JPS5919200B2 - 電解エツチング方法 - Google Patents

電解エツチング方法

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Publication number
JPS5919200B2
JPS5919200B2 JP14202177A JP14202177A JPS5919200B2 JP S5919200 B2 JPS5919200 B2 JP S5919200B2 JP 14202177 A JP14202177 A JP 14202177A JP 14202177 A JP14202177 A JP 14202177A JP S5919200 B2 JPS5919200 B2 JP S5919200B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
insulating frame
processed
frame
electrolytic
etching method
Prior art date
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Expired
Application number
JP14202177A
Other languages
English (en)
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JPS5475439A (en
Inventor
健一 田村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority to JP14202177A priority Critical patent/JPS5919200B2/ja
Publication of JPS5475439A publication Critical patent/JPS5475439A/ja
Publication of JPS5919200B2 publication Critical patent/JPS5919200B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、アルミニウム又はアルミニウム合金等より
成る非連続被処理物の片面のみを電解エッチングする方
法に関するものである。
従来、上記のような材料より成る被処理物の片面のみに
電解エッチングを施す場合、反対側の面を絶縁物などで
被覆した被処理物を陽極とし、これに対向配置した陰極
板との間に、電解液中で通電する方法や、被処理物を2
枚合せにしてこれを陽極とし、陰極板を対向配置して電
解液中で通電する方法が採られている。
ところが、このような方法では、被処理物に直接接点を
とるため、接点跡が残り、また接触不良を起し易いとい
う問題のほか、非連続物の多数処理を行なう場合、個々
の被処理物に接点をとらなければならないので、処理方
法及び装置が複雑化するという問題が生じていた。
この発明は、上記のような問題点を解消し、非連続被処
理物の片面のみを効率よく電解エッチングする方法を提
供するものである。
以下、この発明の実施例を添付図面に基づいて説明する
第1図は、この発明の原理を示す。
図示のようにアルミニウム、ステンレス等より成る陽極
板、と陰極板2を電解槽3の中に対向配置し、さらに被
処理物Aを装着した絶縁枠4を、被処理物Aが陰極板2
と向き合うよう、両極板間に置き、塩化アンモニウム、
塩化ナトリウム等のハロゲン化物の水溶液を電解液とし
、両極板間に通電を行なうと、前記絶縁枠4の開口5を
通して、被処理物Aに間接通電され、陰極板2に向き合
つた面のみがエッチングされることになる。
上記のように、被処理物を支持する絶縁枠を用いて、間
接通電によるエッチングを行なうことにより、被処理物
に接点をとる必要がなくなると同時に、絶縁枠を被処理
物の支持体またはカセットとして利用することができる
ので、連続処理に好適な方法といえる。
ところが、第1図のように、被処理物Aを絶縁枠4でほ
ゞ垂直に支持する場合、被処理物の落下及び転倒を防止
するため、保持具を絶縁枠4に設けておく必要があυ、
また絶縁枠4に対する被処理物の取わ付け、取サ外しを
機械化するに当つても、機構が複雑になり、さらに多数
の絶縁枠を例えばガイドレールに吊り下げて連続処理を
行なう場合にも、絶縁枠を循環運行させる機構が複雑に
なつてくる。
そこで、第2図のように、電極板及び絶縁枠の関係を横
(上下)にすると、上に述べた問題が全て解決される。
即ち、電解槽10の内部に、陰極板20と絶縁枠30及
び陽極板40を順次上から配置し、電解液B中で通電を
行なうのである。
前記絶縁枠30は、第3図に示すように、凹所31と、
この凹所内に設けられた開口32を有しており、被処理
物Aは、上記凹所31によつて保持される。
被処理物Aの形状は、図示のような平板状のものに限ら
ず、皿状或はその他の形状であつてもよい。
一方、凹所31の形状は、被処理物Aの外形と相似形で
あることが好ましいが、被処理物をがたつきなく保持で
きればそれに限定されない。
さらに、開口32を複数個形成してもよく、開口32に
代え多数の小孔群を設けてもよい。前記絶縁枠30に、
被処理物を複数個装着することができる。その場合には
、被処理物と同数の凹所31及び開口32を形成すれば
よい。また、絶縁枠30の外形も任意である。なお、絶
縁枠30は、完全に水平に支持する必要はない。
被処理物Aが凹所31から脱落しない程度の傾斜を持た
せてもよい。第4図及び第5図は、上記のような方法を
