JPS5920484A - 導電性浮遊スクリ−ンを含むアルミニウム製造用電解槽 - Google Patents
導電性浮遊スクリ−ンを含むアルミニウム製造用電解槽Info
- Publication number
- JPS5920484A JPS5920484A JP58118052A JP11805283A JPS5920484A JP S5920484 A JPS5920484 A JP S5920484A JP 58118052 A JP58118052 A JP 58118052A JP 11805283 A JP11805283 A JP 11805283A JP S5920484 A JPS5920484 A JP S5920484A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrolytic cell
- screen
- floating screen
- aluminum
- cryolite
- Prior art date
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25C3/00—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts
- C25C3/06—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts of aluminium
- C25C3/08—Cell construction, e.g. bottoms, walls, cathodes
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、エルーーホール法を用い氷晶石融浴内の溶解
アルミナの電解によりアルミニウムを製造するための陽
極と陰極との間に導電性浮遊スクリーンを含む電解槽に
係る。
アルミナの電解によりアルミニウムを製造するための陽
極と陰極との間に導電性浮遊スクリーンを含む電解槽に
係る。
エルー−ホール法によるアルミニウム製造用の最も高性
能の装置に於いて、電気エネルギ消*量は金属1トン肖
り少くとも13000KW時に等しく14000KW時
より大きいこともしばしばある。電位差4ボルトで作動
する近代的な漕では電解質中の電圧降下は約1.5ボル
トであり、従って総エネルギ消費量のh以上に相当する
。これは、液体金属層が磁気効果によって移動し−(1
萄極方向に引寄せられアルミニウムが再度酸化されるこ
とを阻止するために陽極と陰極の液体アルミニウム層と
の間に十分な間隔(少くとも40闘、多くの場合約50
乃至60暉)を維持し/工ければならないことに因る。
能の装置に於いて、電気エネルギ消*量は金属1トン肖
り少くとも13000KW時に等しく14000KW時
より大きいこともしばしばある。電位差4ボルトで作動
する近代的な漕では電解質中の電圧降下は約1.5ボル
トであり、従って総エネルギ消費量のh以上に相当する
。これは、液体金属層が磁気効果によって移動し−(1
萄極方向に引寄せられアルミニウムが再度酸化されるこ
とを阻止するために陽極と陰極の液体アルミニウム層と
の間に十分な間隔(少くとも40闘、多くの場合約50
乃至60暉)を維持し/工ければならないことに因る。
液体アルミニウムj@の陽極方向移動は、液体アルミニ
ウムが陰極の炭素基板に浸潤性金持たないことによって
更に促進される。
ウムが陰極の炭素基板に浸潤性金持たないことによって
更に促進される。
陰極アルミニウムの陽極方向移動を生じさせること無く
極間距離を短縮するために、液体アルミニウムによって
完全に浸潤されるが電解温度ではアルミニウムに実質的
に腐食されない導曜性耐火拐例えばニホウ化チタンTi
B1 を基材とする陰極の使用が提案された。このよう
な陰極は特に、BRITISI(ALUMINIUM社
の英国特許第784695号、第784696号、第7
84697号及び”ALUMINIUM” 、 198
0年10月、642−648ページと1980年11月
、713−718ページに収載のに、 B、 BILL
IJ(AUG及びH,A、 OYEの論文に記載されて
