JPS59191040A - 電子写真感光体の製造方法 - Google Patents
電子写真感光体の製造方法Info
- Publication number
- JPS59191040A JPS59191040A JP6625783A JP6625783A JPS59191040A JP S59191040 A JPS59191040 A JP S59191040A JP 6625783 A JP6625783 A JP 6625783A JP 6625783 A JP6625783 A JP 6625783A JP S59191040 A JPS59191040 A JP S59191040A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insulating layer
- curing
- drying
- photopolymn
- treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/147—Cover layers
- G03G5/14708—Cover layers comprising organic material
- G03G5/14713—Macromolecular material
- G03G5/14791—Macromolecular compounds characterised by their structure, e.g. block polymers, reticulated polymers, or by their chemical properties, e.g. by molecular weight or acidity
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、光導電層上に絶縁層を有する電子写真感光体
の製造方法に関するもので、さらに詳しくは支持体およ
び光導電層を有する部材に絶縁層を形成するにあたって
該部材を光硬化型合成樹脂を含−む塗料中に浸漬し、こ
れを引上げた後光硬化処理を施してから乾燥処理を行い
、再度光硬化処理を施すことを特徴とするものである。
の製造方法に関するもので、さらに詳しくは支持体およ
び光導電層を有する部材に絶縁層を形成するにあたって
該部材を光硬化型合成樹脂を含−む塗料中に浸漬し、こ
れを引上げた後光硬化処理を施してから乾燥処理を行い
、再度光硬化処理を施すことを特徴とするものである。
電子写真感光体は、所定の特性を得るため、あるいは適
用される電子写真プロセスの種類に応じて種々の構成を
とる。そして、電子写真感光体の代表的なものとして、
支持体上に光導電層が形成されている感光体および表面
に絶縁層を備えた感光体があり、広く用いられている。
用される電子写真プロセスの種類に応じて種々の構成を
とる。そして、電子写真感光体の代表的なものとして、
支持体上に光導電層が形成されている感光体および表面
に絶縁層を備えた感光体があり、広く用いられている。
支持体と光導電層から構成される感光体は、最も一般的
な電子写真プロセスによる、即ち、帯電９画像露光およ
び現像、更に必要に応じて転写による画像形成に用いら
れる。また、絶縁層を備えた感光体の絶縁層は、光導電
層の保護、感光体の機械的強度の改善、暗減衰特性の改
善、または、特定の電子写真プロセスに適用されるため
、等の目的のために設けられる。このような絶縁層を有
する感光体まだは、絶縁層を有する感光体を用いる電子
写真プロセスの代表的な例は、例えば、米国特許第２８
６００４８号公報、特公昭４１−１６４２９号公報、特
公昭６８−１５４４６号公報、特公昭４６−３７１６号
公報、特公昭４２−２３９１θ号公報、特公昭４３−２
４７４８号公報、特公昭４２〜１９７４７号公報、特公
昭ろ６−４１２１号公報、などに記載されている。
な電子写真プロセスによる、即ち、帯電９画像露光およ
び現像、更に必要に応じて転写による画像形成に用いら
れる。また、絶縁層を備えた感光体の絶縁層は、光導電
層の保護、感光体の機械的強度の改善、暗減衰特性の改
善、または、特定の電子写真プロセスに適用されるため
、等の目的のために設けられる。このような絶縁層を有
する感光体まだは、絶縁層を有する感光体を用いる電子
写真プロセスの代表的な例は、例えば、米国特許第２８
６００４８号公報、特公昭４１−１６４２９号公報、特
公昭６８−１５４４６号公報、特公昭４６−３７１６号
