JPS59180944A - ビ−ム露出装置 - Google Patents

ビ−ム露出装置

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JPS59180944A
JPS59180944A JP59054116A JP5411684A JPS59180944A JP S59180944 A JPS59180944 A JP S59180944A JP 59054116 A JP59054116 A JP 59054116A JP 5411684 A JP5411684 A JP 5411684A JP S59180944 A JPS59180944 A JP S59180944A
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beam exposure
exposure device
diaphragm
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diaphragm drive
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ウイレム・ウオンデルヘム
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Philips Gloeilampenfabrieken NV
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16JPISTONS; CYLINDERS; SEALINGS
    • F16J15/00Sealings
    • F16J15/50Sealings between relatively-movable members, by means of a sealing without relatively-moving surfaces, e.g. fluid-tight sealings for transmitting motion through a wall
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/20Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は装置中の調整されたスペース内Gこ物体を位置
決めする機構を具えたビーム露出装胎に関するものであ
る。
電子ビーム露出装置の形σ〕か力)る装置G1木国特。
許第4.068,108号から既知である。こσ〕米国
特許中に記載ぎねた装置は電子ビームGこ露出すべき物
体用の支持台を具える。この物体支持白心ま位置決め機
構の一部を形成し、物体を電子ビームを横切る平面内の
2つのお互に垂直をなす方向Gこ変位−cきるようにな
っている。物体の変位のため6コけ、例えばベロー継手
によって物体支持台しこ連N’Tぎれる2つの駆動モー
タが使わわる。例1えは電子ビーム露出装置、走査、伝
送電子顕微鏡のμlき重子顕微鏡及びX線分析装膜等し
こおし1て&ゴ、−9【を例えば少なくともlO−まで
の全距離Gこわたりせいぜい、例えば0.2μmのステ
゛ンブで変位ぎせるのがしけしは望ましい。側倒として
Gゴ、太き′ljfmi囲にわたって小ざな、良く限定
芒ねたスア物体を回転だせることが望まね、る。既知の
位置決、め機構の作用は普通はこの目的のためには適さ
ないか又は十分な再現ができす、又は時間かかかり過ぎ
る。更に、それは十分に小さなステップを得るのにはし
ばしば不適であり、調整ぎねたスペースの封止にG″i
シばしば問題か生じる。
本発明の目的は上記欠点を軽減することにあるこの目的
のため本発明によれば、冒頭記載の種類の装Wけ、位置
決め機構が固定したダイヤフラムをもつダイヤフラム駆
動装置を具え、ダイヤフラム駆動装置の二次シャフトか
物体支持台に連結される点に特徴を有する。
本発明による装置の位置決め機構は装置の壁部分に、又
は支持台の部品の1つに堅固に連結することができるの
で、また物体駆動装置は摩擦継手によって変位させらね
るべき支持台の一部に連結することができるので、振動
の無い、適当に再現できる位置決めを行なうことができ
る。ダイヤフラムの大きな伝動比を簡単に得ることがで
きるので、極めて正確な変位が可能であり、また機構の
、制御の融通性が大きいので、長い距離にわたりかつ大
きな角度にわたる急速な変位が可能である。
ダイヤプラム駆動装置の原理は米国特許第4.271.
