JPH07270127A - 被検査物の欠陥高さ測定装置 - Google Patents
被検査物の欠陥高さ測定装置Info
- Publication number
- JPH07270127A JPH07270127A JP25207593A JP25207593A JPH07270127A JP H07270127 A JPH07270127 A JP H07270127A JP 25207593 A JP25207593 A JP 25207593A JP 25207593 A JP25207593 A JP 25207593A JP H07270127 A JPH07270127 A JP H07270127A
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- Japan
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- inspected
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 欠陥の高さを測定して許容範囲内の高さであ
れば良品として歩留りを上げること。 【構成】 検査装置により被検査物Ａの欠陥Ｄの位置を
決める。そして顕微鏡４でモニターし、欠陥Ｄをモニタ
ーの中心に置く。次に発光ダイオード２により欠陥Ｄの
表面にレーザー光を投光する。そして欠陥Ｄからの反射
光を位置検出素子６にて受光し、その位置検出素子６か
ら信号により信号処理回路７にて欠陥Ｄの表面までの距
離を計測する。次に欠陥Ｄ以外の被検査物Ａの表面の場
所で上述の操作を繰り返して被検査物Ａの表面までの距
離を計測する。そして演算部８にて被検査物Ａまでの距
離から欠陥Ｄまでの距離を減算することで、欠陥Ｄの高
さを測定することができる。
れば良品として歩留りを上げること。 【構成】 検査装置により被検査物Ａの欠陥Ｄの位置を
決める。そして顕微鏡４でモニターし、欠陥Ｄをモニタ
ーの中心に置く。次に発光ダイオード２により欠陥Ｄの
表面にレーザー光を投光する。そして欠陥Ｄからの反射
光を位置検出素子６にて受光し、その位置検出素子６か
ら信号により信号処理回路７にて欠陥Ｄの表面までの距
離を計測する。次に欠陥Ｄ以外の被検査物Ａの表面の場
所で上述の操作を繰り返して被検査物Ａの表面までの距
離を計測する。そして演算部８にて被検査物Ａまでの距
離から欠陥Ｄまでの距離を減算することで、欠陥Ｄの高
さを測定することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はＴＦＴカラーフィルタ
等の欠陥の高さを測定する被検査物の欠陥高さ測定装置
に関するものである。
等の欠陥の高さを測定する被検査物の欠陥高さ測定装置
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の検査装置において、ＣＣ
Ｄセンサーを用いて液晶の配線パターン、ＴＦＴカラー
フィルタ等の被検査物の欠陥を検出する場合、ＴＦＴカ
ラーフィルタ等に光を投光し、透過光または反射光をＣ
ＣＤセンサーにて受光し、このＣＣＤセンサーからの信
号波と、該信号波を１周期遅延させた信号波とを比較
し、その差の信号波により欠陥を検出するようにしてい
た。
Ｄセンサーを用いて液晶の配線パターン、ＴＦＴカラー
フィルタ等の被検査物の欠陥を検出する場合、ＴＦＴカ
ラーフィルタ等に光を投光し、透過光または反射光をＣ
ＣＤセンサーにて受光し、このＣＣＤセンサーからの信
号波と、該信号波を１周期遅延させた信号波とを比較
し、その差の信号波により欠陥を検出するようにしてい
た。
【０００３】すなわち一次元ＣＣＤセンサーで、ＴＦＴ
カラーフィルタのような周期的に繰り返す模様から成る
平面板をスキャンして上述のように欠陥を検出し、欠陥
がある場合には不良品であると判定していたのである
（例えば、特願平４−２１１９６２号）。
カラーフィルタのような周期的に繰り返す模様から成る
平面板をスキャンして上述のように欠陥を検出し、欠陥
がある場合には不良品であると判定していたのである
（例えば、特願平４−２１１９６２号）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら被検査物
の表面に欠陥が存在していたとしても、その欠陥がある
