JPS5917505A - アルミニウム板 - Google Patents
アルミニウム板Info
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- JPS5917505A JPS5917505A JP12796682A JP12796682A JPS5917505A JP S5917505 A JPS5917505 A JP S5917505A JP 12796682 A JP12796682 A JP 12796682A JP 12796682 A JP12796682 A JP 12796682A JP S5917505 A JPS5917505 A JP S5917505A
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- substrate
- aluminum substrate
- light
- aluminum plate
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/0816—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
- G02B5/085—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal
- G02B5/0858—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal the reflecting layers comprising a single metallic layer with one or more dielectric layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2222/00—Aspects relating to chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive medium
- C23C2222/20—Use of solutions containing silanes
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、その表面が保護され且つ良好な反射特性を有
するアルミニウム板に関するものである。
するアルミニウム板に関するものである。
アルミニウムの表面反射を利用した機器としては、照明
器具の反射板、例えば光源からの光束を所定の方向に効
率良く導び〈複写機の反射笠、照明器の反射笠等に広く
用いられている。斯様なアルミニウム板は、その表面の
保護、及びその表面での増反射を目的として、アルミニ
ウムの表面に高屈折率層と低屈折率層の誘電体層を交互
に複数層設けることが知られている。この様な方法では
、製作の際、屈折率及び膜厚の制御を正確に行う必要が
あるし、又、一般に蒸着で行う為にコスト高となったり
、大きな面積のアルミニウム基板に設けることは困難で
あった。更には、複数層のコーティングか必要なため、
アルミニウム基板との電着性が問題となり、アルミニウ
ム基板上に複数層設けた後にプレス加工をすると、コー
テイング膜がはがれると言う様な問題があった。
器具の反射板、例えば光源からの光束を所定の方向に効
率良く導び〈複写機の反射笠、照明器の反射笠等に広く
用いられている。斯様なアルミニウム板は、その表面の
保護、及びその表面での増反射を目的として、アルミニ
ウムの表面に高屈折率層と低屈折率層の誘電体層を交互
に複数層設けることが知られている。この様な方法では
、製作の際、屈折率及び膜厚の制御を正確に行う必要が
あるし、又、一般に蒸着で行う為にコスト高となったり
、大きな面積のアルミニウム基板に設けることは困難で
あった。更には、複数層のコーティングか必要なため、
アルミニウム基板との電着性が問題となり、アルミニウ
ム基板上に複数層設けた後にプレス加工をすると、コー
テイング膜がはがれると言う様な問題があった。
更に、従来、複写機の如く感光体にコロナ放電を与える
プロセスを含む装置にアルミニウム基板を用いた反射笠
を光源部に用いる場合には、コロナ放電器により発生す
るオゾン、及び高温、高湿からアルミニウム基板の表面
を守る為に、アルミニウム表面に酸化処理（アルマイト
処理）を施こしている。斯様なアルマイト処理を施こす
と、アルミニウムの表面に凹凸が多くなり、散乱光が増
加し、スリット露光を行う様な複写装置に於いては集光
