JPS59202410A - 光走査装置 - Google Patents
光走査装置Info
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- JPS59202410A JPS59202410A JP7732083A JP7732083A JPS59202410A JP S59202410 A JPS59202410 A JP S59202410A JP 7732083 A JP7732083 A JP 7732083A JP 7732083 A JP7732083 A JP 7732083A JP S59202410 A JPS59202410 A JP S59202410A
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- Japan
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- holographic lens
- light
- holographic
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1876—Diffractive Fresnel lenses; Zone plates; Kinoforms
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/106—Scanning systems having diffraction gratings as scanning elements, e.g. holographic scanners
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Lenses (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、ホログラフィック・レンズに依り、特にｆ
θレンズの機能を有するホログラフィック・レンズに関
する。
θレンズの機能を有するホログラフィック・レンズに関
する。
従来プリンタ装置゛においては、回転多面釧、で反射さ
れたレーザ・ビームを感光体面に収束するレンズとして
ｆθレンズが用いられている。このｆθレンズは、感光
体面に微小レーザ・スポットを形成し、回転体面鏡でレ
ーザ・ビームが反射され偏向されたとしてもその微小ス
ポットの径が変化せず、しかもこのビーム・スポットが
その感光体面上を直線的に移動し、更にその移動速度が
常に一定であることが要求されている。
れたレーザ・ビームを感光体面に収束するレンズとして
ｆθレンズが用いられている。このｆθレンズは、感光
体面に微小レーザ・スポットを形成し、回転体面鏡でレ
ーザ・ビームが反射され偏向されたとしてもその微小ス
ポットの径が変化せず、しかもこのビーム・スポットが
その感光体面上を直線的に移動し、更にその移動速度が
常に一定であることが要求されている。
ｆθレンズは、このような要求に応じて設計されるが、
このような要求を充足するｆθレンズは、通常３枚から
４枚の組合せレンズとなシ、レンズ系がｈ価となシまた
、大型となる問題が指摘されている。
このような要求を充足するｆθレンズは、通常３枚から
４枚の組合せレンズとなシ、レンズ系がｈ価となシまた
、大型となる問題が指摘されている。
この発明は、上記のような事情に鑑みなされタモのであ
って、小型且つ安価なｆθレンズの機能を有するホログ
ラフィック・レンズを提供スることにある。
って、小型且つ安価なｆθレンズの機能を有するホログ
ラフィック・レンズを提供スることにある。
以下図面を浴部しながら、この発明のホログラフィック
・レンズの一実施例を説明する。
・レンズの一実施例を説明する。
第１図及び第２図には、この発明の一実施例に、係るホ
ログラフィック・レンズの結像関係が示されている。ホ
ログラフィック・レンズ２は、第１図及び第２図に示さ
れるように被走査面４例えば、複写機の感光面と物点即
ち光点Ｐ１例えば、（ロ）軌条面鏡の光反射面上のレー
ザ・ビーム集束点との間の光軸３上に配列され、ホログ
ラフィック・レンズ２と被走査面４との間がＬに設定さ
れ、ホログラフィック・レンズ２と光点Ｐ、との間がｆ
ｌに設定されている。このホログラフィック・レンズ２
