JPS5918655B2 - 表面検査法 - Google Patents
表面検査法Info
- Publication number
- JPS5918655B2 JPS5918655B2 JP11361074A JP11361074A JPS5918655B2 JP S5918655 B2 JPS5918655 B2 JP S5918655B2 JP 11361074 A JP11361074 A JP 11361074A JP 11361074 A JP11361074 A JP 11361074A JP S5918655 B2 JPS5918655 B2 JP S5918655B2
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- JP
- Japan
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- light
- output
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- detected
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は物体の表面又は物体が透明な場合には内部の傷
、局所的な汚れ等の欠陥又は、物体或いは粉末中に混入
した異物等を光学的に検知又は検出する方法に関するも
のである。
、局所的な汚れ等の欠陥又は、物体或いは粉末中に混入
した異物等を光学的に検知又は検出する方法に関するも
のである。
従来から物体の表面等の欠陥を光学的に検知する方法は
種々提案されている。
種々提案されている。
例えば被検体をレーザー光束の様な細いビームで走査し
て夫々の走査スポット(ビームで照明されている個所)
からの光を順次受ける唯一の受光素子からの出力変化に
より欠陥等を検出する方法又は織布、紙の様なシート類
を受光素子上を通過させ、このシート類を通過する光量
がある値以上又はそれ以下になることによつてシート類
の欠陥、汚れ等を検出する方法等がある。し力走ながら
、これ等の公知の方法は欠陥又は汚れ等による受光素子
への光量の絶対量の変化によつて欠陥を検出する方法で
ある。従つてこれ等の方法は光源の電圧変動、チリ、ゴ
ミ等による測定光束の劣化、又は検出電気系のドリフト
等により測定の誤差が生じ易かつた。本発明は、上述の
測定方法に於ける欠点の改良を目的とするものである。
その方法として本発明装置に於ては、被検出上の走査ス
ポットから散乱される光束内の前記走査スポットを含む
様な或る平面内に於いて、受光系を走査して得られる周
波数出力の変化を検出することにより、走査スポットに
於ける表面欠陥の検出を行なうものである。更に本発明
装置に於ては、受光系の走査方向位置を所定同期信号で
検出することにより表面欠陥の方向を検出しようとする
ものである。次に本発明装置の基本原理を説明する。
て夫々の走査スポット(ビームで照明されている個所)
からの光を順次受ける唯一の受光素子からの出力変化に
より欠陥等を検出する方法又は織布、紙の様なシート類
を受光素子上を通過させ、このシート類を通過する光量
がある値以上又はそれ以下になることによつてシート類
の欠陥、汚れ等を検出する方法等がある。し力走ながら
、これ等の公知の方法は欠陥又は汚れ等による受光素子
への光量の絶対量の変化によつて欠陥を検出する方法で
ある。従つてこれ等の方法は光源の電圧変動、チリ、ゴ
ミ等による測定光束の劣化、又は検出電気系のドリフト
等により測定の誤差が生じ易かつた。本発明は、上述の
測定方法に於ける欠点の改良を目的とするものである。
その方法として本発明装置に於ては、被検出上の走査ス
ポットから散乱される光束内の前記走査スポットを含む
様な或る平面内に於いて、受光系を走査して得られる周
波数出力の変化を検出することにより、走査スポットに
於ける表面欠陥の検出を行なうものである。更に本発明
装置に於ては、受光系の走査方向位置を所定同期信号で
検出することにより表面欠陥の方向を検出しようとする
ものである。次に本発明装置の基本原理を説明する。
第1図゜ は被検面上の走査スポットで散乱される光束
を、走査スポットを含む任意の平面内に於ける散乱光束
の光量分布をベクトル的に示したものである。第1図に
於いて、走査スポット3を原点に、被検面1に垂直に入
射する光束2の方向をz軸に、こ・ の紙面内に於いて
前記Z軸と直角方向にx軸を取る。従つてこの紙面は原
