JPS59178728A - ステ−ジ位置合せ装置 - Google Patents

ステ−ジ位置合せ装置

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Publication number
JPS59178728A
JPS59178728A JP58052334A JP5233483A JPS59178728A JP S59178728 A JPS59178728 A JP S59178728A JP 58052334 A JP58052334 A JP 58052334A JP 5233483 A JP5233483 A JP 5233483A JP S59178728 A JPS59178728 A JP S59178728A
Authority
JP
Japan
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stage
roller
support shaft
trapezoidal cam
cam
Prior art date
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Pending
Application number
JP58052334A
Other languages
English (en)
Inventor
Naoto Nakajima
直人 中島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPS59178728A publication Critical patent/JPS59178728A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、ステージの位置合せ装置の改良に係り、機械
的な無理なカががからないようにして装置の損傷を防止
すると共に、機構上の遊びをなくし、水平面内及び手直
方向の(■置台せを高精度に行なえるようにしたステー
ジの位置合せ装置に関する。
〔発明の背景〕
IC+LS1の半導体の製造は、マスクパターンとウェ
ハ上のパターンとをK N III K fez 置合
せし、投影露光によって焼付けて製造する。
この位置合せには、ステージ位置合せ装置が使用され、
例えば±5mmの範囲内において0.1μmといったよ
うな旬、梢朋の位置合せ機能が要求される。
従来のステージ位置合せ装置として代表される反射投影
式露光装置のウェハステージを第1゛図乃至第4図に示
し以下説明する。
先ず第1図(平面図)において、水平面内のX方向及び
Y方向に移動するXYステージの位置調整について説明
する。
図において、ステージベース1上には、3個の鋼球14
を介して、XYステージ17がステージベース1上で水
平移動可能なように載置されている。このように載置さ
れたXYステージ17は、3個のバネ15の弾性力によ
りて、X方向及びY方向に、台型カム1oに押し当てら
れ、ステージベース1上に静止し7ている。台型カム1
゜け、ナツト7Vこよって送りネジ6に螺合しておす、
パルスモータ2の回転によって送りネジ6が回転し、台
型カム1oけ、水平面内において往復動する。この台型
カム1oの往復動によって、XYステージ17は、台型
カム10の楔面に沿ってX及びY方向に変位し、水平面
内で位置合せされる。
なお、図中6.4は、パルスモータ2の回転を送りネジ
6に伝えるための歯車、5は送りネジ6の支持部材、1
6はXYステージ17に設けられ、台型カム1oとの間
の摩擦を少なくするためのローラである。
第2図は、第11図のナツト7部分を縦断面して示した
図であり、台型カム1oは、案内部材8に鋼球列9を介
して機構的に嵌合している。
第6図は、送り機構の詳細を平面で示しだ図であり、台
型カム10が矢印の方向に移動した際に、遮光板1ろが
光電スイッチ12を横切ることによってパルスモー12
の回転が停止されストツバ11とナツト7との間の機械
的な力を避は装置の損傷を防止するようになっている。
次にZ方向の動作について、第4図を用い説明する。こ
の第4図に示すZ方向の位置合せ機構は、第1図の円孔
部19内に収納されている。
XYステージ17内の円孔部19には、玉軸受20を介
してθステージ21が回転可能に設けられ、さらにこの
θ21に上下軸25が設けられている。
このθステージ211−jパルスモータ−および減速機
から成る送り機構(図省略)により回転角が決められる
構造になっている。宮らに、上下軸25は、ナツト24
、送りネジ25、およびパルスl、モーター22により