いる。
極間距離を短縮するために、液体アルミニウムによって
完全に浸潤されるが電解温度ではアルミニウムに実質的
に腐食されない導曜性耐火拐例えばニホウ化チタンTi
B1 を基材とする陰極の使用が提案された。このよう
な陰極は特に、BRITISI(ALUMINIUM社
の英国特許第784695号、第784696号、第7
84697号及び”ALUMINIUM” 、 198
0年10月、642−648ページと1980年11月
、713−718ページに収載のに、 B、 BILL
IJ(AUG及びH,A、 OYEの論文に記載されて
いる。
ニホウ化チメン陰極KrJi:Iする重要な問題の1つ
は、該陰極が液体アルミニウムに次第に溶Mすることで
ある。この現象は緩徐ではあるが無視できない現象であ
り、この結果、消耗エレメントの定期的交換が必要にな
り、このために作動の完全停止及び槽の分解の必妥が生
じる。
は、該陰極が液体アルミニウムに次第に溶Mすることで
ある。この現象は緩徐ではあるが無視できない現象であ
り、この結果、消耗エレメントの定期的交換が必要にな
り、このために作動の完全停止及び槽の分解の必妥が生
じる。
本発明は、陰極アルミニウム力月窮極方向に引寄せられ
る危険を伴なうこと無く極間距離を短縮し几いという課
題に対する別の解決方法を提供する。
る危険を伴なうこと無く極間距離を短縮し几いという課
題に対する別の解決方法を提供する。
本発明の特徴は、陽極と陰極との間で液体アルミニウム
層と電解質層との界面に電流を伝導することができ炭素
質陰極基板に連結さi’していない浮遊スクリーン1を
へ装置することにある。該スクリーンはアルミニウムの
作用及び氷晶石照温の作用の双方に耐性でなければなら
ないため、グラファイトの如き炭素質相料又はニホウ化
チタンの如キ導電性耐火材から構成される必要がある。
層と電解質層との界面に電流を伝導することができ炭素
質陰極基板に連結さi’していない浮遊スクリーン1を
へ装置することにある。該スクリーンはアルミニウムの
作用及び氷晶石照温の作用の双方に耐性でなければなら
ないため、グラファイトの如き炭素質相料又はニホウ化
チタンの如キ導電性耐火材から構成される必要がある。
電解の平均温度(〜9601:)に於ける存在エレメン
トの各々の密度を考慮すると グラファイト: 1.7−1.9 電 解 貢: 2.1−2.2アルミニウム:
2.3 TiB宜 : 4.5−4.6 浮遊スクリーンは、総密度が960℃で約2.15乃至
2.30のイ(α囲のエレメントから構成される必要が
あると考えられる。
トの各々の密度を考慮すると グラファイト: 1.7−1.9 電 解 貢: 2.1−2.2アルミニウム:
2.3 TiB宜 : 4.5−4.6 浮遊スクリーンは、総密度が960℃で約2.15乃至
2.30のイ(α囲のエレメントから構成される必要が
あると考えられる。
第1図乃至第4L図は本発明の種々の具体例を示O
第1図の導電性浮遊スクリーン1は平均密度2.25で
表面密閉性の多孔質TIB、ポール2から成る。該ボー
ルは、例えばALUMINIUM PE(JIINKY
出願のフランス特許第1579540号に記載の技術に
よpfA造され得る。即ち、TiB、と7リツト温加二
にて除去可能な【物質との混合物のフリットによって製
造され得る。該ボールの直径は5乃至50順の範囲であ
り、好ましくは10乃至40mmである。直径の下限は
製造−コストに左右され上限は予定極間距離の約2倍に
相当する。
表面密閉性の多孔質TIB、ポール2から成る。該ボー
ルは、例えばALUMINIUM PE(JIINKY
出願のフランス特許第1579540号に記載の技術に
よpfA造され得る。即ち、TiB、と7リツト温加二
にて除去可能な【物質との混合物のフリットによって製
造され得る。該ボールの直径は5乃至50順の範囲であ
り、好ましくは10乃至40mmである。直径の下限は
製造−コストに左右され上限は予定極間距離の約2倍に
相当する。
多孔度約50%の前記の如きボールは過度に脆性である
と考えられるかも知れない。その場合には、TiB、と
窒化ホウ素(960℃でd=2.20乃至2.25)又
はグラファイト(d=x、7乃至1.9)との混合物を