718号から既知であり、この米国特許にはその作用が
十分に開示さねている。
本発明しこよる好適実施例のダイヤフラムは調整される
べき物体スペースの仕切の一部をなす。従って仕切を永
久的に密封することに関して起り得る問題は回避される
。本発明は堅固な継手が少なくとも所望方向において得
らねるように実現することができる。
他の好適実施例のダイヤフラム駆動装置の主シヤフトは
例えばパルス電流を供給される直流電気モータにより駆
動される。簡単なパルス計数器がダイヤフラム駆動装置
の主シヤフトの如く、モータシャフトの速度と方向を制
御し、測定するのに使用される。変位の速度は仕給電流
の紛返し周波数に基づいて大きな範囲にわたり決定でき
る。
他の好適実施例の駆動機構の二次シャフトは例えば摩擦
車により物体支持台のキャリヤに連結される。物体キャ
リヤの“駆動棒は二次シャフトと共、に2つのローラ間
に締付けることができ、このため横の力が運動機構に作
用せず、物体支持台に遊び無しの変位が保証される。
物体の回転のためGこ、物体支持台の関連部分は変位機
構の二次シャフトに直接に連結することができる。複合
変位のためには、1つの変位のためのモータユニットを
物体支持台のキャリジ上に設けることができる。
X線分析装置の形の本発明による好適実施例では、第一
のダイヤフラム駆動装置は物体の回転を与え、そねに電
気的に接続さねた第二のダイヤフラム駆動装置は例えば
物体の角速度の2倍に等しい角速度で回転する検出器の
回転を与える。物体の正確な角度調節と検出器の正確な
位置決めは本装悔により簡単に達成される。
以下、本発明の好適実施例を図に基づき詳述する。
第1図は電子顕微鏡のハウジング壁1の一部分を示し、
この部分は真空スペース8を包囲しており、このスペー
スは対物レンズ5、物体9を有す、る物体支持台7、第
一検出器11及び第二検出器18を収容している。物体
9を照射する電子ビームの一部17は物体によって伝送
さね、検出−器11によって検出される一方、電子、X
線等が物体上の霜、子ビーム15によって生じ、検出器
18によって検出されることができる。線図的に示した
だけの物体支持台7は例えはお互に垂直のX。
Y及び2方向の物体の並進移動と、この場合はビーム1
5の主光線に一致するZ軸のまわりの回転Wと、X軸と
Y軸のまわりの傾斜運動を与える。
この目的のために、本発明装置は第2図に明示スル如く
タイヤフラム駆動装置19を含む。ダイヤプラム駆動装
置は主シヤフト23を含み、この主シヤフトは例えば二
重軸受25に軸支さねでいる。この二重軸受はこの区域
に生じる比較的大きな荷重を支えるために2つの縞列配
置の軸受を含む。そのために、可撓性の継手ブロック2
6を主シヤフト上に給付嵌台状に取付けることができる
前記ブロックはばね構造27を含んでいる。このばね構
造27け例えば主シヤフトを中心とする軸、受ディスク
29を介してダイヤフラム33上で8つの玉をころがす
ように用いられる。玉31は例えば軸受ディスク中の■
形みぞ3o内に入ゎらゎ、玉保持器32によって所定位
置に保たれる。ダイヤフラム33は真空密な連結部35
を介して、例えば0−41ンク′又は(特に真空密封性
を改善するために)例えばインジウムを含むシールを介
してブシュ37に連結される。取付ブロック38は締付
装置36によりダイヤフラムの反対側に締付ケらねる。
ブシュ87はこうしてダイヤプラム駆動装置の主部のた
めのハウジングを形成し、例えばハウジング壁lに堅固
に連結される。玉81かたどって行くべきダイヤフラム
上の軌道39に対向している支持台41はダイヤフラム
から遠い側に二次シャフト45を形成しており、この二
次シャ7)&:を好適には二重軸受43に軸支する。軌
道39内にあるダイヤフラムの中心部分Gこ対向して設
けられる板42は例えばピン又は玉4oによって軸支ざ
ねる。前記ビン又は玉は二次シャフトの中心内に位置す
る。板42は真空圧によって生じ、うる摩擦力をダイヤ
フラム力)ら取除く。二次シャフト45には好適には第
8図につき後述する構造を介して物体支持台7の部品の
1つのための駆動棒又は帯材が連結される。前記構造は
摩擦車を含む。主シヤフト23の回転は成る伝動比での
二次シャフト45の回転を生じ、前記伝動比はダイヤフ
ラム上の玉81の圧力、軌道39の直径、玉の直径、ダ
イヤフラムの厚す、ダイヤプラムと支持台41の弾性特
性に依存する。伝動比はこゎらのパラメータの選択によ
って例えば1対500と1対50,000の間の広い限
界内で逆折することができる。駆動モータとしては、直
流モータ又はステラフモータ21を使用できる。駆動モ
ータはハウジングセクション49内に入わらね、このセ
クションは例えば0−リングシール51によって封止す
ることができ、また電力供給線53を含む。
直流モータを使うときは、主シヤフトの回転速度はパル
ス形の供給電流の周波数によって制御することができる
。その表示のためには計数表示器を使用できる。物体の
並進移動又は回転の測定は既知の方法で行なうことがで
きる。本発明による装置の物体支持台の小ざな変位ステ
ップの計数又は測定のためには例えば米国特許第3..
