JPS59178638A - 光学式記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

光学式記録媒体及びその製造方法

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JPS59178638A
JPS59178638A JP59050834A JP5083484A JPS59178638A JP S59178638 A JPS59178638 A JP S59178638A JP 59050834 A JP59050834 A JP 59050834A JP 5083484 A JP5083484 A JP 5083484A JP S59178638 A JPS59178638 A JP S59178638A
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optical
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light
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チ・フシアング・チユング
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は焦点な桔げせた変調した光線、たとえばレーギ
ーからの光線のごと踵によって配りされる尤受式記録媒
体に閂する。媒体は、光線からエネルヤーを吸＋１’Ｚ
ｔ、て情報を表わすぎットあるいはバブルのような離散
した特徴ある形（ｆθａｔｕｒｅθ）をつくり出す光吸
収層を有する。その情報は光学式録音再生用に直ちに利
用できるので、媒体は光学式ＤＲＡＷ　（Ｄｉｒｅｃｔ
−Ｒｅａｃｔ−Ａｆｔｅｒ−Ｗｒｉｔｅ　：　１４込み
後直接読出し）媒体と呼ばれる。
望ましい光学式ＤＲＡＷ媒体は、光学的に平たんな基板
上の反射Ｍ５反射層の上に乗る光学的スペーサ一層、お
よび光学的スペーサ一層慢の上に乗る光吸収−から成る
ヨー構造を有する。もし基板自体が反射性であれば、そ
れは反射層として役立つかもしれない。三層光学式ＤＲ
ＡＷ　ｈ＃体は工ＦＫＫＳｐｅｃｔｒｕｍ　１５巻、８
号、８月、１９７８年、２０〜２８波−ジの？々−トリ
ニ（Ｂａｒｔｏｌｉｎｉ　）らによる６０ｐｔｉｃａｌ
　Ｄｉｓｋ　Ｓｙｓｔｅｍｓ　Ｅｍｅｒｇｅ”の２６イ
一ジ図７に模式的に例証される。その層とそれらの厚さ
は、図ではチタンであるが代りに有機染料であってもよ
い光吸収層で焦点を結ばせた光線の吸収を量大にししか
も無駄な反射を最少にするように選ばれろ。
米国特許第４，２１６．５　Ｃ１１号明細書（Ｂｅ１ｌ
）によれば光吸収層は高い吸収能および長期間安定性に
対して選ぶべきであり、チタンあるいはロジウムのごと
き物質を示唆する。光学的スペーサ一層は透溝性と反射
性表面を酸化から守ることの両方に対して選ぶべきであ
り、しかも二酸化ケイ素のごとき誘電物質であるべきで
ある。
未開特許！　４，２８５．０５６号明細書（Ｂｅ１ｌ　
）の示唆するところによれば、もし光学的スペーサ一層
の物質が光吸収層の物質の融点より少くとも３００°Ｃ
低い温度で融けるなら、三層光学式ＤＲＡＷ媒体はずっ
と高い信号対雑音比ケ与えるはずである。二通りの機構
が例証される。一つにおいては、焦点を結ばせた変調し
た光線からの熱が光学的スペーサー物質を分解させ、昇
華させあるいはさもなくば急速に蒸気圧が増加するよう
にするといわれ、しかもトラップされたガスの圧力が先
天（反層内にバブルが形成されるようにすることができ
る。
他の機構においては、光学的スペーサ一層質は光吸収層
の物質とともに融け、かくして両層の物質をつくられた
孔やｆットの縁のまわりに引きよせるといわれる。フッ
化マグネシウムおよびフッ化鉛が光学的スペーサ一層に