所望の割合の加熱除去可能物質と共にフリットする。後
者の割合は、960℃で実質的に2.25に等しい終密
度y)I得らtしるように選択さ2’Lる。
と考えられるかも知れない。その場合には、TiB、と
窒化ホウ素(960℃でd=2.20乃至2.25)又
はグラファイト(d=x、7乃至1.9)との混合物を
所望の割合の加熱除去可能物質と共にフリットする。後
者の割合は、960℃で実質的に2.25に等しい終密
度y)I得らtしるように選択さ2’Lる。
電解質及び/又は金属がボールに次第に浸潤してボール
の浮力が失なわれるの全阻止すべく表面被膜によってボ
ールに密閉性を与えることが不可欠である。このような
密閉性は、TI B、の緻密な付着層を形成し得る公知
の種々の方法、例えばプラズマ溶射又は化学蒸着によっ
て与えられる。該密閉層の厚みは、液体アルミニウムに
よる溶解を受けても少くとも数年間の耐用寿命が維持さ
れるに十分な値、即ち少くとも20マイク四メーメに等
しい。
の浮力が失なわれるの全阻止すべく表面被膜によってボ
ールに密閉性を与えることが不可欠である。このような
密閉性は、TI B、の緻密な付着層を形成し得る公知
の種々の方法、例えばプラズマ溶射又は化学蒸着によっ
て与えられる。該密閉層の厚みは、液体アルミニウムに
よる溶解を受けても少くとも数年間の耐用寿命が維持さ
れるに十分な値、即ち少くとも20マイク四メーメに等
しい。
密閉化を2段階で行なうことも可能である。即ち、先ず
プラズマによシ中度の密度の連結層を付着さ亡、次に化
学蒸着によって密閉性の細密/iiIを付着させる7、
マたは、気相化学蒸着f:2段階で行なってもよく、こ
の場合第1段1昔で用いられる圧力及び温間の値は第2
段階より低い。
プラズマによシ中度の密度の連結層を付着さ亡、次に化
学蒸着によって密閉性の細密/iiIを付着させる7、
マたは、気相化学蒸着f:2段階で行なってもよく、こ
の場合第1段1昔で用いられる圧力及び温間の値は第2
段階より低い。
平均密度2.25を得るための別の方法としては、グラ
ファイトコアと緻密TiB1皮層とを有する複合ボール
を製造する。2つの構成成分の重量比はd=2.25’
Q得るように決定され(実質的にTi B。
ファイトコアと緻密TiB1皮層とを有する複合ボール
を製造する。2つの構成成分の重量比はd=2.25’
Q得るように決定され(実質的にTi B。
20X及びグラファイト80%〕、このときに0℃と1
000℃との間でTI B、に実質的に等しい膨張率を
有するようなグレードのグラファイトが選択される。
000℃との間でTI B、に実質的に等しい膨張率を
有するようなグレードのグラファイトが選択される。
TIB、から成る浮遊ボール群2は金属4と電解質5と
の界面3に実質的に連続的な贋金形成する。
の界面3に実質的に連続的な贋金形成する。
該層が1場極6と金R4との間のスクリーン1を形成し
同時に電解により生成された液体アルミニウムの小滴を
析出せしめる陰極として機能する。これらの小滴は浮遊
ボール2に浸潤し形成済の層4内に集合する。従って小
滴が陽極方向に引寄せも 8− れ陽極で再度酸化される危険は実質的に除去され、これ
により極間距離を約20間に短縮し且つ電解質内の電圧
降下を1ボルトより小さい値まで低減。
同時に電解により生成された液体アルミニウムの小滴を
析出せしめる陰極として機能する。これらの小滴は浮遊
ボール2に浸潤し形成済の層4内に集合する。従って小
滴が陽極方向に引寄せも 8− れ陽極で再度酸化される危険は実質的に除去され、これ
により極間距離を約20間に短縮し且つ電解質内の電圧
降下を1ボルトより小さい値まで低減。
−jることが可能である。第1図及び第2図に於いて浮
遊ボールiは界面3の上方に図示されているが、ボール
の正確な位置が、浴及び金属に対するボールの密度の比
に左右されることは勿論明らかである。
遊ボールiは界面3の上方に図示されているが、ボール
の正確な位置が、浴及び金属に対するボールの密度の比
に左右されることは勿論明らかである。
浮遊スクリーンがTiB、を基材とするボールから形成
され之特定の場合に関して本発明を説明したが、スクリ
