JPS59205462A - ストリツプの連続コ−テング装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の技術分野］ この発明はストリップの連続コーテング装置に関し、こ
のコーテングはストリップが融点以上に加熱されたコー
テング物質を有する浴液槽内を通過することにより実現
される。この発明は特に鉄板に亜鉛などの薄膜をコーテ
ングする技術に関する。

［従来技術］ ながい間、つぎのようなコーテングプロセスが知らされ
ていた。つまり、金属の薄いストリ・ノブを表面処理し
、次いで予熱するためのステーションを通過させ、次い
で沈設したローラによって熔融コーテング物質例えば亜
鉛などの浴液槽中に通し、次いでこの浴液槽を通過し上
方に引き上げる方法である。この浴液槽を通過すること
によってコーテング物質の層が形成されるのである。こ
の層の厚みはストリップの通過速度や浴液槽の温度そし
てまた、ストリップの表面状態によって左右されるもの
である。そしてこの固体化前の液体状の層は浴液槽を抜
は出た後にストリップが冷却することによって固体化す
る。

均一厚さの表面層を得るためには、不純物が混在しない
こと、そしてまた均一な結晶化が必要であり、これらの
操作におけるすべての要因は極めて正確に制御されなけ
ればならない。

極めて古い技術においては、コーテング層がまだ液体状
である時にこのコーテング層の厚みを一定にずべくロー
ラが使用された。フランス特許１゜５６３．４５７はも
っと効率のよい方法を示している。すなわち、液体状の
コーテング物質の層上にガスを吹きつけるのである。そ
してこのガスは、コーテングが鉛である場合には空気が
良く、またコーテングが亜鉛の場合はドライスチームが
好ましい。このノズルはスリット状に形成され、その位
置と噴射方向が極めて正確に決められており、これらの
位置決め数値はガス圧によって決定され、シート状のジ
ェットが形成されるようにノズルが形作られる。これに
よって外側のまだ液体状の層の破片が浴液槽中に播き落
とされ、これによって浴液槽上面に浮遊していて厚着し
た滓や酸化物が除かれる。

従来のプラクティスとして、このドレイン操作において
は、普通に用いられる気体は空気である。

さら番こ、なめらかな、そして均質な結晶状態のコーテ
ング層を得るためには、いわゆるフラワーイング極小化
手段が用いられる。これば、結晶核を含むガスをストリ
ップの表面にスプレィする方法である。

このガスには通常は圧縮空気が用いられ、この圧縮空気
中に微細な固体状の亜鉛の粒子が混入される。これら粒
子中、ストリップに取付かなかった粒子が作業場内に飛
散するのを防止すべく、プラストノズルの極めて近くに
は、吸引用の開口が設けられ、この吸引された空気はフ
ィルタを通って循環使用される。

ガスジェットの効果的な噴出下における冷却を早く進め
ること、それに相俟って結晶核の多数の噴出により、結
晶作用の均質化ときめ細かさがもたらされる。

全体として、これらの方法は満足すべき結果をもたらす
。しかしながらユーザーは常にその要求を徐々に高くし
てくるものであり、完成製品は、表面における酸化物の
存在やコーテング物質の結晶化作用において、その不変
性は全く完全であるとはいい難いものである。特に、ス
トリップ自体が薄く、コーテング厚さも薄い場合には特
に不都合がある。

英国特許用ＩＨＡ　−７７７、３５３ハ１６’ａ槽ヲｍ
過したストリップのコーテングを酸化から保護すべく、
その下端を浴液槽につけた保護容器を設けている。そし
てこ°の保護容器の上部には狭い開口が設けられ、この
開口からストリップが取出される。不活性ガスがこの保
護容器中に封入され、また、ローラがこの保護容器中に
設けられてコーテングの一定厚さを保つようにされてい
る。

さらに品質を向上させるべくフランス特許出願Ａ−２，
５０１，７２４は不活性ガスの純度の高いものを使用し
ている。例えば酸素含有量の極めて少ない窒素を使用し
ている。このようなガスは極めて高価であり、このガス
の供給はりザイクル方式によって果される。しかし、充
分に注意しても可能な限り気密性を保った号−キソト、
そしてクーラ、そしてフィルタ装置を利用してもリサイ
クル率を０．５以上に上げることは極めて難しいもので
ある。

