JPS59173182A - ホウ素含有水の処理方法 - Google Patents
ホウ素含有水の処理方法Info
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- JPS59173182A JPS59173182A JP4567083A JP4567083A JPS59173182A JP S59173182 A JPS59173182 A JP S59173182A JP 4567083 A JP4567083 A JP 4567083A JP 4567083 A JP4567083 A JP 4567083A JP S59173182 A JPS59173182 A JP S59173182A
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- acid
- exchange resin
- anion exchange
- liquid
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ホウ素含有水の処理方法に関し、とくにホウ
素含有水をアニオン交換＠脂で処理し、生成した再生廃
液を排出することなく、ホウ素化合物を回収するように
したホウ素含有水の処理方法に関する。
素含有水をアニオン交換＠脂で処理し、生成した再生廃
液を排出することなく、ホウ素化合物を回収するように
したホウ素含有水の処理方法に関する。
ホウ素化合物は、医薬、化粧品原料、石ケン工業、電気
メッキなど種々の用途に使用され、これらの製造工程か
ら生ずる廃水はホウ素化合物を含有している。このほか
原子力発電所から発生する放射性廃液、地熱発電廃水、
あるいは排煙脱硫または脱硝廃水、ゴミ焼却場洗煙廃水
等にもホウ素化合物が含まれている。
メッキなど種々の用途に使用され、これらの製造工程か
ら生ずる廃水はホウ素化合物を含有している。このほか
原子力発電所から発生する放射性廃液、地熱発電廃水、
あるいは排煙脱硫または脱硝廃水、ゴミ焼却場洗煙廃水
等にもホウ素化合物が含まれている。
ホウ素含有排水の処理方法としては、イオン交換樹脂に
より吸着させる方法と、硫酸アルミニウムにより不溶性
沈殿物とする方法があるが、いずれも効率的な方法とは
いえない。、すなわち、前者の方法では再生廃液の処理
、後者の方法では不溶性沈殿物の処理を必要とした。
より吸着させる方法と、硫酸アルミニウムにより不溶性
沈殿物とする方法があるが、いずれも効率的な方法とは
いえない。、すなわち、前者の方法では再生廃液の処理
、後者の方法では不溶性沈殿物の処理を必要とした。
本発明は、上記問題を解決し、ホウ素含有水中のホウ素
およびイオン交換樹脂再生用の酸を回収することができ
、また再生廃液を排出することがない、ホウ素含有水の
処理方法を提供するものである。すなわち、本発明の要
旨は、ホウ素含有水をアニオン交換樹脂と接触させて処
理したのち、該アニオン交換樹脂を酸と接触させて得ら
れる再生廃液を濃縮してホウ素化合物を析出させたのち
、固液分離することを特徴とするホウ素含有水の処理方
法にある。
およびイオン交換樹脂再生用の酸を回収することができ
、また再生廃液を排出することがない、ホウ素含有水の
処理方法を提供するものである。すなわち、本発明の要
旨は、ホウ素含有水をアニオン交換樹脂と接触させて処
理したのち、該アニオン交換樹脂を酸と接触させて得ら
れる再生廃液を濃縮してホウ素化合物を析出させたのち
、固液分離することを特徴とするホウ素含有水の処理方
法にある。
ホウ素含有水は、前記の種々の工程から排出される廃水
、その他のホウ素化合物を含む水であり、通常ＢＯ３の
形でホウ素を含んでいる。
、その他のホウ素化合物を含む水であり、通常ＢＯ３の
形でホウ素を含んでいる。
本発明では先ずホウ素含有水とアニオン交換樹脂とを接
触させて処理する。
触させて処理する。
なお、ホウ素含有水は必要に応じて砂涙過、凝集沈殿等
の前処理により微細な固形物を除去したのち、イオン交
換工程に送ってもよい。イオン交換の際ｐｉ（９以上で
は、原水中の残留ホウ素は次式 ％式％ により、Ｂ（ＯＨ）； となっていると考えられ、イ
オン交換効率が良くなるので好ましい。なお、アニオン
交換樹脂がＳ０４形の場合は、ｐＨ９以上でないと処理
不可能であり、またＯＨ形の場合は、中性付近において
も処理できるが、とくにｐＨ９以上とすることによりイ
オン交換量が増大するので好ましい。アニオン交換樹脂
との接触により、上記１３（ＯＨ）’：； が樹脂に交
換吸着され１去される。
の前処理により微細な固形物を除去したのち、イオン交
換工程に送ってもよい。イオン交換の際ｐｉ（９以上で
は、原水中の残留ホウ素は次式 ％式％ により、Ｂ（ＯＨ）； となっていると考えられ、イ
オン交換効率が良くなるので好ましい。なお、アニオン
交換樹脂がＳ０４形の場合は、ｐＨ９以上でないと処理
