JPS59205980A - 酵素固定化スフイヤ−及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 木発明け酵素固定化ス７イヤー及びその製造法に関する
ものであり、さらに詳しくは、ビニル系高分子架橋重合
体により酵素を包括固定化するＣで当たりグロー放電プ
ラズマの存在ドで重合を行なうか、又はグロー放電プラ
ズマの存在ドで重合を開始した後、該プラズマの不存在
ドで後重合するこ七を特徴とする酵素固定化スフィギー
及びその製造法に関する。

近年、医薬品工業、良品工業等に於いて、酵素反応の基
質特異性を利用した極めて有用な触媒として、酵素を工
業１ロセスに応用し、益々発展を遂けつつある。従来の
酵素反応は水に溶解して反応を行なわしめ、反応終了彼
のｇ集と反応生成物との分離は容易でない。そのため酵
素を都変回収して再利用することけ困離である。したが
って従来の工業プロセスではパッチ式を採用せざるをえ
ないため酵素の利用効率は悪く、非常に不経済である。

そこで固定化酵素の検討がさかんに行なわれ、例えば物
理的吸着法、イオン結合法、共有結合法により反応中に
酵素が溶出しないよう基材に結合させ固定化する方法、
及び多孔性ゲルの中に物理的にとじこめる７５為、又は
高分子重合体で封入する包括法等が研究されている。

工業的な規梗として用いるには長期間安定な連続操作が
出来るような機械的強度を有し、かつ処理速度が大きく
、処理時間の経過とともに処理速度が低Ｆしないことが
望ましい。従来の形態はゲル状、粒状又は粉末状でカラ
ムに充填して用いられているが、一般に自重や通液抵抗
に対する機械的強度が低く、圧密化による通液速度の低
Ｆなどの欠点を有している。その中でク粒我が一番良い
が、包括していろ高分子が疎水性であったり、また新水
性であっても強力が弱かったり、また高分子化合物を重
合する際に酵素活性を低Ｆもしくけ失力わせたりするば
かりか重合触媒などの不純物を含んでいる等、医薬品、
食品工業等に於いて実用土問題のない酵素固定化粒子は
得られていない。

本発明者らは従来の欠陥を排除すべく鋭意検討研究の結
果本発明を完成させたのである。

本発明の目的は酵素活性が高く、長期Ｗ？安定でかつ機
械的強度を有する酵素固定化繊維及び製造法を提供する
にある。

即ち、本発明けプラズマ開始重合法で重合したビニル系
高分子架橋重合体により酵素充包括固定化してなる酵素
固定化ス７イギーであり、本発明方法は自己架橋性の水
溶性ビニル系単量体、又は水溶性ビニル系単量体と該単
量体に対して少なくとも０．０１重量％の架橋性単量体
を含む水溶液に酵緊を溶解した処理液を式・（１）で表
わされる非水溶性溶媒から選ばれた少なくとも１種の溶
媒中でイオン化ガスプラズマの存在Ｆで重合を開始した
後該グラズマの不存在Ｆで後重合せしめ生成するビニル
系高分子架橋重合体に酵素を包括固定化することを特徴
とする。