利用して被処理物を連続的に電解エツチングする場合の
一例を示している。
図示のように、適当な長さの電解槽10の内部には、陰
極板20と陽極板40が上下に配置されており、この中
間部に、槽10を長さ方向に貫通するガイドレール33
,33′が取り付けられている。
このガイドレールには、多数の絶縁枠30が互に接する
よう載置されており、レールに沿つて順次槽内を通過す
るようになつている。レール33,335の構成は、例
えば、第2図のように、絶縁枠30の両側縁を支持する
ようなものでもよく、或は第5図のように、両側縁より
かなり内側を支持するようにしてもよい。
また、レールから脱落しないよう、絶縁枠30に溝又は
突条を設けてレールと係合させておくことができる。さ
らに、絶縁枠30がスムーズに移動できるよう、枠30
又はレール33,33Iのいずれかにロールを取り付け
ておいてもよい。前記レール33,335は、槽10の
外部まで突出しており、槽10に設けた入口11から絶
縁枠30が槽内に導入され、出口12から槽外へ取り出
される。
以上のように、被処理物Aを絶縁枠30に装着し、ガイ
ドレール33,335に沿つて順次電解槽10内に送り
込むことにより、非連続被処理物の連続処理が可能とな
る。
なお、槽10の入口11と出口12からの漏液分を受け
るタンク13及び14をそれぞれ設け、ポンプ50によ
り槽10内へ環流させておくのがよい。
また、入口11と出口12からの漏液をできるだけ少な
くするようゴムフラツプ15等を取り付けておくことが
できる。さて、前記絶縁枠30を自動的に循環運行させ
ると、上記の連続処理がさらに効率よく行なわれること
は明らかである。
以下、その方法を説明する。第5図に示すように、商記
レール33,3′fに並行するレール34,34を槽1
0の外部に設け、このレールには空の絶縁枠30を多数
整列させておく。
そこで、まず先頭の枠30に被処理物Aを装着し、この
枠を隣接のレール33,33′に載置して、槽10の方
向に押し込むと、レール33,33′上の多数の枠30
は、枠1個分だけ矢印方向に移動し、先頭の枠が槽外に
押し出される。
この枠には処理済の被処理物が保持されているので、こ
れを取り外し、枠を隣のレール34,31に載せて押し
込むと、レール34,31上の空の枠が1個分だけ移動
する。この操作を繰り返すと、絶縁枠は循環運行される
この発明によれば、以上のように、間接通電方式を採用
したので、被処理物の片面のみを均一にエツチングする
ことができ、接点跡も残らず、また被処理物に当てがう
絶縁枠を被処理物の支持体として利用することができる
ので、連続処理に好適な方法となる。
さらに、絶縁枠を水平方向に配置して処理を行なうよう
・にしたので、被処理物の保持構造及び脱着機構を簡素
化することができる。
そのほか、絶縁枠を循環運行させる際にも、縦型に比較
して簡単な機構で足りる等の多くの利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の原理を示す線図、第2図はこの発明
の方法を示す線図、第3図は絶縁枠の斜視図、第4図は
連結処理方法を示す長さ方向縦断面図、第5図は同上の
一部省略平面図である。 10・・・電解槽、11・・・入口、12・・・出口、
20・・・陰極板、30・・・絶縁枠、31・・・凹所
、32・・・開口、33,335,34,34′・・・
ガイドレール、40・・・陽極板。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 電解槽内に陰極板と陽極板を上下に配置し、この両
    極板間に、1以上の開口を有する絶縁枠を横向きに配置
    して、この枠上面に被処理物を載せ、電解液中で通電す
    ることを特徴とする電解エッチング方法。 2 電解液を収納した電解槽内に、陰極板と陽極板を上
    下に配置し、この両極間に通電しながら、1以上の開口
    を有する絶縁枠上に載置した被処理物を横向きにして連
    続的に通過させることを特徴とする電解エッチング方法
    。 3 前記絶縁枠は、その上面に凹所を有し、この凹所内
    に被処理物を保持するようにしたことを特徴とする特許
    請求の範囲第1項又は第2項に記載の電解エッチング方
    法。
JP14202177A 1977-11-26 1977-11-26 電解エツチング方法 Expired JPS5919200B2 (ja)

Priority Applications (1)

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JP14202177A JPS5919200B2 (ja) 1977-11-26 1977-11-26 電解エツチング方法

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Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5475439A JPS5475439A (en) 1979-06-16
JPS5919200B2 true JPS5919200B2 (ja) 1984-05-02

Family

ID=15305512

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JPS5475439A (en) 1979-06-16

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