不可能であり、またＯＨ形の場合は、中性付近において
も処理できるが、とくにｐＨ９以上とすることによりイ
オン交換量が増大するので好ましい。アニオン交換樹脂
との接触により、上記１３（ＯＨ）’：； が樹脂に交
換吸着され１去される。
アニオン交換樹脂としては弱塩基性、強塩基性いずれで
もよいが、弱塩基性の方が再生効率は良い。またホウ素
の吸着量を高めた特別の樹脂を使用することもできる。
もよいが、弱塩基性の方が再生効率は良い。またホウ素
の吸着量を高めた特別の樹脂を使用することもできる。
例えば、ホウ素を選択的に吸着するＮ−メチルグルカミ
ン型の樹脂を用いると、回収ホウ素化合物（ホウ酸）の
純度が高くなるので有利である。
ン型の樹脂を用いると、回収ホウ素化合物（ホウ酸）の
純度が高くなるので有利である。
上記アニオン交換樹脂よりなる樹脂層にホウ素含有水を
通水してホウ素を交換吸着させ濃縮する。
通水してホウ素を交換吸着させ濃縮する。
上記アニオン交換樹脂がホウ素で飽和したのち、樹脂層
を逆洗し、再生剤を通液して交換吸着したホウ素を溶離
させる。再生剤としては、硫酸、塩酸または硝酸を用い
ることができる。
を逆洗し、再生剤を通液して交換吸着したホウ素を溶離
させる。再生剤としては、硫酸、塩酸または硝酸を用い
ることができる。
再生剤の通液によりホウ素が溶離し、高濃度ホウ素を含
有する再生廃液が発生する。ホウ素の溶離を終った樹脂
は、必要により水酸化す） ＩＪウムでＯＨ形にしたの
ち、再びホウ素の濃縮に用いることができる。
有する再生廃液が発生する。ホウ素の溶離を終った樹脂
は、必要により水酸化す） ＩＪウムでＯＨ形にしたの
ち、再びホウ素の濃縮に用いることができる。
硫酸で再生した再生廃液は、水酸化ナトリウムなどで中
和したのち、蒸°発濃縮して硫酸ナトリウムとホウ酸を
回収することができる。そのさい、中和しない、で蒸発
濃縮すれば、濃縮液中に濃縮された硫酸を再生剤として
回収利用できる。すなわち蒸発濃縮した濃縮液を好まし
くは３００以下に冷却してホウ素化合物を析出させ、濾
過器などを用いて固液分離して回収し、源側の硫酸は再
生剤として再利用することができる。
和したのち、蒸°発濃縮して硫酸ナトリウムとホウ酸を
回収することができる。そのさい、中和しない、で蒸発
濃縮すれば、濃縮液中に濃縮された硫酸を再生剤として
回収利用できる。すなわち蒸発濃縮した濃縮液を好まし
くは３００以下に冷却してホウ素化合物を析出させ、濾
過器などを用いて固液分離して回収し、源側の硫酸は再
生剤として再利用することができる。
しかし、このとき硫酸濃度が約１０００９７Ｑ以上にな
ると、冷却してもホウ素化合物が析出しない。したがっ
て、濃縮し過ぎた場合は、濃縮液を熱水あるいは冷水な
どで溶解し硫酸濃度を下げることがのぞましい、なお冷
却温度が３０Ｃを越えると、析出効果が次第に低下する
。
ると、冷却してもホウ素化合物が析出しない。したがっ
て、濃縮し過ぎた場合は、濃縮液を熱水あるいは冷水な
どで溶解し硫酸濃度を下げることがのぞましい、なお冷
却温度が３０Ｃを越えると、析出効果が次第に低下する
。
塩酸または硝酸で再生したときの再生廃液は、水酸化す
） ＩＪウムなとで中和したのち蒸発濃縮して、塩化ナ
トリウムまたは硝酸ナトリウムとホウ酸を回収すること
ができる。中和しないで蒸発濃縮すれば、塩酸または硝
酸を気相側で回収し、再利用することができ、蒸発濃縮
した濃縮液はこれを好ましくは３００以下に冷却してホ
ウ素化合物を析出させ、濾過器などを用いて固液分離し
て回収することができる。回収したホウ素化合物を加熱
などにより乾燥する場合は、酸性では揮散しやすいので
、中和したのち固液分離した方がよい。
） ＩＪウムなとで中和したのち蒸発濃縮して、塩化ナ
トリウムまたは硝酸ナトリウムとホウ酸を回収すること
ができる。中和しないで蒸発濃縮すれば、塩酸または硝
酸を気相側で回収し、再利用することができ、蒸発濃縮
した濃縮液はこれを好ましくは３００以下に冷却してホ
ウ素化合物を析出させ、濾過器などを用いて固液分離し
て回収することができる。回収したホウ素化合物を加熱
などにより乾燥する場合は、酸性では揮散しやすいので
、中和したのち固液分離した方がよい。
回収したホウ素化合物は、中和−重力涙過−乾燥の工程
を経て、純度的９０％のものを得ることがｆできる。ま
た、水洗あるいは熱水に溶解したのち冷却し、再結晶す
るなどの方法を用いて、さらに純度を上げることができ
る。
を経て、純度的９０％のものを得ることがｆできる。ま
た、水洗あるいは熱水に溶解したのち冷却し、再結晶す
るなどの方法を用いて、さらに純度を上げることができ
る。
第１図は本発明のホウ素含有水の処理方法を示す代表的
なフローシートを示し、１は原水、２はアニオン交換樹
脂装置、３は濃縮工程、４は冷却工程、５は固液分離工
程を示す。原水１を、アニオン交換樹脂装置２に通水し
、ホウ素は装置内で交換吸着され、ホウ素濃度１■ン′