性が悪くなり、コピー画質の−Ｌでフレアーが多くなり
画質の低下を招く。
プロセスを含む装置にアルミニウム基板を用いた反射笠
を光源部に用いる場合には、コロナ放電器により発生す
るオゾン、及び高温、高湿からアルミニウム基板の表面
を守る為に、アルミニウム表面に酸化処理（アルマイト
処理）を施こしている。斯様なアルマイト処理を施こす
と、アルミニウムの表面に凹凸が多くなり、散乱光が増
加し、スリット露光を行う様な複写装置に於いては集光
性が悪くなり、コピー画質の−Ｌでフレアーが多くなり
画質の低下を招く。
本発明の目的は、その反射面としての耐久性か物理的及
び化学的に充分に優れ、且つ製造が容易なアルミニウム
板を提供することにある。
び化学的に充分に優れ、且つ製造が容易なアルミニウム
板を提供することにある。
本発明の更なる目的は、例えば複写装置の光源部に用い
られる反射笠として適する如く、成る特定の方向に反射
の指向性を有する様なアルミニウム板を提供することに
ある。
られる反射笠として適する如く、成る特定の方向に反射
の指向性を有する様なアルミニウム板を提供することに
ある。
第１図は本発明に係るアルミニウム板の一実施例を示す
図で、第１のアルミニウム基板１」−に第１のアルミニ
ウム基板より純度の高い第２のアルミニウム基板２を設
け、その上にＳｉ○２系′＄、ｌｌＡ３を施こしたもの
である。第１のアルミニウム基板１は、アルミニウムの
成分がおよそ９９％、第２のアルミニウム基板はアルミ
ニウムの成分が９９．８％以上である。そして、アルミ
ニウム板は、厚さ０．８ｍｍの第１のアルミニウム基板
と０．２ｍｍの第２のアルミニウム基板か圧延ローラー
によって圧接され形成されている。この第２のアルミニ
ウム基板に、ヒドロキシシランを主成分とする溶液を塗
布、ディピング或いは吹付法で設け１５０°Ｃ〜４５０
０Ｃ１好ましくは３００００〜３５００Ｃの温度で焼付
けたものである。ヒドロキシシランを主成分とする溶液
は、ハロゲン化シラン又はアルコキシシランの加水分解
によって得られる。又、ヒドロキシシラン溶液にガラス
質形成剤、例えば、Ｐ２Ｏ５、Ｂ２Ｏ３などを添加する
と、得られた被膜はガラス質となり、焼成温度を下げる
ことが可能である。
図で、第１のアルミニウム基板１」−に第１のアルミニ
ウム基板より純度の高い第２のアルミニウム基板２を設
け、その上にＳｉ○２系′＄、ｌｌＡ３を施こしたもの
である。第１のアルミニウム基板１は、アルミニウムの
成分がおよそ９９％、第２のアルミニウム基板はアルミ
ニウムの成分が９９．８％以上である。そして、アルミ
ニウム板は、厚さ０．８ｍｍの第１のアルミニウム基板
と０．２ｍｍの第２のアルミニウム基板か圧延ローラー
によって圧接され形成されている。この第２のアルミニ
ウム基板に、ヒドロキシシランを主成分とする溶液を塗
布、ディピング或いは吹付法で設け１５０°Ｃ〜４５０
０Ｃ１好ましくは３００００〜３５００Ｃの温度で焼付
けたものである。ヒドロキシシランを主成分とする溶液
は、ハロゲン化シラン又はアルコキシシランの加水分解
によって得られる。又、ヒドロキシシラン溶液にガラス
質形成剤、例えば、Ｐ２Ｏ５、Ｂ２Ｏ３などを添加する
と、得られた被膜はガラス質となり、焼成温度を下げる
ことが可能である。
この様に、表面に純度の高いアルミニウム基板を設ける
と、アルミニウムは純度が高くなるに従って不活性化し
、その上に設けた５ｉ０２系被膜と反応しない。従って
アルミニウムが酸化され、酸化アルミニウムとなって表
面の反則率が低下することを防止している。塗布して焼
結された５ｉ０２系被膜はガラス状になり、蒸着で設け
た場合に比して気孔が少なく、従って湿気などの侵入に
よりアルミニウム基板が酸化、腐食されることを防止す
る。更に、斯様な手段で５ｉ０２系被膜を設けたアルミ
ニウム板は、プレス加工をしても５ｉ０２系被膜が傷を
受けたり、アルミニウム基板よりはがれる様なことはな
かった。そして言うまでもなく、斯様な手段で得られた
アルミニウム板は蒸着に比して製造が容易で、且つ大き
なアルミニウム板を低コストで生産することが出来るも
のである。
と、アルミニウムは純度が高くなるに従って不活性化し
、その上に設けた５ｉ０２系被膜と反応しない。従って
アルミニウムが酸化され、酸化アルミニウムとなって表
面の反則率が低下することを防止している。塗布して焼
結された５ｉ０２系被膜はガラス状になり、蒸着で設け
た場合に比して気孔が少なく、従って湿気などの侵入に
よりアルミニウム基板が酸化、腐食されることを防止す
る。更に、斯様な手段で５ｉ０２系被膜を設けたアルミ