ーンは必ずしもボールの形状でなく別の適当ないかなる
形状でもよい。スクリーンは例えば円柱状エレメントで
もよく、このような形状の場合長さ対直径比次第でスク
リーンは軸を鉛直状態又は軸を水平状態にして浮遊する
。このような場合(即ちエレメントが互いに連結されて
いない場汗〕、使用エレメントの最大寸法が50mm好
ましくは40 mm−、即ち予定極間距離の2倍より大
きくならないことが望ましい。
され之特定の場合に関して本発明を説明したが、スクリ
ーンは必ずしもボールの形状でなく別の適当ないかなる
形状でもよい。スクリーンは例えば円柱状エレメントで
もよく、このような形状の場合長さ対直径比次第でスク
リーンは軸を鉛直状態又は軸を水平状態にして浮遊する
。このような場合(即ちエレメントが互いに連結されて
いない場汗〕、使用エレメントの最大寸法が50mm好
ましくは40 mm−、即ち予定極間距離の2倍より大
きくならないことが望ましい。
第1図の具体例では、ボール2′から成るスクリーンの
存在が陽極6の直下でしか必要とさnないにも関わらず
金属4と電解質5との界面全体がスクリーンで被覆され
るという欠点が生じる。
存在が陽極6の直下でしか必要とさnないにも関わらず
金属4と電解質5との界面全体がスクリーンで被覆され
るという欠点が生じる。
前記の如き欠点を解決するために第2図の具体例では緻
密な耐火材から成る障壁7によって導電性浮遊スクリー
ンを1窮極6の直下に局在させている。液体アルミニウ
ム4の循it確保するために開孔13を好ましくは前記
障壁に穿設しなければ/よらない。
密な耐火材から成る障壁7によって導電性浮遊スクリー
ンを1窮極6の直下に局在させている。液体アルミニウ
ム4の循it確保するために開孔13を好ましくは前記
障壁に穿設しなければ/よらない。
第3図は導電性浮遊スクリーンの別の具体例を示す。ス
クリーンは単に並置されている個人別々のエレメントか
ら構成されるのでなく陽極1直下に配置された一体構造
アセンブリから成る。このような一体構造スクリーン8
は、基本となる2つの基準、即ち電解質の密度と液体ア
ルミニウムの密度との間の密度を有すること及び必要な
電気伝導度即ち眠M質の帛、気伝導度より小さい(例え
ばn以rの)電気伝導度を有することという基準に適合
する限り本発明の曵囲内で種々の変形が可能である。
クリーンは単に並置されている個人別々のエレメントか
ら構成されるのでなく陽極1直下に配置された一体構造
アセンブリから成る。このような一体構造スクリーン8
は、基本となる2つの基準、即ち電解質の密度と液体ア
ルミニウムの密度との間の密度を有すること及び必要な
電気伝導度即ち眠M質の帛、気伝導度より小さい(例え
ばn以rの)電気伝導度を有することという基準に適合
する限り本発明の曵囲内で種々の変形が可能である。
スクリーン8は更に障壁7により1窮極の直下に維持さ
f′L得、必要に応じてN、解質及び液状アルミニウム
に耐性で導″’FU性の小さいn′Ojり<材例えば窒
化ポウ累、窒化アルミニウム又は種々の炭化物例えば炭
化ケイ素から成る突起9を有し得る。該突起は、陽極6
とスクリーン8との間の意図しない接触を完全に阻止丁
べく機能する。炭素′R陰極基板12に対する係止手段
が全< イr:在しないのでスクリーンは鉛直方向でほ
ぼ完全に自由に移動し得る。
f′L得、必要に応じてN、解質及び液状アルミニウム
に耐性で導″’FU性の小さいn′Ojり<材例えば窒
化ポウ累、窒化アルミニウム又は種々の炭化物例えば炭
化ケイ素から成る突起9を有し得る。該突起は、陽極6
とスクリーン8との間の意図しない接触を完全に阻止丁
べく機能する。炭素′R陰極基板12に対する係止手段
が全< イr:在しないのでスクリーンは鉛直方向でほ
ぼ完全に自由に移動し得る。
スクリーン8は、グラファイト、炭素フェルト又は炭素
/炭′A複合材から成りスクリーンの少くとも上面にT
I B、被膜が形成されている。所要平均密度(2,2
5)が得られる程’l’lBxの割合が大きくないとき
は緻密な耐火拐かも成るインサートを用いてスクリーン
に@全付加するか、又は、スクリーン全純粋のグラファ
イトでなくグラファイトと炭化ケイ素(d=3乃至3.