Ｒ，ＣＯＯＲ！・・・・・・・・・・−・・・・（１）
ｃ式中Ｒ．、Ｒ．ｔｆメチル基、エチル基、プロビル基
ハインブロビル基、プチル基又はインプチル基を示す。

木発明ＫＮ用されるビニル系高分子架橋重合体はプラズ
マ開始重合法により重合したものであり、自己架橋性の
水溶性ビニル系単拐体、又け水溶性ビニル系単量体七少
なくともｏ．ｏ＋ｉ：ｉ−％の架橋性単酊休より々る水
不溶性重合体である。水溶性ビニル系中景体は重合可能
な水溶性ビニル系単量体であれは良ぐ特に限定されなく
、自己架橋性の水溶性爪量体の場合、例えば２−ヒドロ
キシアルキルアクリレート、２−ヒドロキシアルキル〆
タアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレ
ート、ポリエチレングリコ・−ルジメタアクリレート、
メチロールアクリルアミド又けメチロール〆タアクリル
アミドなどでは特にその他の架橋性半量（体を必要とし
ない。それ自身が架橋性単量体でない場合、少なくとも
０．０１重量％の架橋性単量体を加えてもよく、一般に
はアクリルアミド、メタクリルアミド、メトキシポリエ
チレングリコールメクアク鴨、レ〒ト、アクリル酸、〆
タクリル酸、Ｐ−スチレンスルホン酸、２−メタアクリ
口イルオキシスルホン酸、６−メタアクリ口イルオキシ
−２−ヒドロキシプロビルスルホン酸、アリルスルホン
酸、メタクリルスルホン酸並びにこれらの酸のアンモニ
ウム塩、及びアルカリ金属塩、ジメチルアミ／エチルア
クリレート、ジメチルアミノエチル〆タアクリレート、
ジェチルアミノエチルアクリレート、２−ｔｚ：”ニル
ピリジン及び４ービニルピリジン、並びにこれら塩基の
塩酸塩、硝酸塩、ジメチル硫酸塩、ジェチル硫酸塩又は
塩化エチルの４級化物などが挙けられる。

本発明に適用される架橋性単量体はビニル系高分子架橋
重合体の水膨潤性酵素の離脱などを考慮して適宜必要に
応じて少なくとも０．０１重景％加えることが１σ能で
ある。なお、一般の重合関始法、例えばラジカル重合開
始剤や紫外線を用いた乳化重合、懸濁重合、又は溶液重
合などでは得られた樹脂の分子量が低いため０１重景％
以Ｆにすると１千溶化したり、水膨潤状態で形くずれを
起こしたりペトツク現象がみられる。しかし本発明重合
休け超高分子量であるため、架橋性単量体が少なくとも
０．０１ｉ量％であれぱ水膨潤状態でも強度を有する。

架橋性単量体としては、Ｎ．Ｎ’−メチレンビスアクリ
ルアミド、ジアリルアミン、ジエチレングリコールジ〆
タクリレート、ボリエチレングリコールジメタクリレー
ト等のジビニル化合物、２ーヒドロキシエチルアクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルメククリレート、２−ヒド
ロキシグロピルアクリレート、２−ヒドロキシグロピル
メタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジル
メタクリレート、〆チロールアクリルアミド又け〆チロ
ールメタクリルアミドなどが挙けられるがこれらに限定
されることけ々い。非水溶性の架橋性単量体の場合適宜
乳化剤を使用してもよく、特に架橋性単量体としてＮ，
Ｎ’一〆チレンビスアクリルアミドが好適である。

ビニル系高分子架橋重合体の付着ｆｉは酵素の含有量、
使用条件、使用目的などを考慮して適宜調整するのが好
ましく、ビニル系高分子架橋重合休の架橋度、膨潤度を
適宜選択し調整できる。

本発明に使用できる酵素の種類は例えばインベルターセ
゜、クレアーセグルコースイソメラーゼ、グルフースオ
キシクーゼ、プロテアーゼ、クリカーゼ、アシラーゼ、
αアミラーゼ、βアミラーゼ、コラゲナーゼ、アルギナ
ーゼ、酸性グロテアーゼ、アルカリ性ブロテアーゼ、Ｌ
−グルタミン酸脱炭酸酵素、リパーゼ、Ｄ−アミノ酸オ
キシクーゼ、θグルコシダーゼ、グルコアミラーゼ、な
ど挙ケることができるが特に限定されない。酵素の含有
量は固定化酵素ス７イでーに対して通常０１〜３０重景
％、好′ましくけ０２〜２０重量％、特に好壕しくけ０
４〜１５重量％含有する。

本発明に適用される非水溶性溶媒としてはド記式１１）
で表わされるものであれば何でも良いがメチルアセテー
ト、エチルアセテート、グロピルア士テート、イン１口
ピルアセテート、プチルアセテート、イソプチルアセテ
ート、メチルエチルエステル、ジエチルエステル、フロ
ビルエチルエステル、イソブロビルエチルエステル、フ
チルエチルエステル又けスソプチルエチルエステルが好
マシい。逆に酵素に対し疎害作用や変性作用をおこすも
のけ好１しくない。