ニウム板は、プレス加工をしても５ｉ０２系被膜が傷を
受けたり、アルミニウム基板よりはがれる様なことはな
かった。そして言うまでもなく、斯様な手段で得られた
アルミニウム板は蒸着に比して製造が容易で、且つ大き
なアルミニウム板を低コストで生産することが出来るも
のである。
又、表面にアルミニウムの純度の高い層を設けることは
、アルミニウム表面での正反射成分か多くなり、指向性
のすぐれた特性を有することか確認された。即ち、第１
のアルミニウム基板と第２のアルミニウム基板とを、同
じローラーを使用して圧接しても、第２のアルミニウム
基板のアルミニウムの純度が高ければ高い程、指向性が
良くなるものである。又、アルミニウム表面での反射即
ち反射特性或いは反射の指向性は、圧接の為のローラー
の表面状態によって制御することが可能であり、この様
な制御は、第１のアルミニウム基板に第２のアルミニウ
ム基板を蒸着で設ける場合に比して容易に行うことが出
来る。この様に反射鏡が高い指向性を持つことは、スリ
ット照明を行う複写装置の光源部に使用される反射笠と
して用いるのに適している。第２図は本発明に係るアル
ミニウム板を反射笠として使用した複写装置の一実施例
を示す図である。第２図に於いて、１１は複写用原稿を
載置し後述する感光ドラムと同期して矢印の方向に移動
するプラテンガラス、１２．１３．１４は光源１５から
の光束をプラテンガラス上にスリット状に集光する為の
反射笠で、上記構成のアルミニウム板より構成されてい
る。
、アルミニウム表面での正反射成分か多くなり、指向性
のすぐれた特性を有することか確認された。即ち、第１
のアルミニウム基板と第２のアルミニウム基板とを、同
じローラーを使用して圧接しても、第２のアルミニウム
基板のアルミニウムの純度が高ければ高い程、指向性が
良くなるものである。又、アルミニウム表面での反射即
ち反射特性或いは反射の指向性は、圧接の為のローラー
の表面状態によって制御することが可能であり、この様
な制御は、第１のアルミニウム基板に第２のアルミニウ
ム基板を蒸着で設ける場合に比して容易に行うことが出
来る。この様に反射鏡が高い指向性を持つことは、スリ
ット照明を行う複写装置の光源部に使用される反射笠と
して用いるのに適している。第２図は本発明に係るアル
ミニウム板を反射笠として使用した複写装置の一実施例
を示す図である。第２図に於いて、１１は複写用原稿を
載置し後述する感光ドラムと同期して矢印の方向に移動
するプラテンガラス、１２．１３．１４は光源１５から
の光束をプラテンガラス上にスリット状に集光する為の
反射笠で、上記構成のアルミニウム板より構成されてい
る。
１５は固定の反射ミラー、１６は原稿の像を感光体ドラ
ム−Ｈに形成する結像光学系、１７は固定の反則ミラー
、１８はスリット巾を決める遮光板である。１９はドラ
ム、２０は導電性基板、光導電体層、表面透明絶縁層を
順に結合して成る感光体、２１．２２は各々コロナ放電
器、２３はランプ、２４は現像器、２５．２６はローラ
ー、２７は転写紙、２８はコロナ放電器、２９．３０は
各々ローラー、３１は弾性体ブレードである。
ム−Ｈに形成する結像光学系、１７は固定の反則ミラー
、１８はスリット巾を決める遮光板である。１９はドラ
ム、２０は導電性基板、光導電体層、表面透明絶縁層を
順に結合して成る感光体、２１．２２は各々コロナ放電
器、２３はランプ、２４は現像器、２５．２６はローラ
ー、２７は転写紙、２８はコロナ放電器、２９．３０は
各々ローラー、３１は弾性体ブレードである。
ドラム１９は不図示のモーターで矢印方向に回転駆動さ
れている。感光体２０はまずコロナ放電器２１により表
面に均一な帯電を受けるが、その極性は前記光導電体が
Ｎ型半導体の場合は正、Ｐ型の場合は負である。次に、
感光体２０は、結像光学系１６による原稿の像露光を受
けると共に、コロナ放電器２２により除電作業を受け、
これによって感光体２０上には原稿の光像に対応した帯
電パターンが形成される。この感光体は更にランプ２３
により全面均一な露光を受け、コントラストのよい静電
潜像が形成される。形成された潜像はカスケード型、マ
グネットブラシ型等の現像器２４によりトナー像として
顕画化される。次にこのトナー像は不図示の供給手段か
ら送出され、ローラ２５．２６によって感光体２ｏに接
しめられて、感光体２０と同速で送られる転写紙２７に
転写される。転写効率を高める為、転写位置に於いて転
写紙の裏面には現像を形成したトナーと逆極性の帯電が
与えられるが、これはコロナ放電器２８によってなされ
る。転写紙２７に転写されたトナー像は、転写紙に圧接
