JPS59184749A - 光通信ガラスフアイバ−静電スプレ−塗装用被覆剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本完明は光通信ガラスファイバー用被覆剤、詳しくは、
カラスファイバーをガラスファイバーと被覆剤のもつ電
荷のちがい乞利用して、スプレー塗装するのに適した活
性エネルギー線硬化型被覆剤に関するものである。

光通信カラスファイバーは、節度保持、マイクロベンデ
ィングの防止などの目的のために、プリフォームを浴融
し、線引き後、直ちにその上にプラスチック、例えばボ
リウレクン、エポキシ樹脂、シリコン樹脂などによるプ
ライマリ−コートをするのが一般的である。現在、シリ
コン樹脂及びウレタンアクリレート及びエポキシアクリ
レートなどの紫外線硬化型被覆剤が、ダイスを用いた浸
漬塗装によるプライマリ−コート材料として供されてい
るがこの浸漬塗装においては、一定膜厚に塗装する条件
を決めろことが非富に難しく、またファイバーの生産性
を上げるため高速でファイバーを線引きし、それに塗装
する場合、被覆剤がはじきとばされて塗装できたい状態
が発生する。更にダイスによる浸漬塗装には、表面が平
坦で膜厚変動の少ない２０μｍ以下の薄い塗膜を形成し
えないという欠点がある。

膜厚が２０μｍ以下の塗膜を形成させるｆｆ（１便な塗
装法としてはスプレー塗装があるが、ガラスファイバー
の反対側］への被覆剤のまわり込みが十分になされない
ために外周に平滑で均一な厚さの塗膜を形成することが
難しく、また塗装効率も悪いなどの欠点を有している。

本発明者等は、かかる従来公知のダイスを利用した浸漬
塗装又はスプレー塗装による光通信ガラスファイバーの
プライマリ−コート法のもつ欠点を改良すべく鋭意検討
した結果、特定の粘度および固有抵抗をもつ活性エネル
ギー線硬化型被覆剤を用いて静電スプレー塗装を行った
場合にはｊ良近、１〜２００μｍの平滑でｊ模厚変動の
少ないプライマリ−コート層を容易に効軍よく形成でき
ることを見い出し、本発明を完成するに至つブこ。

すなわち本発明は、活性エネルギー線によって硬化する
、２５Ｃにおける粘度（Ｂ型回転粘度に１、ローター魔
１〜４．６Ｏｒｐｍ）が５〜５０００　ｃｐａ、　３０
　ＣＫおける固有抵抗（ＪＩＳ　　Ｋ−６７５１に基づ
く）が１０５〜１０１δΩのであることを特徴とする光
通信方ラスファイバー静電スプレー塗装用被覆剤を提供
するものである。

本発明で言う静電スプレー塗装とは、近傍で正あるいは
負の高電圧の印塀ななされた、あるいはなされていない
光通信カラスファイバーに対して、カラスファイバーの
もつ電荷と異なった電荷をもつ被覆剤をスプレー塗装す
ることを言い、ガラスファイバーが正の電荷をもつ場合
にはゼロあるいは負の電荷をもつ被覆剤を、負の電荷を
もつ場合には正あるいはゼロの電荷をもつ被覆剤を、ゼ
ロの電荷をもつ場合（高電圧の印加をなされ、ない場合
）には正あるいは負の被覆剤をそれぞれスプレー塗装す
ることであり、必ずしもスプレーされる被穆剤自体が電
荷を帯びている必要はない。

本発明の被捷剤を用いた静電スプレー塗装は、ガラスフ
ァイバーと被覆剤のもつ電荷の違いから生ずる静電力を
用いて塗装しているために、高速であっても被キ崖剤が
はじき飛ばされることがなく、ガラスファイバーの全周
にわたって＝覆剤が均一にまわり込み、良好に付着する
ので非常に塗装効率が良い。更に、電荷の反発により被
覆剤のガラスファイバーへの付着過程が終了するため、
形成された塗膜の厚さ変動が少なく表面も平滑であると
いう利点を有して（・ろ。

このような静電スプレー塗装に用いろ本発明の活性エネ
ルギー線硬化型被覆剤は、活性エネルギー線によってラ
ジカル重合、チオール・エン反応のようなラジカル付加
重合、あるいはエポキシの開環重合のようなカチオン重
合などの重合様式により硬化する軍合体形成物賞を主成
分とし、公費ならば光重合開始剤、光増感剤、導電性化
合物、その他の樹脂成分、各種添加剤など加え、混合し
て得られる。