には、後に詳述するような製造方法によって所定の干渉
縞が形成されていることから、光点Ｐｌから発ぜられた
レーザ・ビームは、被走査面４上に集束され、集束され
たビームで被走査面４が走査される。即ち、ｙｚ平面内
においては、光点Ｐ、がら発せられたレーザ・ビーム６
は、ホログラフィック・レンズ２（Ｄ所定領域Ｙ、ｙ２
内に入射され、ホログラフィック・レンズ２によって回
折され、被走査面４上に集束される。ここで、ホログラ
フィック・レンズ２に集束されるレーザ・ビーム６は、
あたかも所足の点８上から発せられ、被走査面４上−の
ビーム・スポットに直進するように回折されることとな
る。この点８の位置は、走査面４から距離ｆ２及びホロ
グラフィック・レンズ２から距離ｆ３に設定される。ま
た、所定領域Ｙ、Ｙ２は、光点ｐｌがＹ方向に偏位する
ことを考繊して定められている。即ち、゛回転多面鏡の
光反射面は、通常ＸＹ平面内にあるが、この多面鉾の反
射面が回転に伴いわずかに±２方向にだおれてレーザ・
ビームが偏向されたとしても、領ｈｉＹＩＹ２内に入射
されている限りにおい゛てかならず被走査面４上に集束
され、微小ビーム・スポットがこの被走査面上に形ルｙ
２されるようにこの領域ｙ、ｙ２内にＨ「定の干渉縞が
形成されている。第２図に示されるようにＹ２平面内に
おいては、光点Ｐｌから発散されたレーザ・ビーム６は
、回転多面鏡の回転に伴って一定の角速度で角θ内を偏
向される。従って、レーザ・ビーム６は、ホログラフィ
ック・レンズ２の所定領域Ｘｉ Ｘｚ内に入射し、回折
によって被走査面４上に集束される。その結呆、被走査
面４は、ビーム・スポットによってＸ３ Ｘ４の範囲が
直線的に走査される。この被走査面４は、あたかも点Ｐ
２においてレーザ・ビームが振られたと同様に走査され
ることとなる。
ログラフィック・レンズの結像関係が示されている。ホ
ログラフィック・レンズ２は、第１図及び第２図に示さ
れるように被走査面４例えば、複写機の感光面と物点即
ち光点Ｐ１例えば、（ロ）軌条面鏡の光反射面上のレー
ザ・ビーム集束点との間の光軸３上に配列され、ホログ
ラフィック・レンズ２と被走査面４との間がＬに設定さ
れ、ホログラフィック・レンズ２と光点Ｐ、との間がｆ
ｌに設定されている。このホログラフィック・レンズ２
には、後に詳述するような製造方法によって所定の干渉
縞が形成されていることから、光点Ｐｌから発ぜられた
レーザ・ビームは、被走査面４上に集束され、集束され
たビームで被走査面４が走査される。即ち、ｙｚ平面内
においては、光点Ｐ、がら発せられたレーザ・ビーム６
は、ホログラフィック・レンズ２（Ｄ所定領域Ｙ、ｙ２
内に入射され、ホログラフィック・レンズ２によって回
折され、被走査面４上に集束される。ここで、ホログラ
フィック・レンズ２に集束されるレーザ・ビーム６は、
あたかも所足の点８上から発せられ、被走査面４上−の
ビーム・スポットに直進するように回折されることとな
る。この点８の位置は、走査面４から距離ｆ２及びホロ
グラフィック・レンズ２から距離ｆ３に設定される。ま
た、所定領域Ｙ、Ｙ２は、光点ｐｌがＹ方向に偏位する
ことを考繊して定められている。即ち、゛回転多面鏡の
光反射面は、通常ＸＹ平面内にあるが、この多面鉾の反
射面が回転に伴いわずかに±２方向にだおれてレーザ・
ビームが偏向されたとしても、領ｈｉＹＩＹ２内に入射
されている限りにおい゛てかならず被走査面４上に集束
され、微小ビーム・スポットがこの被走査面上に形ルｙ
２されるようにこの領域ｙ、ｙ２内にＨ「定の干渉縞が
形成されている。第２図に示されるようにＹ２平面内に
おいては、光点Ｐｌから発散されたレーザ・ビーム６は
、回転多面鏡の回転に伴って一定の角速度で角θ内を偏
向される。従って、レーザ・ビーム６は、ホログラフィ
ック・レンズ２の所定領域Ｘｉ Ｘｚ内に入射し、回折
によって被走査面４上に集束される。その結呆、被走査
面４は、ビーム・スポットによってＸ３ Ｘ４の範囲が
直線的に走査される。この被走査面４は、あたかも点Ｐ
２においてレーザ・ビームが振られたと同様に走査され
ることとなる。
第１図及び第２図に示した結傳゛関係から座標ｘｌ、ｙ
、及びＸ３ 、Ｙ３のＸｔ 、ｘ３について次式（１）
〜（３）が成立する。
、及びＸ３ 、Ｙ３のＸｔ 、ｘ３について次式（１）
〜（３）が成立する。
Ｘ１＝ｆ１−θ１ ・・・・・・ （１）Ｘ３＝ｆ