した対のローラー２９．３０を備えた加熱定着器等の適
宜の定着器で定着され、不図示の収納手段に搬送される
。
れている。感光体２０はまずコロナ放電器２１により表
面に均一な帯電を受けるが、その極性は前記光導電体が
Ｎ型半導体の場合は正、Ｐ型の場合は負である。次に、
感光体２０は、結像光学系１６による原稿の像露光を受
けると共に、コロナ放電器２２により除電作業を受け、
これによって感光体２０上には原稿の光像に対応した帯
電パターンが形成される。この感光体は更にランプ２３
により全面均一な露光を受け、コントラストのよい静電
潜像が形成される。形成された潜像はカスケード型、マ
グネットブラシ型等の現像器２４によりトナー像として
顕画化される。次にこのトナー像は不図示の供給手段か
ら送出され、ローラ２５．２６によって感光体２ｏに接
しめられて、感光体２０と同速で送られる転写紙２７に
転写される。転写効率を高める為、転写位置に於いて転
写紙の裏面には現像を形成したトナーと逆極性の帯電が
与えられるが、これはコロナ放電器２８によってなされ
る。転写紙２７に転写されたトナー像は、転写紙に圧接
した対のローラー２９．３０を備えた加熱定着器等の適
宜の定着器で定着され、不図示の収納手段に搬送される
。
転写終了後の感光体表面は、これに圧接した弾性体ブレ
ード３１のエツジによって残留トナーの拭い取りクリー
ニングを受けて清浄面に復し、再び上記の画像処理サイ
クルに投入されるものである。尚、前記放電器２２は光
像露光と同時に感光体２０表面を除電するように設置さ
れているが、帯電器２１と結像系の間に配置されて光像
露光前に感光体２０表面を除電するようにしてもよい。
ード３１のエツジによって残留トナーの拭い取りクリー
ニングを受けて清浄面に復し、再び上記の画像処理サイ
クルに投入されるものである。尚、前記放電器２２は光
像露光と同時に感光体２０表面を除電するように設置さ
れているが、帯電器２１と結像系の間に配置されて光像
露光前に感光体２０表面を除電するようにしてもよい。
この場合はランプ２３は不要である。また、感光体２０
は表面絶縁層を持たないものであってもよい。この場合
は放電器２２とランプ２３は不要である。
は表面絶縁層を持たないものであってもよい。この場合
は放電器２２とランプ２３は不要である。
上記反射笠（１２，１３，１４）は、従来の複写装置で
は、ランプから発生する熱、湿度及び帯電器により生ず
るオゾン等からその表面を保護する為に酸化処理（アル
マイト）が施されていた。この処理は、アルミニウムの
表面を酸化させるが、同時に反射面の面精度が微細な凹
凸散乱面となり、第３図に示す如く、入射光■をアルマ
イト処理面に入射させるとＲ”のように広がった（散乱
された）反射特性を示す。この様なアルミニウム板で形
成された反射笠は、集光性が悪く、照明すべき所望のス
リット以外の照明光が多くなる難点があった。第４図は
、従来の反射笠でプラテンガラスを照明した時の照明光
量の分布を示す図で、縦軸は光量、横軸は原稿の移動方
向に於ける長さ即ちスリ・ント巾方向の長さを示してい
る。
は、ランプから発生する熱、湿度及び帯電器により生ず
るオゾン等からその表面を保護する為に酸化処理（アル
マイト）が施されていた。この処理は、アルミニウムの
表面を酸化させるが、同時に反射面の面精度が微細な凹
凸散乱面となり、第３図に示す如く、入射光■をアルマ
イト処理面に入射させるとＲ”のように広がった（散乱
された）反射特性を示す。この様なアルミニウム板で形
成された反射笠は、集光性が悪く、照明すべき所望のス
リット以外の照明光が多くなる難点があった。第４図は
、従来の反射笠でプラテンガラスを照明した時の照明光
量の分布を示す図で、縦軸は光量、横軸は原稿の移動方
向に於ける長さ即ちスリ・ント巾方向の長さを示してい
る。
第４図より明らかな様に、プラテンガラス上で、光量は
原稿の移動方向に大きく広がっており、この為に、実際
に感光体を露光させる光量は斜線部Ａで示す光量のみで
、スリット巾以外を照明する光束はフレアー光となり、
コピー画質の低下を招いていた。これに対して、本発明
に基づいて形成されたアルミニウム板の表面反射特性を
第５図に、同じくそのアルミニウム板を用いて形成され
た反射笠により、プラテンガラスを照明した時の照明光
量の分布を第６図に示す。第５図に示す如く、本発明に
係るアルミニウム板の反射特性Ｒは反射に指向性があり
、従って非常に集光性が良くなっている。従って第６図
に示す如く斯様なアルミニウム板で形成した反射笠によ
る照明光は、所定のスリット巾に入る光量も多くなり、