点を通るx−Z平面を形成する。第1図aに示す様に、
被検面1の走査スヨーポツト3に表面欠陥が存在しない
場合、走査スポツト3に垂直に入射する光束2の散乱光
はZ軸を中心にして回転対称になる。
を、走査スポットを含む任意の平面内に於ける散乱光束
の光量分布をベクトル的に示したものである。第1図に
於いて、走査スポット3を原点に、被検面1に垂直に入
射する光束2の方向をz軸に、こ・ の紙面内に於いて
前記Z軸と直角方向にx軸を取る。従つてこの紙面は原
点を通るx−Z平面を形成する。第1図aに示す様に、
被検面1の走査スヨーポツト3に表面欠陥が存在しない
場合、走査スポツト3に垂直に入射する光束2の散乱光
はZ軸を中心にして回転対称になる。
そして散乱光の光量分布は入射光と正反射をなす方向に
(この場合z軸)ピークが現われる。従つてXZ平面内
で散乱光束の光量分布は第1図aに示す如くZ軸方向に
ピークを持ち、かつZ軸に関して対称となる。今上記X
Z平面内に於て、x平面に平行な方向(矢印A)に散乱
光束の光量分布を連続的に検出する。この場合A方向に
振動数fで振動する様な光検出器を設ければ検出出力は
第2図aに示す様に周波数2fなる交流出力を得る。第
1図B,cは被検面1土に表面欠陥が存在する場合で、
走査スポツト3は右上りの傾斜を持つ欠陥上にあり、c
図はb図に比べて欠陥の傾斜が急な場合を示している。
(この場合z軸)ピークが現われる。従つてXZ平面内
で散乱光束の光量分布は第1図aに示す如くZ軸方向に
ピークを持ち、かつZ軸に関して対称となる。今上記X
Z平面内に於て、x平面に平行な方向(矢印A)に散乱
光束の光量分布を連続的に検出する。この場合A方向に
振動数fで振動する様な光検出器を設ければ検出出力は
第2図aに示す様に周波数2fなる交流出力を得る。第
1図B,cは被検面1土に表面欠陥が存在する場合で、
走査スポツト3は右上りの傾斜を持つ欠陥上にあり、c
図はb図に比べて欠陥の傾斜が急な場合を示している。
上記の場合と同様にXZ平面内に於いてA方向に光量検
出を行なうと、第1図bの場合の出力は第2図bに、第
1図cの場合は第2図cの様になる。これ等の場合はA
方向に振動数fで振動する様な光検出器で連続的に検出
すれば、出力信号の波形の形状は異なつても同じく周波
数fの交流出力が得られる。即ち表面欠陥が存在しない
場合は、光検出器の振動数fの2倍の周波数を持つ様な
交流信号が、表面欠陥が存在する場合は光検出器の振動
数fと同じ周波数fを持つ様な交流出力が得られるので
ある。
出を行なうと、第1図bの場合の出力は第2図bに、第
1図cの場合は第2図cの様になる。これ等の場合はA
方向に振動数fで振動する様な光検出器で連続的に検出
すれば、出力信号の波形の形状は異なつても同じく周波
数fの交流出力が得られる。即ち表面欠陥が存在しない
場合は、光検出器の振動数fの2倍の周波数を持つ様な
交流信号が、表面欠陥が存在する場合は光検出器の振動
数fと同じ周波数fを持つ様な交流出力が得られるので
ある。
第3図は本発明装置の一実施例を示す斜視図である。
第3図に於いて、11はレーザー光等の光源、12は光
源11より発せられる入射ビーム、13は半透鏡、14
は被検面、15は走査スポツトである。16は走査スポ
ツト15で散乱された光束を集光する集光レンズで、凹
面鏡を用いても良い。
源11より発せられる入射ビーム、13は半透鏡、14
は被検面、15は走査スポツトである。16は走査スポ
ツト15で散乱された光束を集光する集光レンズで、凹
面鏡を用いても良い。
17は開口18を有する振動板で、周波数fで発振する
発振器22により作動する振動板駆3動装置23により
振動数fで振動する。
発振器22により作動する振動板駆3動装置23により
振動数fで振動する。
この振動板17の位置は集光レンズ16の前面に置かれ
ても良い。19は開口部20を有する絞り板、21は受
光素子である。
ても良い。19は開口部20を有する絞り板、21は受
光素子である。
光源11から発せられた光束12は半透鏡132で反射
され、集光レンズ16を介して被検面14上の走査スポ
ツト15にZ軸に沿つて垂直に入射する。
され、集光レンズ16を介して被検面14上の走査スポ
ツト15にZ軸に沿つて垂直に入射する。
走査スポツト15で散乱される光束の一部は集光レンズ
16で集束され半透鏡13、振動板の開口18を通過し
絞り板19上に結像する。そして絞り板19の開口部2
0を通過した光束は受光器21で検出される。第4図は