有用であるといわれる。
米国特許第４，３００．２２７号明細書（Ｂｅ１ｌ）は
チタンのとと絆高融点の先天（反りおよび光吸収層物質
より少なくとも３００°Ｃ低温で融ける有機物質である
光学的スペーサ一層を有する″ＦＥ、層光学式ＤＲＡＷ
媒体に関する。これは二酸化ケイ素あるいはフッ化マグ
ネシウムのごとき無機光学ス槓−サーを有する媒体に比
較して閾の記録出力において約２あるいはそれ以上の倍
率で減小することにつながるといわれる。
上記の三層光学ＤＲＡＷ媒体はアルゴン１ノーデーおよ
びヘリウム／ネオンレーデ−記録システムを用いた使用
には有効であるけれど、帰近望ましい光源であって、ず
っと安価であり、必要出力が小さくてよく、シかも非常
に速い変調速度を与える半導体ｉ／−デーに基く記録シ
ステムに対してはそれらは満足のいくものではない。半
導体１／−デーは典型的には７００〜９　口０　、ｎｍ
の範囲で発光（ｅｍｉｔ　）する。
レーデ−が何であれピットあるいはバブルが不連続であ
ろうとなかろうと、究極の目的は、記録された情報が長
期間の貯蔵後に録音再生される際に再生信号が記録され
た信号に、高い信号対雑音比あるいはキャリヤ（ｃａｒ
ｒｉｅｒ　）対雑音比により証明されるように、本質的
に等しいような特徴ある形Ｚつくり出すことである。
三層光学式ＤＲＡＷ媒体は接着促進用下地（θｕｂｂｉ
ｎ、ｇ　）層あるいは透明の保護表面層のごとき追加の
層を有してもよいが、ピットあるいはバブルをつくるの
には三つの層だけが含まれるので、媒体はそれにもかか
わらず”三等”と呼ばれる。
本発明は１ノーデー記録可能な光学式ＤＲＡＷ媒体に関
し、それは上記三階媒体のように光学的に平滑な反射性
基板、反射性基板の上に乗る光学的スペーサー―、光学
的ス昶−サ一層の上に乗る光吸収層から成る。ある従来
の光学式ＤＲＡＷ媒体におけるように、本発明の光学的
スペーサ一層は少くとも１８００°にの融点を持つのが
好ましい。本発明の光学式ＤＲＡＷ媒体は従来技術のそ
れと異なり、四層であってそれは光吸収層と光学的スぜ
一す−のおのおのに隣接してトリガー（ｔｒｉｇｇθｒ
ｉｎｇ）　＠を含み、そのトリが一層は光学的ス々−サ
一層の厚みよりも小さい厚みを有ししかも光学的ス（−
サ一層の融点よりも低い温度に加熱される際に吸収層内
のバブルあるいはピットの形成を行うか高める蒸気圧の
急速な増加を経験する。トリが一層は光学的スに一す一
層の融点より低い温度に加熱される際に実質的蒸気圧を
生じるかさもなければ急速に膨張しその結果光学的ス被
−サ一層およびそれが反射層に対して供給する保護体（
ｐｒｏｔｅｃｔＪ、ｏｎ　）を乱すことなく２ツトある
いはバブルを形成することができる。
トリが一層は低い活性化温度（たとえば２００°Ｃ）を
有して記録感度を高める有機のあるいは有機金属の物質
であることが好ましい。活性化温度の好ましい範囲は２
００°〜５００℃である。これは低出力の半導体レーデ
−記録システムの使用をもつと実行可能にする。
バブルあるいは２ツトが新規な四層ＤＲＡＷ媒体の先天
１１に層内につくり出されるか否かは記録出力レベルお
よびパルス間隔によって主に決定される。
バブルを生じることを意図した比較的低い記録出力レベ
ルにおいては、記録出力レベルの小さな偶然の変動がバ
ブルの形の変動めあるいはバブルに生成するときどきの
孔を生じ、結果的にＣ７Ｎ比を減少させることがある。
一方、ぎットが形成される比較的高い出力レベルではそ
のような変動は比較的とるに足らぬものであり、それゆ
えピットを形成する出力レベルで通常操作することが好
ましい。新規な四層ＤＲＡＷ媒体は非常に高感度Ｃτで
λるので従来技術においてバブルを形成するのに用いら
れる記録出力レベルできットだけが形成される。
従来技術におけるように、尤吸収陪、トリが一層、およ
び光学的スペーサ一層の光学的厚みは干渉して反反射条
件を辱えるように選ぶのが好ましい９基板の反射する表
