JPS59181569A - カラ−固体撮像素子の製造方法 - Google Patents
カラ−固体撮像素子の製造方法Info
- Publication number
- JPS59181569A JPS59181569A JP58055551A JP5555183A JPS59181569A JP S59181569 A JPS59181569 A JP S59181569A JP 58055551 A JP58055551 A JP 58055551A JP 5555183 A JP5555183 A JP 5555183A JP S59181569 A JPS59181569 A JP S59181569A
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- JP
- Japan
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- soluble
- water
- resist
- oil
- layer
- Prior art date
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- Pending
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/30—Coatings
- H10F77/306—Coatings for devices having potential barriers
- H10F77/331—Coatings for devices having potential barriers for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はカラー固体撮像索子の製造方法に関するO
〔発明の技術的背玖〕
カラー固体4% (*素子は、小型軽:イ1、低消費電
力、高信頼性、長):J命などのすぐれた特徴を有し、
多くの用途が期待されている。そして、VTRカメラ用
として大きな需要が右柱しているため、開発が精力的に
なされている。カラー固体撮像索子は、カメラの光学系
を介して入射された光を、赤、青、緑あるいはこれらの
補色等に色分師し、カラー信第7図を参照して従来のカ
ラー固体撮像素子の製造方法を説明する。第1図は固体
撮像素子の受光面にカラーフィルタを形成する工程を説
明する図である。半導体基板/には入射された光信号を
電気信号に変換する光ダイオートコを配置し、それらを
図示しない走査回路によってつなぐ。その上には、絶縁
膜(例えば5in2膜)3を介して素子を保護するため
のノにツシペーション膜(例工ばPSG胛、)lIを股
げ、その上には受光面を平滑化するための平滑層(例え
ば透明高分子樹脂層)5を設ける。そして、平滑層Sの
上にはフォトレジスト6を塗布する。ここで、フォトレ
ジスト材料としては、ゼラチンやカゼイン等の蛋白質ま
たはヂリビニルアルコール(以下「PvA」という)に
、感光剤として重クロム酸アンモニウム(以下「ADC
」という)を添加したものがある(第1図(a))。
力、高信頼性、長):J命などのすぐれた特徴を有し、
多くの用途が期待されている。そして、VTRカメラ用
として大きな需要が右柱しているため、開発が精力的に
なされている。カラー固体撮像索子は、カメラの光学系
を介して入射された光を、赤、青、緑あるいはこれらの
補色等に色分師し、カラー信第7図を参照して従来のカ
ラー固体撮像素子の製造方法を説明する。第1図は固体
撮像素子の受光面にカラーフィルタを形成する工程を説
明する図である。半導体基板/には入射された光信号を
電気信号に変換する光ダイオートコを配置し、それらを
図示しない走査回路によってつなぐ。その上には、絶縁
膜(例えば5in2膜)3を介して素子を保護するため
のノにツシペーション膜(例工ばPSG胛、)lIを股
げ、その上には受光面を平滑化するための平滑層(例え
ば透明高分子樹脂層)5を設ける。そして、平滑層Sの
上にはフォトレジスト6を塗布する。ここで、フォトレ
ジスト材料としては、ゼラチンやカゼイン等の蛋白質ま
たはヂリビニルアルコール(以下「PvA」という)に
、感光剤として重クロム酸アンモニウム(以下「ADC
」という)を添加したものがある(第1図(a))。
次いで、フォトレジスト乙を所定の形状に、Rターニン
グし、染色するための領域を残したのちシアンで染色し
、第1の染色層7とする(第7図(b))。
グし、染色するための領域を残したのちシアンで染色し
、第1の染色層7とする(第7図(b))。
