JPS59180451A - 表面検査装置 - Google Patents
表面検査装置Info
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- JPS59180451A JPS59180451A JP58056037A JP5603783A JPS59180451A JP S59180451 A JPS59180451 A JP S59180451A JP 58056037 A JP58056037 A JP 58056037A JP 5603783 A JP5603783 A JP 5603783A JP S59180451 A JPS59180451 A JP S59180451A
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- JP
- Japan
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- circuit
- defects
- histogram
- isolated
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/89—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
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- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、例えば鋼板、アルミ板などの検査対象の表面
疵をオンラインで検査する表面検査装置の改良に関する
。
疵をオンラインで検査する表面検査装置の改良に関する
。
従来、鋼板やアルミ板などの検査対象の表面に現われる
疵の中から代表疵を選定する場合、検査対象の表面幅方
向を光学的に走査して得られる検出ヘッドのアナログ出
力信号を弁別回路によって弁別化して２値化信号とし、
この２値化信号をヒストグラム作成回路によりて表面疵
状態のヒストグラムを作成し、更にこのヒストグラムか
ら通常疵例えば面状又は線状疵に着目しながら代表疵の
選定を行なっていた。
疵の中から代表疵を選定する場合、検査対象の表面幅方
向を光学的に走査して得られる検出ヘッドのアナログ出
力信号を弁別回路によって弁別化して２値化信号とし、
この２値化信号をヒストグラム作成回路によりて表面疵
状態のヒストグラムを作成し、更にこのヒストグラムか
ら通常疵例えば面状又は線状疵に着目しながら代表疵の
選定を行なっていた。
このため、検査対象の表面に面状疵および線状疵が現わ
れている場合にはそれらの疵のヒストグラムのうち大き
い方をもって代表疵と選定すればよいが、例えば孤立性
疵のみが存在している場合又は線状疵よりも孤立性疵が
密集して散在している場合には孤立性疵については何ら
評価をしていないので孤立性疵を代表疵として選定する
ことができない。従って、上記検査手法では正しい評価
を下すことが難しく、誤評価の可能性があった。
れている場合にはそれらの疵のヒストグラムのうち大き
い方をもって代表疵と選定すればよいが、例えば孤立性
疵のみが存在している場合又は線状疵よりも孤立性疵が
密集して散在している場合には孤立性疵については何ら
評価をしていないので孤立性疵を代表疵として選定する
ことができない。従って、上記検査手法では正しい評価
を下すことが難しく、誤評価の可能性があった。
一方、過剰評価を行なった場合には検査対象の表面状態
例えば表面粗さ、汚れ等の場合でも疵であると判定し代
表疵として選定してしまうおそれがある。従って、検査
対象表面の線状および面状疵以外の疵をも選定の対象と
しだとしても、線状疵や面状疵と同様の評価を下したの
では誤評価する可能性が高い。
例えば表面粗さ、汚れ等の場合でも疵であると判定し代
表疵として選定してしまうおそれがある。従って、検査
対象表面の線状および面状疵以外の疵をも選定の対象と