962,663号中に開示された誘導性位置検出器を使
用できる。
第3図に示す如きダイヤフラム駆動装置を含むX、Y並
進機構の好適実施5例は基板50を含み、この上で第一
支持キャリジ52は、既知の手段によりX方向に変位で
きる。前記手段はこの場合はローラ54である。支持キ
ャリジ52上に配@ビれた支持キャリジ58はローラ5
6上でX方向に変位できる。基板50に連結されるダイ
ヤフラム駆動装置60は摩擦継手62を介して駆動棒又
は箔材を、それ故第−支持キャリジ52を駆動する。
この場合摩擦継手62は2つのローラ66 、68を含
み、これらのローラは基板に連結されたブラケット70
によってダイヤフラム駆動装置の二次シャフト72と駆
動棒64に締付によって連結される。
この継手の締付力は調節ねじ74によって調節できる。
第一支持キャリジ52に連結されるダイヤフラム駆動装
W80は同様に、X方向のキャリジ58の変位を生じる
。簡明のため、駆動モータ82は第一支持キャリジの下
側に設けられ、完全に類似した摩擦継手84を介して第
二駆動装置に連結される。第一支持キャリジの変位中に
第二ダイヤフラム駆動装置がたどって行く経路の区域に
基板50は開口をもつ。傾斜運動は僅かに変更した摩擦
継手と駆動棒によって上記の仕方Oこ対応する仕方で物
体に与えることができる。
第4図は原則としてダイヤフラム駆動装置と同じダイヤ
フラム駆動装置90を含むX線分析装部を示す。この駆
動装置のダイヤフラム38は検査すべき試料を配置する
ことのでさるスペース94用の封止壁92の一部を成す
。試料はダイヤフラム駆動装置の二次シャフト45に連
結されるシャフト98のまわりに傾くことができる。図
示の装置はまたxm管100を含み、このX線管ではX
線ビーム104が直線ターゲット102において発生せ
しめられて、試料を放射線入ロスリット106を経て照
射ぎせることができる。
試料によって分散したビーム110は検出器スIJ ツ
) 112を経て検出器114によってさえぎらねる。
試料は試料を傾けることによって角度依存の、そj故波
長依存の既知の方式で分析することができる。既知の如
く、検出器スリットをもつ検出器は例えばブラッグーブ
レンタノ(Brag −Brentano 1機構Gこ
おける如く試料に対して角速度の2倍で回転するべきで
ある。この目的のため、第一ダイヤフラム駆動装置の駆
動と一緒に電気的に制御ざねる第二ダイヤフラム駆動装
置(図示せず)を使用することができる。また単一のダ
イヤフラム駆動装置と、試料回転とシャフト98のまわ
りの検出器回転の間に2対1の継手を用いることかでき
る。また、例えは誘導性位置検出器によって試料と検出
器の方位を測定することもできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による位置法め枦構を含む装置の関連部
分の主要構成を示す図; 第2図は前記機構用のダイヤフラム駆動装置の詳細図; 第3図は電子顕微鏡用のX−Y位置決め機構を示す図5 第4図は本発明による回転機構を具えたX線分析装置の
関連部分を示す図である。 1・・・ハウジング壁   8・・・真空スペース7・
・・物体支持台    5・・・対物レンズ11、18
・・・検出器    15・・・電子ビーム19・・・
ダイヤフラム駆動装置 21・・・ステップモータ  23・・・主シヤフト2
5・・・二重軸受     26・・・継手ブロック2
7・・・ばね構造     29・・・軸受ディスク3
0・・・■形みぞ     81・・・玉82・・・玉
保持器     33・・・ダイヤフラム36・・・締
付装置     37・・・ブシュ39・・・軌道  
     4o・・・玉41・・・支持台      
42・・・板45・・・二次シャフト   51・・・
0−リングシール52・・・第一支持キャリジ 53・・・電力供給源    54.56・・・ローラ
58・・・支持キャリジ 60・・・ダイヤフラム駆動装置 62・・・摩擦継手     64・・・駆動棒66、
68・・・ローラ    72・・・二次シャフト84
・・・摩擦継手     90・・・ダイヤフラム駆動