２−θ２ ・・・・・・ （２）Ｘ３＝Ｌ論θ２＋
Ｘ！ ・・・・・・ （３ｆまた、レーザ・ビームが一
定の角速度で振られる為には、同様に次式が成立する。
２−θ２ ・・・・・・ （２）Ｘ３＝Ｌ論θ２＋
Ｘ！ ・・・・・・ （３ｆまた、レーザ・ビームが一
定の角速度で振られる為には、同様に次式が成立する。
Ｘ３＝Ａｘｆ１×θｔ −−（４）
ここで、Ａは定数である。
式（す〜（４）から次式が成立し、距離ｆ、、ｆ３は、
次式を充足するように定められる。
次式を充足するように定められる。
及び
ここで、ｆ ａ ）０’ 、 ＸＩ ＞Ｏであれは、が
成立する。
成立する。
上述した式から明らかなように、角θｌが大きい程Ｘ、
が大きく、しかもｆ２が大きいこととなる。
が大きく、しかもｆ２が大きいこととなる。
上述したホログラフィック・レンズ２は、次のように製
造される。ホログラフィック・レンズ２に形成されるべ
き写真乾板１０が第３図及び第４図に示すように光軸３
に配列され、この写真乾板ノ０には、集束レンズ１２か
ら参照光１４で照射される。この集束レンズ１２は、光
軸３上の点Ｐｌからｙ方向にΔｙだけ偏位した点Ｐ１′
に向けて参照光を集束している。また、写真乾板１０は
、第３図に示すようにＹＺ平回内において発散され、第
４図に示すようにＸｚ平面内において点Ｐ、に集束する
物体光１６で照射される。このような物体光Ｊ６は、一
般の球面レンズによって形成することはむずかしく非球
面レンズ等によって実現される。即ち、物体光を照射す
るレンズ系は、集束レンズ１８及びシリンドリカル凸レ
ンズ２０から成υ、第３図に示すようにＹＺ平面内にお
いて被走査面の位置に置れたスリット２２に物体光１６
を集束し、このスリット２２内の集束点から発散する物
体光Ｊ６で写真乾板１０が照射される。また、このレン
ズ系は、第４図に示すようにＹＺ平面内においては物体
光１６を点Ｐ２に向けて集束している。写真乾板１０上
では、物体光ノロと参照光とが互に干渉してその写真乾
板には、干渉縞が潜像として形成される。この写真乾板
を現像することによって第１図及び第２図に示すホログ
ラフィック・レンズ２が製造される。このようにして製
造されたホログラフィック・レンズ２によれば、点Ｐｌ
′に光点を位置させることによって被走査面４がレーザ
・ビームで走置される。
造される。ホログラフィック・レンズ２に形成されるべ
き写真乾板１０が第３図及び第４図に示すように光軸３
に配列され、この写真乾板ノ０には、集束レンズ１２か
ら参照光１４で照射される。この集束レンズ１２は、光
軸３上の点Ｐｌからｙ方向にΔｙだけ偏位した点Ｐ１′
に向けて参照光を集束している。また、写真乾板１０は
、第３図に示すようにＹＺ平回内において発散され、第
４図に示すようにＸｚ平面内において点Ｐ、に集束する
物体光１６で照射される。このような物体光Ｊ６は、一
般の球面レンズによって形成することはむずかしく非球
面レンズ等によって実現される。即ち、物体光を照射す
るレンズ系は、集束レンズ１８及びシリンドリカル凸レ
ンズ２０から成υ、第３図に示すようにＹＺ平面内にお
いて被走査面の位置に置れたスリット２２に物体光１６
を集束し、このスリット２２内の集束点から発散する物
体光Ｊ６で写真乾板１０が照射される。また、このレン
ズ系は、第４図に示すようにＹＺ平面内においては物体
光１６を点Ｐ２に向けて集束している。写真乾板１０上
では、物体光ノロと参照光とが互に干渉してその写真乾
板には、干渉縞が潜像として形成される。この写真乾板
を現像することによって第１図及び第２図に示すホログ
ラフィック・レンズ２が製造される。このようにして製
造されたホログラフィック・レンズ２によれば、点Ｐｌ
′に光点を位置させることによって被走査面４がレーザ
・ビームで走置される。
上述した物体光１６及び参照光１４は、夫々写真乾板１
０上で次のような波ｍ１を有することが要求される。こ
こで、Ｂは、物体光の波面をまた、Ｃは参照光の波面を
示し、時間の１１、ｉ数の項は省略して示されている。
０上で次のような波ｍ１を有することが要求される。こ
こで、Ｂは、物体光の波面をまた、Ｃは参照光の波面を
示し、時間の１１、ｉ数の項は省略して示されている。
但し、
λは、レーザ・ビームの波長、ＢＯ＋δ１．δ２は夫々
定数を示している。
定数を示している。
また、
但し、ｃｏ及びδ３は定数である。