しだとしても、線状疵や面状疵と同様の評価を下したの
では誤評価する可能性が高い。
本発明は、以上のような点にかんがみてなされたもので
、孤立性疵に対して通常疵とは異なる評価を与えて孤立
性疵をも線状疵や面状疵と同様に選定の対象とし、代表
疵の選定精度ひいては表面欠陥の検査精度を高める表面
検査装置を提供するものとする。
、孤立性疵に対して通常疵とは異なる評価を与えて孤立
性疵をも線状疵や面状疵と同様に選定の対象とし、代表
疵の選定精度ひいては表面欠陥の検査精度を高める表面
検査装置を提供するものとする。
本発明は、走行される検査対象の表面像を量子化して量
子化データを得、この量子化データに基づいてヒストグ
ラムを作成して通常疵を判定するとともに、また前記量
子化データを受けてライン方向複数ラインおよび幅方向
複数ラインよりなる２次元画面を作成して２次元フィル
ターにより孤立部分を見つけ出してそれに番地を付し、
この番地に基づいて前記ヒストグラムデータを読み出し
て孤立部を判定する。そして、この孤立疵判定結果と前
記通常疵判定結果とを比較して代表疵を選定する表面検
査装置である。
子化データを得、この量子化データに基づいてヒストグ
ラムを作成して通常疵を判定するとともに、また前記量
子化データを受けてライン方向複数ラインおよび幅方向
複数ラインよりなる２次元画面を作成して２次元フィル
ターにより孤立部分を見つけ出してそれに番地を付し、
この番地に基づいて前記ヒストグラムデータを読み出し
て孤立部を判定する。そして、この孤立疵判定結果と前
記通常疵判定結果とを比較して代表疵を選定する表面検
査装置である。
第１図ないし第３図（、）〜（Ｃ）は本発明の一実施例
を示す図であって、第１図は装置の全体構成図、第２図
（ａ） 、 （ｂ）はヒストグラムの作成手段を説明す
る図、第３図（、）〜（Ｃ）は２次元フィルター・ロジ
ックと表面欠陥パターンを示す図である。
を示す図であって、第１図は装置の全体構成図、第２図
（ａ） 、 （ｂ）はヒストグラムの作成手段を説明す
る図、第３図（、）〜（Ｃ）は２次元フィルター・ロジ
ックと表面欠陥パターンを示す図である。
第１図において検出へラド１０は、図示矢印方向に走行
されている検査対象１１０表面幅方向を光学的に走査し
、その検査対象１ノからの反射光像を電気信号に変換し
、後続の２値化回路１２に供給するものである。この２
値化回路１２は検出ヘッド１０からの出力信号を適宜な
レベルで波高弁別することにより２値化し、その２値化
データを量子化回路１３に供給する。
されている検査対象１１０表面幅方向を光学的に走査し
、その検査対象１ノからの反射光像を電気信号に変換し
、後続の２値化回路１２に供給するものである。この２
値化回路１２は検出ヘッド１０からの出力信号を適宜な
レベルで波高弁別することにより２値化し、その２値化
データを量子化回路１３に供給する。
この量子化回路１３には、検査対象１１の走行速度に追
従して回転するローラ１４を介して・Ｐルス発生器１５
からライン速度に同期した・ぐルスが入力されるように
なっている。このパルス発生器１５はロー２１４に連結
され検査対象１ノの走行速度に比例したパルスを出力す
るものでちる。従って、前記量子化回路１３は、検出ヘ
ッド１０の走査速度およびライン速度に同期して動作さ
れ、２値化回路１２からの出力を所要の面積の画素とし
た量子化データを得、これをヒストグラム作成回路１６
と２次元画面作成回路１７に供給する。このヒストグラ
ム作成回路１６は、検査対象１１を幅方向の画素の幅で
分割し各分割帯域に含まれる２値画像の数からヒストグ
ラムを作成する。２次元画面作成回路１７は、複数のレ
ジスタ１７Ａ−１〜１７Ａ−４がシリアルに接続された
ライン方向Ｎラインレジスタ１７Ａと、前記量子化回路
１３の出力および各レジスタ１７に−１〜１７に−４の
出力が入力される幅方向Ｍ （Ｎ、Ｍは整数、ＮｆｌＭ
）ラインレノスタ１７Ｂとからなる。ライン方向Ｎライ
ンレジスタＪ７Ａは、検査対象１１のライン方向の所要