Ｒ，ＣＯＯＲ２・・・・・・・・・・・・・・・（１）
゜゛“″”″″″） イソプロビル基、プチル基又はイソズチル基を示す。

本発用Ｋ適用される重合方法はグロー放電プラズマの存
在ドで重合を開始した後、該プラズマの不存在Ｆで後重
合させるという所謂プラズマ開始重合であり、酵素をビ
ニル系高分子架橋重合体Ｋ固定化せしめる際Ｋ用いる。

一般に酵素は熱に不安定であり、又、水中においては比
較的安定であるが、有機溶媒中では不安定である。プラ
ズマ開始重合で社、室温ないしそれ以Ｆの温度で水を媒
体としてプラズマ照射を行ない重合開始した後、該プラ
ズマの不存在ド室温で後重合をさせることで、酵素への
ダメージを最小限にすることができる。

その点Ｘ線やγ線などの放射線重合の場合は、一般に物
質透過１匝がよく酵素忙与えるダメージは大きい。Ｚ１
木発ＲＩＩＩ−ｉビニル系直分子架橋重合体により、酵
素を物理的に固定化しているもので、酵素の分子椛造を
そこなうことなく固定化できる。

プラズマ開始重合では、一般には高分子量で実質的に線
状のポリマーが生放されるが、本発明の場合は例えばジ
ビニル性単量体等の架橋成分を使用すれば、架慎重合体
が生成される。イオン化ガスプラズマの生成は、かかる
グ２ズマを生成するための公知方法のいずれによっても
行なうことができる。例えば．Ｔ−Ｒ−ホラハン（Ｈｏ
ｌｌａｈａ．ｎ）とへ．Ｔ．ベル（Ｂｅｌｌ）版“プラ
ズマ化学の応用技術９、ワイリー，ニューヨーク１９７
ｌ＋及びＭ．シエン（８ｈｅｍ）版“重合体のプラズマ
化学７テッカー，ニューヨーク１９７６に記載されてい
る。即ち高周波発生器Ｋ連結された平行板電極の間にモ
／マーを真空室ドで入れ、ＩＣ空室の外部又け内部のい
ずれかの平行板を用いてプラズマを生成させることかで
きる。

また外部誘導コイルによって電場をつくらせ、イオン化
ガスのプラズマを発生させてもよく、また反対に荷雷し
た電極に間隔をおいて直接貞空室に入れてプラズマを生
成させてもよい。

本発明方法を文に詳述に説明すれば、水溶件ビニル系単
景休及び架橋性Ｉｌｌ量体を水に溶解しモノマー酸度が
通常１０〜６０重量％のモノマー水溶液を岡整し、シら
に酵素を治解した処理液を作成する。該処理液を前記式
１１）て表わされる非水溶性溶媒と混合した後ドライア
イスーアセトンなど（てよる冷媒で冷却して凍結し脱気
を１０−１〜７０”−’｝ールで行なう。凍結したモノ
マー水溶液を徐々に暖ため、液状の小滴が現われる状態
に達するか、又はそれに相当する温度に達した時上記方
法にてプラズマ照射を行なう。通常は２０〜２００ワッ
ト、好ましくけ４０〜１００ワットでグロー放電をさせ
水及び／又けモノマーをプラズマ化させる。

照射時間は通常１〜３６００秒、好ましくは１０〜６０
秒もあれば十分でちる。プラズマ照射を行なった徒に一
定の温度に保ち１時間〜１日放置させ全重合率の９０％
以上の後重合を行なわせる。

プラズマ開始期闇重合率は後重合番で比べ（著しく小さ
く、通常１〜２９６を超えない。後重合渦實及び時聞け
使用する単量体Ｓ類によって異なり特に限定されないが
通常温度は５０℃以ド、好しくけ１０〜３０℃である。

時聞け１〜２５時間で十分である。単量体種類によって
は６０℃を超えると熱重合を起こし低分子のボリマーも
生成してくることがあるので注意を要する。

またプラズマ開始重合でｔ．Ｉ゛、得られた高分子架柏
重合体中ＩＣ’）ｔＮ体成分よりなるボリマー以外は何
も含１ないことが他の重合法と異なる大き々特徴である
。即ち他重合法でヒラジカル開始剤、懸濁剤、溶媒など
が残存しやすく完全に除去する仁と｝ｆむつかしいがプ
ラズマ関始重合ではそれらの添加剤を使用しないために
必然的にボリマーのみである。