活性エネルギー線によりラジカル重合する重合体形成物
實としては、例えば（ａｔ脂肋族、脂環族、芳香脂肪族
の多価アルコールおよびポリアルキレングリコールのモ
ノおよびポリ（メタ）アクリレート、（ｂｌ脂肪族、脂
環族、芳香脂肪族、芳香族２〜６価の多価アルコールに
アルキレンオキサイドを付加させた形の多価アルコール
のモノおよびポリ（メタ）アクリレート、（ｃ１モノお
よびポリ（メタンアクリロイルオキシアルキルリン酸エ
ステル、（ｄｉポリエステルモノおよびポリ（メタ）ア
クリレート、（ｅ）エポキシモノおよびポリ（メタ）ア
クリレート、（ｆ）ポリウレタンモノおよびポリ（メタ
）アクリレート、（ｇ＋ポリアミドモノおよびポリ（メ
タ）アクリレート、（ｈｌポリシロキサンモノおよびポ
リ（メタ）アクリレ−）、ｉｉｌ側鎖および／又は末端
に（メタ）アクリロイルオキシ基を有するビニル系又は
ジエン糸低ｌ゛合体、ｆｊｌ前記の重合性（メタ）アク
リレートの変性物、（ｋｌアリル化合物等のラジカル重
合性不飽和化合物が挙げられ、それぞれ単独で、あるい
は併用して使用する。

ラジカル付加重合する重合体形成物質としては、上記の
ラジカル重合性不飽和化合物と、ポリチオール化合物、
例えはペンタエリスリトールテトラキス（チオグリコレ
ート）、ペンタエリスリトールテトラキス（β−メルカ
プトプロピオネ−））、■・リメチロールブロバントリ
ス（チオグリコレート）、トリメチロールプロパントリ
ス（β−メルカプトプロピオネート）、エチレングリコ
ールビス（チオグリコレート）、エチレングリコールビ
ス（β−メルカプトプロピオ、＊−））、ポリプロピレ
ンエーテルグリコールビス（β−メルカプトプロピオネ
ート）などとの混合物が挙げられる。

また、カチオン重合する重合体形成物質としては、例え
ば少なくとも１個の芳香族核を有する多価フェノール又
はアルキレンオキサイド付加体のポリグリシジルエーテ
ルなどの芳香族エポキシ脂肪、少なくとも１個の脂環を
有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル又はシ
クロヘキセン又はシクロペンテン環含有化合物を過酸化
水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによ
って得られるシクロヘキセンオキサイド又はシクロペン
テンオキサイド含有化合物および水素添加ビスフェノー
ルＡ又はそのアルキレンオキサイド付加物とエピクロル
ヒドリンとの反応により製造されるグリシジルエーテル
などの脂環族エポキシ樹脂、脂肪族多価アルコール又は
そのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエー
テルなどの脂肪族エポキシ樹脂等が挙げられ、それぞれ
単独で、あるいは併用して使用する。

なかでも反応性化合物の種類が豊富であり、硬化塗膜の
物性を自由に変えることができる点でラジカル重合性不
飽和化合物を重合体形成物質として用いろことが好まし
い。

前記［ａｌ〜（ｋ＋のラジカル重合性不飽和化合物のな
かでも好ましいのは、分子内にテトラヒドロフラン域、
シクロヘキシル環、シクロヘキセン域、ベンゼン環、ピ
リジン域、トリアジン環、ジシクロペンテン域等の如き
原子数５以上の環状骨格（以下、単に環状骨格と称す）
と、末端エチレン基とをそれぞれ少なくとも１個有する
不飽和化合物である。

分子内に環状骨格を少なくとも１個有し、宋躊エチレン
基を１個有する単官能不飽和化合物（以下、単に単官能
不飽和化合物と称−ｆ）としては、テトラヒドロフルフ
リルアルコール、アルキル論換フェノキシエタノール、
シクロヘキシルアルコール、ベンジルアルコール７、Ｃ
トノｋｌＸ状骨格ヲ有する一価のアルコールと（メタ）
アクリル酸とのエステル化又は低級（メタ）アクリル酸
エステルとのエステル交換により製造される化合物、フ
ェニルグリシジルエーテル、ｍ　　ｕｐ−クレジルグリ
シジルエーテルなどの環状骨格を有し、エポキシ基を１
個有する単官能エポキシ化合物と（メタ）アクリル酸に
よる開環反応物、安息香酸、テトラヒドロ無水フタル酸
、無水フタル酸などの環状骨格を有する一価のカルボン
酸又はカルボン酸無水物とβ−ヒドロキシエチル（メタ
）アクリレートなどの水酸基を有する（メタ）アクリル
酸エステルとのエステル反応により製造される化合物な
どが挙げられ、特に前記（ａｔ〜（ｅｌに含まれる単官
能不飽和化合物が好ましく用いられる化合物である。例
えハ、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル
（メタ）アクリレート、 一般式 〔式中、Ｒ１は水素原子、メチル基、Ｒ２は？・ （−ＣＨ２Ｃ）１２０＋ｎ＋ＣＨＣＨ２０−）−ｎ（ｎ
は１〜１０の整数）、Ｒ，は水素原子、炭素数１〜２０
４でのアルキル基乞示す。］、 一般式 ％式％ 一般式 ＋１　　　１１　　　１１ ０　　０　　０ 〔式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ４は前記と同じである。〕
、０　　　　　　　　　　　　　　　　　０し式中、ｍ
は０又は１〜５の整数を示し、Ｒ工は前記と同じである
。〕、 一般式 〔式中、Ｒ１は前記と同じである。〕、一般式 〔式中、Ｒ８およびＲ８は前記と同じである。〕、ジシ
クロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテ
ニルオキシエチル（メタ）アクリレートなどがあり、分
子内に環状骨格を少なくとも１個有し、末端エチレン基
を２個以上有する多官能不飽和化合物（以下ト単に多官
能不飽和化合物と称す）としては、水素添加ビスフェノ
ールＡ、２．２′−ヒス（４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、２　
、６−ヒリジンジメタノール、トリス（２−ヒドロキシ
エチル）インシアヌレート、ハイドロキノンビス（２−
ヒドロキシエチル）エーテルなどの環状骨格を有する多
価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化又は
低級（メタ）アクリル酸エステルとのエステル交換によ
り製造される化合物、フタル酸ジグリシジルエステル、
水素添加ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、トリ
グリシジルイソシアヌレートなどの環状骨格を有し、エ
ポキシ基を２個以上有する多官能エポキン化物と（メタ
）アクリル酸による開環反応物、テトラヒドロフタル酸
、フタル酸などの環状骨格を有する多価カルボン酸とβ
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどの水酸基
を有づ−る（メタ）アクリル酸エステルとのニスグル反
応により製造される化合物などが挙げられ、特に前記ｆ
ａｌ〜（ｄｉおよび＋に＋に含まれる多官能不飽和化合
物が好ましく用いられる化合物である。例えは 一般式 ％式％ 〔式中、Ｒ３は−ｃＨ，ｃＨ，−１−ｃＨｃＨ，−、メ
チル基、ｌおよびｋは１＋ｋか０又は１〜１０である整
数を示し、Ｒ□は前記と同じである。〕、一般式 〔式中、Ｒ８は＋ＣＨ２’Ｃ馬Ｏ＋９、（−ＣＨＣ）１
２０＋ｊ、コ ＋Ｃ，Ｌｏｏ＋、、（」は１〜４の整数）を示し、Ｒ１
は」 前５ｅと同じである。〕、 ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリ
ルテレフタレート、トリアリルシアヌレート、トリアリ
ルイソシアヌレートなどがある。

