて、
第5図のそシ返シ要形Jが防止される。 さらに、円筒体4の横断面形状は、浴接の際の高熱を受
けて、第6図の破線にで示すように変形しようとする。 これは、溶接ラインAの周囲が溶接後に冷却されて収縮
を起こすだめである。ところが、この発明では、第7図
に示すように、円筒体4の溶接ラインAの下側をバック
シールド機構12で上方へ押し上げ、円筒体4の両側部
4aをクランプ機構6で下方へ押圧しているから、上記
破線にで示す変形と逆方向へ変形させるモーメントが円
筒体4に加えられることになり、その結果、上記変形が
有効に防止される。 ここで、万一、上記破線にで示す変形がわずかに起こっ
て、円筒体4の周壁5と曲率端面25との間にすき間4
1が生じても、バックシールド桟構12の両側に設けら
れたシールド板26 、26の上端折返し縁部27が円
筒体4の周壁5に弾性的に内懐しているから、この折返
し縁部27が上りじ変形に追従し7てシール性を保つの
で、ガス集合溝18内の不活性ガスが、上記すき間41
から漏出しても、立壁19,19とシールド板26.2
6との間に形成される空隙Bに貯留しておくことができ
、そのために、溶接ラインAの下側は、ガス集合溝18
内の不活性ガスと、空HB内の不活性ガスとの両省によ
ってガスシールされることになシ、適確に大気の侵入を
防止して汚染を防ぐことができる。 つまり、上記曲率端面25とシールド板26の上端折返
し縁部27とで2筆のシールがなされる結果、シール性
が向上しており、この構造は、いわば、赤ん坊のおしめ
とおしめカバーの機能を有するものである。 また、上記実施例のように、押上慎構13をエアシリン
ダで形成すれは、エアシリンダ自身のもつ弾性により、
バックシールド慎41イ12を円筒体4の変形にある程
度追従させることが可tjeにな9、大気の浸入防止効
果が向上する利点がある。 なお、バックシールド機tf* 12と一見類似の技術
がl団公昭53−27225号公報に記載されているが
、この公報の裏当金装置は、単に溶接ビードが表面側へ
抜は出るのを防止するだめのものであって、不油性ガス
を溶接ラインの表側へ供給する機能を全く有しないもの
である。しかも、この裏当金装置は、円筒体の全長にわ
たって延びているものではなく、溶接個所とその近傍の
みを柑う鉛寸のものであり、溶接トーチとともに溶接ラ
インに宿って走行するので、上記したクランプ機構6と
の組合せで円筒体の変形を防止するという。 この発明のバックシールド機構12がもつ効果を奏し得
ないことは明白である。 (発明の効果) 以上説明したように、この発明によれば、溶接ラインの
上側のシールド機構と、下側のバックシールド機構の果
合溝および複数のガス噴出孔と、シールド板と、押上機
構とからなる装置の提供により、溶接個所の上下を不活
性ガスで十分覆って、大気の混入を防さ゛、溶接部の大
気による汚染および局部的な溶接欠陥の発生をきわめて
有効に防止できる。 また、冷却装置により不活性ガスを一定温度以下に保つ
ことにより、溶接中の溶接部へのシールド性をより安定
した状態に維持でき、浴接部の性質を艮好な状態に維持
できる。 さらに、クランプ機構とバックシールド機構およびその
押上機構との組合せにより、溶接の際の円筒体の熱変形
を有効に防止できる。 4、図面の簡単な説明 第1図はこの発明に係る溶接装置の全体的斜視図、第2
図は円荊体のクランプ状態の説明図、第3図はバックシ
ールド機構の斜視図、第4図はパックシールド(残構の
断面図、第5図ないし第7図は円筒体の変形を示す瓶明
図である。 2・−・保持台、4・・・円筒体、6・・・クランプl
Gtg、7・・・トーチ本体、7a・・・シールド機構
、12・・・バックシールド機構、13・・・押上機構
、18・・・ガス集合溝、19,19・・・立壁、22
・・・不活性ガス供給:1ffl路、23,31,35
・・・冷却装置、24−・・ガス噴出孔、25・・・曲
率端面、26・・・シールド板、A・・・溶接ライン。
Claims (1)
- fl 円筒体の周壁長手方向に形成される溶接ライン
を上向にして上記円筒体を保持台上に保持するクランプ
機構と、保持された円筒体の溶接ラインに沿ってその上
側を走行する不活性ガスアーク溶接用トーチ本体と、こ
の1−チ本体と連動して溶接ライン上を不活性ガス雰囲
気で被包するシールド機構と、上記溶接ラインの下側に
位置する不活性ガス集合溝を挾んでその両側に上記集合
溝PIへ不活性ガスを噴出する噴出孔およびこの噴出孔
に連通ずるガス供給通路を設けた1対の立壁を形成する
とともにこれら立壁の上端に上記円筒体の周壁に内接す
る曲率端面を形成したバックシールド機構と、このバン
クシールド機構を押上げて上記曲率端面を円筒体の周壁
に内接させる押上機構とからなることを特徴とする円筒
体の溶接装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6882484A JPS59209480A (ja) | 1984-04-05 | 1984-04-05 | 円筒体の溶接装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6882484A JPS59209480A (ja) | 1984-04-05 | 1984-04-05 | 円筒体の溶接装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59209480A true JPS59209480A (ja) | 1984-11-28 |
JPS6322911B2 JPS6322911B2 (ja) | 1988-05-13 |
Family
ID=13384842
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6882484A Granted JPS59209480A (ja) | 1984-04-05 | 1984-04-05 | 円筒体の溶接装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59209480A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007330988A (ja) * | 2006-06-14 | 2007-12-27 | Akihisa Murata | パイプの溶接方法及びこの方法に用いるパイプ保持器 |
CN102398127A (zh) * | 2010-09-07 | 2012-04-04 | 浙江久立特材科技股份有限公司 | 用于大径管直缝焊接的管内惰性气保护拖罩 |
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CN106392278A (zh) * | 2016-12-21 | 2017-02-15 | 扬州科文机器人有限公司 | 台式焊接机器人 |
JP2017077575A (ja) * | 2015-10-21 | 2017-04-27 | 日鐵住金溶接工業株式会社 | シャトル型裏当部材を用いる溶接装置 |
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CN109158758A (zh) * | 2018-10-11 | 2019-01-08 | 中国航空制造技术研究院 | 一种筒体构件纵缝激光焊接间隙自适应调控装置及方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0370132U (ja) * | 1989-11-15 | 1991-07-12 |
-
1984
- 1984-04-05 JP JP6882484A patent/JPS59209480A/ja active Granted
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CN111590163A (zh) * | 2020-05-25 | 2020-08-28 | 中国化学工程第六建设有限公司 | 适用于小口径仪表管道以及工艺伴热管的自动焊接设备 |
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JPS6322911B2 (ja) | 1988-05-13 |
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