２以下の水質にまで処理されて、処理水６としてそのま
ま放流されるか、または再利用される。アニオン交換樹
脂装置２内のアニオン交換樹脂がホウ素で飽和したとき
、再生剤７を通液してアニオン交換樹脂に交・換吸着さ
れたホウ素を溶離させると、再生廃液８が生じる。この
再生廃液８は濃縮工程３で濃縮される。濃縮液は好まし
くは冷却工程４で３０Ｃ以下、より好ましくは１５ｔｌ
’以下の温度に放冷、または水冷、水冷などにより冷却
され、ホウ素がホウ素化合物として結晶化し、酸水溶液
から分離する。これを固液分離工程５によってホウ酸を
固形物として分離する。
なフローシートを示し、１は原水、２はアニオン交換樹
脂装置、３は濃縮工程、４は冷却工程、５は固液分離工
程を示す。原水１を、アニオン交換樹脂装置２に通水し
、ホウ素は装置内で交換吸着され、ホウ素濃度１■ン′
２以下の水質にまで処理されて、処理水６としてそのま
ま放流されるか、または再利用される。アニオン交換樹
脂装置２内のアニオン交換樹脂がホウ素で飽和したとき
、再生剤７を通液してアニオン交換樹脂に交・換吸着さ
れたホウ素を溶離させると、再生廃液８が生じる。この
再生廃液８は濃縮工程３で濃縮される。濃縮液は好まし
くは冷却工程４で３０Ｃ以下、より好ましくは１５ｔｌ
’以下の温度に放冷、または水冷、水冷などにより冷却
され、ホウ素がホウ素化合物として結晶化し、酸水溶液
から分離する。これを固液分離工程５によってホウ酸を
固形物として分離する。
上記冷却温度は、３０Ｃ以下に維持するものであるが、
ＯＣに近くするほど好ましい。
ＯＣに近くするほど好ましい。
再生剤７として塩酸または硝酸を用いた場合は、再生廃
液中に存在する塩酸または硝酸は濃縮工程３で蒸発し、
蒸気として回収されるので、これを冷却し、水に溶解し
、再生剤として再利用することができる。
液中に存在する塩酸または硝酸は濃縮工程３で蒸発し、
蒸気として回収されるので、これを冷却し、水に溶解し
、再生剤として再利用することができる。
また、再生剤７として硫酸を用いた場合は、固液分離工
程５での分離液として硫酸を回収できるので、これを再
生剤として再利用することができる。
程５での分離液として硫酸を回収できるので、これを再
生剤として再利用することができる。
なお、第２図のように、再生廃液を水酸化ナトリウムで
中和したのち、濃縮工程３で濃縮し、次に濃縮液を固液
分離工程９で渥過し、再生剤として塩酸を用いた場合は
塩化す） ＩＪウム、硫酸を用いた場合は硫酸ナトリウ
ムなどを分離する。次℃・で涙液を冷却し、固液分離工
程１０で濾過し、ホウ素をホウ素化合物として回収する
こともできる。
中和したのち、濃縮工程３で濃縮し、次に濃縮液を固液
分離工程９で渥過し、再生剤として塩酸を用いた場合は
塩化す） ＩＪウム、硫酸を用いた場合は硫酸ナトリウ
ムなどを分離する。次℃・で涙液を冷却し、固液分離工
程１０で濾過し、ホウ素をホウ素化合物として回収する
こともできる。
上記濃縮工程は、加熱濃縮、真空蒸発等、種々の方法を
適用できるが、加熱濃縮が好ましい。
適用できるが、加熱濃縮が好ましい。
ただし、この場合、液温か上昇するので、次工程におい
て冷却する方が好ましい結果が得られる。
て冷却する方が好ましい結果が得られる。
また、固液分離工程は沖過、遠心分離など適当な方法を
採用することができる。
採用することができる。
本発明のホウ素含有水の処理方法は、再生廃液中のホウ
素と再生剤である酸を回収することができ、また再生廃
液を全く排出することがない。さらに、通常の凝集沈殿
と異なり、汚泥が発生しないので、汚泥処理工程を必要
としないなどの多くの利点がある。
素と再生剤である酸を回収することができ、また再生廃
液を全く排出することがない。さらに、通常の凝集沈殿
と異なり、汚泥が発生しないので、汚泥処理工程を必要
としないなどの多くの利点がある。
実施例１
ホウ素含有水をアニオン性イオン交換樹脂と接触させた
のち、塩酸１０Ｑを用いて再生した。その結果ＨＣＱ４
２．７９／Ｑ、ホウ素１．５９７Ｑを含む再生廃液が得
られた。
のち、塩酸１０Ｑを用いて再生した。その結果ＨＣＱ４
２．７９／Ｑ、ホウ素１．５９７Ｑを含む再生廃液が得
られた。
次にこの廃液を１００Ｃに加熱して５０倍に濃縮した。
なお、発生する蒸気は凝縮させた後、回収した。
濃縮液中のホウ素含有量は７３．５９／Ｑ 、塩酸は２
００９７Ｑであった。続いて、濃縮液を約１０Ｃ″″Ｆ
Ｋ冷却放置したのち、ＮａＯ，Ｈを添加して生成する沈
殿物と上澄液とをヂ過により分離した。涙液中のホウ素
は３．０２９／Ｑであった。
００９７Ｑであった。続いて、濃縮液を約１０Ｃ″″Ｆ
Ｋ冷却放置したのち、ＮａＯ，Ｈを添加して生成する沈
殿物と上澄液とをヂ過により分離した。涙液中のホウ素
は３．０２９／Ｑであった。
この結果、約９６チのホウ素が回収された。
なお、この沈殿を純水で水洗したところ、純度９９．７