本発明でいう活性エネルギー線とは紫外線および電子線
、ＬＬ線、β線、γ線のような電離性放射線をいい、紫
外線を用いる場合には前記重合体形成物質に光重合開始
剤および／又は光増感剤を含有させることが好１しく、
電子線、γ線のような電離性放射線を用いる場合には光
重合開始剤や光増感剤を含有させなくとも速やかに硬化
するので、特に添加する必要はない。

本発明で必要に応じて重合体形成物貰に添加される光重
合開始剤および光増感剤を挙げると、ラジカル重合用お
よびラジカル付加重合用の光重合開始剤としては、例え
ばベンゾイン、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジ
ル、ベンゾフェノン、ｐ−クロルベンゾフェノン、ｐ−
メトキシベンゾフェノンなどのカルボニル化合中、テト
ラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラ
ムジスルフィドなどのイオウ化合物、アゾビスイソブチ
ロニトリル、アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリ
ルなどのアゾ化合物、ベンゾイルパーオキシド、ジター
シャリブチルパーオキシドなどのパーオキシド化合物等
が植げられ、几増感剤としでは、例えば脂肪族アミン、
芳香歴アミンなどのアミン化合物、Ｏ−＊Ｖルテオ尿素
などの尿累類、ナ）　ＩＪウムジエチルジチオホスフエ
ート、８−ベンジルインチウロニウム−ｐ−トルエンス
ルフォネートなどのイオウ化合物、Ｎ、Ｎ−ジ置換ｐ−
アミノベンゾニトリル化合物などのニトリル類、トリー
ｎ−ブチルホスフィンなどのリン化合物、Ｎ−ニトロソ
ヒドロキシルアミン訪尋体などのその他の蟹素化合物等
が挙げられる。

なかでも好ましいラジカル重合用光重合開始剤としては
、ベンゾフェノン、ベンゾインイソブチルエーテル、４
′−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチル−プロ
ピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオ
フェノン、α、α−ジクロロー４−フエノギシアセトフ
エノン、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン
、ベンジルジメチルケクール、２．２−ジェトキシアセ
トフェノン、クロロチ計キサントン、２−イソブロビル
チオギサントン、カヤキュアーＤＩＴＸ（日本化薬株式
会社製チオキサントン化合物）、カヤキュアーＭＢＰＣ
同社製ベンゾフェノン化合物）、ユベクリルＰ３６（ベ
ルギー国ＵＣＢ社製うジカル重合性高分子奮化ベンゾフ
ェノン）などがあり、好ましいラジカル重合用光増感剤
としては、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジ
メチルアミノ安息香酸イソアミル、４．４′−ビスジエ
チルアミノベンゾフェノン、ユベクリルＰＩＤ４（ベル
ギー国ＵＣＢ社製うジカル重合体篩分子量化第６級アミ
ン化合物）、Ｎ−メチルジェタノールアミン、ジエチル
アミノエチルメタクリレート、トリエチルアミンなどか
ある。

また好ましいラジカル付加重合用光重合開始剤としては
、ベンゾフェノン、０−メトキシベンゾフェノン、ベン
ズ〔α〕アントラセン−７，１２−ジオン、２，２−ジ
エトキシアセトフェノン、２．２−ジメトキシ−２−フ
ェニルアセトフェノンなどがあり、好ましい光増感剤と
してはトリフェニルホスフィン、トリーロートリルホス
フィンなどかある。