（６ン式及び（７）式でホログラフィック・レンズ２上
の干渉縞を干渉の強さ即ち、光強度■ｏで表わせば、下
記式で表わされる。
の干渉縞を干渉の強さ即ち、光強度■ｏで表わせば、下
記式で表わされる。
Ｉ ｏ ＝ ｌ Ｂ＋Ｃ１２・・曲（８）（８）式を展
開して（９）式が荀られる。
開して（９）式が荀られる。
Ｉｏ ＝Ｂ ＋ Ｃ＋ Ｂ Ｃ＋ Ｃ＊Ｂ −−−
（９）ここで、＊は共役を表わしている。ホログラムを
再生する場合には、点Ｐ′ｌがらレーザ・ビームをホロ
グラフィック・レンズ２上に黒射し、Ｃで表わされる波
面をその上に形成すると、ホログラフィック・レンズ２
上では、回折によってＢの波面に変換されることとなる
。従って、（９）式の第４項で表わされる干渉縞或は、
第４項及び他の項を含む干渉縞がホログラフィック２上
に形成されることが要求される。
（９）ここで、＊は共役を表わしている。ホログラムを
再生する場合には、点Ｐ′ｌがらレーザ・ビームをホロ
グラフィック・レンズ２上に黒射し、Ｃで表わされる波
面をその上に形成すると、ホログラフィック・レンズ２
上では、回折によってＢの波面に変換されることとなる
。従って、（９）式の第４項で表わされる干渉縞或は、
第４項及び他の項を含む干渉縞がホログラフィック２上
に形成されることが要求される。
上述のように製造されたホログラフィッ・レンズ２は、
第５図及び第６図に示されるような走査装置に適用され
る。ホログラフィック・レンズ２を適用したスキャナー
においては、レンズ・ホログラム２にその中心領域から
その周辺領域に亘って一定の大きさ即ち、径を有するレ
ーザ・ビームが入射されると、被走査面３θ上に形成さ
れるビーム・スポットの大きさが変化し、被走査面３θ
上に一定の解像力で像が形成されない慮れがあシ、また
ビーム・スポットの光強度が異なシ、不所望な明暗が形
成された像に生ずる虞れがある。このような不所望な事
態を除去すべく、この発明の一実旋例に係るスキャナー
では、ホログラフィック・レンズ２（Ｌ）ある領域に入
射されるレーザ・ビームの大きす及び光強度をその領域
に応じてＷＪｉｊ ’Ｚするようにしている。即ち、第
５図に示されるように走査装置は、レーザビームの大き
さ及び光強度を調整する為の多数のスリット２４を有す
る回転円板２６及びビームの形状を成形し、その向きを
変える光学系２８〜３８を備えている。回転円板２６は
、回転多面鏡４０と一体的に回転されるように回転軸４
４を介して多面鏡４０に連結され、この回転円板２６に
は、第６図に示すように回転多面鏡４０の光反射面の数
に対応した数のスリット２４が同一円周に沿って穿けら
れている。各スリット２４は、図示するようにその幅の
広い中心領域では比較的大きな幅のビームを透過し、そ
の幅の狭い周辺領域では小さな幅のビームを透過可能に
三日月形に形成され、その光透過率が中心領域では低く
、周辺に向うに従って大きくなるように設定されている
。
第５図及び第６図に示されるような走査装置に適用され
る。ホログラフィック・レンズ２を適用したスキャナー
においては、レンズ・ホログラム２にその中心領域から
その周辺領域に亘って一定の大きさ即ち、径を有するレ
ーザ・ビームが入射されると、被走査面３θ上に形成さ
れるビーム・スポットの大きさが変化し、被走査面３θ
上に一定の解像力で像が形成されない慮れがあシ、また
ビーム・スポットの光強度が異なシ、不所望な明暗が形
成された像に生ずる虞れがある。このような不所望な事
態を除去すべく、この発明の一実旋例に係るスキャナー
では、ホログラフィック・レンズ２（Ｌ）ある領域に入
射されるレーザ・ビームの大きす及び光強度をその領域
に応じてＷＪｉｊ ’Ｚするようにしている。即ち、第
５図に示されるように走査装置は、レーザビームの大き
さ及び光強度を調整する為の多数のスリット２４を有す
る回転円板２６及びビームの形状を成形し、その向きを
変える光学系２８〜３８を備えている。回転円板２６は
、回転多面鏡４０と一体的に回転されるように回転軸４
４を介して多面鏡４０に連結され、この回転円板２６に
は、第６図に示すように回転多面鏡４０の光反射面の数
に対応した数のスリット２４が同一円周に沿って穿けら
れている。各スリット２４は、図示するようにその幅の
広い中心領域では比較的大きな幅のビームを透過し、そ
の幅の狭い周辺領域では小さな幅のビームを透過可能に