距離Ｌｔａｎ毎に複数本分について幅方向毎に遅延して
保持する機能を有し、また幅方向Ｎラインレジスタ１７
Ｂは量子化回路１３の出力および各レジスタ１７Ａｌ〜
１７１’。
従して回転するローラ１４を介して・Ｐルス発生器１５
からライン速度に同期した・ぐルスが入力されるように
なっている。このパルス発生器１５はロー２１４に連結
され検査対象１ノの走行速度に比例したパルスを出力す
るものでちる。従って、前記量子化回路１３は、検出ヘ
ッド１０の走査速度およびライン速度に同期して動作さ
れ、２値化回路１２からの出力を所要の面積の画素とし
た量子化データを得、これをヒストグラム作成回路１６
と２次元画面作成回路１７に供給する。このヒストグラ
ム作成回路１６は、検査対象１１を幅方向の画素の幅で
分割し各分割帯域に含まれる２値画像の数からヒストグ
ラムを作成する。２次元画面作成回路１７は、複数のレ
ジスタ１７Ａ−１〜１７Ａ−４がシリアルに接続された
ライン方向Ｎラインレジスタ１７Ａと、前記量子化回路
１３の出力および各レジスタ１７に−１〜１７に−４の
出力が入力される幅方向Ｍ （Ｎ、Ｍは整数、ＮｆｌＭ
）ラインレノスタ１７Ｂとからなる。ライン方向Ｎライ
ンレジスタＪ７Ａは、検査対象１１のライン方向の所要
距離Ｌｔａｎ毎に複数本分について幅方向毎に遅延して
保持する機能を有し、また幅方向Ｎラインレジスタ１７
Ｂは量子化回路１３の出力および各レジスタ１７Ａｌ〜
１７１’。
−４の出力の幅方向複数本についてシリアル−パラレル
変換する機能をもっている。１８は２次元画面作成回路
１７で作成された２次元画面から孤立部分を見つけ出す
２次元フィルターである。この２次元フィルター１８は
、一般的にテンプレートマツチングフィルタと呼ばれ、
多数のサンゾルテストに基づいてパス条件を作成し、こ
の・ぐス条件に従ってＲＯＭ又は論理回路をもってフィ
ルターロジックを構成するものである。１９は２次元フ
ィルター１８の判定結果を幅方向分割の番地で表現する
孤立番地発生回路であって、この回路１９から孤立疵判
定回路２０に孤立性欠陥の番地が送られる。この孤立疵
判定回路２０は、ヒストグラム作成回路１６から孤立番
地発生回路１９の番地と等しい番地のヒストグラムデー
タを読取って過剰評価及び過小評価とならないように通
常疵とは異なる設定値ＮＢで疵程度を判定する。２ノは
ヒストグラム作成回路１６のヒストグラムデータを設定
値ＮＡにより通常疵を判定する通常疵判定回路であって
、この通常疵判定結果と孤立疵判定結果とは比較回路２
２で判定され犬なるレベルの 。
変換する機能をもっている。１８は２次元画面作成回路
１７で作成された２次元画面から孤立部分を見つけ出す
２次元フィルターである。この２次元フィルター１８は
、一般的にテンプレートマツチングフィルタと呼ばれ、
多数のサンゾルテストに基づいてパス条件を作成し、こ
の・ぐス条件に従ってＲＯＭ又は論理回路をもってフィ
ルターロジックを構成するものである。１９は２次元フ
ィルター１８の判定結果を幅方向分割の番地で表現する
孤立番地発生回路であって、この回路１９から孤立疵判
定回路２０に孤立性欠陥の番地が送られる。この孤立疵
判定回路２０は、ヒストグラム作成回路１６から孤立番
地発生回路１９の番地と等しい番地のヒストグラムデー
タを読取って過剰評価及び過小評価とならないように通
常疵とは異なる設定値ＮＢで疵程度を判定する。２ノは
ヒストグラム作成回路１６のヒストグラムデータを設定
値ＮＡにより通常疵を判定する通常疵判定回路であって
、この通常疵判定結果と孤立疵判定結果とは比較回路２
２で判定され犬なるレベルの 。
方が代表疵として出力するものである。
次に、以上のように構成された装置の作用を説明する。
検出へ、ド１ｏは、図示矢印方向に走行されている検査
対象１１の表面幅方向を光走査し電気信号に変換し、こ
の信号は後続の２値化回路１２に送られ、ここで適宜な
レベルで波高弁別されて２値化された後、検査対象１１
の幅方向に例えば４咽毎に区分され量子化回路１３に送