公報、特公昭４２−２３９１θ号公報、特公昭４３−２
４７４８号公報、特公昭４２〜１９７４７号公報、特公
昭ろ６−４１２１号公報、などに記載されている。
電子写真感光体には所定の電子写真プロセスに適用され
て、静′＃３：像が形成され、この静電像は現像されて
［ＪＴ視化される。
て、静′＃３：像が形成され、この静電像は現像されて
［ＪＴ視化される。
電子写真装置に用いられる感光体は現像、転写。
クリーニングなどの機械的処理を受けろため、その処理
に適応する特性が必要とされる。がっ、その特性が持続
し、耐久性あるものが強く望まれる。
に適応する特性が必要とされる。がっ、その特性が持続
し、耐久性あるものが強く望まれる。
そのため感光体の絶縁層形成用樹脂としては、光硬化型
樹脂が使用されている。絶縁層に光硬化型樹脂を使用し
た場合、絶縁層塗布溶液塗布後光硬化処理が必要である
。従来、この工程？″ｉ１．絶縁７１′！樹脂溶液塗布
、２．乾燥処理、５９元硬化処理の順番で行われていた
。
樹脂が使用されている。絶縁層に光硬化型樹脂を使用し
た場合、絶縁層塗布溶液塗布後光硬化処理が必要である
。従来、この工程？″ｉ１．絶縁７１′！樹脂溶液塗布
、２．乾燥処理、５９元硬化処理の順番で行われていた
。
又絶縁層製造工程においては、絶縁層樹脂溶液に使用さ
れた溶剤を完全に取り除くことが必要であり、塗布後の
乾燥処理はきわめて重要な工程である。しかし、溶剤の
除去を完全に行うためには、乾燥温間２時間を晶くある
いＱ１長＜−ｒることか必要であるが、これら乾燥条件
を上げ過ぎると、この乾燥工程において絶縁層のシクロ
が生じる。これは、絶縁層内部に溶剤が残留するにもか
かわらず表面皮膜が形成されるため、内部に残留してい
る溶剤の蒸気圧によって絶縁層の軟らかい部分に生じる
気泡のことである。
れた溶剤を完全に取り除くことが必要であり、塗布後の
乾燥処理はきわめて重要な工程である。しかし、溶剤の
除去を完全に行うためには、乾燥温間２時間を晶くある
いＱ１長＜−ｒることか必要であるが、これら乾燥条件
を上げ過ぎると、この乾燥工程において絶縁層のシクロ
が生じる。これは、絶縁層内部に溶剤が残留するにもか
かわらず表面皮膜が形成されるため、内部に残留してい
る溶剤の蒸気圧によって絶縁層の軟らかい部分に生じる
気泡のことである。
以上のことから、従来絶縁層製造工程にｉ６ける乾燥処
理はシクロが生じない程度に乾燥条件を押えて長時間な
要した。製造効率が低く、また、溶剤を完全に除去しき
れない筐ま次の光硬化処理が行われるおそれもあった。
理はシクロが生じない程度に乾燥条件を押えて長時間な
要した。製造効率が低く、また、溶剤を完全に除去しき
れない筐ま次の光硬化処理が行われるおそれもあった。
硬化後の絶縁層からの残留溶剤の除去は非常に困難であ
１）、この絶縁層を有する電子写真感光体では残留溶剤
の影響、による湿度特性の低下が見られる。
１）、この絶縁層を有する電子写真感光体では残留溶剤
の影響、による湿度特性の低下が見られる。
本発明は、電子写真感光体に使用さノする光硬化型絶縁
層の形成工程における上述の！２［１き問題点を解決す
るものである。
層の形成工程における上述の！２［１き問題点を解決す
るものである。
即ち光硬化型絶縁層の形成工程においてシクロを生じさ
せないで、かつ完全な溶剤の除去が可能な方法を提供す
ることを主たる目的とする。
せないで、かつ完全な溶剤の除去が可能な方法を提供す
ることを主たる目的とする。
不発り〕は支持体、光導電層および光硬化型絶縁層から
成る電子写真感光体の製造方法において、絶縁層塗布後
、１８元硬化処理（前硬化）、２．乾燥処理、ろ、光硬
化処理（本硬化）の順で処理することを特徴とするもの
である。
成る電子写真感光体の製造方法において、絶縁層塗布後
、１８元硬化処理（前硬化）、２．乾燥処理、ろ、光硬
化処理（本硬化）の順で処理することを特徴とするもの
である。
絶縁層塗布後、乾燥処理前に光硬化処理を行うことによ
り、乾燥処理においてシクロが生じないようにできる。
り、乾燥処理においてシクロが生じないようにできる。
それゆえ、この乾燥処理における乾燥条件は従来例比較
し高めにすることができ、完全な溶剤の除去が可能とな
るものである。しかる後、絶縁層に求められる耐溶剤性
、密着性、硬度等の特性を得るため、十分な硬化を行え
ば良い。
し高めにすることができ、完全な溶剤の除去が可能とな
るものである。しかる後、絶縁層に求められる耐溶剤性