所定の高さ以内ならば製品として使用できる場合もあ
る。そのため従来のように単に欠陥を検出した場合に
は、その欠陥の高さを測定することができなかったため
に、すべてを不良品としていて歩留りが悪くなるという
問題があった。
の表面に欠陥が存在していたとしても、その欠陥がある
所定の高さ以内ならば製品として使用できる場合もあ
る。そのため従来のように単に欠陥を検出した場合に
は、その欠陥の高さを測定することができなかったため
に、すべてを不良品としていて歩留りが悪くなるという
問題があった。
【０００５】この発明は上記従来の欠点を解決するため
になされたものであって、その目的は、欠陥の高さを測
定して許容範囲内の高さであれば良品として歩留りを向
上することが可能な被検査物の欠陥高さ測定装置を提供
することにある。
になされたものであって、その目的は、欠陥の高さを測
定して許容範囲内の高さであれば良品として歩留りを向
上することが可能な被検査物の欠陥高さ測定装置を提供
することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】そこでこの発明の被検査
物の欠陥高さ測定装置は、被検査物Ａの表面と該被検査
物Ａの表面に存在する欠陥Ｄの表面とに光を投光し、そ
の反射光を受光する位置検出素子６と、この位置検出素
子６からの信号により欠陥Ｄの高さを測定する制御手段
８とを備えたことを特徴としている。
物の欠陥高さ測定装置は、被検査物Ａの表面と該被検査
物Ａの表面に存在する欠陥Ｄの表面とに光を投光し、そ
の反射光を受光する位置検出素子６と、この位置検出素
子６からの信号により欠陥Ｄの高さを測定する制御手段
８とを備えたことを特徴としている。
【０００７】
【作用】上記被検査物の欠陥高さ測定装置によれば、被
検査物Ａの表面の欠陥Ｄを検出した場合には、その欠陥
Ｄの高さを測定し、その高さが許容範囲内であれば、欠
陥Ｄを検出してもすべてを不良品としないようにするこ
とができるので、歩留りを向上することができる。
検査物Ａの表面の欠陥Ｄを検出した場合には、その欠陥
Ｄの高さを測定し、その高さが許容範囲内であれば、欠
陥Ｄを検出してもすべてを不良品としないようにするこ
とができるので、歩留りを向上することができる。
【０００８】
【実施例】次にこの発明の被検査物の欠陥高さ測定装置
の具体的な実施例について、図面を参照しつつ詳細に説
明する。図１はこの発明の被検査物の欠陥高さ測定装置
の構成図を示し、欠陥の高さを測定する機構として、例
えばカメラに用いられているようなオートフォーカス機
構を用いている。
の具体的な実施例について、図面を参照しつつ詳細に説
明する。図１はこの発明の被検査物の欠陥高さ測定装置
の構成図を示し、欠陥の高さを測定する機構として、例
えばカメラに用いられているようなオートフォーカス機
構を用いている。
【０００９】図１において、レーザー光を発光する発光
ダイオード２は駆動回路１により駆動され、その発光ダ
イオード２から投光されたレーザー光は投光用光学系３
を介して集光される。さらに投光用光学系３からのレー
ザー光は顕微鏡４にてさらに集光され、被検査物Ａの表
面や、被検査物Ａの表面に存在する欠陥Ｄの表面に投光
されるようになっている。ここで被検査物Ａや欠陥Ｄの
表面に投光されるレーザー光のスポット径は約１μｍで
ある。
ダイオード２は駆動回路１により駆動され、その発光ダ
イオード２から投光されたレーザー光は投光用光学系３
を介して集光される。さらに投光用光学系３からのレー
ザー光は顕微鏡４にてさらに集光され、被検査物Ａの表
面や、被検査物Ａの表面に存在する欠陥Ｄの表面に投光
されるようになっている。ここで被検査物Ａや欠陥Ｄの
表面に投光されるレーザー光のスポット径は約１μｍで
ある。
【００１０】被検査物Ａ上の欠陥Ｄの高さを測定するオ
ートフォーカス機構は、その原理は三角測量方式のもの
であり、本実施例では上記駆動回路１及び発光ダイオー
ド２と共に、位置検出素子（ＰＳＤ）６と信号処理回路
７とで被検査物Ａや欠陥Ｄの表面までの距離を測定し、
その距離から欠陥Ｄの高さを測定するようにしている。
被検査物Ａや欠陥Ｄの表面にて反射されたレーザー光
は、受光用光学系５を介して位置検出素子６にて受光さ
れ、位置検出素子６からの信号Ｉ１、Ｉ２は、位置検出
素子６を駆動する駆動回路を備えた信号処理回路７に入