カチオン重合用光重合開始剤としては、活性エネルギー
線照射により重合開始能のあるルイス酸を放出するオニ
ウム塩である複塩が挙げられろ。例えばアリルジアゾニ
ウム塩、ジアリルヨードニウム塩、ジアリルクロロニウ
ム塩、ジアリルブロモニウム塩、トリアリルスルホニウ
ム塩、トリアリルセレニウム塩、ジアルキルフェナシル
スルホニウム塩、ヒドロキシフェニルスルホニウム塩、
チオピリリウム塩などがあり、なかでも好ましいのはア
リルジアゾニウムテトラフルオロボレート、ｐ−メトキ
シ−ベンゼンジアゾニウムへキサフルオロフォスフェー
トなどのアリルジアゾニウム塩、ジフェニルヨードニウ
ムへキサフルオロフォスフェート、４．４′−ジーｔｅ
ｒｔ−ブチルジフェニルヨードニウムテトラフルオロボ
レートなどのジアリルヨードニウム！、）　！Ｊフェニ
ルスルホニウムヘキサフルオロフォスフェートなどのト
リアリルスルホニウム塩である。尚カチオン重合の場合
には、光増感剤は通常用いなくてもよい。

これらの光重合開始剤および光増感剤は、重合体形成物
質１００重世部に対してそれぞれ０〜１０重鎗部の範囲
で用いる。なかでも活性エネルギー線として紫外線を用
いる場合には、０．０１〜１［ｌｉ量部の範囲で用いる
のが通常であり、好ましくは１〜８重量部の範囲である
。添加蕾が１ＯＮ１部を越えると貯蔵安定性が悪くなる
ので好ましくない。

尚、重合体形成物質としてラジカル重合性不飽和化合物
を用い、必要に応じて光重合開始剤および／又は光増感
剤を混合して得られた本発明の被覆剤の粘度が大きい場
合には、粘度をＡ整するために低粘度のラジカル重合性
化合物を反応性希釈剤として併用してもよい。反応性希
釈剤として用いられる化合物としては、分子内に天端エ
チレン基を少な（とも１個有し、原子数５以上の環状骨
格を全く有しない、粘度が１０００ｃｐａ以下のラジカ
ル重合性化合物が挙げられ、メチルカルピトール（メタ
）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート
、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テ
トラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリ
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロ
ピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオベンチ
ルグリコールジ（メタ）アクリレート、１．６−ヘキサ
ンシオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプ
ロパントリ（メタ）アクリレートなどが好ましく用いら
れる。その使用針は重合体形成物質１００重量部に対し
て、通常０〜３００重首部、好ましくは０〜２００重量
部の範囲である。更に重合体形成物質がラジカル重合性
不飽和化合物のなかでも特に好ましい単官能不飽和化合
物を主成分とする場合には、該単官能不飽和化合物５０
〜９０軍量％、多官能不飽和化合物０〜３０ｉ址％、反
応性希釈剤０〜５０重鎗％の割合で用いるのが好ましく
、多官能不飽和化合物を主成分とする場合には該多官能
不飽和化合ｄＩＩＪ５０〜７０ｉ鎗％、反応性希釈剤７
０〜６０軍量％の割合で用いるのが好ましい。尚、最も
好ましいものは単官能不飽和化合物を主成分として用い
た場合である。

本発明の被覆剤は、２５Ｃにおける粘度（Ｂ型回転粘度
計、ローター４６１〜４．６Ｏｒｐｍ、以下間４Ｍ）か
５〜５０００　ｃｐｓ、３０Ｃにおける固有抵抗（ＪＩ
Ｓ　　Ｋ−６７５１に基づく、以下同様）が１０ｓ〜１
０１６Ω儂であることが必要である。なかでも２５Ｃに
おける粘度か１０〜１００ｃｐａと十分に低い場合には
比較的低い温度で静電スプレー塗装しても平滑な産膜が
容易に得られるので好ましく、更に膜厚が２０μｍ以下
の比較的薄い平滑な塗膜を効率よく容易に得るためには
、粘度が１０〜４０　ｃｐ”ｓの範囲であることが特に
好ましい。粘度が５００００ｐ８を越える場合には高温
下（通常８０Ｃ以下）で塗装を行っても粘度が十分に低
下しないために平滑な塗膜が得られず、好ましくない。

また、３０Ｃにおける固有抵抗は、なかでも１０６〜１
０１０Ω儂の範囲であることが好ましく、１０ｓΩ儂未
満の場合には電荷が逃げやすいので塗膜形成が十分に行
なわれず、１　（１１６Ωｃｒｎを越える場合には十分
に印加されないために付着性が低く、好ましくない。