上下に駆動される構造で、Zステージとして作用する部
材である。とのZステージである上下軸25はθステー
ジ21に対して回動しないように係止され、上下摺動自
在に支承されている。この上下軸25上部には、ウエハ
搭載台27が置かれ、上下@25の上端の円錐状おくぼ
み26と、ウェハ搭載台27下部の球面座28°)−を
嵌合させ、ウェハ塔載台27の傾斜が自由に台なえるよ
うになっている。したがって、ウニノミ塔載台27にウ
ェハ29を載置し真空吸着させた袂態で上下軸25を上
昇すれば、つ土ハ29の表面d投影光学系の下部に設け
られている高さ規準板30の6角形の頂点位置に配され
た、パッド31に接触する。このとき、この3個のパッ
ド61の高さは投影光学系の焦点面に対し500士2μ
mだけ高い位置に調整されていて、ウェハ塔載台27け
パッド31からの反力を受は球面座28が揺動し7X軸
およびY軸回りの頑きを生じ ウェハ29の表面は高さ
および平行度の位置合せが成されるようになっている。
              l)このように、従来の
XYステージは、XYステージ17に対する送り機構と
して、パルスモア。
ター2の回転を歯車ろ、4で減速して送りネジ6に伝え
、送シネシロと噛み合うナツト7により白檀カム10を
送りネジ乙の軸方向に直動させ、さらに、白檀カム10
(変位伝達部材)の傾斜面で減速してXYステージ17
を送るいわゆる機械的に組合された構成になっていた。
そのために、送り行程の両端は、光電スイッチ12と遮
光板13により検出し、その上機械的に送り行程を制限
するストツバ11を備えだ構成となっていた。
又このようKXY方向への変位機構が、機械的に組合き
れた構成になっているので、Z方向への変位機構は こ
れと独立した別の複雑な機構を必要としていた。   
        1()この従来のステージ位14合せ
装置において、・例えば、光電スイッチ12あるいは制
御装置の輯動作、故障によりXYステージ17を行程端
を越えて送るような事態が発生した場合、ナツト7゜と
ストッパー11との干渉により、XYステージ17のオ
ーバーランは必要最小限に抑えられるが、パルスモータ
−2、歯車3.4および送りネジ6の慣性のため、ナツ
ト7とストソバ−11が接触後、送りネジ6は1直ちに
停止せず、パルス雪−タ2、歯車64および送りネジ6
の回転運動エネルギーが、送りネジ2、ステージペース
1、支持部材5、軸受18およびストッパー11を変形
させる煩エネルギーに変化した後、停止トする。このた
め、減速比が大きいこともあって、゛送りネジ乙には通
常の数1o〜数ioo倍の軸力が生じ、送りネジ6とナ
ツト7を固着してし才い、パルスモータ2を逆転させよ
うとしても、モー・ターのトルクだけでは逆転できず使
用不能になるという欠点が有ったー、 又−担このように各部材に歪を発生させると(、機イ戒
的に組合っている部分にがたを生じ、高精度の位置合せ
に支障をもたらすという欠点があった。
〔発明の目的〕
本発明は、上記従来の欠点を解決するためになされたも
のであり、制御装置の誤動作等によって機械的に送り装
置を制御しても、各部分に無理な力が働かないようにす
ることによって、送り装置Wの固着或は破損を防止し、
パルスモータを逆法するこ−とによって、直ちに正常状
、弗に復元させ、高精度な位置合せが可能なステージ位
置合せ装置を提供せんとするものである。
〔発明の概要〕
即ち本発明は、白檀カムの送り装置においぞ、従来のよ
うにナツトと送りネジの螺合によつそ、機械的に組合さ
れた構造ではなく、摩擦力によ。
・て白檀カムを移動させるようにしたものであり、XY
ステージのX及びY方向面に設は九口。
−ラと、とのローラに対向しステージペースに固定した
回転支持軸との間に白檀カムを介在さ゛せ、この白檀カ
ムを支持輪によって支持し、回転支持軸と白檀カムの摺
動によって、台形カム゛を移動するようにまたことを特
徴とする。
又これに加え、従来のよう々複雑なZ方向調整機構に代
え、ステージベース上に三点支持し・だXYステージの
三点支持部を別個KZ方向移動可能にし、ステージの平
行度とZ方向の位置合せを同時に行なうようにしたこと
を特徴とする特 〔発明の実施例〕 以下本発明の一実施例について詳細に説明する。説明に
当って第5図及び第10図を用い、本実施例の概略を説
明する。
第5図(平面図)において、ローラ78は、XYステー
ジ80に固定されている。このローラ78に対向する位
置に回転支持軸7oが、ステージベース63に固定され
ている。このローラ7Bと回転支持軸70綴間に介在す
る如くに台型カム75が挾持され、支持輪72によって