面のあるいはその反射層の光学的に有効な厚みは、従来
技術に既知のように、やはり考慮に入れるべきである。
トリガ一層の光学的に有効な厚みはそれが透明であるか
、半透明であるか、あるいは半年透明であるかに依存す
る。
７００〜９　Ｄ　Ｏｎｍの範囲の波長を持つ半導体レー
デ−の使用に関しては、代表的な望ましい厚みは 光吸収−３〜２［］　ｎｍ ト　リ　ゾｒ一層　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　５〜　５　　Ｑ　　ｎｍ光学的スペーサー＠　　　
５０〜２２５　ｎｍである。
トリが一層の厚みは少なくとも１［１ｎｍでありしかも
光学的スに一す一層の５分の１にすぎないことが好まし
い。１０ｎｍの厚みは望ましく高い０７　Ｎ比でバブル
あるいはぎットのいずれかをつくるのに必要であるどん
な圧力をも生じるのに十分な材料を与えるべきである。
エネルギー消費を最小に保つためには、１０〜３　Ｑ　
ｎｍの厚みが好ましく、シかもトリガ一層が有機物であ
るときば５　（］　ｎｍが実用上限であると考えられる
、なぜなら有機物質を比較的厚く析出することは遅いか
らである。一方、光学的スに一す一層用に好ましい二酸
化ケイ素のごとき無機物質を析出させることは比較的速
い。
トリが一層用に有用な物質に含まれるものはポリメタア
クリル酸メチルやポリカーぜネートのごとき炭化水素重
合体、ぼりフッ化ビニルのごとき過フッ化炭化水素、お
よびチタン酸塩のごとキ有機金属化合物および（スぎン
コーティング（ｓｐｉｎｃｏａｔｉｎｇ　）により析出
した）ベンジル三塩化シラン、（グロー放電により析出
した）へキサメチルジシラン、および（電子ビームある
いは熱的蒸着による）オクタフェニルシクロテトラシラ
ンのと１ ときシランでであり、好ましくは重合した形態であるも
のである。めはり有用なものとして（熱的蒸着の）ジエ
チルスフアリリム（ｄｉｅｔｈｙｌｓｑｕａｒｙｌｉｕ
ｍ　）のごとき染料がある。無機物質もまた使用するこ
とができる。
光吸収層剤に好ましい物質はクロムおよびクロム合金で
ある。他の有用な物質として含まれるものはｒルマニウ
ム、コバルト、チタン、ロジウムのとと穴他の金瞑；米
国特許第４．１９５．３１３号明細書（Ｂｅ１１）の中
で用いられたようなフルオレセインのごとき有機染料；
および炭素、カーパイＶ、ホウ素、ケイ素、ケイ化物、
およびヨーロッパ特許叩出＠　Ｆ！　Ｐ　５８４９６号
（Ｍａｆｆｉｔｔら）の中で開示の他の耐火物質である
。
光学的スペーサ一層剤の望ましい物質は電子ビーム蒸着
したものであってすぐれた環境安定性を示す５１０２お
よびＡｌ２Ｏ，である。有用であるに違いない他力無機
物質はＡＩ、Ｇｅ、　Ｚｒ、　Ｓｉ、Ｔｉ、Ｏｅ、　　
Ｔａ、　Ｌａ、　　Ｏｒ、　ＹＸＣｙ、　Ｅｒ、　Ｇｄ
、　ＨＦ。
Ｓｍ、Ｂｉ、Ｐｂ、　Ｚｎ、　　Ｌｉ、Ｍｇ、８ｂＸＰ
ｒおよび２ Ｍの酸化物、窒化物およびフッ化物を含む。環境的に安
定である高度に架橋した有機重合体もやはり使用してよ
い。
新規な媒体の基板が銅あるいはアルミニウムのごとき酸
化することのできる金属反射基板あるいは囮である際は
本発明は特に重要である。金属反射層は電析あるいは真
空蒸着により都合よく与えられしかも少なくとも５０チ
の入射光を反射するに違いない。アルミニウムを用いる
際は、少なくトモ５０　ｎｍの厚みが望ましい。
ＲＣ！Ａ　Ｒｅｖｉｅｗ　、　　４　［１巻、１９７９
年９月号、３４５．３６２ページのＢｅ１１らによる「
カプセル化したチタン三層を用いた光学記録”（Ｏｐｔ
ｉｃａｌＲｅｃｏｒａｉｎｇ　ｗｉｔｈ　ｔｈｅ　Ｅｎ
ｃａｐｓｕ’１ａｔｅａ　ＴｉｔａｎｉｕｍＴｒｉｌａ
ｙｅｒ　）”の中の示唆に従うと、新規な四層ＤＲＡ、
Ｗ媒体は先天咬層上に保護オーバーコートを有シてもよ
く、シかもオーバーコートと光吸収層との間に熱障壁が