かくして得られた高分子架橋ｌ合体はあたかも乳化重合
で街もねたかのよう々スフイヤー（小球駄）であり、か
つ酵素の包括性がよく長時間安定で、高分子量からなる
ス７イヤーであ゛不から慢械的強変も大きい。しかも必
要に応じて使う乳化剤以外Ｃでは何の不純物をも含まな
いという従来法では得られない画期的なものである。

以ド実施例にて本一発明を脱男する｛。哄々お実施例中
における活性保持率は次のようにして求めた。

活性保持率（％）一ワＶ。×１００ 酵素固定化繊維を充分洗浄し、次いで１回目に酵素活性
を測定した時の酵素活性をＶ。（！−シ、しかる後Ｍ衡
液Ｋ該繊維を１０日間浸漬しておいた後の酵素活性をＶ
，とした。又、実施例中の聖孔率け０．１μ以上の孔径
を有する空孔の含有”Ｉ’（ｃｄ／ｆ）を表わし、酵素
活性は基質の分解速度で表わした。

実施例１・． ＄５０πＥメスフラスコ中にアクリルアミド４２、架橋
成分きしてＮ，Ｎ’一〆チレンビスアクリルアミド０．
０１Ｆを水１０ｖに溶解した彼インベルクーゼ（活性：
シ＊糖４Ｖ／ｍｌ，２０℃、６０分ＰＨ４）４−を加え
た後グチルアセヲー−｝１０Ｆを添加しａｔ混合させ１
０トールで脱気後封資した。

ついで液体窒素で凍結し６回脱気した。次にこのメスフ
ラスコを一対の外部平行電極間に挿入し、１００ワット
の電力でグロー放電プラズマヲ６０秒間照射し２５℃の
唄温槽｛ててＷ１１１Ｆを行ないながら後重合を４８時
間行なった。

υられたボリマーけ略球状ないし微小塊状でプチルアセ
テート中に分散していた。この酵素固定化ス７イヤーを
充分水洗した後、１０重景％のシヨ糖を含何する０．２
Ｍ酢酸緩＃ｆｆ液（ＰＨ４．６ノ１〇一に浸漬し２５℃
で９０分間分解反応を行ない、加水分＃率を比施光度に
より定量し求めた。また酵素固定化スフィτ−の安定性
を調べる為、この値に対し上記層街融に酵素固定化ス７
イヤーを１０日間浸漬してる・いた後の＃素活性の比を
活性保持率として計算したところ０．０３Ｍｏｌ／ｇｒ
ｉｎ−９の速度でシヨ糖を加水分解する酵素活性を示し
９６％の活性保持率であった。

実施例２ 第１表のよう々モノマー水溶液ｍｌに実施例１のインベ
ルターゼ６ｍｌを加えた処理液にイングロビルアセテー
ト１０−を更に添加して内径５０＊−長さ１５０馴のセ
パラプルフラスコに挿入シ、実施例１と同様の処理及び
重合を行ない、酵素固定化スフィヤーを得た。次いでこ
の＃素固定化ス７イヤーを充分水洗し、実施例１．と同
様の反応条件で加水分解反応を行々い、結果を第１表に
示した。

表中の略称は以Ｆの通りである。

ＭＡＡＭ；メタアクリルアミド，２−ＨＥＭＡ：２−ヒ
ドロキシエチル〆タアクリレートＡＭＰＳ；２−アクリ
ルアミド２−メチルプロパンスルホン酸，ＭＢＡＡ；Ｈ
．Ｗ−／チレンピスアクリルアミド，工Ｖ；インベルタ
ーセ゜夾施例６． α−アミラーゼ１２をアクリルアミド６Ｖｓ，Ｍｌ−メ
チレンビスアクリルアミド０．０３ｆを蒸留水４ｔに溶
解し、プチルアセテ−１−２（ｌに分散させ実施例１と
同様の処理及び重合を行ない酵素固定化スフィてーを得
た。酵素固定化スフィヤーを充分水洗した後、１重鼠％
デンフーン水溶液１〇一に浸漬し３０’Ｃで２４時間加
水分解反応を行ない加水分解率を比施光度により定景し
求めた。