次いで、透明高分子4t(脂からなる411色防止膜(
中間層)gを設ける(第7図(C))。
中間層)gを設ける(第7図(C))。
以下同様にして、第ツの染色層qおよびオー、4−コー
ト(保護層)10を形成し、多色用のカラー固体撮像素
子とする(第1図(d))。
ト(保護層)10を形成し、多色用のカラー固体撮像素
子とする(第1図(d))。
上記の如〈従来方法において、ゼラチンやカゼイン等の
蛋白質をフォトレジストの材料として用いると、カラー
フィルタの製造工程におけるパターン形成の制御が困姉
になる。なぜならば、これら蛋白質は品質の一定なもの
を得ることが姉しく、保存安定性も乏しいからである。
蛋白質をフォトレジストの材料として用いると、カラー
フィルタの製造工程におけるパターン形成の制御が困姉
になる。なぜならば、これら蛋白質は品質の一定なもの
を得ることが姉しく、保存安定性も乏しいからである。
壕だ、ADOを感光剤とするフオトレジヌl−利料は、
プリベーク温度により最適条件の露光量が変化してパタ
ーン形成時に熱かぶり現象(レジストのパターンの端部
が残って色が市なる現象)が発生するため、製造条件を
厳密に管現しなげればならない。
プリベーク温度により最適条件の露光量が変化してパタ
ーン形成時に熱かぶり現象(レジストのパターンの端部
が残って色が市なる現象)が発生するため、製造条件を
厳密に管現しなげればならない。
また、従来は異なる染色層を重ねる際には混色を防止す
るため、透明な中間層を設けているので、製造工程が複
雑になっている。
るため、透明な中間層を設けているので、製造工程が複
雑になっている。
本発明は上記の従来技術の欠点に〆゛みてなされたもの
で、温度、札光箭等の製造条件を緩和することができる
と共に、異なる染色層を重ねる際にも製造工程奮複傭に
することのないカラー固体撮像素子の製造方法を提供す
ることを目的とする。
で、温度、札光箭等の製造条件を緩和することができる
と共に、異なる染色層を重ねる際にも製造工程奮複傭に
することのないカラー固体撮像素子の製造方法を提供す
ることを目的とする。
上記の目的を実現するため本発明は、■体掃像牙゛子の
受光面に水溶性レジストを塗付して、eターニングし、
その上に油溶性のレジストを塗付して・ξターニングし
、この油溶性レジストヲマスクにして水溶性レジストを
水溶性染料により染色して染色1〆とするカラー固体撮
像素子の製造方法、および上記の染色層と油溶性レジス
トからなる層の上に、透明な中間膜を介在させないで異
なる色の染色層と油溶性レジストからなる層を形成する
カラー固体撮像素子の製造方法を捉供するものである。
受光面に水溶性レジストを塗付して、eターニングし、
その上に油溶性のレジストを塗付して・ξターニングし
、この油溶性レジストヲマスクにして水溶性レジストを
水溶性染料により染色して染色1〆とするカラー固体撮
像素子の製造方法、および上記の染色層と油溶性レジス
トからなる層の上に、透明な中間膜を介在させないで異
なる色の染色層と油溶性レジストからなる層を形成する
カラー固体撮像素子の製造方法を捉供するものである。
第一図を参照して本発明に係る製造工、冑をより詳卸+
Vこ説明する。第一図は本発明に・係る方法によってカ
ラー固体撮像素子を製造する工作を説明する”図で、第
7図と同一の要素は同一の省1号で示す。
Vこ説明する。第一図は本発明に・係る方法によってカ
ラー固体撮像素子を製造する工作を説明する”図で、第
7図と同一の要素は同一の省1号で示す。
第1図(a)に示したのと同様の工秤により、固体撮像
素子の受光面を平滑化するlI的で膜)L7.o、s〜
ス、0μmの平滑層5を設け、その上に水溶性のレノス
ト材料100 (例えはゼラチンやカゼイン等の蛋白質
またはPVAにl叱光剤としてADCを添加したもの)
を01S−コ、OμmのlI6・ノ9にて、ゾノプザイ
ズの・ξターンで塗付する(第一図(a))。
素子の受光面を平滑化するlI的で膜)L7.o、s〜
ス、0μmの平滑層5を設け、その上に水溶性のレノス
ト材料100 (例えはゼラチンやカゼイン等の蛋白質
またはPVAにl叱光剤としてADCを添加したもの)
を01S−コ、OμmのlI6・ノ9にて、ゾノプザイ
ズの・ξターンで塗付する(第一図(a))。
次いで透明ネガ型の油溶性レジスト10/をO,S〜ユ
、0μmの膜厚で都付し、所定のパターンに/eターニ
ングし、リンス処理および乾燥(600〜150°C)
する。ここで、透明ネガ型のレノスト材料としてはys
R(富士撮品工条(株)製)、JBRC工旦−tol(
日本合成ザム(株)製)、TP旦(東京応化工業(株)