られる。一方、ローラ１４に連結されているパルス発生
器１５からはライン速度に同期した信号つまり検査対象
１１が例えば５＋＋＋＋＋＋走行するごとにパルスがで
て、量子化回路１３に入力される。従って、この量子化
回路１３では、２値化回路１２から送られてくる幅方向
に分割された２値化信号とパルス発生器１５からのライ
ン速度に同刈したｉ？ルスの入力によって画素化された
量子化データを得ることができる。そして、量子化回路
１３によって得られた量子化データはヒストグラム作成
回路１６へ送られ、とこで検査対象１１を幅方向に分割
して得られる画素の幅ごとに各分割帯域に含まれる２値
画像を加算して第２図（Ｂ）に示すようなヒストグラム
を作成する。なお、同図（Ｂ）のヒストグラムは検査対
象１１の表面に同図（４）のような疵が生じている場合
を想定して作成したものである。図中、イは孤立性疵、
口は線状疵、ハは面状疵を示し、またＷは検査対象１１
の幅方向分割長さ、ｔはライン方向分割長さを示す。ま
た第２図（Ｂ）において横軸は幅番地ＡＤ、縦軸は加算
値Ｎを示す。このようにしてヒストグラム作成回路１６
で作成されたヒストグラムデータは通常疵判定回路２１
に送られ、ここで設定値Ｎと比較して通常疵例えば線状
疵口か面状疵ノ・かの判定が行なわれ、この判定結果が
比較回路２２に送られる。
対象１１の表面幅方向を光走査し電気信号に変換し、こ
の信号は後続の２値化回路１２に送られ、ここで適宜な
レベルで波高弁別されて２値化された後、検査対象１１
の幅方向に例えば４咽毎に区分され量子化回路１３に送
られる。一方、ローラ１４に連結されているパルス発生
器１５からはライン速度に同期した信号つまり検査対象
１１が例えば５＋＋＋＋＋＋走行するごとにパルスがで
て、量子化回路１３に入力される。従って、この量子化
回路１３では、２値化回路１２から送られてくる幅方向
に分割された２値化信号とパルス発生器１５からのライ
ン速度に同刈したｉ？ルスの入力によって画素化された
量子化データを得ることができる。そして、量子化回路
１３によって得られた量子化データはヒストグラム作成
回路１６へ送られ、とこで検査対象１１を幅方向に分割
して得られる画素の幅ごとに各分割帯域に含まれる２値
画像を加算して第２図（Ｂ）に示すようなヒストグラム
を作成する。なお、同図（Ｂ）のヒストグラムは検査対
象１１の表面に同図（４）のような疵が生じている場合
を想定して作成したものである。図中、イは孤立性疵、
口は線状疵、ハは面状疵を示し、またＷは検査対象１１
の幅方向分割長さ、ｔはライン方向分割長さを示す。ま
た第２図（Ｂ）において横軸は幅番地ＡＤ、縦軸は加算
値Ｎを示す。このようにしてヒストグラム作成回路１６
で作成されたヒストグラムデータは通常疵判定回路２１
に送られ、ここで設定値Ｎと比較して通常疵例えば線状
疵口か面状疵ノ・かの判定が行なわれ、この判定結果が
比較回路２２に送られる。
一方、量子化データは２次元画面作成回路１７にも送ら
れる。この２次元画面作成回路１７では、検査対象１１
のライン方向ｔｒａｎ毎に複数本分を幅分割毎に遅延し
保持するライン方向Ｎラインレジスタ７７Ａと、量子化
回路１３の出力およびライン方向ＮラインレジスタＪ７
Ａを構成する各レジスタ１７Ａ−１〜１７に−４の出力
を幅方向に複数本分にわたってシリアル−パラレル変換
する幅方向Ｎラインレノスタ１７Ｂとにより２次元画面
を作成し、この画面データを孤立部分を見つけ出す２次
元フィルター１８へ入力する。この２次元フィルター１
８は、例えば冷間圧延鋼板の場合には数百枚のサンプル
テストの結果に基づいてフィルターロジックを作成し、
このロジックに従って孤立部分を見つけ出す。今、検査
対象１１が第３図（４）のような位置にガウジなどの孤
立疵、ヘダ、スリーバー状の線状疵ロ′、油シミ、サビ
などの面状疵ハ′。
れる。この２次元画面作成回路１７では、検査対象１１
のライン方向ｔｒａｎ毎に複数本分を幅分割毎に遅延し