本発明の被覆剤を用いて膜厚が１０μｍ以上、好ましく
は２０μｍ以上の表面が平滑で膜厚変動の少ない塗膜を
効率よく得るためには、正あるいは負に被覆剤を印加し
、静電スプレー塗装するに際して、塗装によって塗膜に
蓄積する電荷を逃がす処理をすることが好ましく、静電
スプレー塗装前にカラスファイバー表面をアミンなどの
導電性溶液でコーティングしておくこと、塗装後のカラ
スファイバーに除電器を近づけて除電すること、導電性
を塗膜に与える化合物を含有する被慣剤を用いて塗装し
、艙装硬化後のカラスファイバーを接地することなどが
有効な手段として挙げられる。なかでも導電性を塗膜に
与える化合物（以下、導電性化合物と称ｊ）を本発明の
被値剤に含有させて用いる方法が好ましく、硬化後の被
穆剤の表面抵抗が湿度５０％ＲＩ（において１０６〜１
０１０Ωαの範囲であることが必要であり、なかでも１
０８〜１０′。Ωαの範囲が好ましい。表面抵抗が１０
Ｉ００儂を越える場合には導電性が低すぎるた導電性を
塗膜に与える１こめＶＣ不発明の′坂偉剤に添加される
４電性化合物としては、イオン性モノマー、イオン性尚
分子化合物、カチオン系界叩活注剤、アニオン系界面活
性剤、両件界面活性剤等が挙げられ、それぞれは単独あ
るいは混合して被覆剤に添加、混合して用いられる。

イオン性モノマーとしては、分子内に少なくとも１個の
アミノ基、リン酸基、又はスルホン酸基を有するラジカ
ル重合性不飽和化合物が挙げられ、なかでもリン酸基を
含んだものが好ましく、例えば 一般式 〔式中、Ｒ１は水素原子、メチル基、Ｒ７（・工ＣＢ。

整数）　、　＋ＣＨ？ＣＢ、０＋Ｖ４：ＣＨＣ）１．０
＋ｋ（１、ｋは１＋ｋが２〜３０である整数）、島は炭
素数１〜２０Ｒ４は炭素数１〜２０のアルキル基）、ｎ
は１〜２の整数を示す。〕 で表わされる化合物、 一般式 ［式中、Ｒ８は水素原子、メチル基、ｎは１〜４の整数
、ｍは１〜２の整数、Ｍは水素原子、−価の金属原子、
−Ｎ１（Ｒ迅５Ｒ４（Ｒ２、Ｒ３、ＥＬ４は水素原子又
は天端に水酸基を有してもよいアルキル基）を示す。］
で表わされる化合物、および ジメチルアミンエチル（メタ）アクリレート、ジエチル
アミノエチル（メタ）アクリレート、４−ビニルピリジ
ン、２−ビニルピリジン、ユベクリルＰ１０４（ベルギ
ー国ＵＣＢ社製うジカル重合性高分子渚化第６級アミン
化合物）の如く第６級アミン基乞有するラジカル重合性
不飽和化合物に、 一般式 ％式％ 〔式中、ｎは１〜２０の整数、ｍは１〜２の整数を示す
。〕 で表わされる化合物を、アミノ基に対して０．５〜１，
５モルの割合で加えた混合物などが挙げられ、イオン性
高分子化合物としては、ポリビニルベンジル型カチオン
化合物、ポリアクリル酸型カチオン化合物などが挙げら
れ、なかでもポリアクリル酸型カチオン化合物が好まし
く、例えはニレコンドＰＱ−１０、ＰＱ−５ＤＢ（綜研
化学株式会社製導電性樹脂）などがある。

アニオン系界面活性剤としてはリン酸エステル系、スル
ホン酸系、カルボン酸エステル糸などがあり、なかでも
リン酸エステル系アニオン界面活性剤が好ましく、例え
ば一般式 ％式％） 〔式中、Ｒ１はアルキル基、Ｒ７は＋（ＪｈＣＨ２＋、
、、Ｂ３ ■ （−ＣＨＣＨ２０＋ｎ１（ｍは２〜１０の整数）、ｎ＆
！１−２の整数を示す０］ で表わされる化合物が挙げられ、 カチオン系界面活性剤としては第４′Ｉ＆アンモニウム
塩糸、ビリノニウム塩系などがあり、なかでも第４級ア
ンモニウム塩糸界面活性剤が好ましく、例えは 一般式 〔式中、Ｒ，はアルキル基を示す。〕、一般式 ％式％ 〔式中、Ｒ１はアルキル基、Ｒ２は一〇〇〇Ｒ，，５Ｏ
ｓＲｎ　（Ｒｓは水素原子、アルカリ金属〕を示す。〕
で表わされる化合物などが挙げられる。なかでも好まし
い４電性化合物はイオン性モノマーである。

イオン性モノマー、イオン性高分子化合物の添加量は、
被覆剤中の樹脂成分（必要に応じて反応性希釈剤？混合
した重合体形成物辿、以下同様）１００重量部に対して
、通常１０〜１００重症部、好複しくは１５〜６０車量
部の範囲であり、１０重量部未満では導電性付与の効果
がほとんどな（，１００重を部を越える場合には塗膜の
耐水性等の性能の低下が太ぎくなり、好複しくない。

また、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、
両面活性剤の添加量は、樹脂ｒ＆分１００軍量部に対し
て、通常０．０２〜０．６重修一部、好ましくは０．０
５〜０２重量部の範囲であり、０．０２重に部未満では
嗜、電性付力の効果がほとんどなく、０．６重ル一部を
越える場合には平滑な塗膜が得られなくなり、好ましく
ない。尚、これらの導電性化合物を添加混合された本発
明の被覆剤であっても、本発明で用いる静電スプンー塗
装に適した粘度ぢよび尚有抵抗を有する必要があるのは
勿論である。