またあってもよい。
第１図は本発明の四層光学式ＤＲＡＷ媒体の模式的断面
である。
第２図は本発明のもう一つの四−ＤＲＡＷ媒体の模式的
断面である。
第３図は切除作用（ａｂｌａｔｉｖｅ　ａｃｔ′Ｉ−ｏ
ｎ　）　７経て形成されるＶットとしておよび比較的低
い出力レベルで形成されるバブルあるいは突起としてい
ずれも情報が記録される第１図の四層光学式ＤＩ”ｊＡ
Ｗ媒体の模式的断面である。
第４図はい乙いろな記郊出力レベルでの本発明の四層光
学式ＤＲＡＷ　媒体について得られたＣ／Ｎ比を示す曲
線である。
第１図に示す光学式記録媒体は金属基板１２を有し、１
２は光学的＋７ｆｆｌ平たんな反射性表面１３を持ち、
１３はしかもトリガ一層１６によって被覆され、１６は
しかも光吸収層１８により被覆される。
第２図に示す光学式記録媒体２０はプｒラス基板２２、
接着促進用下地＠２１、反射層２３、光学的ス波−サー
＠２４、トリが一層２６、および光吸収層２８を有する
。
第３図は第１図の媒体２０を示すがそこでは情報がぎッ
ト３２，３４あるいはバブル３６のいずれかの形態で記
録されている。記録された媒体の微視的な検査によって
もジットがトリが一層１６の中に（２ツト３２のように
）拡がるのかあるいはトリげ一層が傷つけられないかあ
るいは（２ツト３４に示すように）部分的に傷つけられ
ないままであるのかはわからない。情報は通常ただ一つ
の出力レベルと持続時間で記録されるので、単一の媒体
は普通ぎットあるいはバブルのみでＷｅ　’Ｒ＜　サれ
る。
基板１２および２２は多様な物質たとえばガラス、プラ
スチックあるいは金属、好ましくは寸法的に安定で記録
および録音再生中の半径方向の移動を最小にする物質の
いずれかから形成されてもよい。すぐれた物質はポリメ
タアクリル酸メチルである、なぜならそれは経済的であ
りしかも容易にレプリカがとれて溝およびフォーマット
信号（ｆｏｒｍａｔ　ｃａｄθＢ）をその表面上に与え
る、ただし他の物質がよりよい寸法安定性を持ってはい
るが、基板は光学的に平たんな表面を持つか備え、それ
によって録音再生中のノイデを最小にすべきである。
例　　１ 四層光学式ＤＲＡＷ媒体を３０ｃＩｒＬの直径と光学的
に平滑な重合体基板の（ｐｏｌｙｍｅｒｉｃａｌｌｙ　
５ｕｂｂｅａ　）表面を持つ＆　１７メタアクリル酸メ
チルを用いてつくった。Ａｉｒｃｏ　Ｔｅｍｅｓｃａｌ
　　ＣＶ　８の電源とＳＴ工Ｈ−２７０−２ＭＢ　四ポ
ケット電子線銃を用いた電子ビーム蒸着ｆよってアルミ
ニウムの反射−を供給した。約８．３ｋＶのビーム電圧
と約０．３Ａのビーム電流とを用いて、アルミニウムを
約１１００ｎの厚さに析出させた。パックブラウン団の
操作圧力は約１０−６　ｔｏｒｒ　（１，３ｘ　１　［
１’　Ｐａ　）であって、約３　ｎｍ　／　ｓｅｃの析
出速度を得た。
８．３　ｋＶのビーム電圧と０．０２Ａのビーム電流を
もつ電子ぎ−ム蒸着を利用して反射層の上にＳｉＯ□の
光学的スペーサ一層を約６０　ｎｍの厚さに析出させた
。パックブラウンＰの操作圧力は約５Ｘ　１０−’　ｔ
ｏｒｒ　（６Ｘ　１０　’　Ｐａ　）であって、約Ｑ、
４　ｎｍ　／ｓｅａ、の析出速度が得られた。
］ｂ ＲＦプラズマ重合装置を利用して光学的スペーサーの上
にポリメタアクリル酸メチルのトリガ一層を約１７ｎｍ
の厚みにプラズマ析出させた。単量体の供給混合物は約
９０重量％のメタアクリル酸メチル蒸気と約１０重骨幅
のアクリル酸蒸気とから成った。約０．１１Ｗ／ｃ′Ｉ
ｎ２の出力密度に対応して約１２０ワツトのプラズマ重
合出力を利用した。
約３．５　ｎ、ｍ　／ｍｉｎ、の析出速度が得られた。
パックブラウンＰノ４％作圧力は約１　（３−４ｔｏｒ
ｒ　（１，３Ｘｌ　０−２Ｐａ　）であった。
約Ｂ、３　ｋｖの２−ム電圧と約［１，０３Ａのビーム
電流を用いて、電子ｔ−ム蒸着を再び利用してトリガ一
層の上にクロムの光吸収層を約５　ｎｍの厚さに析出さ