保持するライン方向Ｎラインレジスタ７７Ａと、量子化
回路１３の出力およびライン方向ＮラインレジスタＪ７
Ａを構成する各レジスタ１７Ａ−１〜１７に−４の出力
を幅方向に複数本分にわたってシリアル−パラレル変換
する幅方向Ｎラインレノスタ１７Ｂとにより２次元画面
を作成し、この画面データを孤立部分を見つけ出す２次
元フィルター１８へ入力する。この２次元フィルター１
８は、例えば冷間圧延鋼板の場合には数百枚のサンプル
テストの結果に基づいてフィルターロジックを作成し、
このロジックに従って孤立部分を見つけ出す。今、検査
対象１１が第３図（４）のような位置にガウジなどの孤
立疵、ヘダ、スリーバー状の線状疵ロ′、油シミ、サビ
などの面状疵ハ′。
カキ疵二などが生じている場合、２次元画面作成回路１
７の２次元画面としては同図（Ｂ）のように現われる。
７の２次元画面としては同図（Ｂ）のように現われる。
ホは２値化回路１２の弁別レベルに達しなかっただめの
抜けを示している。そこで、２次元フィルター１８は、
フィルターロジックの・臂ス条件をへのように定めると
、２次元フィルター１８によって同図（０に示す位置チ
に孤立部分があることを見つけ出すことができる。
抜けを示している。そこで、２次元フィルター１８は、
フィルターロジックの・臂ス条件をへのように定めると
、２次元フィルター１８によって同図（０に示す位置チ
に孤立部分があることを見つけ出すことができる。
具体的には２次元フィルター１８は、量子化出力幅方向
Ｎ ｂｉｔライン方向Ｌ ｂｉｔ内の疵分布を判定する
もので、図３−Ｂの様に構成されている。
Ｎ ｂｉｔライン方向Ｌ ｂｉｔ内の疵分布を判定する
もので、図３−Ｂの様に構成されている。
つまり、フィルターの基点トに量子化出力が存在する場
合に、基点トに対する信号の分布を判定するもので、本
例の場合、幅５ ｂｉｔ、ライン方向５ ｂｉｔで構成
された２次元画面内で基点トに対し、基点前後の口か所
はどちらか一方を許容し、左右Ｘ力所は基点を含めて２
カ所を許容し、基点の最外周に位置するΔカ所には信号
があってはならない。
合に、基点トに対する信号の分布を判定するもので、本
例の場合、幅５ ｂｉｔ、ライン方向５ ｂｉｔで構成
された２次元画面内で基点トに対し、基点前後の口か所
はどちらか一方を許容し、左右Ｘ力所は基点を含めて２
カ所を許容し、基点の最外周に位置するΔカ所には信号
があってはならない。
つまり、論理式で表現すると、
ｒｎ（ａ−■・８・ｉ−習・７・１・【鮎・石・〒・ｉ
・７・；・マ・ワ（ト） の論理式を満たす場合に孤立条件疵有を出力する。なお
、パス条件へにおいて、トは基点を示し、×はいずれか
２ケ所以下、△はあってはならない、口はいずれか一方
を示す。
・７・；・マ・ワ（ト） の論理式を満たす場合に孤立条件疵有を出力する。なお
、パス条件へにおいて、トは基点を示し、×はいずれか
２ケ所以下、△はあってはならない、口はいずれか一方
を示す。
以上のようにして孤立部分を見つけ出した後、孤立番地
発生回路１９はその孤立部分の番地を発生し、孤立疵判
定回路２ｏに入力する。この回路２０は、ヒストグラム
作成回路１６に記憶されている同一番地のヒスドグジム
データを読み込んで、通常疵の設定値ＮＡと異なる設定
値ＮＢで疵程度を判定し出力する。そこで、比較回路２
２は、孤立疵判定結果と通常疵判定結果とを比較し、何
れかレベルの大きい方金代辰疵として選定し出力するも
のである。
発生回路１９はその孤立部分の番地を発生し、孤立疵判
定回路２ｏに入力する。この回路２０は、ヒストグラム
作成回路１６に記憶されている同一番地のヒスドグジム
データを読み込んで、通常疵の設定値ＮＡと異なる設定
値ＮＢで疵程度を判定し出力する。そこで、比較回路２
２は、孤立疵判定結果と通常疵判定結果とを比較し、何
れかレベルの大きい方金代辰疵として選定し出力するも
のである。
従って、以上のような装置によれば、量子化データに基
づいて２次元画面作成回路１７で２次元画面を作成し、
予め定められたフィルターロジックによってノＲスする