％のホウ酸塩が得られた。なお、凝縮水中のＨＣＱは３
９．２９／ｆｌにのぼった。
％のホウ酸塩が得られた。なお、凝縮水中のＨＣＱは３
９．２９／ｆｌにのぼった。
実施例２
実施例１において再生剤として硫酸１０Ｃを用いた他は
同様に操作して、ホウ素１．５ｇ／Ｑ。
同様に操作して、ホウ素１．５ｇ／Ｑ。
硫酸５０９／Ｑを含む再生廃液を得た。この廃液を１０
００に加熱して約１８倍濃縮したところ、＊ ウ素ｔｓ
、１９／ｇ 、硫酸８８４ｇ／Ｑを含む濃縮液を得た。
００に加熱して約１８倍濃縮したところ、＊ ウ素ｔｓ
、１９／ｇ 、硫酸８８４ｇ／Ｑを含む濃縮液を得た。
次に濃縮液を１０Ｃ下に放置し、沈殿物を生成させた後
、遠心分離機により固液分離した。
、遠心分離機により固液分離した。
その結果、分離液中にはホウ素が３．２４９／Ｑ含まれ
ており、回収率が８８％であることがわかった。
ており、回収率が８８％であることがわかった。
第１図は、本発明の処理方法の代表例を示すフローシー
ト、第２図は別の例を示す。 １・・・・・・原水、 ２・・・・・・ア、ニオン
交換樹脂装置、３・・・・・・濃縮工程、４・・・・・
・冷却工程、５ 、９ 、１０・・・・・・固液分離工
程、８・・・・・・再生廃液。
ト、第２図は別の例を示す。 １・・・・・・原水、 ２・・・・・・ア、ニオン
交換樹脂装置、３・・・・・・濃縮工程、４・・・・・
・冷却工程、５ 、９ 、１０・・・・・・固液分離工
程、８・・・・・・再生廃液。
Claims (5)
- （１）ホウ素含有水をアニオン交換樹脂と接触させて処
理したのち、該アニオン交換樹脂を酸と接触させて得ら
れる再生廃液を濃縮してホウ素化合物を析出させたのち
、固液分離することを特徴とするホウ素含有水の処理方
法。 - （２）上記酸が硫酸である特許請求の範囲第１項に記載
のホウ素含有水の処理方法。 - （３）上記酸が塩酸または硝酸である特許請求の範囲第
１項に記載のホウ素含有水の処理方法。 - （４）上記濃縮が、加熱または真空蒸発による特許請求
の範囲第１項〜第３項のいずれかに記載のホウ素含有水
の処理方法。 - （５）上記濃縮時に発生する気相側の塩酸または硝酸を
冷却して回収する特許請求の範囲第３項に記載のホウ素
含有水の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4567083A JPS59173182A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | ホウ素含有水の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4567083A JPS59173182A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | ホウ素含有水の処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59173182A true JPS59173182A (ja) | 1984-10-01 |
| JPH0143594B2 JPH0143594B2 (ja) | 1989-09-21 |
Family
ID=12725816
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4567083A Granted JPS59173182A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | ホウ素含有水の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59173182A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001247305A (ja) * | 2000-03-02 | 2001-09-11 | Nippon Rensui Co Ltd | ホウ素の回収方法 |
| JP2010069399A (ja) * | 2008-09-17 | 2010-04-02 | Toshiba Corp | ホウ素分離システム |
| JP4665279B2 (ja) * | 2000-01-14 | 2011-04-06 | 栗田工業株式会社 | ホウ素含有水の処理方法 |
| JP2012056803A (ja) * | 2010-09-09 | 2012-03-22 | Sasakura Engineering Co Ltd | ホウ素の回収方法 |
| WO2012114976A1 (ja) * | 2011-02-22 | 2012-08-30 | 旭硝子株式会社 | ホウ酸の回収方法および回収装置 |
| WO2014167757A1 (ja) * | 2013-04-11 | 2014-10-16 | 信越化学工業株式会社 | シラン化合物またはクロロシラン化合物の精製方法、多結晶シリコンの製造方法、および、弱塩基性イオン交換樹脂の再生処理方法 |