煕)などがある(第2図(b))。
、0μmの膜厚で都付し、所定のパターンに/eターニ
ングし、リンス処理および乾燥(600〜150°C)
する。ここで、透明ネガ型のレノスト材料としてはys
R(富士撮品工条(株)製)、JBRC工旦−tol(
日本合成ザム(株)製)、TP旦(東京応化工業(株)
煕)などがある(第2図(b))。
次いで、上記のようにして得られたノミターンのレジス
トを41o℃〜10 ’Cに保持した、シアンまたは黄
色の水に〒性染料に浸ノにすることによって染色し、シ
”アン丑グこ4’、j: :I!’;色の第1の染色1
な710スとする(第) i):ノj (1) )。こ
こで、ンアン桑利としてはスミフィ。
トを41o℃〜10 ’Cに保持した、シアンまたは黄
色の水に〒性染料に浸ノにすることによって染色し、シ
”アン丑グこ4’、j: :I!’;色の第1の染色1
な710スとする(第) i):ノj (1) )。こ
こで、ンアン桑利としてはスミフィ。
ノクスクーギスプルー〇(住人化学(a) 製)、ミソ
ーfアンr’ S−リングフルー2F(三井肩4圧(株
)ン、j)などがあり、角色染相どしてはスミノールミ
ーリングイエローff1R(住人化学(株)1す)、カ
ヤノールミーリングイエo −0(日本北路(株)fJ
i′j)などかに、る。
ーfアンr’ S−リングフルー2F(三井肩4圧(株
)ン、j)などがあり、角色染相どしてはスミノールミ
ーリングイエローff1R(住人化学(株)1す)、カ
ヤノールミーリングイエo −0(日本北路(株)fJ
i′j)などかに、る。
次いで、第1の染色層102にタンニン酸と酢酸せたけ
無水クロム師と酢酸等によって化学処理を施して硬質化
させる。このように化学処理を施して第1の染色層/θ
λを硬質化させることによつ−C1従来方法で(rよ必
要でk)つた中間層を塗付する工程を省略することがで
きる。第3図は従来方法に係る製糸’1−)1片を61
1.明する図で、第一図と同一要素は同−符月を示しで
ある。すなわち、象lの染色層10.2の十に中IH”
1層200を塗付し、その上に次の染色ハ4を形成して
℃・る。
無水クロム師と酢酸等によって化学処理を施して硬質化
させる。このように化学処理を施して第1の染色層/θ
λを硬質化させることによつ−C1従来方法で(rよ必
要でk)つた中間層を塗付する工程を省略することがで
きる。第3図は従来方法に係る製糸’1−)1片を61
1.明する図で、第一図と同一要素は同−符月を示しで
ある。すなわち、象lの染色層10.2の十に中IH”
1層200を塗付し、その上に次の染色ハ4を形成して
℃・る。
次に、第7のシj、色p410.aを形成する工程と同
様の工程によって第1の染色層/θコの上に水溶性レジ
スト103f塗刺し、Iう「定の・?ターニングの後に
油溶性し・シストIO’lを塗付し、第一の朶色層10
Sを形成する。そして、その」二に透1ヅ」−、分子柄
面を0.5・〜/、0μn1の膜厚で塗付し、これをオ
ーバーコ−l−10とする(第一(≧1(d))。
様の工程によって第1の染色層/θコの上に水溶性レジ
スト103f塗刺し、Iう「定の・?ターニングの後に
油溶性し・シストIO’lを塗付し、第一の朶色層10
Sを形成する。そして、その」二に透1ヅ」−、分子柄
面を0.5・〜/、0μn1の膜厚で塗付し、これをオ
ーバーコ−l−10とする(第一(≧1(d))。
ここで、第1の染色層10/がシアンならば第一の染色
層IO’lは黄色にブエリ、第1の染色層10/が黄色
ならば第一の染色層10ダはシアンになる。なお、油溶
件染相としてO:11、アイゼンパターイエロー、オー
ガノブルGエクストラ(保谷化学(株)製)などがある
。
層IO’lは黄色にブエリ、第1の染色層10/が黄色
ならば第一の染色層10ダはシアンになる。なお、油溶
件染相としてO:11、アイゼンパターイエロー、オー
ガノブルGエクストラ(保谷化学(株)製)などがある
。
次に、本発明の一実施例について勝明する。1ず、CC
D固体撮f8素子の衣「hjに形成され−にイ滑胤゛に
、/φのADCiを含むカゼインを10μ2?の膜厚で
塗料する。そして、70°Cで90分1山フリベークし
た後にグップサイズのパターンとし、リンス処理(メタ
ノール)および乾燥処+41i (100°c’cJo
分間)を行なう。
D固体撮f8素子の衣「hjに形成され−にイ滑胤゛に
、/φのADCiを含むカゼインを10μ2?の膜厚で
塗料する。そして、70°Cで90分1山フリベークし
た後にグップサイズのパターンとし、リンス処理(メタ
ノール)および乾燥処+41i (100°c’cJo
分間)を行なう。