なお酵素固定化ス７イヤーの安定性を調べるだめ上記デ
ンンン水１答蔽｛で′５０日間浸滴しておいた後の酵素
活性の比を活性保持率として示した。結果を第２表に示
した。（ｍＸＰ−煮４） なおα−アミラーゼｌｇ，アクリルアミド′５２、Ｎ＋
Ｍ’メチレンビスアクリルアミド０．０３ｆ，Ｍ硫酸カ
リクム０．０５Ｖ及び水１ｏｏｙを４０℃で４０時間重
合させ、得られた酵素同定化樹脂ｅζついて片較のため
第２表に示した。（ａｘｐ−Ａ５）尚、付着量はボリマ
ーに対する酵素の重量％である。第２表のようにプラズ
マ開始重合で生成する高分子で包括した場合には架橋密
度を小さくすることによって超高分子量ポリマーである
ために酵素の溶出率を小さくシ、かつ高分子の基質（デ
ンプン〕に対しても活性を発揮することができた。

出願人鐘紡株式会社６ カえ，２？．．．．３Ｕ″′丁 手続補正書 昭和５８年７月ψ日 特許庁長官若杉相大殿一昨ム １．事件の表示 昭和５８年特許願第６２５８７号 ２、発明の名称 酵素固定化ス７イヤー及びその製造方法６．補正をする
者 事件との関係特許出願人 住所東京都墨田区墨田五丁目１７番１ 名称（０９５Ｊ鐘紡株式会社 代表者伊藤淳二（卜ψ妙１名〕 連絡先 〒５６４大阪市都島区友淵町１丁月５番９０９鐘紡株式
会社特許部 電話（０６）９２１−１２５１ ４．補正により増加する発明の数表し ５．補正の対象 明細書の［特許詰求の範囲ｅ明 の詳細な説明」の欄 ６．補正の内容 （１）明細書の特許請求の範囲の項の記載を別紙の通り
補正する。

（２）明細書の記載を次の通り補正する。

（′５）明細劃１６頁第１０〜１２行の［空孔率は０．
１μ以上の孔径を有する空孔の含有率Ｃｄ／ｆ）を表わ
し、」の記載を抹消する。

別紙 特許請求の範囲 《１》酵素を包括固定化したビニル系高分子架橋重合体
よりなる酵Ｓ固定化ス７イヤー。

（２１ビニル系高分子架橋重合体がグロー放電グラズマ
により重合して得られたものである特許Ｍ求の範囲第１
項記載のス７イヤー。

（３）重合がプラズマ囲始重合である特許島求の範囲第
２項記載のス７イヤー０ （４）ビニル系烏分子架橋重合体が自己架橋性の水溶性
ビニル系単位体よりなる特許あ求の範囲第１項記載のス
フィヤー。

（５）自己架橋性の水溶性ビニル系単量体が、２−ヒド
ロキシアルキルアクリレート、又Ｆｉ２−ヒドロキシア
ルキルメククリレートである特許腑求の範囲第４項記載
のス７イヤー。

（６）ビニル系高分子架橋性単量体が水渭性ビニル系単
量俳と少なくとも０．０１重量％の架僑性単量体とから
なる水不溶性重合体である特許晶求の範囲第１項記載の
ス７イヤー。

（７）水溶性ビニル系単量体が１クリｌレアミド、アク
リル酸、２−アクリルアミドー２−メチＡフ０口ｌ＜ン
スルホン酸である特許請求の範囲第６項；ヒ載σ）ス７
イつｒ一。

（８）酵累を０．１〜６０重量％含有する特Ｆｌｆ請求
の範囲第１項記載のスフイヤー。

（９）自己架橋性の水溶性ピニｌレ糸単同体、又は水溶
性ビニル系単量体と該単量体に対して少々くとも０．０
１重量％の架橋性単量体を含む水溶液Ｇ（酵集を溶解し
た処理液を式（１）で表わされるプｌｉ７１（溶性溶媒
から選ばれた少なくとも１種の溶媒Ｉ＋１でイオン化ガ
スプラズマの存在下重合をＵ＋始した後、該プラズマの
不存在下で後重合せしめ生成するビニｌレ系高分子架橋
重合体に酵素を包括固定イヒすることを特徴とする酵素
固定化スフイヤー（Ｄ’Ｅｌ造方法。