力される。この信号処理回路７においては、位置検出素
子６からの信号Ｉ１、Ｉ２により被検査物Ａや欠陥Ｄの
表面までの距離に応じたアナログ信号やデジタル信号を
出力する。信号処理回路７からの距離信号はマイクロコ
ンピュータ等から成る演算部８に入力され、この演算部
８により被検査物Ａの表面までの距離から欠陥Ｄの表面
までの距離を減算することで、欠陥Ｄの高さを測定する
ことができる。
ートフォーカス機構は、その原理は三角測量方式のもの
であり、本実施例では上記駆動回路１及び発光ダイオー
ド２と共に、位置検出素子（ＰＳＤ）６と信号処理回路
７とで被検査物Ａや欠陥Ｄの表面までの距離を測定し、
その距離から欠陥Ｄの高さを測定するようにしている。
被検査物Ａや欠陥Ｄの表面にて反射されたレーザー光
は、受光用光学系５を介して位置検出素子６にて受光さ
れ、位置検出素子６からの信号Ｉ１、Ｉ２は、位置検出
素子６を駆動する駆動回路を備えた信号処理回路７に入
力される。この信号処理回路７においては、位置検出素
子６からの信号Ｉ１、Ｉ２により被検査物Ａや欠陥Ｄの
表面までの距離に応じたアナログ信号やデジタル信号を
出力する。信号処理回路７からの距離信号はマイクロコ
ンピュータ等から成る演算部８に入力され、この演算部
８により被検査物Ａの表面までの距離から欠陥Ｄの表面
までの距離を減算することで、欠陥Ｄの高さを測定する
ことができる。
【００１１】ここでは例えば欠陥Ｄの高さＨが５μｍ以
内ならば良として、その判定も演算部８により行い、そ
の測定した欠陥Ｄの高さや、良か不良か判定結果をカラ
ーＣＲＴ等の表示部９により表示するようにしている。
内ならば良として、その判定も演算部８により行い、そ
の測定した欠陥Ｄの高さや、良か不良か判定結果をカラ
ーＣＲＴ等の表示部９により表示するようにしている。
【００１２】次に欠陥Ｄの高さの測定方法について説明
する。まず検査装置により被検査物Ａの欠陥Ｄの位置を
決める。そして顕微鏡４で表示部９によりモニターし、
欠陥Ｄをモニターの中心に置く。つまり顕微鏡４により
集光されるレーザー光のスポットが欠陥Ｄの中心に投光
されるように欠陥Ｄと顕微鏡４とを対向させる。
する。まず検査装置により被検査物Ａの欠陥Ｄの位置を
決める。そして顕微鏡４で表示部９によりモニターし、
欠陥Ｄをモニターの中心に置く。つまり顕微鏡４により
集光されるレーザー光のスポットが欠陥Ｄの中心に投光
されるように欠陥Ｄと顕微鏡４とを対向させる。
【００１３】次に図２の×印に示すように、発光ダイオ
ード２により欠陥Ｄの表面にレーザー光を投光する。そ
して欠陥Ｄからの反射光を位置検出素子６にて受光し、
その位置検出素子６からの出力信号により、上述のよう
に欠陥Ｄの表面までの距離を計測する。また図２の×印
に示すように、欠陥Ｄ以外の被検査物Ａの表面の場所で
上述の操作を繰り返して被検査物Ａの表面までの距離を
計測する。これにより欠陥Ｄの高さを測定することがで
きる。
ード２により欠陥Ｄの表面にレーザー光を投光する。そ
して欠陥Ｄからの反射光を位置検出素子６にて受光し、
その位置検出素子６からの出力信号により、上述のよう
に欠陥Ｄの表面までの距離を計測する。また図２の×印
に示すように、欠陥Ｄ以外の被検査物Ａの表面の場所で
上述の操作を繰り返して被検査物Ａの表面までの距離を
計測する。これにより欠陥Ｄの高さを測定することがで
きる。
【００１４】ここで図２の×印は、レーザー光の投光箇
所を示しているものであり、レーザー光を投光して欠陥
Ｄの高さを測定する場合に、欠陥Ｄの箇所と被検査物Ａ
の箇所の少なくとも２か所レーザー光を投光すれば欠陥
Ｄの高さを測定できるが、図２に示すように、２か所以
上にレーザー光を投光して欠陥Ｄの高さを測定するよう
にすれば、測定精度を向上し得る。
所を示しているものであり、レーザー光を投光して欠陥
Ｄの高さを測定する場合に、欠陥Ｄの箇所と被検査物Ａ
の箇所の少なくとも２か所レーザー光を投光すれば欠陥
Ｄの高さを測定できるが、図２に示すように、２か所以
上にレーザー光を投光して欠陥Ｄの高さを測定するよう
にすれば、測定精度を向上し得る。
【００１５】なお被検査物Ａや欠陥Ｄの表面までの距離
を測定する方法として、本実施例では発光ダイオード
２、位置検出素子６等を用いて構成したが、距離を測定
できる装置であればどのような構成のものでもよい。