三日月形に形成され、その光透過率が中心領域では低く
、周辺に向うに従って大きくなるように設定されている
。
上述したような光学系においては、レーザ装置（図示せ
ず）から発せられたレーザ・ビームは、シリンドリカル
・レンズ２８及びコリメータ・レンズ３０によって回転
円板２６の半径方向に細長く延びる平行光束に変換され
、回転円板２６のスリット２４に照射される。このスリ
ット２４によってビームの幅が調整され、幅の調整され
たビームは、シリンドリカル・レンズ３２によって再び
ビーム成形され、ミラー３４及び３６を介して集束レン
ズ３８によって回転多面鏡４０の光反射面に集束される
。この光反射面の中心領域は、スリット２４の中心領域
に対応し、その周辺領域がスリット２４の周辺領域に対
応するように回転多面鏡４０と回転円板２６とが所定の
配置関係にあることから、スリット２４の中心領域を通
過したレーザ・ビームは、光反射面上に比較的大きな光
点即ち、ビーム・スポットを形成し、スリット２４の周
辺領域を通過したレーザ・ビームは、光反射面上に小さ
な光点を形成することとなる。
ず）から発せられたレーザ・ビームは、シリンドリカル
・レンズ２８及びコリメータ・レンズ３０によって回転
円板２６の半径方向に細長く延びる平行光束に変換され
、回転円板２６のスリット２４に照射される。このスリ
ット２４によってビームの幅が調整され、幅の調整され
たビームは、シリンドリカル・レンズ３２によって再び
ビーム成形され、ミラー３４及び３６を介して集束レン
ズ３８によって回転多面鏡４０の光反射面に集束される
。この光反射面の中心領域は、スリット２４の中心領域
に対応し、その周辺領域がスリット２４の周辺領域に対
応するように回転多面鏡４０と回転円板２６とが所定の
配置関係にあることから、スリット２４の中心領域を通
過したレーザ・ビームは、光反射面上に比較的大きな光
点即ち、ビーム・スポットを形成し、スリット２４の周
辺領域を通過したレーザ・ビームは、光反射面上に小さ
な光点を形成することとなる。
しかも、シリンドリカル・レンズ３２がレーザ・ビーム
光路上に設けられ集束レンズ３８に入射するレーザ・ビ
ームは、回転多面鏡４０の光反射面の短辺方向即ち、回
転軸方向に広ろがっている光束であることから、光反射
面上の光点は、回転多面鏡４０の回転軸方向に妙びる長
軸を有するスポットに形成される。上述のように回転多
面鏡４０及び回転円板２６が回転するに伴って光反射面
上で光点の大きさが変化し、その光強度が変化され、し
かもこの光点から発せられる発散光束の主光線の方向が
変化される。
光路上に設けられ集束レンズ３８に入射するレーザ・ビ
ームは、回転多面鏡４０の光反射面の短辺方向即ち、回
転軸方向に広ろがっている光束であることから、光反射
面上の光点は、回転多面鏡４０の回転軸方向に妙びる長
軸を有するスポットに形成される。上述のように回転多
面鏡４０及び回転円板２６が回転するに伴って光反射面
上で光点の大きさが変化し、その光強度が変化され、し
かもこの光点から発せられる発散光束の主光線の方向が
変化される。
従って、レーザ・ビームが反射面で偏向されるにつれて
ホログラフィック・レンズ２８の中心領域では、Ｙ方向
に広がり、比較的大きな光束が投射され、その周辺領域
Ｙ方向に広がυ、比較的小さな光束が投射されることと
なる。ホログラフィック・レンズ２の中心領域に入射さ
れた光束は、回折によって十分に集束されて被走査面４
上にビーム・スポットを形成し、同様にレンズ・ホログ
ラム２の周辺領域に入射された光束は、比較小さな集束
度で集束され、被走査面４上に中心領域のものと同一の
大きさのビーム・スポットを形成する。光点の大きさに
応じて光強度が異なることから、被走査面４上のビーム
・スポットの光強度は、略同−に保たれることとなる。
ホログラフィック・レンズ２８の中心領域では、Ｙ方向
に広がり、比較的大きな光束が投射され、その周辺領域
Ｙ方向に広がυ、比較的小さな光束が投射されることと
なる。ホログラフィック・レンズ２の中心領域に入射さ
れた光束は、回折によって十分に集束されて被走査面４
上にビーム・スポットを形成し、同様にレンズ・ホログ
ラム２の周辺領域に入射された光束は、比較小さな集束
度で集束され、被走査面４上に中心領域のものと同一の
大きさのビーム・スポットを形成する。光点の大きさに