Ｒ，ＣＯＯＲｚ・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・（１）式中ＲいＲ，はメチル基、エチル基、デロ
ビＩレ基イングロビル基、グチｌレ基又はイングチ？レ
基を示す。

（１０〕自己架橋性の水溶性ビニノレ系単量体が２−ヒ
ドロキシアルキルアクリレート又け２−ヒドロキシアル
キルメタクリレートである特許請求の範囲第９項記載の
方法。

（１１）水溶性ビニル系単量体がアクリルアミド、アク
リル酸、２−アクリルアミドー２−メチルプロパンスル
ホン酸である腸許請求の範囲第９項記載の方法。

（１９水溶性ＩｉＭ体水溶液の水溶性ｊｔ’−κ体濃度
が１０〜９５亀量％である特許請求の範囲第９項記載の
方法。

（１６ノ水溶性単量体水溶液の水溶性ｍ量体濃度が５０
〜９ＬｌｍＮ％である特許Ｍ求の範囲第９項記載の方法
。

（１４）非水溶性溶媒がメチルアセテート、エチルアセ
テート、グロビルアセデート、インン゜ロヒルアセテー
ト、グチルアセテート、イングチルアセテート、メチル
エチルエステル、ジエチルエステル、グロビルエチルエ
ステル、イングロビルエステル、プチルエチルエステル
又はイングチルエチルエステルである特ａ！１′請求の
範囲第９項記載の方法。

（１９’，ＩＩ水溶性沿媒中の単量体濃度が０１〜９０
重量％である特許請求の範囲第９項記載の方法。

（１６）非水溶性溶媒中の単量体濃度が１〜６５１量％
で非水溶性溶媒中の単量体濃度が１０〜６０亀量％であ
る特許請求の範囲第９項記載の方法。

（１７）イオン化ガスプラズマが１０シ１０’−トール
の真空下２０〜２００ワットで１〜５６００秒向照射し
て得られるものである特許胴氷の範囲第９項記載の方法
。

（饅イオン化ガスプラズマが１Ｃ１〜１０″″トールの
真空下４０〜１００ワットで１０〜６０秒問、照射して
得られるものである特許請求の範囲第９項記載の方法。

（１９）イオン化ガスプラズマの存在下での重合の重合
率が０．１〜２重量％である特許請求の範囲第９項記載
の方法。

（２：ｌ）イオン化ガスプラズマの不存在下での後重合
が１〜６０℃で行なわれる特１許請求の範囲第９項記載
の方法。

手続補正書 昭和５９年６月８日 特許庁長官若杉和夫殿 １ ｌ．事件の表示 昭和５８年特許願第６２５８７号 ２．発明の名称 酵素固定化スフィヤー及びその製造方法８．補正をする
者 事件との一係特許出願人 住所東京都墨田区墨田五丁目１７番４号名祢（０９５）
鐘紡株式会社 ［株］ 代表者伊藤淳爪′ 連絡先ゞ′ 〒５８４大阪市都島区友淵町１丁目５：ｉ９０号鐘紡株
式会社特許部 電話（（１６）９２１−１２５１ ４．補正により増加する発明の数なＯ ５．補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」及び「発明の詳細な説明」
の欄 ６．補正の内容 （１）明細書の特許請求の範囲の項の記載を別紙の通り
補正する。

（２）明細書の発明の詳細な説明の項の記載を次の通り
補正する。

以上 別紙 特許請求の範囲′ （１）酵素を包括固定化したビニル系＾分子架橋組合体
よりなる酵素固定化スフィヤー。

（２》ビニル系高分子架ａＸ合体がクロー放電プラズマ
により重合して得られたものである特許餉求の範囲第１
項記載のスフィヤー。

（３）重合がプラズマ開始重合である特許韻求の範囲第
２項記載のスフィヤー。

（４）ビニル系高分子架橋重合体が自己架橋性の水溶性
ビニル系単量体よりなる特許請求の範囲第１項記載のス
フィヤー。

（５）自己架橋性の水溶性ビニル系単量体が、２−ヒド
ロキシアルキルアクリレート、又は２−ヒドロキシアル
キルメ々クリレートである特許請求の範囲第４項記載の
スフィヤー。