、密着性、硬度等の特性を得るため、十分な硬化を行え
ば良い。
ここで重要なのけ前硬化における硬化程度であるが、前
硬化において必、要なのは、次の乾燥処理において７ク
レが生じない程度の硬化であり、それ以上の硬化は次の
乾燥処理において溶剤を除去するのが難しくなるので好
ましくない。
硬化において必、要なのは、次の乾燥処理において７ク
レが生じない程度の硬化であり、それ以上の硬化は次の
乾燥処理において溶剤を除去するのが難しくなるので好
ましくない。
又前硬化条件は絶縁層に使用される光硬化樹脂の種類、
光照射に使用される光の種類によって変えなければなら
ない。通常電子写真感光体に使用される光硬化型絶縁層
において、前硬化に使用される光照射エネルギーは、上
記光硬化型絶縁層の硬化に必要な総エネルギーの１φ〜
５０％が良好であり、好ましくは３〜ろ０％である。
光照射に使用される光の種類によって変えなければなら
ない。通常電子写真感光体に使用される光硬化型絶縁層
において、前硬化に使用される光照射エネルギーは、上
記光硬化型絶縁層の硬化に必要な総エネルギーの１φ〜
５０％が良好であり、好ましくは３〜ろ０％である。
実施例■
ＣｄＳ粉体１００部（重量部以下同じ）に対し、結着剤
としてアクリルポリオール樹脂（商品名Ａ−８０１−Ｉ
Ｍ、大日本インキ化学製）２０部、希釈剤としてトルエ
ンを適量加え、よく攪拌した後５０μｍギャップのロー
ルミル装置で６回通過させ、ＣｄＳ粉体を良く分散させ
る。この塗料をトルエンで希釈し３００ ｃｐｓに粘度
調整し、この中にＡ７ドラムを浸漬して、１０ ｃＶ′
ｍｉｎの速度で引き」二げた。
としてアクリルポリオール樹脂（商品名Ａ−８０１−Ｉ
Ｍ、大日本インキ化学製）２０部、希釈剤としてトルエ
ンを適量加え、よく攪拌した後５０μｍギャップのロー
ルミル装置で６回通過させ、ＣｄＳ粉体を良く分散させ
る。この塗料をトルエンで希釈し３００ ｃｐｓに粘度
調整し、この中にＡ７ドラムを浸漬して、１０ ｃＶ′
ｍｉｎの速度で引き」二げた。
これを１００℃６０分間乾燥を行い、膜厚４０μｎ〕の
感光層を得た。次に、さらに、感光層を、シクロヘキサ
ン溶剤で希釈した環化ブタジェンゴム（商品名； ＣＭ
Ｒ−Ｍ、日本合成ゴム製）の粘度４０ｃｐｓ溶液で浸漬
塗布し、８００℃２０分間乾燥を行い８μｍの目止層を
形成した。
感光層を得た。次に、さらに、感光層を、シクロヘキサ
ン溶剤で希釈した環化ブタジェンゴム（商品名； ＣＭ
Ｒ−Ｍ、日本合成ゴム製）の粘度４０ｃｐｓ溶液で浸漬
塗布し、８００℃２０分間乾燥を行い８μｍの目止層を
形成した。
次に平均分子量が約１５００の光硬化型ウレタン樹脂（
商品名：ゾンネ、関西ペイント族）を粘度６０ ｃｐｓ
となる様メチルエチルケトン溶剤で希釈調整した溶液に
浸し、１０ ｃｍ／ｍｉｎ の速度で引き上げた後４
ｆＣＷ水銀ランプで５秒間元照射して硬化させ、１４０
’Ｃ３分３ｏ秒間乾燥を行い、再度４ＫＷ水銀ラング
で２５秒間光照射して硬化させ、１５μｍの絶縁層を形
成した。
商品名：ゾンネ、関西ペイント族）を粘度６０ ｃｐｓ
となる様メチルエチルケトン溶剤で希釈調整した溶液に
浸し、１０ ｃｍ／ｍｉｎ の速度で引き上げた後４
ｆＣＷ水銀ランプで５秒間元照射して硬化させ、１４０
’Ｃ３分３ｏ秒間乾燥を行い、再度４ＫＷ水銀ラング
で２５秒間光照射して硬化させ、１５μｍの絶縁層を形
成した。
次に、微粉砕したテフロン樹脂（商品名：ルズロンＬ２
、ダイキン工業製）２０部、塩ピー酢ピ共重合体、（商
品名： ＶＭＣＨ、ＵＣＣ製）１００００部ラメチルエ
チルケトンで４０ ｃｐｓに希釈した溶液で浸漬塗布を
行い、８０ ’Ｃ４分間乾燥を行い、７μｍ の表面絶
縁層を形成した。このようにして製造されたものを感光
体■とする。
、ダイキン工業製）２０部、塩ピー酢ピ共重合体、（商
品名： ＶＭＣＨ、ＵＣＣ製）１００００部ラメチルエ
チルケトンで４０ ｃｐｓに希釈した溶液で浸漬塗布を
行い、８０ ’Ｃ４分間乾燥を行い、７μｍ の表面絶
縁層を形成した。このようにして製造されたものを感光
体■とする。
比較例Ｉ
光硬化型ウレタン樹脂塗布後の処理を８００Ｃ３分６０
秒間乾燥後、４Ｋｗ水銀ラングで３０秒間元照射を行っ
たことを除いては、実施例■と同様にして作られた感ツ
０体を感光体■とする。
秒間乾燥後、４Ｋｗ水銀ラングで３０秒間元照射を行っ
たことを除いては、実施例■と同様にして作られた感ツ
０体を感光体■とする。
比較例■
