JPS5934800B2 - 電解エツチング方法及び装置 - Google Patents
電解エツチング方法及び装置Info
- Publication number
- JPS5934800B2 JPS5934800B2 JP2113478A JP2113478A JPS5934800B2 JP S5934800 B2 JPS5934800 B2 JP S5934800B2 JP 2113478 A JP2113478 A JP 2113478A JP 2113478 A JP2113478 A JP 2113478A JP S5934800 B2 JPS5934800 B2 JP S5934800B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- workpiece
- insulating frame
- electrolytic
- etching
- conveyance path
- Prior art date
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- Expired
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- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、アルミニウム又はアルミニウム合金等より
成る非連続被処理物の片面のみに電解エッチングを施す
方法及び装置に関する。
成る非連続被処理物の片面のみに電解エッチングを施す
方法及び装置に関する。
上記のような材料から成る被処理物の片面のみに電解エ
ッチングを施す場合、反対側の面を絶縁物などで被覆し
た被処理物を陽極とし、これに対向配置した陰極板との
間に、電解液中で通電する方法や、被処理物を２枚合せ
にしてこれを陽極とし、陰極板を対向配置して電解液中
で通過する方法が採られている。
ッチングを施す場合、反対側の面を絶縁物などで被覆し
た被処理物を陽極とし、これに対向配置した陰極板との
間に、電解液中で通電する方法や、被処理物を２枚合せ
にしてこれを陽極とし、陰極板を対向配置して電解液中
で通過する方法が採られている。
ところが、このような方法では、被処理物に直接接点を
とるため、接点跡が残り、また接触不良を起し易いとい
う問題のほか、非連続物の多数処理を行なう場合、個々
の被処理物に接点をとらなければならないので、処理方
法及び装置が複雑になるという問題があつた。
とるため、接点跡が残り、また接触不良を起し易いとい
う問題のほか、非連続物の多数処理を行なう場合、個々
の被処理物に接点をとらなければならないので、処理方
法及び装置が複雑になるという問題があつた。
この発明は、上記のような問題を解決し、非処理物の片
面のみを効率よく連続的に電解エッチングする方法及び
装置を提供するものである。
面のみを効率よく連続的に電解エッチングする方法及び
装置を提供するものである。
以下、この発明の実施例を添付図面に基いて説明する。
第１図は、この発明の原理を示す。
第１図は、この発明の原理を示す。
図示のように、アルミニウム、ステンレス等より成る陽
極板１と陰極板２を、電解槽３の内部に対向配置し、被
処理物Ａを絶縁枠４に装着して、被処理物Ａｂ珍極板２
と向き合うよう絶縁枠４を両極板間に置き、塩化アンモ
ニウム等のハロゲン化物の水溶液を電解液Ｂとし、両極
間に通電を行なうと、前記絶縁枠４の開口５を通して、
被処理物Ａに間接通電され、陰極板２に向き合つた面の
みがエッチングされることになる。
極板１と陰極板２を、電解槽３の内部に対向配置し、被
処理物Ａを絶縁枠４に装着して、被処理物Ａｂ珍極板２
と向き合うよう絶縁枠４を両極板間に置き、塩化アンモ
ニウム等のハロゲン化物の水溶液を電解液Ｂとし、両極
間に通電を行なうと、前記絶縁枠４の開口５を通して、
被処理物Ａに間接通電され、陰極板２に向き合つた面の
みがエッチングされることになる。
上述のように、被処理物を支持する絶縁枠を用い、間接
通電によるエッチングを行なうことによつて、被処理物
に接点をとる必要がなくなると同時に、絶縁枠を被処理
物の支持体またはカセットとして利用することができる
ので、連続処理に好Ｊ 適な方法といえる。
通電によるエッチングを行なうことによつて、被処理物
に接点をとる必要がなくなると同時に、絶縁枠を被処理
物の支持体またはカセットとして利用することができる
ので、連続処理に好Ｊ 適な方法といえる。
ところが、第１図のように、被処理物Ａを絶縁枠でほゞ
垂直に支持する場合、被処理物の落下及び転倒を防止す
るための保持具を絶縁枠４に設けておく必要があり、ま
た絶縁枠４に対する被処理・ 物の取り付け、取り外し
を機械化するに当つても、機構が複雑になり、さらに、
多数の絶縁枠を例えばガイドレールに吊り下げて連続処
理を行なう場合にも、絶縁枠を循環運行させる機構が複
雑になつてくる。
垂直に支持する場合、被処理物の落下及び転倒を防止す
るための保持具を絶縁枠４に設けておく必要があり、ま
た絶縁枠４に対する被処理・ 物の取り付け、取り外し