次に本発明の被検材を用いた静電スプレー塗装を図面に
より説明する。

第１図はカラスファイバーの静電スプレー塗装σつ一例
を示す工程図である。未コーティングのガラスファイノ
（−１は、プリフォーム２が炉乙により加熱俗融された
後、垂直方向に線引きされ、静電荷をもたせるために高
電圧発生器４の近傍を通過した後、電気霧化式静電スプ
レー塗装装置５によりガラスファイバーのもつ静電荷と
は異゛なる静電荷な有する被覆剤をスプレー塗装されろ
。次いで塗装されたガラスファイバーは活性エネルギー
線照射部６を通過し、硬化した被膜を有する被覆ガラス
ファイノく−７として得られた後、キャプスタン８を通
り、巻取ドラム９に巻取られろ。これに際して、高電圧
発生器４と静電スプレー塗装装置５を近接すると静電荷
が中和されるのでつい立て等７用いるなどの方法により
隔離した状態に保つことが重要であり、静電スプレー塗
装装置５は１台とは限らず、２台以上使用してもよい。

また被覆剤を効率的に使用するためにボックス１０内で
塗装するなどして被覆剤を回収し、再使用してもよい。

本発明の被覆剤を静電スプレー塗装するに際して、ガラ
スファイバーおよび／又は本発明の被覆剤に正あるいは
負の高電圧を印加させるために高電圧発生器により発生
させる電圧の大きさは、絶対値で通常１０〜１００ＫＶ
、好ましくは２０〜９０ＫＶの範囲であり、この電圧の
大きさを調節することにより、塗膜の厚さをコントロー
ルできろ。

本発明の被覆剤？用いて行なう静電スプレー塗装は、被
覆剤の反応性が高いために熱１合しやすいので、８０Ｃ
以下の温度下で行なうのが通常であり、好ましくは２０
〜５０Ｃの範囲である。なかでも季節的温度変化にとら
れれず被覆剤の粘度管理をするためには３０〜４０Ｃの
範囲で行なうのが最適である。複た、塗装に除しては均
一に微粒子化した被覆剤を高密度で吹き付けることが重
要であり、吐出楡が通常１〜１００　ＴＬｌ／ｍｉ　ｎ
　、好ましくば２〜５０ｍＶｍｉｎの範囲、被覆剤の平
均粒子径が通常１〜２００μｍ、好ましくは２〜１００
μｍの範囲であることが望まれるため、被覆剤の供給方
式、粘度、固有抵抗、印加電圧、ノズル径、吹付距離、
温度等を適切に選択する必要があり、ノズル径は通常［
１，２〜５Ｂ、好ましくは０．３〜２ｗｍの範囲で、吹
付距離は通常１０〜３０ｃｍ、好ましくは１５〜２０α
の範囲である。

静電スプレー塗装量ては、被捷剤に高電圧の印加を行な
わない場合にはエアスプレー法あるいはエアレススプレ
ー法が有効であり、正あるいは負の高電圧を印加する場
合には斑気霧化式静電スプレー法、空気霧化式静電スプ
レー法、エアレス霧化式静電スプレー法が有効である。

電気霧化式静電スプレー法としてはベル、グルーブトミ
ニベル（以上、日本シンズバーグ社製）があり、空気楊
化式靜電スプレー法としてはＲＥＡ、オー）ＲＥＡ（以
上、日本ランズバーグ社製）、ＥＧＤ−１Ｂ、　ＥＧＤ
−２Ｂ　（以上、岩田塗装機工業製）、ＥＨＫ−５７０
１，ＡＧＣ（以上、日本デビルビス社製）、ホワイトボ
ン９Ｓ、ＡＤＲ−２０Ｃ以上、日本工芸工業製）、ＮＡ
Ｅ−ＩＭ、ＮＡＥ−ＩＡ（以上、ノードソン社製）、Ｅ
ＡＢ−２０、ＥＡＢ−３０、ＨＢ−８０、ＨＢ−７０、
）ＩＢ−５４（ナカヤ工業製）などがあり、エアレス霧
化式静電、スプレー法としてはＡＰＥＧ−Ｈ旭太隈産業
製）、ＥＧＤ−３（岩田産装機工業社製）、ＥＨＨ−５
８０（日本デビルビス社＃）、ＲＥＨ（日本ランズバー
ク社製）、ＬＤＧ−３（日本工芸工業社製）　、Ｍｏｄ
ｅＣ（ノードンン社製）などがある。

静電スプレー塗装さねた塗膜を硬化させろための紫外線
源としては、キセノンランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯
、超高圧水銀灯などが挙げられ、電子線源としては２０
〜２０００　ＫＶの電子線加速器が挙げられる。紫外線
、電子線などの活性エネルギー線を照射する雰囲気とし
ては、窒素ガス、炭酸ガスなどの不活性ガス雰囲気ある
いは酸素濃度を低下させた雰囲気が勿論好ましいが、通
常の空気雰囲気でもよい。照射雰囲気温度としては、常
温でも、積極的に加温して硬化反応に熱を利用してもよ
く、通常１０〜２００Ｃの範囲である。