上述の受光器21で検出した信号を電気処理する回路で
ある。
16で集束され半透鏡13、振動板の開口18を通過し
絞り板19上に結像する。そして絞り板19の開口部2
0を通過した光束は受光器21で検出される。第4図は
上述の受光器21で検出した信号を電気処理する回路で
ある。
101は交流増幅回路、102は周波数fの成分を通す
様なフイルタ一回路、103は整流回路、104は周波
数fのパルスを発振する様な発振回路、105は表示回
路である。
様なフイルタ一回路、103は整流回路、104は周波
数fのパルスを発振する様な発振回路、105は表示回
路である。
106は同期回路で前記発振回路の周波数fの逆数、即
ち了秒毎にパルスを発する如く設けられた回路で、振動
板17の開口18の位置を検出するのに用いられる。
ち了秒毎にパルスを発する如く設けられた回路で、振動
板17の開口18の位置を検出するのに用いられる。
前述の第1図bの場合を参照しながら電気回路を説明す
る。第5図aは第1図bの場合の散乱特性と測定装置と
を概略的に描いたものである。走査スポツト15の原点
を含むXZ平面に於ける散乱光は、走査スポツトが右上
がりの表面欠陥上にあるため、その光量分布は左側に傾
斜している。振動開口18が左側に一杯振れた位置をX
1とし、同じく右側に一杯に振れた位置をX2とする。
る。第5図aは第1図bの場合の散乱特性と測定装置と
を概略的に描いたものである。走査スポツト15の原点
を含むXZ平面に於ける散乱光は、走査スポツトが右上
がりの表面欠陥上にあるため、その光量分布は左側に傾
斜している。振動開口18が左側に一杯振れた位置をX
1とし、同じく右側に一杯に振れた位置をX2とする。
なお振動開口18は振動数f′8Z軸を中心に左右同じ
大きさに振動する様に設けられる。今振動開口18がX
,にある時、同期装置106からパルスが発せられる様
に同期装置106をセツトしておく。
大きさに振動する様に設けられる。今振動開口18がX
,にある時、同期装置106からパルスが発せられる様
に同期装置106をセツトしておく。
振動開口がX1→X2→X,と了秒で一回の振動を行な
つた時、開口18を通過した光束は受光器21で第5図
bの如くfの周波数成分を含んだ交流信号として検出さ
れる。第5図bに於いては、縦軸に光量1を、横軸に時
間tを取つてある。上記の如く、振動開口18がX1の
位置に同期装置106からの信号を同期させてあるので
、訂秒後は開口18の位置はX2に、了秒後にはX,の
位置にという様に、横軸とx座標とを対応することがで
きる。これによつて開口18の位置が求められる。受光
器21で検出された出力は交流増幅回路101で交流増
幅され、第5図Cの如く出力され、周波数fの交流成分
を有する信号のみを通過させるフイルタ一回路102に
入る。
つた時、開口18を通過した光束は受光器21で第5図
bの如くfの周波数成分を含んだ交流信号として検出さ
れる。第5図bに於いては、縦軸に光量1を、横軸に時
間tを取つてある。上記の如く、振動開口18がX1の
位置に同期装置106からの信号を同期させてあるので
、訂秒後は開口18の位置はX2に、了秒後にはX,の
位置にという様に、横軸とx座標とを対応することがで
きる。これによつて開口18の位置が求められる。受光
器21で検出された出力は交流増幅回路101で交流増
幅され、第5図Cの如く出力され、周波数fの交流成分
を有する信号のみを通過させるフイルタ一回路102に
入る。
表示回路105でブラウン管等に出力を表示する場合に
は、フイルタ一回路102からの出力をそのまま同期回
路106からの信号と同期させ表示すれば、ブラウン管
には第5図cの波形が表示され、散乱光量の分布を直接
目で観察することにより、走査スポツトに於ける表面欠
陥の有無、並びに方向が検出できる。
は、フイルタ一回路102からの出力をそのまま同期回
路106からの信号と同期させ表示すれば、ブラウン管
には第5図cの波形が表示され、散乱光量の分布を直接
目で観察することにより、走査スポツトに於ける表面欠
陥の有無、並びに方向が検出できる。
又、フイルタ一回路102からの出力をアナログ表示す
る様な場合は、第4図に示す如くフイルタ一回路102
からの出力を発振回路104からの出力と同期して整流
回路103に入力する。
る様な場合は、第4図に示す如くフイルタ一回路102
からの出力を発振回路104からの出力と同期して整流
回路103に入力する。