光量損失の防止、フレアー光による画質の低下を防止す
る。この効果は、特に、反射笠の形状が、光源からの光
束を必らず反射笠で反射させた後にプラテンガラスに導
びく様な場合に特に有効である。即ち、従来の反射笠は
、成る程度の光源からの光量は、直接に光源からプラテ
ンガラスに到達していたが、近年、複写機の小型化に伴
って反射笠も薄型形状のものが多くなり、光源からの光
量を必然的に反射笠で反射させた後にしか、プラテンガ
ラスに導びけない様な形状を取らざるおえない様な状態
になっている。斯様な反射笠を形成する素材としては特
に効果的である。
原稿の移動方向に大きく広がっており、この為に、実際
に感光体を露光させる光量は斜線部Ａで示す光量のみで
、スリット巾以外を照明する光束はフレアー光となり、
コピー画質の低下を招いていた。これに対して、本発明
に基づいて形成されたアルミニウム板の表面反射特性を
第５図に、同じくそのアルミニウム板を用いて形成され
た反射笠により、プラテンガラスを照明した時の照明光
量の分布を第６図に示す。第５図に示す如く、本発明に
係るアルミニウム板の反射特性Ｒは反射に指向性があり
、従って非常に集光性が良くなっている。従って第６図
に示す如く斯様なアルミニウム板で形成した反射笠によ
る照明光は、所定のスリット巾に入る光量も多くなり、
光量損失の防止、フレアー光による画質の低下を防止す
る。この効果は、特に、反射笠の形状が、光源からの光
束を必らず反射笠で反射させた後にプラテンガラスに導
びく様な場合に特に有効である。即ち、従来の反射笠は
、成る程度の光源からの光量は、直接に光源からプラテ
ンガラスに到達していたが、近年、複写機の小型化に伴
って反射笠も薄型形状のものが多くなり、光源からの光
量を必然的に反射笠で反射させた後にしか、プラテンガ
ラスに導びけない様な形状を取らざるおえない様な状態
になっている。斯様な反射笠を形成する素材としては特
に効果的である。
又、複写装置としては、前記５ｉ０２系被膜の膜厚を選
ぶことにより、感光体の感光特性と光源部の発光特性と
を合致させることが可能である。
ぶことにより、感光体の感光特性と光源部の発光特性と
を合致させることが可能である。
一般に複写機に用いられる感光体の分光感度特性は比視
感度特性と異なり、又、原稿を照明する光源の分光波長
特性と掛は合わせた分光特性も比視感度特性と異なって
いるため原稿と異なった濃淡のコピーが得られてしまう
。例えば光源としてハロゲンランプを、また感光体とし
てＣｄＳ系のものを用いると、ハロゲンランプでは通常
使用されるフィラメント温度３００００に前後で、その
発光エネルギーは８００乃至９００ｎｍの赤外域に最大
値を持ち、短波長側へ行くに従って一１ 様に減少し、ＣｄＳ感光体の分光感度は、近赤外域で高
いため、赤色域から近赤外域での露光量が、青色、緑色
等の他色域に比べ過多となる。これにより複写画像にお
いて、原稿に書かれた赤色の文字や図形が薄くなったり
、全く写らなくなったりする現象が生ずる。一方、セレ
ン（Ｓ ｅ）系の感光体と、短波長域での発光エネルギ
ーの高い光源を用いると、ＣｄＳ系感光体とハロゲンラ
ンプを用いる場合とは逆に青色の文字や図形が写り離く
なる。ところでＣｄＳ系感光体と、短波長域での発光エ
ネルギーの高い光源を用いる場合又は、セレン系の感光
体と、ハロゲンランプを用いる場合にも前述の問題が解
決されないのが現状である。
感度特性と異なり、又、原稿を照明する光源の分光波長
特性と掛は合わせた分光特性も比視感度特性と異なって
いるため原稿と異なった濃淡のコピーが得られてしまう
。例えば光源としてハロゲンランプを、また感光体とし
てＣｄＳ系のものを用いると、ハロゲンランプでは通常
使用されるフィラメント温度３００００に前後で、その
発光エネルギーは８００乃至９００ｎｍの赤外域に最大
値を持ち、短波長側へ行くに従って一１ 様に減少し、ＣｄＳ感光体の分光感度は、近赤外域で高
いため、赤色域から近赤外域での露光量が、青色、緑色
等の他色域に比べ過多となる。これにより複写画像にお
いて、原稿に書かれた赤色の文字や図形が薄くなったり
、全く写らなくなったりする現象が生ずる。一方、セレ
ン（Ｓ ｅ）系の感光体と、短波長域での発光エネルギ
ーの高い光源を用いると、ＣｄＳ系感光体とハロゲンラ
ンプを用いる場合とは逆に青色の文字や図形が写り離く
なる。ところでＣｄＳ系感光体と、短波長域での発光エ
ネルギーの高い光源を用いる場合又は、セレン系の感光
体と、ハロゲンランプを用いる場合にも前述の問題が解
決されないのが現状である。