光硬化型ウレタン樹脂塗布後の処理を１４０℃６分６０
秒間乾燥後、４ＫＷ水銀ランプでろ０秒間元照射を行っ
たことを除いては、実施例Ｉと同様にして作られた感光
体を感光体■とする。
秒間乾燥後、４ＫＷ水銀ランプでろ０秒間元照射を行っ
たことを除いては、実施例Ｉと同様にして作られた感光
体を感光体■とする。
このようにして作られた感光体１．Ｉ［、ＩＩＩをアル
ミ袋に封入し、１２０℃１時間加熱を行った後注射器で
ｉｃｅガスを抜き取り、ガスクロマトグラフィーにより
メチルエチルケトンの残留量を調べた。
ミ袋に封入し、１２０℃１時間加熱を行った後注射器で
ｉｃｅガスを抜き取り、ガスクロマトグラフィーにより
メチルエチルケトンの残留量を調べた。
この結果感光体■の方が感光体Ｉより６倍以上残留溶剤
量が多かった。
量が多かった。
又感光体■と感光体Ｉの残留溶剤量はほぼ同程度である
が、感光体１．１には発生していないシクレがｇ光体■
に発生していた。
が、感光体１．１には発生していないシクレがｇ光体■
に発生していた。
以上説明したように、光硬化型絶縁層の製造方法におい
て、絶縁層塗布後１０元硬化処理、２．乾燥処理、６１
元硬化処理の順で処理することにより、乾燥処理におけ
るシクレを防止できる。それにより乾燥処理条件を上げ
ることができ、絶縁層中の残留溶剤を完全に除去するこ
とができろ等の利点かある。
て、絶縁層塗布後１０元硬化処理、２．乾燥処理、６１
元硬化処理の順で処理することにより、乾燥処理におけ
るシクレを防止できる。それにより乾燥処理条件を上げ
ることができ、絶縁層中の残留溶剤を完全に除去するこ
とができろ等の利点かある。
出願人 キャノン株式会社
Claims (2)
- （１）支持体、光導電層および絶縁層から成る電子写真
感光体の製造方法において、支持体および光導電層を有
する部材を光硬化型合成樹脂を含む塗料中に浸漬し引上
げた後、光硬化処理（前硬化）を施してから乾燥処理を
行い、再度光硬化処理（本硬化）を施して絶縁層を形成
することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。 - （２）前硬化における光照射エネルギーが前記光硬化型
絶縁層の硬化に必要な総エネルギーの１％〜５０％であ
る特許請求の範囲第１項記載の電子写真感光体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6625783A JPS59191040A (ja) | 1983-04-13 | 1983-04-13 | 電子写真感光体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6625783A JPS59191040A (ja) | 1983-04-13 | 1983-04-13 | 電子写真感光体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59191040A true JPS59191040A (ja) | 1984-10-30 |
Family
ID=13310623
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6625783A Pending JPS59191040A (ja) | 1983-04-13 | 1983-04-13 | 電子写真感光体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59191040A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009080401A (ja) * | 2007-09-27 | 2009-04-16 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法 |
-
1983
- 1983-04-13 JP JP6625783A patent/JPS59191040A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009080401A (ja) * | 2007-09-27 | 2009-04-16 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法 |
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