さらにス１−リップが、浴液槽中を脱出しドレイン操作
を受ける際に注意深くこれを行っても、結晶化作用の高
定すべき制御は常に達成されるとは限らない。しかもス
トリップ自体の厚みが薄くコーテング厚さが薄い場合に
は、このような欠点は顕著である。このケースにおいて
は特にこのような不都合はストリップの低温の不活性状
態時に生じるように観察される。

［発明の目的］ この発明の最大の目的はコーテング物質の結晶化作用を
良好に促進させるべく制御するにあり、特にス１−リッ
プの厚さ自体が薄く、そしてコーテング量が少ない場合
においてである。

さらにこの発明の他の目的は上述の効果を比較的低コス
トで、しかも簡単な装置で果すにある。

［発明の構成コ これら目的を達成するためにこの発明は、ストリップを
してコーテング物質浴液槽を通過させ、この浴液槽内を
上昇させて上方に送給せしめる手段と、浴液槽を通過し
たストリップに被着された液状コーテング物質の厚さを
均一にする均一手段と、開放した底部と浴液槽の液面下
に没入した側壁と更にその上方壁にストリップが通過す
る狭いスリットとを有するとともに前記均一手段を囲繞
する包囲室と、前記包囲室内を良好雰囲気にする保護手
段と、前記均一手段の上方に設けられるとともに前記ス
トリップ上にコーテング物質の核（ＮＵＣＬＥＩ）を含
んだガスジェ・７トを吹きつけるように構成されるとと
もに包囲室内に設けられた少なくとも１個のノズルと、
この包囲室内は保護手段により良好雰囲気にされるとと
もに包囲室に設けられた狭いスリットをストリップが通
過すべく構成されていることを特徴とする。

結晶核をスプレィするノズルのまわりに、保護空間を形
成することはコーテングの中に酸化物が生成されるを防
止することができ、さらにこの囲いによってフラワーイ
ングの極小化状態時に温度を一定にすることに役立つ。

もちろん、酸化物のきざしが形成されるのを最大限に阻
止するためにストリップがドレイン用の囲いからフラワ
ーイング極小化のための囲いに到る間に空気にふれない
ように保護されることが極めて有利である。例えばそれ
らの囲いを一連に連結して形成する等によってである。

しかしながら、好ましい態様としては結晶核のプラスチ
ングノズルを含む囲いと均一化手段を含む囲いとは一体
に形成するのが好ましい。

この装置においてはプラスチングノズルは少なくともそ
の一部はり号イクルガスが使用される。

これによって、プラストノズルが包含される囲いの中の
ガスがリサイクルして使用されるのである。

ガスのリサイクル方式によって吸込側の開口をブラスト
ノズルの極めて近傍に設けることができ、これによって
囲いの中に渦巻が発生するのを防止することができる。

この渦巻は、ス１〜リップが薄くフレキシブルになれば
なるほど、その品質を減するものである。

上に説明したようにコーテング装置としては、ドレイン
手段が包囲されており、その保護区域の中でガスがリサ
イークルされその一部が使用されることは、よく知られ
ている。簡単にいえは、特に包囲容器が知られている場
合には、単一のリサイクルサーキットを想到することは
可能である。経験によれば、このような解決方法は最も
有利であるとはいえない。そしてこのガスをリサイクル
する号−キノｔ−を、結晶核をプラスチングするガスの
りザイクルサーキ７＋−とは別個に設けるが、たとえ包
囲容器が一体に共有形成されていても、このように別個
にすることが好ましいことである。

事実、結晶核をプラスチングするノズルから噴出するガ
スの温度は極めて高い精密さで制御されねばならない。

このようなことはリサイクルサーキソ１−を共有する形
式のものにおいては実現することは極めて難しい。

ガスを有利に節約するためには、このガスは極めて純度
が高い窒素ガスであるがガスをリサイクル使用すること
によって達成される。これらのガスは結晶核をブラステ
ィングするノズルに供給され、このサーキットは、この
ガスを酸化含有量の少ないものに浄化する手段を有して
いる。特に有利な実施例においては前記浄化手段は結晶
核を同時に生成する機能をも有しており、さらにまた前
記浄化手段は好ましくは、物質の蒸気をガスの中に導入
する手段をも有しており、これは結晶核を生成したり減
少させたりする能力を有するものであり、さらに結晶核
を形作るためにガスを実質的に冷却する手段をも有する
ことが好ましい。