次に、上記ノミターンの上にTPRを10μ7?1の膜
厚で?た付し、go Cで、20分間のゾレベークの後
に超高圧水銀灯で露光することによりノミターニングを
行ない、100”Cでボストベークを行なう。
厚で?た付し、go Cで、20分間のゾレベークの後
に超高圧水銀灯で露光することによりノミターニングを
行ない、100”Cでボストベークを行なう。
次に、60°Cに保持されたカヤノールターキスブルー
の、2升開裂水溶液に3分間浸漬して上記のカゼイン層
を染色し、シアン染色層(策/の染色層)を形成させる
。そして、タンニン酸および酢酸によってシアン染色の
定角処理を行なう。
の、2升開裂水溶液に3分間浸漬して上記のカゼイン層
を染色し、シアン染色層(策/の染色層)を形成させる
。そして、タンニン酸および酢酸によってシアン染色の
定角処理を行なう。
次に、上記の第7の染色層を形成するまでの工程と同様
の工程によって、カゼイン層を形成した後にTPflに
よって所定のパターンを形成する。
の工程によって、カゼイン層を形成した後にTPflに
よって所定のパターンを形成する。
そして、60°Cに保持されたスミノールミーリングイ
エローMI(のコ重漱係水溶液にユ分間浸漬することに
よって染色し、TPR層をレジストブロックとして下層
のカゼイン層を染色し、a色染色層(第一の染色層)と
する。
エローMI(のコ重漱係水溶液にユ分間浸漬することに
よって染色し、TPR層をレジストブロックとして下層
のカゼイン層を染色し、a色染色層(第一の染色層)と
する。
ノ(φ後に7,0μν?1の膜厚で保護層を設ける。
なお1.21[株]の染色層からなるカラー固体撮像素
子を例にして説罪したが、赤、宵、緑の3色の染色)曽
から7″、1′:るフィルタであっても同様に製造でき
る0 〔発明の効果〕 上記の如く本発明によれば、固体撮像素子の受光部に温
度条件、j++4光条件″vtのヴかな水溶性レジスト
を塗付してチンプサイズにノミターニングし、その上に
油溶性のレジストを塗付してパターニングし、この油溶
性レジストブロックにして水溶性レジストを水溶性染料
により染色して染色層とするよ5にしたので、渦14′
、岬:光M宿の製造条件を緩和することのできるカラー
固体撮倍素子の製造方法がイqられる。
子を例にして説罪したが、赤、宵、緑の3色の染色)曽
から7″、1′:るフィルタであっても同様に製造でき
る0 〔発明の効果〕 上記の如く本発明によれば、固体撮像素子の受光部に温
度条件、j++4光条件″vtのヴかな水溶性レジスト
を塗付してチンプサイズにノミターニングし、その上に
油溶性のレジストを塗付してパターニングし、この油溶
性レジストブロックにして水溶性レジストを水溶性染料
により染色して染色層とするよ5にしたので、渦14′
、岬:光M宿の製造条件を緩和することのできるカラー
固体撮倍素子の製造方法がイqられる。
また、上記の如く製造した染色層(化学処y1・によっ
て染色を定幅し、硬質化させる)と油溶性し2ストから
なるル:の上に、〃り明だ中間膜を介在させ’f、cい
で異なる色の染色層と油溶性レジストからなる層を形h
(するようにすると、中間J脅の製造を省1n4 u、
製造工程を簡印にできるという効果があるO
て染色を定幅し、硬質化させる)と油溶性し2ストから
なるル:の上に、〃り明だ中間膜を介在させ’f、cい
で異なる色の染色層と油溶性レジストからなる層を形h
(するようにすると、中間J脅の製造を省1n4 u、
製造工程を簡印にできるという効果があるO
第1図は従来方法によるカラー周体撮像素子の製造工程
を説明する図、第2(8)は本発明の一実施例に係る方
法によってカラー固体撮像素子を製造する工程を説明す
る図、第3図は従来方法によって製造したカラー固体撮
像素子の断面図である。 /・半導体基板、コ 光ダイオード、3・絶縁膜、t
・ノ々ソシベーションm、5 平?it層、A ・
レジスト、ワ、/θツ・第1の染色層、g・混色防止膜
(中間層)、?、/θS・・第一の染色層、10・・・
オーツモーコート、100 、103 水溶性レジス
ト、10/ 、 10グ・・油溶性レジスト。 出願人代理人 猪 股 清rつ−0 00 手続補正外 iliぢ和58年5月1)日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 1、中)牛の、1、示 昭和58年特許、願力55551号 2、発明の名(′;j: カラー固体撮像素子の製造方法 3、補正をする者 小作との関係 L)″作出%Ji人 (307)束基芝浦重気株式会社 5、 hfi 市眞 く予の [ヨ イ・j