を機械化するに当つても、機構が複雑になり、さらに、
多数の絶縁枠を例えばガイドレールに吊り下げて連続処
理を行なう場合にも、絶縁枠を循環運行させる機構が複
雑になつてくる。
そこで、第２図のように、電極板及び絶縁枠の関係を横
（上下）にすると、上に述べた問題が解決される。
（上下）にすると、上に述べた問題が解決される。
即ち、電解槽１０の内部に、陰極板１１絶縁枠２０及び
陽極板１２を順次上から下へ配置し、電解液Ｂ中で通電
を行なうのである。上記絶縁枠２０は、第２図及び第３
図のように、凹所２１と、この凹所内に設けられた開口
２２を有，し、前記被処理物Ａは、上記の凹所２１によ
つて保持される。被処理物Ａの形状は、図示のような平
板状のものに限らず、皿状或はその他の形状であつても
よい一方、凹所２１の形状は、被処理物Ａの外形と相似
形であることが好ましいが、被処理物をがたつきなく保
持できればそれに限定されない。
陽極板１２を順次上から下へ配置し、電解液Ｂ中で通電
を行なうのである。上記絶縁枠２０は、第２図及び第３
図のように、凹所２１と、この凹所内に設けられた開口
２２を有，し、前記被処理物Ａは、上記の凹所２１によ
つて保持される。被処理物Ａの形状は、図示のような平
板状のものに限らず、皿状或はその他の形状であつても
よい一方、凹所２１の形状は、被処理物Ａの外形と相似
形であることが好ましいが、被処理物をがたつきなく保
持できればそれに限定されない。
さらに、開口２２を複数個形成してもよく、開口２２に
代え多数の小孔群を設けてもよい。上記の絶縁枠２０（
ＦＣｌ複数の被処理物を装着することができる。その場
合には、被処理物と同数の凹所２１及び開口２２を設け
ればよい。第４図及び第５図は、上記のような方法を利
用して、被処理物を連続的にエツチングする装置を示し
ている。
代え多数の小孔群を設けてもよい。上記の絶縁枠２０（
ＦＣｌ複数の被処理物を装着することができる。その場
合には、被処理物と同数の凹所２１及び開口２２を設け
ればよい。第４図及び第５図は、上記のような方法を利
用して、被処理物を連続的にエツチングする装置を示し
ている。
図示のように、円形環状の槽１０には、それを一周する
ガイドレール１３，１３′が取り付けられて訃り、その
レールに、多数の扇状絶縁枠（力セツト）２０が互に接
する状態で載せられている。
ガイドレール１３，１３′が取り付けられて訃り、その
レールに、多数の扇状絶縁枠（力セツト）２０が互に接
する状態で載せられている。
前記槽１０は、仕切壁１４，１４′によつて、電解液Ｂ
を収納した槽１５と、操作スペース１６に分割されて訃
り、このスペース１６は、被処理物Ａを力セツト２０に
装着或は力セツト２０から取り外す操作と、仕切壁１４
，１４′から漏れた電解液を受けるのに用いる。漏液は
、ポンプＰを用いて槽１５内へ環流させる。なお、操作
スペース１６ＶＣ留る力セツト２０の数は、図示の場合
、２個であるが、それ以上でもよい。また、前記陰極板
１１及び陽極板１２は、電解液Ｂを収納した槽１５内で
、ガイドレール１３，１３′の上下に配置されている。
を収納した槽１５と、操作スペース１６に分割されて訃
り、このスペース１６は、被処理物Ａを力セツト２０に
装着或は力セツト２０から取り外す操作と、仕切壁１４
，１４′から漏れた電解液を受けるのに用いる。漏液は
、ポンプＰを用いて槽１５内へ環流させる。なお、操作
スペース１６ＶＣ留る力セツト２０の数は、図示の場合
、２個であるが、それ以上でもよい。また、前記陰極板
１１及び陽極板１２は、電解液Ｂを収納した槽１５内で
、ガイドレール１３，１３′の上下に配置されている。
さて、いま、ガイドレール１３，１３′上に連続的に載
置された多数の力セツト２０が、一定のピツチで間欠的
に送られているものとし、陽極板１２と陰極板１１との
間に通電すると、槽１５内を力セツト２０が通過する間
に被処理物Ａの上面のみが電解エツチングされる。
置された多数の力セツト２０が、一定のピツチで間欠的
に送られているものとし、陽極板１２と陰極板１１との
間に通電すると、槽１５内を力セツト２０が通過する間
に被処理物Ａの上面のみが電解エツチングされる。
エツチングされた被処理物Ａを保持した力セツト２０は
、順次仕切壁１４から操作スペース１６の方へ送り出さ
れてくる。
、順次仕切壁１４から操作スペース１６の方へ送り出さ
れてくる。
そこで、被処理物Ａを取り外し、空の力セツト２０に新
たな被処理物Ａを装着すると、この力セツトは槽１５内
に送り込まれ、被処理物にエツチングが施される。な卦
、力セツト２０を順次移動させる手段は、例えば、操作
スペース１６ＶＣ訃いて、空の力セツト２０の開口２２
に、適当な駆動装置によつて動かされる棒を挿入して、
第４図の矢印方向に力セツトを移動せしめたり、或は、
いずれか一方のガイドレールを回動させるなど、種々の
方法を採用することができる。
たな被処理物Ａを装着すると、この力セツトは槽１５内
に送り込まれ、被処理物にエツチングが施される。な卦
、力セツト２０を順次移動させる手段は、例えば、操作
スペース１６ＶＣ訃いて、空の力セツト２０の開口２２
に、適当な駆動装置によつて動かされる棒を挿入して、
