JPS5917085B2 - メタンの製造方法および装置 - Google Patents

メタンの製造方法および装置

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JPS5917085B2
JPS5917085B2 JP53049712A JP4971278A JPS5917085B2 JP S5917085 B2 JPS5917085 B2 JP S5917085B2 JP 53049712 A JP53049712 A JP 53049712A JP 4971278 A JP4971278 A JP 4971278A JP S5917085 B2 JPS5917085 B2 JP S5917085B2
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cooling
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reaction
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一酸化炭素と水素とに富むガスからメタンを作
る改良方法と装置に関するものである。
■5 ″メタネーシヨン“とは次の式:Co+3H2=
CH4+H2O+熱 (1)によつて一酸化炭素と水素
からメタンを作る接触j0反応を示す名称である。
イオウを含まないクリーン燃料としてのメタンの用途が
増大したこととあいまつて天熱から採集できるメタンに
は限りがあるために、「合成天然 ・ガス(SNG)」
に対する需要がでてきた。
メタj5ネーシヨンによるメタンの製造はその反応物が
次の基本的な反応式;2C+ 2H20=2C0+ 2
H2(2)によつて入手し易い石炭と水蒸気の反応によ
つて簡単に得られるために経済的重要性は極めて大きい
反応(2)には熱を与えなければならないので、酸素/
空気を反応物に添加するため、生成物には二酸化炭素と
チツソが含まれている。反応(1)は発熱反応であり且
つ可逆反応であるので、温度を高くするとメタンの収率
が低下する。
したがつて、全てのメタネーシヨンではいかに効率的に
熱を除去するかが問題となる。従来法のメタネーシヨン
ではガス状反応物を典型的にはニツケルまたはニツケル
の白金合金で作られた触媒の充填層を通している。この
方法の一例としては米国特許第3930812号がある
。この米国特許では蒸発によつて熱を除去するために反
応区域に液体の水を噴射させて温度を制御しているが、
この特許のような充填層を用いた方法の特色は反応器中
の圧損が大きいことである。別の米国特許第26629
11号では水を収容したドラム中に垂直に配置した複数
の触媒充填管中で反応を行なうことによつ文熱を取り去
ることを試みている。
更に別の米国特許第2740803号には水が貫通する
2重壁のバイヨネツト型熱交換器を備えた流動層中でメ
レネーシヨンを行うことが示されている(第4図)。こ
の特許の1実施例(第1図)では水を収容したドラム内
に垂直に配置され且つその直径が頂部から底部へ向つて
順次小さくなる″7接触管(COntacttube)
″7中に触媒を通している。これらの方法も前記の充填
層式従来法と同様に反応器中の圧損が大きいのが特色で
ある。全ての従来法のメタネーシヨンの特色は、粒状触
媒を使用することであり、この触媒は長時間使用すると
コークスを生成して閉塞してしまう。
本発明は反応器中に螺旋状すなわちスパイラル流路を形
成する少なくとも1つの触媒作用のある攪乱部材(Tu
rbulatOr)を介してガス状反応物を流すことに
よつて水素−ー酸化炭素混合物を含むメタンガスを製造
する方法を提供するものである。前記攪乱部材はニツケ
ル、白金、それらの合金またはこれらの金属を攪乱部材
の形に予め成形した別の金属上にメツキまたは付着させ
たものによつて作ることができる。本発明では、反応区
域で効率的に冷却をして熱を回収できると同時に、反応
器中でのメタネーシヨンを極めて低い圧損下で行うこと
ができる。
発明による触媒反応器では、従来の充填層式反応器の場
合通常開放容積が約30%であつたのに比べて、開放容
積空間が90%である空間にガス状反応物が流される。
この差が本発明が従来式反応器に比較して反応器内の圧
損が小さい理由である。従来技術では粒状触媒を用いて
いたので反応管の最小径に制限があつたが、本発明では
この制限が無く、その結果、従来可能であつた以上の高
圧で操作可能な反応器を作ることができる。高圧で操作
することによつて可逆反応(1)の平衡を変えて収率を
大きくすることができる。本発明の好ましい実施例で用
いられる装置では攪乱部材の触媒ストリツプ、あるいは
リボンが中央に配置した管を取り込み、攪乱部材の囲り
を外部シースすなわち管で被つている。
この好ましい実施例では、前記中心管中に冷却媒体を流
すと同時に外部シースすなわち管の外側に冷却媒体を流
すことによつてメタネーシヨンの温度を最適制御できる
。これらの好ましい実施例では、ガス状反応物/生成物
は内部管と外部シースとの間に形成される環状空間中の
螺旋通路を流れる。従つて、本発明の目的は、改良され
た熱および質量移動で水素と一酸化炭素を含むガス状混
合物からメタンを製造する方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、反応器中での圧損を低下させるこ
とにある。本発明の他の目的は、最小管径の制限を受け
ないメタネーシヨン用管状反応器を提供することにある
本発明の他の目的は、少量の触媒材料しか必要としない
メタネーシヨン用方法と装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、長期間にわたつて劣化、コークス
化あるいは閉塞を生ぜずに使用可能な触媒を有するメタ
ネーシヨン用反応器を提供することにある。
上記およびその他の本発明の目的および能力は、添付図
面を用いた以下の詳細な説明から明らかに斗,′−L.