本発明の被覆剤中の樹脂成分には、可撓性、強靭性、密
着性、硬化性等の物性ヲ調整するために、活性エネルギ
ー線硬化性の少ないあるいはない化合物、シランカップ
リング剤、チタンカップリング剤、充填剤などを適宜添
加して使用でき、また着色するために染料、顔料、体質
顔料を添加することもできる。尚、ラジカル重合性ある
いはラジカル付加重合性不飽和化合物を生成分とする場
合に活性エネルギー線硬化性の少ないあるいはない化合
物としては、例エバエチレングリコールジグリシジルエ
ーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテ
ル、フタル酸ジグリシジルエステル、ジシクロペンタジ
ェンジオキシドなどの低粘ｉエポキシ樹脂、８石ポリブ
タジェンＢ−１０００（日本石油化学株式会社−ＩＪ）
、Ｎｌ５Ｓ−ＰＢ　　Ｇ−１０００（日本曹達株式会社
製）、Ｈｙｃａｒ　ＣＴＢＮ　　１３００Ｘ１５、ＣＴ
ＢＮ　　ｌ５ＯＯＸ８　（宇部興産株式会社製）、Ｐｏ
１ｙｂｄＲ−４５ＢＴ、Ｒ−４５Ｍ　　（出光石油化学
株式会社製）、Ｐｏ１ｙｏｉｌ　　１１０　（西独国ヒ
ュルス社製）などの液状ポリブタジェン、ＥＰ−ＬＣＢ
−３０，５０（日本ゼオン株式会社製エポキシ化ポリブ
タジェン）−ＮＩＳＳＯ−ＰＢ　　ＢＦ−１０００（日
本曹達株式会社製エポキシ変性ポリブタジェン、Ｎｌ５
ＳＯ−ＰＢ　ＧＱ−１０００，２０００（同社製ボイル
変性ポリブタジェン）、Ｎｌ５ＳＯ−ＰＢ　　ＢＮ−’
１−０１０．２０１０．６０１０、ＣＮ−１０１０（同
社製マレイン化ポリブタジェン）などの液状ポリブタジ
ェン訪導体、液状クロロプレン、液状ポリペンタジェン
、ジシクロペンタジェン誘導体、飽和ポリエステルオリ
ゴマー、液状ポリアミド、ポリイソシアナートオリゴマ
ー、キシレン樹脂、ケトン１′ｔ１脂、石油樹脂、フッ
素系オリゴマー、シリコン系オリゴマー、ポリサルファ
イド系オリゴマーなどが挙げられ、特に塗膜に可撓性を
もたせるために液状ポリブタジェン、液状ポリブタジェ
ン誘導体を樹脂成分１００重奮部に対して５〜１００重
針部、好ましくは１０〜８０重量部の範囲で添加するこ
とが望ましい。

また本発明の被覆剤は、ファイバー状、線状、シート状
、板状など形状をもつガラス、セラミック、プラスチッ
クなどの絶縁物、あるいは炭素繊維等に対する静電スプ
レー塗装にも使用できる。

ガラスファイバーの被覆においては、プライマリ−コー
トのみならずクラッド層の形成、プライマリ−コートの
上層の形成およびマーキングなどに使用できる。

以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明これ
ら実施例によって何ら制限されるものではない。尚、例
中の部はすべて重針部を示す。

実施例　１ テトラヒドロフルフリルアクリレート（以下、ＴＩ（Ｆ
−Ａと称ｊ）７５部に、２，２−ビス（４−アクリロキ
シジェトキシフェニル）プロパン（以下、Ａ−ＢＰＥ−
Ａと称ｔ）２５部とベンゾインイソブチルエーテル（以
下、ＢＢＩと称す）５部とを加え、攪拌混合し、溶解さ
せて、本発明の光通信ガラスファイバー静電スプレー用
被覆剤を調整した。

この被覆剤の２５Ｃにおける粘度は１１．０ｃｐａ、ｌ
ｃにおける固有抵抗は８．２Ｘ１０’Ωのであった。得
られた被覆剤ヲランズバーグ魔２プロセスミニベル型静
電ス−ｙ’ｖ−塗装機（日本ランズバーグ社製）を用い
て、塗装温度２５Ｃ１設定印加電圧−６０ＫＶ、ベル回
転数２０００　Ｏｒｐｍ、吐出音１０　ｍｌｖ／ｍｉ　
ｎの条件で、５０　ｍ／ｍｉｎの速度で線引きされ、静
電気を印加されていない直径１２５μｍのガラスファイ
バーの表面に静電スプレー塗装した後、紫外線を照射（
ランプ出力２■、２本）し、被覆剤を硬化させて被覆ガ
ラスファイバーを得た。得られた被覆ガラスファイバー
の硬化塗膜の庫さは２μｍであり、顕微鏡観察したとこ
ろ表面は平滑で厚さの変動も少なかった。次いで、前記
の被覆剤をシート状に硬化させて表面抵抗を渭１足した
ところ、２５Ｃ，５０％ＲＨにおいて２．３　Ｘ　１０
”Ωαであつ池尚、表面抵抗の測定は、平行に配した２
本の高圧水銀灯（入力１２０　Ｗ／ａｘ、ランプ出力５
１Ｗ）を１５ＱＲの位置から被覆剤に照射して（コンベ
アスピード５０　ｍ／ｍｉｎ　）厚さ２００μｍの硬化
シートを得、２５ｔｌ’、５０％ＲＨにおいてＨｉｇｈ
　ＭＥＧＯＨＭ　ＭＥＴＥＲＴＲ−８（Ｓｏｌ　（タケ
ダ埋研製）を用い、プラスチック実用試験ハンドブック
（工業調査金利）に準じて直流５００ｖ、１分間充電後
の条件で行った。