10)又はニホウ化チタン(a=t5乃至4,6)との
焼結混合物で(1り成する。
/炭′A複合材から成りスクリーンの少くとも上面にT
I B、被膜が形成されている。所要平均密度(2,2
5)が得られる程’l’lBxの割合が大きくないとき
は緻密な耐火拐かも成るインサートを用いてスクリーン
に@全付加するか、又は、スクリーン全純粋のグラファ
イトでなくグラファイトと炭化ケイ素(d=3乃至3.
10)又はニホウ化チタン(a=t5乃至4,6)との
焼結混合物で(1り成する。
スクリーンが多孔質の炭素質複合材料7)・ら成る場汗
には、好ましくは平均見掛り密度が約2,20に、!−
!る割合でスクリーンのコアにニホウ化チタンを含浸さ
せ、次に厚み10乃至100マイクロメータの緻密なニ
ホウ化チタン層で表1ni密閉性を力える。
には、好ましくは平均見掛り密度が約2,20に、!−
!る割合でスクリーンのコアにニホウ化チタンを含浸さ
せ、次に厚み10乃至100マイクロメータの緻密なニ
ホウ化チタン層で表1ni密閉性を力える。
第4a図及びiAb図は導電性浮遊スクリーンの別の具
体例合本−j″。グラファイトスラブ10が連結手段1
1A、11Bを備えており、こttらの連結手段は互い
に係合し金属/電解質界面3にうねpが生じたときに十
分に適応し得る可撓性を有するアセンブリを形成し得る
。
体例合本−j″。グラファイトスラブ10が連結手段1
1A、11Bを備えており、こttらの連結手段は互い
に係合し金属/電解質界面3にうねpが生じたときに十
分に適応し得る可撓性を有するアセンブリを形成し得る
。
先の具体例の場合と同じくこれらのスラブC,j陶極に
対向−j−る面に゛rlI3.被膜を備えることができ
浮遊に必要yz密度は前記の手段のいず扛かを用いて得
ろノしる。
対向−j−る面に゛rlI3.被膜を備えることができ
浮遊に必要yz密度は前記の手段のいず扛かを用いて得
ろノしる。
種々に変形された形伏で本発明を使用することによp、
電解効率の低Fを生じること無く極間距離をかなりの程
度即ち約20mmまで短縮しくlる。
電解効率の低Fを生じること無く極間距離をかなりの程
度即ち約20mmまで短縮しくlる。
かくの如く改良された電解槽の91M子の電位差は4ボ
ルトから約3.2乃至3.3ボルトに減少しこれに比例
して製造アルミニウム1トン当りのエネルギ消費111
−が節約される。
ルトから約3.2乃至3.3ボルトに減少しこれに比例
して製造アルミニウム1トン当りのエネルギ消費111
−が節約される。
第1図乃至第4b図は本発明の411(々の具体例の説
明図である。 1・・・スクリーン、2・・・ポール、4・・・金Ej
4.5・・・電解質、6・・・陽極、7・・・障壁、8
・・・スクリーン、9・・・突起、lO・・・スラブ、
IIA、IIB・・・連結手段、12・・・陰極基板。
明図である。 1・・・スクリーン、2・・・ポール、4・・・金Ej
4.5・・・電解質、6・・・陽極、7・・・障壁、8
・・・スクリーン、9・・・突起、lO・・・スラブ、
IIA、IIB・・・連結手段、12・・・陰極基板。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 fl+ エルー−ホール法を使用し少くとも1つの炭
素質陽極と炭素質陰極基板を被覆するアルミニウム層と
の間の氷晶石融浴中に溶解したアルミナの電解によるア
ルミニウJ、裂造用の電解槽に於いて、前記電解槽がア
ルミニウム層と氷晶石照温との界面に電流伝導性であり
炭素質陰極基板に連結されていす少くとも鉛直方向で移
動自在な浮遊スクリーンを含むことを特徴とする電解槽
。 (2) 導電性浮遊スクリーンがアルミニウム層とゝ
、 氷晶石塔との間の界面全体に拡がっていることを特徴と
する特許請求の範囲第1項に記載の電解槽。 (3) 導電性浮遊スクリーンが各1弱極の直下に局
限されていることを特徴とする特許請求の範囲第1項に
記載の′電解槽。 (4)導電性浮遊スクリーンが並置された個別エレメン
トがら成ること全特徴とする特許請求の範囲第1項乃至
i3項のいずれかに記載の電fIJ¥槽。 (5) 浮遊スクリーンが可撓性連結手段によって互
いに連結された個別エレメントから成ることを特徴とす
る特許8青求の範囲第1項乃至第3項のいずれかに記載
の電解槽。 (6)4電性浮遊スクリーンが、陽極の底面に向って伸
び°Cおυ実質的に最小極間距離に等しい高さを有する
電流を殆んど伝導しないか又は不伝導性のストップ手段