（６）ビニル系高分子架橋性単量体が水溶性ビニル系単
量体と少なくとも０．０１重量％の架橋性単量体とから
なる水不哨性重合体である特許請求の範囲第１項記載の
スフィヤー。

（７）水溶性ビニル系単量体がアクリルアミド、アクリ
ル酸、２−アクリルアミドー２メチルフロパンスルホン
酸である特許請求の範囲第６項記載のスフィヤー。

（８）酵素を０．１〜８０重量％含有する特許請求の範
囲第１項記載のスフィヤー。

（９）自己架ｌｉａ性の水浴性ビニル系単量体、又は水
溶性ビニル系単量体と該単量体に対して少なくとも０．
Ｏｌ重量％の架橋性単量体を含む水浴液に酵素を溶解し
た処理液を式（１）で表わされる非水溶性溶媒から選は
れた少なくとも１種の溶媒中でイオン化ガスプラズマの
存在下重合を開始した後、該プラズマの不存在下で後重
合せしめ生成するビニル系高分子架橋重合体に酵素を包
括固定化することを特徴とする酵素固定イじスフィヤー
の製造方法。

Ｒ，ＧＯＯＲ２・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・（１）゛′式中Ｒ１、Ｒ２は
メチル基、エチル基、プロビル基、イソプロビル基、ブ
チル基又はイソブチル基を示す。

（１０）自己架橋性の水溶性ビニル系単量体が２−ヒド
ロキシアルキルアクリレート又は２−ヒドロキシアルキ
ルメタクリレートである特許請求の範囲第９項記載の方
法。

（１１）水溶性ビニル系単量体がアクリ２レアミド，ア
クリル酸、２−アクリルアミド〃２メチルプロｌ＜ンス
ルホン酸である特許請求の範囲第９項記載の方法。

（１２）水溶性単量体水浴液の水溶性単爪体濃度がｌＯ
〜９５重量％である特許舶求の範囲第１項記載の方法。

（１８）水浴性単量体水溶液の水溶性単量体濃度が５０
〜９０重量％である特許請求の範囲第９項記載の方法。

（１４）非７１１性溶媒がメチルアセテートエチノレア
セテート、プロビルアセテート、イソブロビノレアセテ
ート，ブチルアセテート、イソブチルアヤテート、メチ
ルエチルエステル、ジエチルエステｌレ、プロビルエチ
ルエステル，イソブロビルエチルエステル、ブチルエチ
ルエステル又はイソフ−ＩＦ７レエステルである特許請
求の範囲第９項記載の方法。

（１５）非水溶性溶媒中の単量体濃度がｏ．ｉ〜９０重
量％である特許請求の範囲第９項記載の方法。

（ｌ６）非水溶性溶媒中の単承体濃度が１〜６５重積％
で非水溶性溶媒中の単量体濃度がｌθ〜６０重量％であ
る特許蛸求の範囲第１項記載の方法。

（１７）イオン化ガスプラズマが１０−１〜１０−’｝
−ルの真空下で脱気後２０〜２００ワットで１〜３６０
０秒間照射して得られるものである特許請求の範囲第９
１Ａ記載の刀法、 （ｌ８）イオン化ガスプラズマが１０−’〜１０−’ト
ールの真空トで脱気俊４−０〜１００ワットで１０〜６
０秒間．照射して得られるものである特許請求の範囲第
９項記載の方法。