実施例２〜２５および比較例１ 第１〜３表に示す組成で被覆剤原料を混合して本発明の
被覆剤を調整し、次いで同表に示した条件で静電スプレ
ー塗装した以外は実施例１と同様にして被穆ガラスファ
イバーを得た。その結果を第１〜４表に示す。

尚、第４表に示したショア硬度Ａおよびヤング率の測定
は、平行に配した２本の高圧水銀灯（入力１２０　Ｗ／
ｃｔｎ、ランプ出力５ＫｉＶ）を１５ｍの位置から被覆
剤に照射して（コンベアスピード５０　ｍ／ｍｉｎ　）
得られた厚さ２００μｍの硬化シートを用いて行った。

ヤング率は引張試験（引張速度２０　ｍ１ｍ１ｎ　、温
度２０Ｃ）により測定した。

尚、第１〜６表で用いた被覆剤原料の略称を以下に示す
。

１１１　　重合体形成物質（反応性希釈剤も含む）ＴＨ
ＦＡ　　：テトラヒドロフルフリルアクリレートＢＰ４
ＥＡ・：２，２−ビス（４−アクリルオキシジェトキシ
フェニル〕プロパン ＣＨＡ　　：シクロヘキシルアクリレートト ＴＭＰＴＡ：　）リメチロールプロパントリアクリＬ／
−ト１６ＨＸＡ：　１．６−ヘキサンジオールジアクリ
レートＤＰＡＥＰニジフェニル−２−アクリロイルオキ
シエチルホスフェート ＨＰＰＡ：２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルア
クリレート ＮＰＧＡ　　：ネオベンチルグリコールジアクリレート
４ＥＧＡ　　：デトラエチレングリコールジアクリレー
トＢＤＥＧＰＡ： ＤＡＰ　　ニジアリル−〇−フタレートクィンビーム１
ｏ１：日本ゼオン株式会社製アクリル変性液状ポリブタ
ンエン ＥＥＥＡ　　：エトキシェトキシエチルアクリレートＢ
ＥＣＭＡ：　水１ｉ＆添加ビスフェノールＡジグリシジ
ルエーテル １６ＨＸＤＧＥ　：　　１．６−ヘキサンジオールジグ
リシジルエーテル ＥＧＭＰ　　：エチレングリコールビス（β−メルカプ
トプロピオネート） （２）光重合開始剤 ＢＢＩ　　：ペンゾインイソブチルエーテルＢＰ　　：
ベンゾフエノン ｃｎｐｎｒｐ：バラクロロベンゼンジアゾニウムへキサ
フルオロホスフェート （３）光増感剤 ＮＭＤＥＡ：Ｎ−メチルジェタノールアミン（４）導電
性化合物 ＰＭ−１： ＰＭ−２： ＯＨＬ：ｋｌａ　　　υ ＰＭ−３： Ｃ） ＰＭ−１０：モノイソデシルホスフェートｐ−１ｏ４：
ベルギー国ＵＣＢ社製第３級アミン基を有するラジカル
重合性不飽和化合物、商品名工ベクリルＰ−’１０４ ＤＳＢＡ　＝ジメチルステアリルベンジルアンモニウム
クロライド ＤＤＰ−２：日光ケミカルズ株式会社製ジポリオキシエ
チレンアルキルリン酸エステル、商品名ニラコールＤＤ
Ｐ−２ ＭＳ−０７２：サンノプコ株式会社製イミダシリン環を
有するカチオン系界面活性剤、閤品名ノプコスタット−
０７２ （５）その他 ＬＣＢ−ＥＰ−５０：日本ゼオン株式会社製エポキシ化
ポリブタジエン

【図面の簡単な説明】

第１図は左うスファイノく−の静電スプＶ−塗装の一例
を示す工程図である。 １ニガラスフアイバー、　２ニブリフオーム、６：炉、
　４：高電圧発生器、５：静電スプレー装置、６：活性
エネルギー線照射部、 ７：抜枠ガラスファイバー、　８：キャプスタン、９：
巻取ドラム、　　　　１０：ボックス。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ｒ占性エネルギー線によって硬化する、２５Ｃにおける
   粘度が５〜５　Ｄ　Ｄ　Ｄ　ｃｐｓ、３［ＩＣにおける
   固有抵抗が１０５〜１０１６Ω儂であることを特徴とす
   る光通信ガラスファイバー静電スプレー塗装用被覆剤。