せた。バラフグ２ウンドの操作圧力は約１０　’　ｔｏ
ｒｒ　（１，３Ｘ　１０−’　Ｐａ）であって約０．１
ｎｍ　／　ｓｅａ、の析出速度が得られた。
コノ四層光学式ＤＲＡＷ　１体において、９００ｒｐｍ
で回転して、０．６値の口径の焦点レンズをもつ半導体
レーデ−光源を用いて、記録実験を行った。
５　ＭＨＩＪの方形波信号が１００　ｎ８パルスを用い
た６ １０５朋の半径で言己録された際、ピットが光吸収層に
おいて３　ｍＷの入射光ピーク出力レベルで形成された
。第４図は種々の入射光ざ−ク出力レベルでの記録の後
に得られたＯ／Ｎ比を示す。
３．３．５．４．５．６．７および１３　ｍＷのおのお
ので記録された媒体の走査型電子顕微鐘検査から境界の
はつきりした開孔部すなわちピットが明らかにされ、そ
の縁は非常に滑らかでしかも切除破片がなかった。
記録された媒体が５００時間５０°Ｃで８５係の相対湿
度で保持された後で、録音再生における０／Ｎ比が再試
験されしかも第４図の元の値から変更されない（実験誤
差内で）ことがわかった。
比較例Ａ トリが一層を省きしかも光学的スペーサ一層の厚みを約
７７　ｎｍに増して同じ干渉作用で反反射条件を保つこ
とケ除いて例１におけるように三層光学式ＤＲＡＷ媒体
をつくった。
例１媒体を使って３　ｍＷで得られたのと同じ０　／　
Ｎ比を得るには、実行可能な１０ｍＷ以上の入射光２−
り出力レベルが必要とされたであろう。
例　　２ 反射層テ迅１１０Ｃ１ｎの原人に析出した銅であること
を除いて例１におけるように四層光学式ＤＲＡ、Ｗ媒体
をつくった。８ｍＷの入射光ぎ−り出力レベルで記録さ
れた際５　Ｑ　ｄｂを越えるＣ／Ｎ比が録音再生で得ら
れた。
イ５ｉ＋ｌ　　　ど３ クロムの光吸収層を約１５ｎｍの厚さに析出させたこと
以外は例１におけるように四層光学式ＤＲＡＷ　９体を
つくった。２．５から３．５ｍＷの入射光ピーク出力で
７々プルが光吸収層に形成され、しかも出力レベルが３
．５ｍＷを越えると２ツトが形成された。
例　　４ 基板が重合体基板の（ｐｏｌｙｍｅｒｉｃａｌｌｙ　ｓ
ｕ’ｂ’ｂｅａ　）２リメタアクリル酸メチルの小片で
ありしかも光学的スに一す一層が５１］　ｎｍの厚みに
電子ビーム蒸着したＡ１，０３であったことを除いて四
層光学式ＤＲＡＷ媒体を例１におけるようにつくった。
３　ｍＷの入射光ピーク出力レベルで半導体レーデ−光
源からの１ＱＱｎ、ｅｚぐルスを用いて非常に滑らかな
縁を有する形のし１つきりしたビットを■４成してこの
媒体がｑ己録された。
例　　５ トリゴ一層がノルマＩレデタ、ノー　ルて溶かｌ、た５
係溶液から２０００　ｒｐｍで２Ｑ　ｎｍの厚さｌｆＣ
スｆンコートした（　ｅｐｌ、ｎ　−ｃｏａｔｅ６）ベ
ンジルトリクロロシランであった以外は例１の方法に」
′って、重合体基板のポリメタアクリル酸メチルのもう
一つの小片を四層光学式Ｔ）ＲＡＷ媒体に変換した。ク
ロムの光吸収層を析出させる前にこのコーティングを５
０’Ｏで２０分間乾燥した。３　ｍＷで半導体１／−ｒ
−を用いて５０ｎ８パルスで記録したとき、滑らかな縁
を持つ形のはつきりしたＬＡワットクロム時に形成され
た。
例　　６ トリが一層がノルマルプクノールに溶けた２チ溶液から
２Ｑ　ｎｍの厚さにスピンコードしたテトラノルマルブ
チルチタン酸塩であった以外は倒５９ におけるように四層光学式ＤＲＡＷ媒体をつくった。
例５におけるように記録した際、滑らかな縁を持つ形の
はつきりした２ツトがクロムに形成された。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の四層光学式ＤＲＡＷ媒体の模式的断面
を示す。 第２図は本発明のもう一つの四層光学式ＤＲＡＷ媒体の
模式的断面を示す、 第３図は第１図のＤＲＡＷ媒体にピットとバブルが形成
された状態を示す。 第４図は本発明の四層光学式ＤＲＡＷ媒体におけるＣ／