を測定する方法として、本実施例では発光ダイオード
２、位置検出素子６等を用いて構成したが、距離を測定
できる装置であればどのような構成のものでもよい。
【００１６】
【発明の効果】以上のようにこの発明の被検査物の欠陥
高さ測定装置によれば、被検査物の表面の欠陥を検出し
た場合には、その欠陥の高さを測定し、その高さが許容
範囲内であれば、欠陥を検出してもすべてを不良品とし
ないようにすることができるので、製品歩留りを向上す
ることができる。
高さ測定装置によれば、被検査物の表面の欠陥を検出し
た場合には、その欠陥の高さを測定し、その高さが許容
範囲内であれば、欠陥を検出してもすべてを不良品とし
ないようにすることができるので、製品歩留りを向上す
ることができる。
【図１】本発明の実施例の欠陥の高さ測定装置の概略構
成図である。
成図である。
【図２】本発明の実施例のレーザー光を投光する場合の
説明図である。
説明図である。
１ 駆動回路 ２ 発光ダイオード ３ 投光用光学系 ４ 顕微鏡 ５ 受光用光学系 ６ 位置検出素子 ７ 信号処理回路 ８ 演算部 ９ 表示部 Ａ 被検査物 Ｄ 欠陥
Claims (1)
- 【請求項１】 被検査物（Ａ）の表面と該被検査物
（Ａ）の表面に存在する欠陥（Ｄ）の表面とに光を投光
し、その反射光を受光する位置検出素子（６）と、この
位置検出素子（６）からの信号により欠陥（Ｄ）の高さ
を測定する制御手段（８）とを備えたことを特徴とする
被検査物の欠陥高さ測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25207593A JPH07270127A (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | 被検査物の欠陥高さ測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25207593A JPH07270127A (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | 被検査物の欠陥高さ測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07270127A true JPH07270127A (ja) | 1995-10-20 |
Family
ID=17232206
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25207593A Pending JPH07270127A (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | 被検査物の欠陥高さ測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07270127A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001081864A1 (fr) * | 2000-04-25 | 2001-11-01 | Advantest Corporation | Dispositif de mesure utilisant un faisceau electronique |
| JP2017116447A (ja) * | 2015-12-25 | 2017-06-29 | 大和ハウス工業株式会社 | 検査装置及び検査方法 |
-
1993
- 1993-08-31 JP JP25207593A patent/JPH07270127A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001081864A1 (fr) * | 2000-04-25 | 2001-11-01 | Advantest Corporation | Dispositif de mesure utilisant un faisceau electronique |
| JP2017116447A (ja) * | 2015-12-25 | 2017-06-29 | 大和ハウス工業株式会社 | 検査装置及び検査方法 |
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