| JP2019173148A (ja) * | 2018-03-29 | 2019-10-10 | 日立金属株式会社 | 希土類元素のシュウ酸塩の製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58174241A (ja) * | 1982-04-08 | 1983-10-13 | Japan Organo Co Ltd | 硼素選択性イオン交換樹脂の再生方法 |
-
1983
- 1983-03-18 JP JP4567083A patent/JPS59173182A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58174241A (ja) * | 1982-04-08 | 1983-10-13 | Japan Organo Co Ltd | 硼素選択性イオン交換樹脂の再生方法 |
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| JP5800436B2 (ja) * | 2011-02-22 | 2015-10-28 | 旭硝子株式会社 | ホウ酸の回収方法および回収装置 |
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| WO2014167757A1 (ja) * | 2013-04-11 | 2014-10-16 | 信越化学工業株式会社 | シラン化合物またはクロロシラン化合物の精製方法、多結晶シリコンの製造方法、および、弱塩基性イオン交換樹脂の再生処理方法 |
| JP2014205589A (ja) * | 2013-04-11 | 2014-10-30 | 信越化学工業株式会社 | シラン化合物またはクロロシラン化合物の精製方法、多結晶シリコンの製造方法、および、弱塩基性イオン交換樹脂の再生処理方法 |
| CN105143104A (zh) * | 2013-04-11 | 2015-12-09 | 信越化学工业株式会社 | 硅烷化合物或氯硅烷化合物的纯化方法、多晶硅的制造方法和弱碱性离子交换树脂的再生处理方法 |
| EP2985262A1 (en) * | 2013-04-11 | 2016-02-17 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for purifying silane compound or chlorosilane compound, method for producing polycrystalline silicon, and method for regenerating weakly basic ion-exchange resin |
| EP2985262A4 (en) * | 2013-04-11 | 2017-03-29 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for purifying silane compound or chlorosilane compound, method for producing polycrystalline silicon, and method for regenerating weakly basic ion-exchange resin |
| US9669400B2 (en) | 2013-04-11 | 2017-06-06 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for purifying silane compound or chlorosilane compound, method for producing polycrystalline silicon, and method for regenerating weakly basic ion-exchange resin |
| EP3296261A1 (en) * | 2013-04-11 | 2018-03-21 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for regenerating weakly basic ion-exchange resin |
| JP2019173148A (ja) * | 2018-03-29 | 2019-10-10 | 日立金属株式会社 | 希土類元素のシュウ酸塩の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0143594B2 (ja) | 1989-09-21 |
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