支持されている。
このように支持された台型カム75は、パルスモータに
よって回転させられる回転支持軸70VCよ ・て摺動
しながらスプリング77の弾性力に抗して移動し、XY
ステージ80の平面内でのX及びY方向の位置合せを行
なう。
従って何らかの原因で台型カム75が停止しでも、回転
支持軸70との間でス1ソングしてスプリング77の弾
性方以上の力は働かず、各部材の破損は起らない。
又第10図に示すようにZ方向の位置合せは、第5図に
示す3個の鋼球76をそれぞれ別個にト下動可能にした
ものである。
第10図において、鋼球101は、ステージ103とパ
ッド100との間に介装され、パッド100ば、ナツト
99に固定されている。
パルスモータ93の回転力は、歯車94.95を介して
送りネジ97に伝えられ、パッド100をZ方。
向に移動させる。この移動は、台型カム91の上下動に
よって許容され、ステージ1061−i、Z方向に移動
する。
このように、台型カム91をローラ102と回転支持軸
86との間で挾持しているので、ステージ103の上下
動が許容され、従来のような複雑なZ方向の位置合せ機
構が不要と々る。
以下本実施例の詳細について更に詳しく説明するっ まず、第5図において、変位伝達部材として台型カム7
5を用いている。台型カム75ば、その一方の側面をス
テージベース65下に回動可能に設けられた回転支持軸
70および支持輪72のフランジ間に挿入され、対向す
る側面をステージ8’0に回動可能に支持されたローラ
78のフランジ間に挿入され、さらK、水平面内で回転
支持軸7虱支持輪72およびローラ78に狭まれた状態
で支持されている。第8図に示すように、台型カム7′
5には、遮光板81が両端に設けられ、遮光板81は台
型カム75が行程端に達したとき、ステージベース63
上に固定された光電スイッチ76の検出部を横切シ作動
させる構造となっている。さらに、ストッパー74が台
型カム75の過行程を機械的に制動するように設けられ
ている。まだ、第6図に示すように、ステージベース6
3下面に取り付けられたパルスモータ−64の回転け、
歯車65、・66により減速されて回転支持軸70に伝
えられる。
67は回転支持軸70を支持している軸受で、サシバネ
68によシ予圧が加えられ、回転支持軸70の遊びを抑
えている。69は歯車箱である。又第4図において71
は支持輪72を支持している支柱である。
以上のように構成した本実施例において、第5図に示す
ように、3個の鋼球76を介して、ス。
デージベース63上で自由に移動可能なように載置され
たXYステージ80は、3個のスプリング77の弾性力
によって、台型カム75に押し当てられた状態で静止し
ている。
この状態において、パルスモータ−64ヲ回転させると
、パルスモータ−64の回転は歯車65、66により例
えば/4の回転に減速されて、回転支持軸70に伝えら
れる。このとき、台型カム75はローラー78により回
転支持軸70に押付けられでいて回転支持軸70との間
に働く摩擦力により、回転支持軸70の回転角に対応す
る周長だけ、回転支持軸70と支持輪72の接線方向に
直動させられる。この台型カム75の直動量は、同カム
の傾斜面によりさらに1/2oに減速されてXYステー
ジ80へ伝達される。以上の経路によって、パルスモー
タ−22の回転は、正確に減速されてXYステージ80
の直動へと変換される。
つづいて、過行程時の動作について説明する。
光電スイッチ7−3と遮光板81による行程端の検出と
制御装#(図省略)による可動範囲の制限が。
行なわれ、さらに、制御装置の誤動作により行。
程端を越えてXYステージ80を送ろうとした場合、ス
トッパー74によって金型カム乃の直動がff?lJ 
i サれ、XYステージ80のオーバーランが最小限に
抑えられる。このとき、台型カム75がメトツバ−74
を押す力は、回転支持軸70と台型カム75間の押付力
より生ずるまさつ力と、ローラー78が台型カム75の
傾斜面を押す力の台型カム75の直動方向成分との和を
越えることがないっこのため、送り機構内に破損を生ず
る内力が発生せず、したがって、送り機構が固着するこ
とカナい。そのため、パルスモータ−64は逆転方向に
自起動でき、逆転すれば直ちに制動状態が解除される。
第9図は他の実施例の平面図であり、第5図に示した実
施例と相違する点は、送り装置を6個設けた点である。
図において、第5図と同一符号は同一部材を示すので詳
しい説明は省略する。
この実施例の場合は、台型カム75を6個設け、XYス
テージ80のXY平面内において回転させ、XY平面内