′ パ:17、補正の対象 図面 8、補正の内容 図面の単1(内容に変更なし) 331−
を説明する図、第2(8)は本発明の一実施例に係る方
法によってカラー固体撮像素子を製造する工程を説明す
る図、第3図は従来方法によって製造したカラー固体撮
像素子の断面図である。 /・半導体基板、コ 光ダイオード、3・絶縁膜、t
・ノ々ソシベーションm、5 平?it層、A ・
レジスト、ワ、/θツ・第1の染色層、g・混色防止膜
(中間層)、?、/θS・・第一の染色層、10・・・
オーツモーコート、100 、103 水溶性レジス
ト、10/ 、 10グ・・油溶性レジスト。 出願人代理人 猪 股 清rつ−0 00 手続補正外 iliぢ和58年5月1)日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 1、中)牛の、1、示 昭和58年特許、願力55551号 2、発明の名(′;j: カラー固体撮像素子の製造方法 3、補正をする者 小作との関係 L)″作出%Ji人 (307)束基芝浦重気株式会社 5、 hfi 市眞 く予の [ヨ イ・j
′ パ:17、補正の対象 図面 8、補正の内容 図面の単1(内容に変更なし) 331−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 /、同体撮像素子の受光面に水溶性レジストを4伺して
チップサイズのパターンを形成し、次いでその上に油溶
性レジストを塗付して所定の形状にパターニングし、次
いで前記油溶性レジストをマスクにしてA14記水溶件
レジストを水溶性染料で染色するカラー固体撮像索子の
製造方法。 ユ固体撮像素子の受光面に第1の水溶性レジストを塗(
=Iしてチップサイズのパターンを形成し、次いでその
」二に第1の油溶性レジストを塗付して所定の形状にパ
ターニングし、次いで前記第1の油溶性レジスl−をマ
スクにして前記第1の水溶性レジストを水溶性染料で染
色して第1の染色層を形)収し、次いで該第1め染色層
の染色レジストを塗付してチップサイズのノミターンを
形成し、次いでその上に第2の油浴性レジストを塗付し
て所定の形状に・ぐターニングし、次いでnjJ記第コ
の油溶件しジスl−eマスクにして前記第一の水溶性レ
ジストを水溶性染料で染色するカラー固体撮像索子の製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58055551A JPS59181569A (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | カラ−固体撮像素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58055551A JPS59181569A (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | カラ−固体撮像素子の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59181569A true JPS59181569A (ja) | 1984-10-16 |
Family
ID=13001835
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58055551A Pending JPS59181569A (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | カラ−固体撮像素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59181569A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6420505A (en) * | 1987-07-15 | 1989-01-24 | Nec Corp | Production of semiconductor device |
-
1983
- 1983-03-31 JP JP58055551A patent/JPS59181569A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6420505A (en) * | 1987-07-15 | 1989-01-24 | Nec Corp | Production of semiconductor device |
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