Ｎ比と妃鋒出力レベルとの関係を示す。 １０・・・光学式記録媒体、１２．２２・・・反射基板
、１４．２４・・・光学的ス（−サ一層、１８．２８・
・・光吸収層、１６．２６・・・トリガ一層、２３・・
・反射層、３２．３４・・・ビット、３６・・・パデル
代理人　浅　村　　　皓 ０ Ｆｉｃ、２ Ｆｚｃ、３

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 （１）書込み後に直接読出しする光学式記録媒体（１０
    ）であって、光学的に平滑な反射基板（１２，２２）、
    反射基板に乗る光学的スペーサ一層（１４，２４）、お
    よび光学的スペーサ一層に乗る光吸収層（１８，２８）
    から成り、焦点を合わせた変調したレーず一光線によっ
    て作り出すことができる光吸収層における離散した特徴
    ある形態で情報が記録され、光吸収層と光学的スペーサ
    ー暖のそれぞれに隣接するトリが一層（１６゜２６）で
    あって光学的スペーサー畷の厚みよりも小さい厚みを持
    ちしかも光学的スペーサ一層の融点より低い温度にまで
    加熱される際に急速に拡大して吸収層中に・々プルある
    いはぎットの形成をおこすかあるいは高めるものによっ
    て特徴づけられる、上記記録媒体。 （２）トＩＪガ一層が有機物質である特許請求の範囲第
    １項に記載の光学式記録媒体。 （３）有機物質が２００°〜５００°Ｃの範囲内の活性
    化温間を有する特許請求の範囲第２項に記載の光学式記
    録媒体。 （４）有機物質が炭化水素高分子、フッ化炭素高分子、
    およびクロロ化炭素から選ばれる特許請求の範囲第３項
    に規定のような光学式配録媒体。 （５）トリが一層が高分子シランあるいはチタン酸塩で
    ある特許請求の範囲第１項に記載の光学式記録媒体。 （６）トリザー岡が染料である特許請求の範囲第１項に
    記載の光学式記録媒体。 （７）７ｒｌＯ〜９　ｍｌ　［１ｎｍの範囲内の波長を
    持つレーデ−半導体を用いて記録するように特別ＩＣ適
    合された特許請求の範囲第１項に記載の光学式記録媒体
    であって、光吸収層が３〜２０　ｎｍの範囲内の厚みを
    持も、光学的スに一す一層が５０〜２２５ｎｍの範囲内
    の厚みを有し、しかもトリが一層が５〜５　Ｑ　ｎｍの
    範囲内の厚みを持つ、上記記録媒体。 （８）トリガ一層の厚みが１０〜３３　ｎｍの範囲内に
    ある、特許請求の範囲第７項に記載の光学式記倚媒体。 （９）光学的スペーサ一層（２４）のすぐ下にある反射
    層（２３）によって反射される、特許請求の範囲第１項
    に記載の光学式記録媒体。 ００）光学的に滑らかな反射性基板（’１２．２２）の
    上に光学的ス（−サ一層（１４，２４）および光吸収１
    １（１８，２８）を連続して析出させる工程から成る杏
    込み後直接読出しの記録媒体（１０）をつくる方法であ
    って、スペーサ一層の一ヒに厚みが光学式スに一す一層
    の厚みよりも小さいトリが−ｒ＆（ＩＲ，２６）を析出
    させる追加の工程にして、トリガ一層が光学的スに一す
    −鰯の融点より小さい温度に加熱すると急速に拡大して
    光吸収層内のバブルあるいは（ｆｉミツト形成をおこす
    かあるいは高める物質である、ことを特徴とする上記方
    法。 （１１）基板が円板状である、特許請求の範囲第１０項
    に記載の方法であってしかも基板がその軸の上で回転し
    ながら変調１〜だ半導体レーｒ−ｙｅ線を光＠！収１都
    Ｆに焦点を結ば什、こうして情報を表わす・離散した特
    徴ある形のものをつくり出−ｒＴ秤をさらｆ含む上記方
    法。
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