の回転方向の位置合せを可能にした。
ものである。
次に第10図に2方向の送り機構を示し説明する。図中
第5図と同一符号は同一部材を示す。
第10図において、ステージベース63に固定された保
持部材98内には(ナツト99が上下に摺動可能でかつ
回転しないように保持され、さらに、軸受96を介して
送りネジ97が回動可能に支持されナツト99に螺合て
いる。さらに、送りイ、ジ97には歯車95が固定され
ていて、歯車95は保持部材98に固定すれているパル
スモータ−93の軸に固定きれた歯車94と爾み合って
いて、パルスモータ−93の回転を1Aに減速して送り
ネジ97に伝達している。ナツト99の上端の平面上に
はバイト100が置かれ、鋼球76を介してステージ8
0ヲ支持している。さらに、光電スイッチ(図省雫)お
よびストッパー(図省略)によって行程が匍j限されて
いる構成となっていて、全体として1対の上下方同送9
磯構を成している。
この上下方向送り機構の動作は、パルスモータ−96の
回転を歯車94.95により1/3に減速して送りネジ
97に伝え、さらに、送りネジ97とチット99により
縮小した変位をパッドiooおよび鋼球76を介してス
テージ8oに伝え、ステージ8゜を上下動させるもので
ある。なお、パッドioo’の下面は空気軸受面として
、ステージ8oの水平方向の動きを許容する構造として
いる。
このステージ80の上下動において、台型カム75の両
端は、92の円で示すようにローラ78と回転支持軸7
0の間で挾持された状態で、ステージ80の上下動に応
じて回動できるように形成されている。
従って、ステージ80のX、Y方向の位置を変、えるこ
となく保持した状態で、ステージ8oをZ方向に移動可
能((なっている、 なお回転支持軸70は、玉軸受87を介して、保持部材
89に軸支され、パルスモータ83の回転が、歯車84
.85及び皿バネ88を介して回転支持軸乙0に伝達さ
れるようになっている〇 歯車85は、玉軸受87によってステージベース63に
軸支されている。第11図及び第12図け、回転支持軸
70とローラ78との間に挾持された台型カム75が、
ステージ80の上下動によって回転蓉易なように、その
摺接面の形状を考慮したものであり、第11図は、台型
カム75の摺接面を又第12図は、回転支持軸70とロ
ーラ78の摺接面を、それぞれ第10図に示す円形92
に合せた、球面状に加工し、回転支持軸70、ローラ7
8と台型カム75の摺接面において点接触するようにな
っている0 以上のように構成(7た本実施例において、第5図に示
したXYステージ80のX、Y方向の2自由度と、第1
0図に示すZ方向の3自由度との組合せにより、5自由
度の位置合せ機能を持たせることができる。又第9図に
示したXYステージ80のXY方向及びXY面内で回転
可能にした3自由度と第10図に示す2方向の3自由度
を組合せることにより6自由度の位置せが可能に。
なる。
〔発明の効果〕
以上詳述した通り本発明によれば、台型カム。
を回転支持軸、支持輪およびローラーの3点で支持し、
回転支持軸を回転させ、回転支持軸と台型カムとの間の
まさつ力により台型カムを直動させ、ステージの位置制
御をさせるようにしたので、下記の効果が有る。
(1)送り機構内で過行程を機械的に制動しても、送シ
機構内に過大な力を生じないので送り機。
構の破損の虞れがなく、また、送り機構か固着すること
もなく、モータの逆回転によりiμちに制止状態を解除
することができる。
(ii)上記の効果と相俟って、摩擦力によって台型カ
ムを移動させるので、機械的な遊びか々。
く、位置合せ精度は勿論のこと、位置決めさ。
れた状態を確実に保持することがでへ、高精度の位置決
めが可能となる。
Ll ::)θ方向の回転およびZ方向の昇降ならびに
XおよびY方向のステージの傾斜を加えた、2)。
6自由度ステージとし、6自由度に対して直接的に位置
制御可能なステージを構成でき、。
上記(j)(i:l)の効果との相剰効果により更に高
精度の位置合せが可能となる0 (′l■ 更に構成の簡略化により、従来技術では不可
欠であった、送Qネジとナノ) オよび案内部材の平行
度および軸間隔のμmオーダーの調整作業が、省略でき
るなど優れた効果を奏する0
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第4図は、従来のステージ位置合せ装置であ
り、第1図は平面図、第2図はナノ。 ト部を断面した縦断面図、第6Nは、第1図の送り機構
の部分を詳細に示しだ平面図、第4図は、θステージ、
Zステージの縦断面図である。 第5図乃至第12図は本発明の一実施例であや、鳩5図