もし二つのガスリサイクルサーキットが分離して設けら
れれば、均一化手段を有するリサイクルサーキットと酸
素含有量を減するためのガス浄化手段の、これら手段を
独自に、あるいは同時に他のサーキソｈに設けられた供
給手段とともに制御することができる。

核プラスチングノズルと均一手段とが同一の包囲空間内
に設けられると、核ブラストノズルのある包囲空間内に
ガス浄化手段を設けることができるし、あるいはそこに
おいて両者を連絡させることができる。

その両手段がそのように設けられると、これらの手段は
両方のサーキットにおいて兼用することができる。好ま
しくは、前記浄化手段は包囲室の上方に設けられたスリ
７＋−の極めて近くに設けられる。このようにするとス
リン１−を経て酸素がストす、ブの進行方向に逆って逆
流するのを防止できる。実は、スリットのエツジはスト
リップと接触してはならないので、スリ、１−を完全に
シールすることはできない。つまり、ス１−リップのコ
ーテングは固化しつつあるが固化してまもないから、剥
離しやすいからである。

［発明の実施例］ コーテングされるストリップ１は図面において左側から
送給される。このストリップは、まず、炉２を通過する
。炉ばス）　ＩＪツブ表面の酸化物を減らすように雰囲
気がコントロールされている。

そしてこの炉の中においてストリップは、予熱されて浴
液槽の温度と略同等とされる。ストリップ１はローラ３
．４．５にガイドされ、実質的に下方に導かれ熔融亜鉛
の浴液槽７に導かれ、次いでこの浴液槽から垂直上方に
反転し、ローラ６を経て巻取装置（図示せず）に至る。

さや８がストリップを囲繞して炉２から浴液槽７までの
間に設けられ、このさや８の下端は、浴液槽内の浴液内
につげられている。これによって、加熱され、清浄にさ
れたストリップが浴液槽の亜鉛に接触する前に、その表
面に酸化物が生成するのが防止される。

ストリップが浴液槽を脱出すると、ストリップは、包囲
室たる無底容器９に囲まれる。この無底容器の側壁は、
前記熔融亜鉛中に没している。この無底容器の上面には
きわめて狭いスリット１０が設けられ、このスリットを
通過してストリップが上方に引出される。

そしてこの時、無底容器９と前記さや８とば、なんら連
通しておらず、それゆえ当然に炉２とも無底容器は連通
していない。実際のところ、上記各部分の連通が生じて
いると無底容器９内の温度やダストなどの性質をコント
ロールすることは極めて難しい。

この無底容器９内には２本のドレインノズル１１が設け
られ、このノズルは長いスリット状に構成され、これに
よってコーテングの厚さを所望の数値に保持する機能を
果す。また、このノズル１１の上方には、２本の他のノ
ズル１２が設けられ、フラワーイングを小さくする機能
を有する。

前記ドレインノズル１１には窒素が供給され、この窒素
はリサイクルサーキットによって導かれる。循環サーキ
ットは以下の如く構成される。取込パイプ１３は無底容
器９からガスを取込むためのものである。冷却水クーラ
１４はこのガスを冷却するためのもので、その下流側に
設けたポンプ１５の作動を良好に改善するだめのもので
ある。

フィルタ１６がクーラとポンプの途中に設けられる。供
給パイプ１７はポンプ１５に連結され、その下流側はド
レインノズル１１に取付けられる。

この供給パイプ１７には、窒素の補充用パイプ１８が取
付けられ、弁を介して非常に純度の高い窒素源１９に連
絡される。

フラワーイング極小化のためのノズルは同様の号−キソ
トに構成されている。２０は取込ダクト、２１はクーラ
、２２はポンプ、２３は供給パイプである。しかし、こ
のサーキツトにおいては補充用のパイプは設けられてい
ない。

浄化手段を設は得る三つの態様が図面に点線で示されて
いる。

すなわち、２４はフラワーイング極少化ガスサーキット
に設けられた浄化手段であり、これば次いで結晶核供給
用の装置と兼用される。

符号２５はドレインガスサーキットに結合した浄化手段
を示す。この実施例においては液体または気体の炭化水
素、あるいはまたその類似の物質を噴射する手段として
構成することもでき、またガスが衝突する表面を加熱し
ておくことも可能である。