この、アルミニウム板で反射される波長に関する反射特
性は、Ｓｉ○２系被膜の光学的膜厚ｎｄ（ｎ：Ｓ＋０２
の屈折率、ｄ ： Ｓ ｉ ０２系被膜の幾可学的厚さ
）により制御することが可能であるので、５ｉ０２系被
膜の厚さを選ぶことにより、各感光体に合った波長特性
を有する反射光束２ を得ることが出来る。例えば、波長入、に於いてアルミ
ニウム板から反則される光束の光量をピークにする時は
、 とすれば良く、入ｌ及びＰを定めることにより５ｉ０２
系被膜の光学的膜厚を定めることが出来る。尚、この場
合、５ｉ０２系被膜を厚くしすぎると、ｌシにクラック
か入ってしまうので、５ｉ０２系被膜の幾可学的膜厚ｄ
は５００ｎｍが限度である。例えば、感光体がＣｄＳ系
の場合は、入１は５５０ｎｍ 〜６００ｎｍが望ましく
、従ってｎ＝１．５．Ｐ＝１と取るとｄ＝１８３ｎｍ
〜２００ｎｍとなる。又、感光体がＳｅ系の場合は入。
性は、Ｓｉ○２系被膜の光学的膜厚ｎｄ（ｎ：Ｓ＋０２
の屈折率、ｄ ： Ｓ ｉ ０２系被膜の幾可学的厚さ
）により制御することが可能であるので、５ｉ０２系被
膜の厚さを選ぶことにより、各感光体に合った波長特性
を有する反射光束２ を得ることが出来る。例えば、波長入、に於いてアルミ
ニウム板から反則される光束の光量をピークにする時は
、 とすれば良く、入ｌ及びＰを定めることにより５ｉ０２
系被膜の光学的膜厚を定めることが出来る。尚、この場
合、５ｉ０２系被膜を厚くしすぎると、ｌシにクラック
か入ってしまうので、５ｉ０２系被膜の幾可学的膜厚ｄ
は５００ｎｍが限度である。例えば、感光体がＣｄＳ系
の場合は、入１は５５０ｎｍ 〜６００ｎｍが望ましく
、従ってｎ＝１．５．Ｐ＝１と取るとｄ＝１８３ｎｍ
〜２００ｎｍとなる。又、感光体がＳｅ系の場合は入。
は４５０ｎｍ 〜５００ｎｍが望ましく、ｄ−１５０ｎ
ｍ〜１７０ｎｍとなる。尚、クラックを起さない程度で
、他の正数値Ｐを取ることは可能である。しかしながら
、望ましい膜厚としては、ｄが１１００ｎ〜２００ｎｍ
である。
ｍ〜１７０ｎｍとなる。尚、クラックを起さない程度で
、他の正数値Ｐを取ることは可能である。しかしながら
、望ましい膜厚としては、ｄが１１００ｎ〜２００ｎｍ
である。
以上、本発明に係るアルミニウム板に於いては、簡易な
手段で製造でき、反射特性及び耐火性に於いて優れた効
果を奏するものである。
手段で製造でき、反射特性及び耐火性に於いて優れた効
果を奏するものである。
第１図は本発明に係るアルミニウム板の構成を示す断面
図、第２図は本発明に係るアルミニウム板を用いて形成
した反射笠を備えた複写装置の一実施例を示す図、第３
図は従来のアルミニウム板の反射特性を示す図、第４図
は従来のアルミニウム板を用いて形成した反射笠による
集光の状態を示す図、第５図は本発明のアルミニウム板
の反射特性を示す図、第６図は本発明に係るアルミニウ
ム板を用いて形成した反射笠による集光の状態を示す図
。 １・・第１アルミニウム基板、２φ・第２アルミニウム
基板、３・・５ｉ０２系被膜、１２．１３．１４番・反
射笠−０ 出願人 キャノン株式会社 東京電子化学株式会社
図、第２図は本発明に係るアルミニウム板を用いて形成
した反射笠を備えた複写装置の一実施例を示す図、第３
図は従来のアルミニウム板の反射特性を示す図、第４図
は従来のアルミニウム板を用いて形成した反射笠による
集光の状態を示す図、第５図は本発明のアルミニウム板
の反射特性を示す図、第６図は本発明に係るアルミニウ
ム板を用いて形成した反射笠による集光の状態を示す図
。 １・・第１アルミニウム基板、２φ・第２アルミニウム
基板、３・・５ｉ０２系被膜、１２．１３．１４番・反
射笠−０ 出願人 キャノン株式会社 東京電子化学株式会社
Claims (3)
- （１） 第１のアルミニウム基板上に、第１のアルミニ
ウム基板よりも純度の高い第２のアルミニウム基板を設
け、該第２のアルミニウム基板上にヒドロキシシランを
主成分とする静体を設は焼結することにより形成した５
ｉ０２系被膜より成る事を特徴とするアルミニウム板。 - （２） 前記第２のアルミニウム基板は、第１のアルミ
ニウム基板上に圧延されて形成されている特許請求の範
囲第１項記載のアルミニウム板。 - （３） 第１のアルミニウム基板上に、第１のアルミ
ニウム基板よりも純度の高い第２のアルミニウム基板を
設け、該第２のアルミニウム基板上にヒドロキシシラン
を主成分とする液体を設は焼結することにより形成した
５ｉ０２系被膜を有するアルミニウム板を用いて形成し