第４図の矢印方向に力セツトを移動せしめたり、或は、
いずれか一方のガイドレールを回動させるなど、種々の
方法を採用することができる。
また、力セツト２０は、個々に独立したものではなく、
環状に一体化したものを用いることもできる。
環状に一体化したものを用いることもできる。
この発明によれば、以上の様に、電極と、被処理物を支
持する力セツトとの関係を横方向にしたため、力セツト
の構造及びその造り機構が極めて簡素化され、しかも、
直線的な搬送路Ｖｃ訃いてエツチングする場合のように
、力セツトの送り込み口と出口との間で力セツトを返却
することが要らず、それだけ機構が簡単になると同時に
、力セツトの数も少くて済み、さらに、被処理物の取り
外し及び装着を同じ位置で行なうことができるので、省
人化にも役立つなどの優れた効果をあげることができる
。
持する力セツトとの関係を横方向にしたため、力セツト
の構造及びその造り機構が極めて簡素化され、しかも、
直線的な搬送路Ｖｃ訃いてエツチングする場合のように
、力セツトの送り込み口と出口との間で力セツトを返却
することが要らず、それだけ機構が簡単になると同時に
、力セツトの数も少くて済み、さらに、被処理物の取り
外し及び装着を同じ位置で行なうことができるので、省
人化にも役立つなどの優れた効果をあげることができる
。
第１図はこの発明の原理を示す断面線図、第２図はこの
発明の方法を示す断面図、第３図は被処理物を装着する
力セツトの斜視図、第４図はこの発明の装置を示す平面
図、第５図は同上のＩ−１線に沿つた展開断面図である
。 １０・・・電解槽、１１・・佑極板、１２・・・陽極板
、１３，１３５・・・ガイドレール、１４，１４′・・
廿切壁、１５・・・槽、１６・・損作スペース、２０・
・・力セツト、２１・・・凹所、２２・・・開口。
発明の方法を示す断面図、第３図は被処理物を装着する
力セツトの斜視図、第４図はこの発明の装置を示す平面
図、第５図は同上のＩ−１線に沿つた展開断面図である
。 １０・・・電解槽、１１・・佑極板、１２・・・陽極板
、１３，１３５・・・ガイドレール、１４，１４′・・
廿切壁、１５・・・槽、１６・・損作スペース、２０・
・・力セツト、２１・・・凹所、２２・・・開口。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 円形環状の電解槽内に、陰極板と陽極板を上下に配
置し、この両極板間を、１以上の開口を有する絶縁枠に
載置した非連続被処理物を、環状搬送路に沿つて通過せ
しめ、被処理物の片面のみにエッチングを施すことを特
徴とする電解エッチング方法。 ２ 円形環状の電解槽と、この槽内に上下に配置された
陰極板及び陽極板と、この両極板間に設けられた円形環
状の搬送路と、この搬送路に沿つて連続的に配置された
１以上の開口を有する絶縁枠より成り、被処理物をこの
絶縁枠に載置して上記電解槽内を通過せしめることによ
り被処理物の片面のみにエッチングを施すようにした電
解エッチング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2113478A JPS5934800B2 (ja) | 1978-02-24 | 1978-02-24 | 電解エツチング方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2113478A JPS5934800B2 (ja) | 1978-02-24 | 1978-02-24 | 電解エツチング方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54112745A JPS54112745A (en) | 1979-09-03 |
| JPS5934800B2 true JPS5934800B2 (ja) | 1984-08-24 |
Family
ID=12046415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2113478A Expired JPS5934800B2 (ja) | 1978-02-24 | 1978-02-24 | 電解エツチング方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5934800B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2548334B (en) * | 2016-03-08 | 2022-05-18 | 3 Sci Ltd | Electrochemical reduction of metallic structures |
-
1978
- 1978-02-24 JP JP2113478A patent/JPS5934800B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54112745A (en) | 1979-09-03 |
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