ようにしだので、孤立部分の番地を正確に見つけ出すこ
とができる。
づいて２次元画面作成回路１７で２次元画面を作成し、
予め定められたフィルターロジックによってノＲスする
ようにしだので、孤立部分の番地を正確に見つけ出すこ
とができる。
しかも、この孤立部分の番地に基づいてヒストグラムデ
ータを読み出して通常疵と異なる設定値で評価するよう
にしだので、汚れや面状の粗 １さ等の欠陥などが排除
され、高精度に孤立疵を判定し得る。そして、通常疵と
孤立疵とのレベル比較を行なって何れかレベルの大きい
方を代表疵として選定するため、例えば検査対象１１の
ある面積内で通常疵が存在しないときは孤立疵を代表疵
として選定して出方することができる。゛ なお、本発明は上記実施例に限定され、？！、ものでは
ない。例えば特異な流発生ツクターン例えば点状、折れ
状などに対応して回路１７〜２ｏを複数組用意し、各パ
ターン毎に判定することによシ、特異パターンで発生す
る疵の評価、精度を高めるようにすることもできる。
ータを読み出して通常疵と異なる設定値で評価するよう
にしだので、汚れや面状の粗 １さ等の欠陥などが排除
され、高精度に孤立疵を判定し得る。そして、通常疵と
孤立疵とのレベル比較を行なって何れかレベルの大きい
方を代表疵として選定するため、例えば検査対象１１の
ある面積内で通常疵が存在しないときは孤立疵を代表疵
として選定して出方することができる。゛ なお、本発明は上記実施例に限定され、？！、ものでは
ない。例えば特異な流発生ツクターン例えば点状、折れ
状などに対応して回路１７〜２ｏを複数組用意し、各パ
ターン毎に判定することによシ、特異パターンで発生す
る疵の評価、精度を高めるようにすることもできる。
以上詳記したように本発明によれば、検査対象に疵が混
在していてもその中から確実に孤立疵を判定でき、かつ
孤立疵を通常疵と同様に選定の対象とすることができ、
検査対象の検査精度を上げる表面検査装置を提供できる
。
在していてもその中から確実に孤立疵を判定でき、かつ
孤立疵を通常疵と同様に選定の対象とすることができ、
検査対象の検査精度を上げる表面検査装置を提供できる
。
第１図は本発明に係る表面検査装置の一実施例を示す構
成図、第２図はヒストグラムを作成するだめの図であっ
て、同図（４）は検査対象表面の疵分布図、同図（Ｂ）
はヒストグラム図、第３図は孤立部分を見つけ出すだめ
の図であって、同図（４）は検査対象表面の疵分布図、
同図（Ｂ）は２次元画面作成図、同図（Ｃ）は孤立部分
の番地を示す図である。 １ノ・・・検査対象、１３・・・量子化回路、１６・・
・ヒストグラム作成回路１．し１・・・２次元画面作成
回路、１８・・・２次元フィルター、１９・・・孤立番
地発生回路、２０・・・孤立疵判定回路、２１・・・通
常疵判定回路、２２・・・比較回路。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第２図 （Ａ） 第３図 （β）（Ｃ）
成図、第２図はヒストグラムを作成するだめの図であっ
て、同図（４）は検査対象表面の疵分布図、同図（Ｂ）
はヒストグラム図、第３図は孤立部分を見つけ出すだめ
の図であって、同図（４）は検査対象表面の疵分布図、
同図（Ｂ）は２次元画面作成図、同図（Ｃ）は孤立部分
の番地を示す図である。 １ノ・・・検査対象、１３・・・量子化回路、１６・・
・ヒストグラム作成回路１．し１・・・２次元画面作成
回路、１８・・・２次元フィルター、１９・・・孤立番
地発生回路、２０・・・孤立疵判定回路、２１・・・通
常疵判定回路、２２・・・比較回路。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第２図 （Ａ） 第３図 （β）（Ｃ）
Claims (3)
- （１）走行される検査対象の表面幅方向を光学的に走査
し、該検査対象の表面の各点から得られる反射光を電気
信号に変換し、この信号を波高弁別して量子化する量子
化手段と、この手段によって得られた量子化データに基