更に整流回路103からの出力は同期装置からの信号と
同期させ表示回路105に入力させる。上記検出回路に
於ては表面欠陥の有無の外に欠陥の方向をも検知させた
が、表面欠陥の有無のみだけなら周波数f又は2fのい
ずれか一方を遮断あるいは透過させる様なフイルタ一回
路を設け、このフイルタ一回路よりの出力の有無を検出
するだけで良い。第6図は本発明装置の第2実施例を示
す斜視図である。
同期させ表示回路105に入力させる。上記検出回路に
於ては表面欠陥の有無の外に欠陥の方向をも検知させた
が、表面欠陥の有無のみだけなら周波数f又は2fのい
ずれか一方を遮断あるいは透過させる様なフイルタ一回
路を設け、このフイルタ一回路よりの出力の有無を検出
するだけで良い。第6図は本発明装置の第2実施例を示
す斜視図である。
この装置に於いては振動板17を複数設けることにより
、表面欠陥の状態を更に精密に検知できる。第6図に於
いて、第3図に示した第1実施例と同じ装置には同じ符
号が施してある。光源11から発せられた光束12は、
被検面14上の走査スポツ口5で散乱される。散乱され
た光束は集光レンズ16で集光され、その一部は半透鏡
13で反射され第1検出系へ、残りの光束は半透鏡13
を通過し第2検出系へ導かれる。第1検出系の振動板1
7と第2検出系の振動板17″はそれぞれ直交する方向
に振動する様に設けられている。従つて各検出系の受光
器21,2『で検出される出力は、走査スポツト15で
散乱される光束内の、走査スポツト15を含む直交した
平面における散乱光束の光量変化を検出できるのである
。これ等の各光検出系に上述した同期回路106を取り
付け、第4図示の電気回路で出力を検出すれば一系列の
光検出系に比べ、より正確な表面欠陥の方向が検出でき
る。第2実施例では二系列の光検出系を示したが、更に
多くの光検出系を設ければ、より一層精密な測定ができ
る。上述の実施例の如く、被検面に入射するビームの角
度は被検面によつて何等拘束されないし、散乱光束を検
出する為の振動面も走査スポツトを含む面であれば、ど
の面で振動させても良い。散乱光束を受ける位置の範囲
の設定、即ち振動開口の振動位置の設定によつては、表
面欠陥を有さない走査スポツトからの検出信号をfなる
成分を持つた状態に出来る。又、予め被検面の特定状態
で散乱される散乱光を検知し、その出力の周波数成分の
みを通す様なフイルタ一回路を設けておくと、被検面の
特定状態のみを検知することが可能である。
、表面欠陥の状態を更に精密に検知できる。第6図に於
いて、第3図に示した第1実施例と同じ装置には同じ符
号が施してある。光源11から発せられた光束12は、
被検面14上の走査スポツ口5で散乱される。散乱され
た光束は集光レンズ16で集光され、その一部は半透鏡
13で反射され第1検出系へ、残りの光束は半透鏡13
を通過し第2検出系へ導かれる。第1検出系の振動板1
7と第2検出系の振動板17″はそれぞれ直交する方向
に振動する様に設けられている。従つて各検出系の受光
器21,2『で検出される出力は、走査スポツト15で
散乱される光束内の、走査スポツト15を含む直交した
平面における散乱光束の光量変化を検出できるのである
。これ等の各光検出系に上述した同期回路106を取り
付け、第4図示の電気回路で出力を検出すれば一系列の
光検出系に比べ、より正確な表面欠陥の方向が検出でき
る。第2実施例では二系列の光検出系を示したが、更に
多くの光検出系を設ければ、より一層精密な測定ができ
る。上述の実施例の如く、被検面に入射するビームの角
度は被検面によつて何等拘束されないし、散乱光束を検
出する為の振動面も走査スポツトを含む面であれば、ど
の面で振動させても良い。散乱光束を受ける位置の範囲
の設定、即ち振動開口の振動位置の設定によつては、表
面欠陥を有さない走査スポツトからの検出信号をfなる
成分を持つた状態に出来る。又、予め被検面の特定状態
で散乱される散乱光を検知し、その出力の周波数成分の
みを通す様なフイルタ一回路を設けておくと、被検面の
特定状態のみを検知することが可能である。
以上本発明装置に於いては、照射スポツトを含む少なく
とも一つの平面内で受光系を走査して得られる周波数出
力を、欠陥の無い場合の出力と比較することにより被検
面の状態を検出している。
とも一つの平面内で受光系を走査して得られる周波数出
力を、欠陥の無い場合の出力と比較することにより被検
面の状態を検出している。
従つて照明光源の明るさの変動並びに電気検出回路のド
リフト等の影響が除去でき、多大な効果を奏するもので