た反射笠を備えた事を特徴とする複写装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12796682A JPS5917505A (ja) | 1982-07-22 | 1982-07-22 | アルミニウム板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12796682A JPS5917505A (ja) | 1982-07-22 | 1982-07-22 | アルミニウム板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5917505A true JPS5917505A (ja) | 1984-01-28 |
Family
ID=14973080
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12796682A Pending JPS5917505A (ja) | 1982-07-22 | 1982-07-22 | アルミニウム板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5917505A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6089851A (ja) * | 1983-10-21 | 1985-05-20 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気記録再生装置 |
| JPH0276702U (ja) * | 1988-12-02 | 1990-06-12 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS529454A (en) * | 1975-07-14 | 1977-01-25 | Yokohama Kiko Kk | Reflection mirror manufacturing process |
| JPS5449937A (en) * | 1977-09-29 | 1979-04-19 | Iwasaki Electric Co Ltd | Metal surface protecting coatingglayer |
| JPS5626750A (en) * | 1979-08-13 | 1981-03-14 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Bleeding preventing method for contained component from solid surface |
-
1982
- 1982-07-22 JP JP12796682A patent/JPS5917505A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS529454A (en) * | 1975-07-14 | 1977-01-25 | Yokohama Kiko Kk | Reflection mirror manufacturing process |
| JPS5449937A (en) * | 1977-09-29 | 1979-04-19 | Iwasaki Electric Co Ltd | Metal surface protecting coatingglayer |
| JPS5626750A (en) * | 1979-08-13 | 1981-03-14 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Bleeding preventing method for contained component from solid surface |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6089851A (ja) * | 1983-10-21 | 1985-05-20 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気記録再生装置 |
| JPH0312381B2 (ja) * | 1983-10-21 | 1991-02-20 | Mitsubishi Electric Corp | |
| JPH0276702U (ja) * | 1988-12-02 | 1990-06-12 |
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