JPS59176677U - 回転塗布機 - Google Patents

回転塗布機

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Publication number
JPS59176677U
JPS59176677U JP6768683U JP6768683U JPS59176677U JP S59176677 U JPS59176677 U JP S59176677U JP 6768683 U JP6768683 U JP 6768683U JP 6768683 U JP6768683 U JP 6768683U JP S59176677 U JPS59176677 U JP S59176677U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coating machine
rotary coating
substrate
annular pipe
rotary
Prior art date
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Pending
Application number
JP6768683U
Other languages
English (en)
Inventor
荒川　喜英
学 樋口
Original Assignee
日本コロムビア株式会社
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Filing date
Publication date
Application filed by 日本コロムビア株式会社 filed Critical 日本コロムビア株式会社
Priority to JP6768683U priority Critical patent/JPS59176677U/ja
Publication of JPS59176677U publication Critical patent/JPS59176677U/ja
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  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
図は本考案の一実施例を示す断面図である。 １５・・・基板、２・・・隔壁、３・・・塗布室、４・
・・水又は溶剤を流すためのパイプ、６・・・循環ポン
プ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 基板を回転させて、塗布液を滴下し、遠心力を利用して
    塗布液を基板上に塗り広げて塗布膜を付ける回転塗布機
    において、上記基板の外周上方部に下部に流体漏出部を
    設けた環状パイプを設け、該環状パイプに流体を供給す
    る様にしたことを特徴とする回転塗布機。
JP6768683U 1983-05-09 1983-05-09 回転塗布機 Pending JPS59176677U (ja)

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JP6768683U JPS59176677U (ja) 1983-05-09 1983-05-09 回転塗布機

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JP6768683U JPS59176677U (ja) 1983-05-09 1983-05-09 回転塗布機

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS59176677U true JPS59176677U (ja) 1984-11-26

Family

ID=30197874

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6768683U Pending JPS59176677U (ja) 1983-05-09 1983-05-09 回転塗布機

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JP (1) JPS59176677U (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6369564A (ja) * 1986-09-10 1988-03-29 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板の回転塗布装置
JP2009214052A (ja) * 2008-03-11 2009-09-24 Tokyo Electron Ltd 塗布装置、塗布方法及び記憶媒体

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5364472A (en) * 1976-11-22 1978-06-08 Hitachi Ltd Processing apparatus
JPS5840275B2 (ja) * 1976-12-06 1983-09-05 富士通株式会社 コラツプス磁界自動測定装置

Patent Citations (2)

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