ある。
リフト等の影響が除去でき、多大な効果を奏するもので
ある。
第1図、第2図は本発明の基本原理を示す図、第3図は
本発明装置の第一実施例を示す斜視図、第4図は電気回
路を示すプロツク線図、第5図は第4図示の電気回路を
説明する為の図、第6図は本発明装置の第二実施例を示
す斜視図。 1・・・・・・被検面、3・・・・・・走査スポツト、
11・・・・・・光源、13・・・・・・半透鏡、16
・・・・・・集光レンズ、17・・・・・・振動板、2
1・・・・・・受光器。
本発明装置の第一実施例を示す斜視図、第4図は電気回
路を示すプロツク線図、第5図は第4図示の電気回路を
説明する為の図、第6図は本発明装置の第二実施例を示
す斜視図。 1・・・・・・被検面、3・・・・・・走査スポツト、
11・・・・・・光源、13・・・・・・半透鏡、16
・・・・・・集光レンズ、17・・・・・・振動板、2
1・・・・・・受光器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 被検面上の照射スポットからの散乱光束を受光系で
受け、被検面の表面欠陥を光学的に検出する方法におい
て、前記照射スポットを含む少なくとも一つの平面内で
、受光系を走査して得られる周波数出力を、欠陥の無い
場合の出力と比較して表面欠陥の有無を検出することを
特徴とする表面検査法。 2 被検面上の照射スポットからの散乱光束を受光系で
受け、被検面の表面欠陥を光学的に検出する方法におい
て、前記照射スポットを含む少なくとも一つの平面内で
、受光系を走査して得られる周波数出力を、欠陥の無い
場合の出力と比較して表面欠陥の有無を検出するととも
に、受光系の走査方向位置を所定同期信号にて検出し表
面欠陥の方向を検出することを特徴とする表面検査法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11361074A JPS5918655B2 (ja) | 1974-10-02 | 1974-10-02 | 表面検査法 |
US05/784,328 US4097160A (en) | 1974-09-06 | 1977-04-04 | Method for inspecting object defection by light beam |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11361074A JPS5918655B2 (ja) | 1974-10-02 | 1974-10-02 | 表面検査法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5140976A JPS5140976A (ja) | 1976-04-06 |
JPS5918655B2 true JPS5918655B2 (ja) | 1984-04-28 |
Family
ID=14616569
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11361074A Expired JPS5918655B2 (ja) | 1974-09-06 | 1974-10-02 | 表面検査法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5918655B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2515823B1 (fr) * | 1980-11-24 | 1986-04-11 | Cegedur | Procede et dispositif de controle optique des etats de surface de produits metallurgiques |
JPS59168311A (ja) * | 1983-03-15 | 1984-09-22 | Hamamatsu Photonics Kk | 物体表面の変形を検出する装置 |
-
1974
- 1974-10-02 JP JP11361074A patent/JPS5918655B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5140976A (ja) | 1976-04-06 |
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