応じて光強度が異なることから、被走査面４上のビーム
・スポットの光強度は、略同−に保たれることとなる。
ホログラフィック・レンズ２を通過する光束には、回折
されず直進される成分が含まれるが、この成分は、ホロ
グラフィック・レンズ２と被走査面４間に設けられた遮
光板４２によって遮光されることとなる。
されず直進される成分が含まれるが、この成分は、ホロ
グラフィック・レンズ２と被走査面４間に設けられた遮
光板４２によって遮光されることとなる。
第５図及び第６図の実施例にあっては、被走査面４は、
常に同一サイズ且つ同一の光強度を有するビーム・スポ
ットで走査されることから、その面上に形成される像は
、十分な解像力で、しかも明暗のむらをなしに丙現する
ことがそきる。
常に同一サイズ且つ同一の光強度を有するビーム・スポ
ットで走査されることから、その面上に形成される像は
、十分な解像力で、しかも明暗のむらをなしに丙現する
ことがそきる。
上述した実施例において、例えば、レーザー光発振器と
しては）Ｉｅ−Ｎｅレーザーを用い、写真乾板としては
８Ｅ７５ＨＤを用い、３０ｃｎ１φの大口径非球面レン
ズ、３０ｃｒｎのシリンドリカルレンズを用いて、Ａ＝
３、ｆ１＝２００ｗｎ、 Ｌ ＝４００ｒｍｎ、スリッ
ト幅０．１ ａｍとしてホログラフィック・レンズを作
製し、光束を±１２°の範囲で振ることによシ大きさ０
．１ ｔｒａｎの均一なスポットで２５０簡の範囲を走
査することができた。
しては）Ｉｅ−Ｎｅレーザーを用い、写真乾板としては
８Ｅ７５ＨＤを用い、３０ｃｎ１φの大口径非球面レン
ズ、３０ｃｒｎのシリンドリカルレンズを用いて、Ａ＝
３、ｆ１＝２００ｗｎ、 Ｌ ＝４００ｒｍｎ、スリッ
ト幅０．１ ａｍとしてホログラフィック・レンズを作
製し、光束を±１２°の範囲で振ることによシ大きさ０
．１ ｔｒａｎの均一なスポットで２５０簡の範囲を走
査することができた。
以上のように、この発明によれば、安価且つ小型なｆθ
レンズの機能を有するホログラフィック・レンズを提供
することができる。
レンズの機能を有するホログラフィック・レンズを提供
することができる。
第１図及び第２図は、この発明り一実施例に係る字ログ
ラフイック・レンズの原理を示す説明図、第３図及び第
４図は、第１図及び第２図に示されたホログラフィック
・レンズを製造する為の光学系を示す概略図、及び第５
図及び第６図は、この発明のホログラフィック・レンズ
が適用される走査装置を示す斜視図及び一部破断乎面図
である。 ・・・コリメータ・レンズ、２０・・・シリンドリカル
・レンズ、２２・・・スリット、２１１．．９２・・・
シリンドリカル・レンズ、３０・・・コリメータ・レン
ズ、３４ 、３６・・・反射鏡、３８・・・集束レンズ
、４０・・・回転多面鏡、４２・・・遮光板。
ラフイック・レンズの原理を示す説明図、第３図及び第
４図は、第１図及び第２図に示されたホログラフィック
・レンズを製造する為の光学系を示す概略図、及び第５
図及び第６図は、この発明のホログラフィック・レンズ
が適用される走査装置を示す斜視図及び一部破断乎面図
である。 ・・・コリメータ・レンズ、２０・・・シリンドリカル
・レンズ、２２・・・スリット、２１１．．９２・・・
シリンドリカル・レンズ、３０・・・コリメータ・レン
ズ、３４ 、３６・・・反射鏡、３８・・・集束レンズ
、４０・・・回転多面鏡、４２・・・遮光板。
Claims (5)
- （１）その面上で下記式で規定される波面Ｃを有する光
束が入射されると、少なくとも下記式で規定される波面
Ｂを有する光束を射出する干渉縞が形成されていること
を％徴とするホログラフィック・レンズ。 ＢＯ＋δ１．δ２１ＣＧ及びδ３は定数であって、Ｙ’
４． Ｘ、、 Ｘ、 ｆｄ、夫々ホログラフ−イック・
レンズを直角に通るＺ軸とした場合のＸ’Ｙ平面上の座
標であって、Ｙ′、は、光点のＹ座、標、Ｘ、は、干渉
縞が形成されるべきホログラフィック・レンズ上のＸ座
標、δ、は、光点とホログラフィック・レンズとの２軸
上の距離、Ｌはホログラフィック・レンズと被走査面と
の２軸上の距離及びｆ３は、ホログラフィック・レンズ
と所定点間の２軸上の距離を表わしている。 - （２）少なくともＣ＊Ｂで規定される干渉縞を含むこと
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載のホログラフィ