を含むことを特徴とする%1’FitiV求の範囲第5
項に記載の電解槽。 (7)各11極と導電性浮遊スクリーンとの間の距離が
40m+より小であり好ましくは約20mWIに等しい
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第6偵のい
ずれかに記載の電解槽。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR8211873 | 1982-06-30 | ||
FR8211873A FR2529580B1 (fr) | 1982-06-30 | 1982-06-30 | Cuve d'electrolyse pour la production d'aluminium, comportant un ecran conducteur flottant |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5920484A true JPS5920484A (ja) | 1984-02-02 |
JPS6141997B2 JPS6141997B2 (ja) | 1986-09-18 |
Family
ID=9275740
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58118052A Granted JPS5920484A (ja) | 1982-06-30 | 1983-06-29 | 導電性浮遊スクリ−ンを含むアルミニウム製造用電解槽 |
Country Status (17)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4533452A (ja) |
EP (1) | EP0099840B1 (ja) |
JP (1) | JPS5920484A (ja) |
KR (1) | KR840006510A (ja) |
AU (1) | AU562447B2 (ja) |
BR (1) | BR8303459A (ja) |
CA (1) | CA1190892A (ja) |
DE (1) | DE3365289D1 (ja) |
ES (1) | ES8403984A1 (ja) |
FR (1) | FR2529580B1 (ja) |
GR (1) | GR77515B (ja) |
IN (1) | IN159794B (ja) |
NO (1) | NO832365L (ja) |
OA (1) | OA07473A (ja) |
SU (1) | SU1356967A3 (ja) |
YU (1) | YU140683A (ja) |
ZA (1) | ZA834761B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5952138A (en) * | 1992-05-25 | 1999-09-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Magnetic developer and recognition method of magnetic-ink character |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NO163966C (no) * | 1983-11-29 | 1990-08-15 | Moltech Invent Sa | Aluminiumreduksjonscelle. |
US4631121A (en) * | 1986-02-06 | 1986-12-23 | Reynolds Metals Company | Alumina reduction cell |
US4919782A (en) * | 1989-02-21 | 1990-04-24 | Reynolds Metals Company | Alumina reduction cell |
US5129998A (en) * | 1991-05-20 | 1992-07-14 | Reynolds Metals Company | Refractory hard metal shapes for aluminum production |
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