は、平面図、第6図は、第5図の回転客待軸部で断面し
た縦断面図、第7図は、第5図の支持輪部で断面した縦
断面図、第8図は、等5図の送り機構部を示す平面図、
第9図は、送り機構を3個としXYステージの位置合せ
に3断面して示した縦断面図、第11図及び第121縦
、台型カムの挾持状態を断面して示しだ縦断面図である
。 63・・・・・ステージベース、 70・・・・・回転支持軸、 72・・ ・支持輪、 75・・・・・・台型カム、 76・・・・・・鋼球、 77・・・バネ、 78.79− ・・・ローラ、 80・・・・・・XYステージ。 羊  f  図 早  4− 図 3θ 羊 5 図 羊  b 図 Rθ 羊  / 図 子 8 図 羊  Z  図 3 羊  10  図 早″図   羊/2図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)XYステージを水平面内において変位機構を介し
    てX及びY方向に変位させXYステ」ジを変位させ位置
    合せする装置において、XYステージのX及びY方向面
    に設けたローンと、該ローラに対向する位置に配設され
    ステージベースに固定した回転支持軸と、該回転支持軸
    に並設しステージベースに固定した支。 持輪と、上記ローラと回転支持軸との間に介在し支持輪
    によって支持され緩やかな傾斜面で楔状に成形した台型
    カムとからなシ、回転支持軸の回転によって台型カムを
    摺動し、XYステージの水平面内の位置合せをすること
    を特徴とするステージ位置合せ装置。 (2、特許請求の範囲第1項のXY方向の位置脅せ機構
    において、ローラと回転支持軸とのりに介在させ支持輪
    によって台型カムを支持じて成るXY方向位置合せ機構
    を3個配設したことを特徴とするステージ位置合せ装置
    。 (6)  ローラと、回転支持軸との間に介在し支持輪
    によって台型カムを支持して成る特許請求の範囲第1項
    又は第2項において、台型カムとローラ、回転支持軸及
    び支持輪との間の挾持面を点接融にしたことを特徴とす
    るステニジ位置合せ装置。 (4)XYステージを水平面内において変位機構を介し
    てX及びY方向に変位させ位置合せする装置において、
    XYステージのX及びY方向面に設けたローラと、該に
    ローラに対向する位置に配設されステージベースに固定
    した回転支持軸と、該回転支持軸に並設しステージベー
    スに固定した支持輪と、上記ローラと回転支持4!il
    Iとの間に介在し支持輪によって支持され緩やかな傾斜
    面で楔状に成型した台型カムと、XYステージを三点で
    支持しこの三点を個別にZ方向に調節可能にした三対の
    4方向位置合せ機構とから成シ、回転支持軸の回転によ
    って台型カムを摺動し、XYステコジの水平面内の位置
    合せを行なうと共KZ方向位置合せ機構によってXYス
    テージの平行度を保持しなからZ方向の位置合せをする
    ことを特徴とするステージ位置合せ装置。 (5)特許請求の範囲第4項のXY方向の位置合せ機構
    において、ローラと回転支持軸上の間に介在させ支持輪
    妬よって台型カムを支持して成るXY方向位置合せ機構
    を3個配設したことを特徴とするステージ位置合せ装置
    。 (6)  ローラと、回転支持軸との間に介在し支持輪
    によって台型カムを支持して成る特許請求の範囲第4項
    又は第5項において、台型カムとローラ、回転支持軸及
    び支持輪との間の挟持面を点接触にしたととを特徴とす
    るステージ位置介せ装置。
JP58052334A 1983-03-30 1983-03-30 ステ−ジ位置合せ装置 Pending JPS59178728A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998030937A1 (en) * 1997-01-06 1998-07-16 Etec Systems, Inc. Articulated platform mechanism for laser pattern generation on a workpiece
JP2013019818A (ja) * 2011-07-13 2013-01-31 Mitsutoyo Corp 硬さ試験機

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