符号２６は浄化手段を無底容器９内のスリット１０の近
傍に設けた場合を示す。この装置は１またはそれ以上の
高温表面体と流入を減少させる物体からなる手段とから
構成することができ、またサーキツトの他の部分に設け
ることも可能である。

なお、この発明は上述実施例に限定されるものではない
。

【図面の簡単な説明】

図面はこの発明の装置の一部縦断面を示す説明図である
。 図において、１はストリップ、２は炉、３．４゜５．６
はローラ、７は浴液槽、８はさや、９は無底容器、ＩＯ
はスリット、１１はドレインノズル、１２はノズル、１
３ば取込パイプ、１４は冷却水クーラ、１５．２２はポ
ンプ、１６はフィルタ、１７．２３は供給パイプ、１８
は補充用パイプ、１９は窒素源、２０は取込ダクト、２
１ばクーラ、２４．２５．２６は浄化手段である。 代理人　　弁理士　　西　郷　義　美 代理人　　弁理士　　原　１）幸　男

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ストリップをしてコーテング物質浴液槽を通過させ
   、この浴液槽内を上昇させて上方に送給せしめる手段と
   、浴液槽を通過したストリップに被着された液状コーテ
   ング物質の厚さを均一にする均一手段と、開放した底部
   と浴液槽の液面下に没入した側壁と更にその上方壁にス
   トリップが通過する狭いスリットとを有するとともに前
   記均一手段を囲繞する包囲室と、前記包囲室内を良好雰
   囲気にする保護手段と、前記均一手段の上方に設けられ
   るとともに前記ストリップ上にコーテング物質の核（Ｎ
   ＵＣＬＥＩ）を含んだガスジェットを吹きつけるように
   構成されるとともに包囲室内に設けられた少なくとも１
   個のノズルと、この包囲室内は保護手段により良好雰囲
   気にされるとともに包囲室に設けられた狭いスリットを
   ストリップが通過すべく構成されていることを特徴とす
   るストリップの連続コーテング装置。 ２、包囲室内には、核を吹き出すプラストノズルと均一
   手段とが設けられていることを特徴とする特許請求の範
   囲第１項記載のストリ・ノブの連続コーテング装置。 ３、プラストノズルにはり号イクルガスの少なくとも一
   部が供給され、このリサイクルガスは前記プラストノズ
   ルが位置する前記包囲室内から取込まれることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項記載のストリップの連続コー
   テング装置。 ４、包囲室はドレイン手段を囲繞して設けられ、ドレイ
   ン手段のサーキットには前記包囲室からの保護雰囲気用
   ガスの一部が循環すべく構成され、リサイクルガスのサ
   ーキットは核ブラスト用ガスのリサイクルサーキットと
   は別体であり、前記包囲室は両サーキット用に共有であ
   ることを特徴とする特許請求の範囲第３項記載のストリ
   ・ノブの連続コーテング装置。 ５、核プラストノズルにリサイクルカスを供給するため
   のサーキットが、ガス中の酸素含有量を減少せしめる浄
   化手段を有することを特徴とする特許請求の範囲第３項
   記載のス）　ＩＪツブの連続コーテング装置。 ６、浄化手段は結晶核をも同時にもたらすべく構成され
   ていることを特徴とする特許請求の範囲第５項記載のス
   トリップの連続コーテング装置。 ７、浄化手段はガス中に物質の蒸気を導く導入手段を有
   し、この蒸気は核を減しまた増大させる能力を有し、前
   記結晶核を生成するために実質的にガスを冷却する手段
   を有することを特徴とする特許請求の範囲第６項記載の
   ストリップの連続コーテング装置。 ８、均一手段のガスリサイクルサーキットは酸素含有量
   を低下せしめてガスを浄化する浄化手段を有することを
   特徴とする特許請求の範囲第４項記載のストリップの連
   続コーテング装置。 ９、ガス浄化手段は核ブラストノズルが設けられた包囲
   室内に設けられ、この包囲室内において両者が直接連絡
   していることを特徴とする特許請求の範囲第３項記載の
   ストリップの連続コーテング装置。 １０、ストリップが包囲室を出るべく設けられたスリッ
   トのすぐ近くに浄化手段が設けられていることを特徴と
   する特許請求の範囲第９項記載のストリップの連続コー
   テング装置。