装置94・・・スペース     98・・・二次シャ
フト100・・・X線管102・・・直線ターゲット1
04・・・XffNヒ−h    11o・・・ビーム
106・・・放射線入ロスリット 112・・・検出器スリット。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 装置内の調整でれたスペース内に照射すべき物体を
    位置決めする機構を含むビーム露出装置において、位置
    決め機構が固定したダイヤフラム(33)をもつダイヤ
    フラム駆動装置(19)を具え、ダイヤフラム駆動装置
    の二次シャフト(+51が物体支持台(7)に連結され
    ていることを特徴とするビーム露出装置。 2、特許請求の範囲1記蕨のビーム露出装置において、
    ダイヤプラム駆動装置の固定したダイヤフラム(38)
    が調整きれたスペース(3)の境界をなす壁(1)の一
    部を形成、することを特徴とするビーム露出装置。 & 特許請求の範囲2記載のビーム露出装置において前
    記ダイヤフラムの中心部の反対側に支持板(42)が設
    けろわ、前記支持板はダイヤフラム駆動装置の二次シャ
    フトの中心内に位置したピン又は玉(4o)によって軸
    支されることを特徴とするビーム露出装@。 表 特許請求の範囲1乃至8の何ゎが1つに記載のビー
    ム露出装置において、ダイヤフラム駆動装置はパルス形
    の直流供給源をもつ直流モータ(21)を含むことを特
    徴とするビーム露出装置。 収 特許請求の範囲1乃至4の何れが1つに記載のビー
    ム露出装置において、ダイヤフラム駆動装置によって行
    なわれる物体の変位を測定する誘導性位置検出器を含む
    ことを特徴とするビーム露出装置。 6 特許請求の範囲1乃至5の何ゎが1つに記載(7)
    ヒ−ムg 出装置において、ダイヤフラム駆動装置の二
    次シャフトが摩擦継fleo+翳介して変位させらゎる
    べき物体支持台の一婦に連結されることを特徴とするビ
    ーム露出装置。 7、 特許請求の範囲6記載のビーム露出装置において
    、摩擦継手は2つの摩擦車(66゜68)を含み、これ
    らの間に物体支持台用σ〕駆動棒又は箔材(64)がダ
    イヤフラム駆動装置の二次シャフトζ共【こ締付(すら
    ねてし)ることを特徴とするビーム露出装置。 8 特許請求の範囲1乃至7の何ね、力)1つGこ言e
    。 載のビーム露出装置において、前記夕”イヤフラムが金
    ″属を含むシール(35)を介して前言上調整さねたス
    ペースの壁【こ連結さね、ることを特徴とするビーム露
    出装置。 9 特許請求の範囲1乃至8の何ね力)1つc’: W
    8載のビーム露出装置において、変位回行1こ配置でれ
    る物体に照射するためσ)電子ビームを発生フる電子発
    生源を具えることを特徴とするビーム露出装置。 10  特許請求の範囲1乃至8の何ね力)1つに言己
    製、のビーム露出装置こおl/)で、回転自在Gこ西装
    置した物体(96)に照射するためのX線ビーム(10
    4)を発生するX線発生源(100)を具えることを特
    徴とするビーム露出装置。
JP59054116A 1983-03-23 1984-03-21 ビーム露光装置 Expired - Fee Related JPH077652B2 (ja)

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JPS59180944A true JPS59180944A (ja) 1984-10-15
JPH077652B2 JPH077652B2 (ja) 1995-01-30

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EP0120535B1 (en) 1988-07-27
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