ック・レンズＣ - （３） 少なくともＢ＊Ｃ十〇＊Ｂで規定される干渉
縞を含むことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
ホログラフィック・レンズ。 - （４） １ｍ＋ｃ１２で規定される干渉縞を有するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のホログラフ
ィック・レンズ。 - （５）写真乾板上で下記式で表わされる波面Ｂを有する
物体光及び下記式で表わされる波面Ｃを有する参照光を
写真乾板に黒射して干渉縞を形成することを特徴とする
ホログラフィック・レンズの製造方法。 ここで、Ｋ−テＹでって、λは光束の波長、ＢＯ１δ７
．δ２１ＣＧ及びδ３は定数であって、Ｙ’４．Ｘｌ、
Ｘ、は、夫々ホログラフィック・レンズを直角に通るＺ
軸とした場合のＸＹ平面上の座標であって、Ｙ′、は光
点のＹ座標、Ｘ、は、干渉縞が形成されるべきホログラ
フィック・レンズ上のＸ座標、ｆ、は、光点とホログラ
フィック・レンズとの２軸上の距離、Ｌはホログラフィ
ック・レンズと被走査面との２軸上の距離及びｆうけ、
ホログラフィック・レンズと所定点間との２軸上の距離
を表わしている。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7732083A JPS59202410A (ja) | 1983-04-30 | 1983-04-30 | 光走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7732083A JPS59202410A (ja) | 1983-04-30 | 1983-04-30 | 光走査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59202410A true JPS59202410A (ja) | 1984-11-16 |
| JPH0356611B2 JPH0356611B2 (ja) | 1991-08-28 |
Family
ID=13630637
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7732083A Granted JPS59202410A (ja) | 1983-04-30 | 1983-04-30 | 光走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59202410A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5039183A (en) * | 1989-09-05 | 1991-08-13 | Eastman Kodak Company | Holographic laser scanner |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5029048A (ja) * | 1973-07-18 | 1975-03-24 | ||
| JPS5051748A (ja) * | 1973-09-07 | 1975-05-08 |
-
1983
- 1983-04-30 JP JP7732083A patent/JPS59202410A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5029048A (ja) * | 1973-07-18 | 1975-03-24 | ||
| JPS5051748A (ja) * | 1973-09-07 | 1975-05-08 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5039183A (en) * | 1989-09-05 | 1991-08-13 | Eastman Kodak Company | Holographic laser scanner |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0356611B2 (ja) | 1991-08-28 |
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