（ｌ９）イオン化ガスプラズマの存在下での取合のｍ合
率が０．１〜２本量％である特許餡求の範囲第９項記載
の方法。

（２ｏ）イオン化ガスプラズマの不存在下での後重合が
１〜６０゜Ｃで行なわれる特許請求の範囲第９項記載の
方法。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １１）酵素を包括固定化したビニル系高分子架橋重合体
   よりなる酵素固定化スフイイー。 １２）ビニル系高分子架橋重合体がグロー放電プラズマ
   により重合して得られたものである特許請求の範囲第１
   項記載のス７イヤー。 （５）重合がプラズマ開始重合である特許請求の範囲第
   ２項記載のス７イヤー。 １４）ビニル系高分子架橋重合体が自己架橋性の水溶性
   ビニル系単量体よりなる特許請求の範囲第１項記載のス
   フィヤー。 （５）自己架橋性の水溶件ビニル系単量体が、２ーヒド
   ロキシアルキルアクリレート、又け２−ヒドロキシアル
   キル〆クアクリレートである特許請求の範囲第４項記載
   のスフィヤー。 １６）ビニル系高分子架橋性単量体が水溶性ビニル系単
   量体と少なくとも０．０１重量％の架橋性単量休とから
   なる水不溶性重合体である特許請求の範囲第１項記載の
   スフィヤー。 １力水溶性ビニル系単量体がアクリルアミド、アクリル
   酸、２−アクリルアミドー２メチルプロパンスルホン酸
   である特許Ｍ求の範囲第６項記載のスフィヤー。 １８）酵素を０．１〜６０重量％含有する特許請求の範
   囲第１項記載のス７イヤー。 （９）自己架橋性の水溶性ビニル系単量体、又は水溶性
   ビニル系単量体と該単量体に対して少なくとも０．０１
   重量％の架橋性単量体を含む水溶液に＃累を溶解した処
   理液を式｛１）で表わされる非水溶性溶媒から選ばれた
   少゛なくとも１種の溶媒中でイオン化ガスプラズマの存
   在Ｆ重合を開始した後、該プラズマの不存在Ｆで後重合
   せしめ生成するビニル系高分子架橋重合体に酵素を包括
   固定化することを特徴とする＃素固定化ス７イヤーの製
   造方法。 Ｒ，ＣＯＯ’Ｒ，・・・・・・・・・・・・・・・１１
   ）Ｃ式中ＲいＲ，けメチル基、エチル基、プロビルＡ基
   、イソプロビル基、プチル基又はイングチル基を示す。 （１０Ｊ自己架橋性の水溶性ビニｐレ系単景休が２−ヒ
   ドロキシアルキルアクリレート又は２−ヒドロキシアル
   キルメクアクリレートである特許請求の範囲第９項記載
   の方法。 （１１）水溶性ビニル系単量体がアクリルアミド、アク
   リル酸、２−アクリルアミド、２メチルゾロ／（ンスル
   ホン酸である特許′ｔＴ求の範囲第９項記載の方法。 （＋２）水溶性単量体水溶液の水溶性単量体濃度が１０
   〜９５重景％である特許請求の範囲第１項記載の方法。 （１６）水溶性単量体水溶液の水溶性単量体濃変が５０
   〜９０重景％である特許詰求の範囲第９項記載の方法。 （１４ノ非水溶性溶媒がメチルアセテート、エチルアセ
   テート、グロビルアセテート、イソプロビルアセテート
   、プチルアセテート、イソプチルアセテート、メチルエ
   チルエステル、ジエチルエステル、グロビルエチルエス
   テル、イソプロビルエチルエステル、グチルエチルエス
   テル又ハイソプチルエチルエステルである特許請求の範
   囲第９項記載の方法。 （１５）非水溶性溶媒中の単量体濃度が０１〜９０重景
   ％である特許請求の範囲第９項記載の方法。 （１６）非水溶性溶媒中の単量体濃度が１〜６５重量％
   で非水溶性溶媒中の単量体濃度が１０〜６０重量％であ
   る特許請求の範囲第１項記載の方法１（１７）イオン化
   ガスプラズマが１０−１〜１０’｝−ルの真空ド２０〜
   ２００ワットで１〜６６００秒間照射して得られるもの
   である特許Ｍ求の範囲＠９項記載の方法。 （１８）イオン化ガスプラズマが１０−１〜１０’｝−
   ７レの真空’Ｆ４０〜１００ワットで１０〜６０秒間、
   照射して得られるものである特許請求の範囲第９項記載
   の方法。 （１９）イオン化ガスプラズマの存在Ｆでの重合の重合
   率が０．１〜２重量％である特許請求の範囲第９項記載
   の方法。 （２０）スオン化ガスプラズマの不存在ドでの後重合が
   １〜６０℃で行々われる特許請求の範囲第９項記載の方
   法。