づいてヒストグラムを作成するヒストグラム作成回路と
、このヒストグラム作成回路のヒストグラムデータから
通常疵を判定する通常疵判定回路と、前記量子化データ
を受けてライン方向複数ラインおよび幅方向複数ライン
の２次元画面を作成する２次元画面作成回路と、この２
次元画面作成回路の２次元画面データから孤立部分を見
つけ出してその番地信号を発生する手段と、前記ヒスト
グラム作成回路から前記孤立部分の番地と等しい番地の
ヒストグラムデータを読み出して孤立疵を判定する孤立
疵判定回路と、この孤立疵判定結果と前記通常疵判定結
果とを比較して代表流を選定する手段とを備えたことを
％徴とする表面検査装置。 - （２）２次元画面作成回路は、複数のレジスタがシリア
ルに接続され前記検査対象の所定距離毎に複数本分を幅
分割毎に遅延して保持するライン方向複数ラインレジス
タと、前記ヒストグラム回路の出力および前記ライン方
向複数ラインレジスタの各レジスタの出方をノやラレル
に変換する幅方向複数ラインレジスタとを備えたもので
ある特許請求の範囲第１項記載の表面検査装置。 - （３）孤立疵判定回路は、通常疵判定回路と異なる設定
値をもってヒストグラムデータから孤立疵を判定するも
のである特許請求の範囲第１項記載の表面検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58056037A JPS59180451A (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | 表面検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58056037A JPS59180451A (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | 表面検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59180451A true JPS59180451A (ja) | 1984-10-13 |
| JPH058370B2 JPH058370B2 (ja) | 1993-02-02 |
Family
ID=13015877
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58056037A Granted JPS59180451A (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | 表面検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59180451A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020190485A (ja) * | 2019-05-22 | 2020-11-26 | 日本製鉄株式会社 | 識別モデル生成装置、識別モデル生成方法及び識別モデル生成プログラム、並びに鋼材疵判定装置、鋼材疵判定方法及び鋼材疵判定プログラム |
-
1983
- 1983-03-31 JP JP58056037A patent/JPS59180451A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020190485A (ja) * | 2019-05-22 | 2020-11-26 | 日本製鉄株式会社 | 識別モデル生成装置、識別モデル生成方法及び識別モデル生成プログラム、並びに鋼材疵判定装置、鋼材疵判定方法及び鋼材疵判定プログラム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH058370B2 (ja) | 1993-02-02 |
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