イt屯 Lχ本発明のメタネーシヨンに用いられる原料
ガスには、従来のメタネーシヨン法で用いられていた全
ての種類のガスが含まれる。
例えば、適当なガス(しかしこれに限定されるものでは
ない)には前記の式(4)によつて石炭から作られるも
のが含まれる。この原料ガスの特徴は経済的に十分な量
の水素と一酸化炭素とが含まれている点にある。一酸化
炭素に対する水素の体積比は通常1:1から3:1であ
り、好ましくは1.5:1から2.3:1である。本発
明における反応条件は一般的には従来のものと同じであ
るが、反応圧力は通常よりは少し高い。
典型的な反応温度範囲は316℃(600′F)から7
04℃(130『0であり、反応圧力範囲は14〜35
k9/Cd(200〜500psi)またはそれ以上で
ある。反応器中の空間速度は反応圧力に従つて大きく変
化するが、典型的なガス空間速度は1800〜8000
V/V/Hrの範囲にある。本発明におけるメタン収率
は高く、生成ガス中のメタン量は例えば体積比で30〜
40%である。必要に応じて原料ガスを予熱することも
でき、適当な予熱温度は圧力と他の条件で大きく変化し
、その範囲は316〜704℃(600〜1300′F
)にすることができる。
次に図面を参照すると、第1図に概略的に示した反応容
器10は四角い壁面14によつて形成された内部チヤン
バ一12を有している。
この内敵チヤンバ一12内には複数のチユーブ20が配
置されており、これらのチユーブ20には原料Fを送り
込む入口管路16が結合されている。チユーブ20を取
り囲む空間内に冷却流体を導入するための入口と出口が
それぞれ22と29で示されている。各チユーブ20中
には攪乱部材24の形をした活性ニツケル含有触媒が収
容されている。すなわち、原料ガスはチユーブ20に流
入して、一酸化炭素と水素が冷媒と直接熱交換し、触媒
状活性攪乱部材24の存在下で反応してメタンリツチな
合成ガスが生成し、矢印26に示すように出口管路28
から排出される。攪乱部材はチユーブ20の上下各端に
設けられた土側スナツプフツク30と下側スナツプフツ
ク32によつてチユーブ20中に固定されている。第4
図に示すように、攪乱部材24にはスナツプフツク30
,32を収容するための開口31,33が形成されてい
る。第5図に示す本発明の他の実施例では、前記と対応
する部材には7100″を加えて同一参照符号で示して
ある。この実施例では、メタネーシヨンチユーブ120
が複数の活性化攪乱部材124の形状をしたニツケル触
媒を収容している。したがつて、原料ガスはチユーブ1
20を通つて送られ、一酸化炭素と水素は攪乱部材12
4によつて触媒反応してメタンに富むガス生成物が作ら
れる。第5図に示した3本の攪乱部材124はチユープ
120の上下端に設けられた上側スナツプフツク130
と下側スチツクフツク(図示せず)によつてチユープ1
20中に固定されている。本発明のさらに他の実施例を
示す第6図では、前記と対応する部材は″″200″を
付けた参照符号で示してある。
この実施例で示したメタネーシヨンチユーブ220はコ
イル状すなわちロツド225の囲りでねじられた活性攪
乱部材224の形をしたニッケル含有触媒を支持してい
る。この攪乱部材124はロツド225に溶接されてい
て、螺旋状通路が螺旋状矢印Hで示したようにチユーブ
220の内壁と攪乱部材224の間に形成されている。
したがつて、供結ガスがチユーブ220に流されると、
一酸化炭素と水素とがねじられた管状攪乱部材224の
外面で反応してメタンに富むガス状生成物が作られる。
必要な場合には、管状攪乱部材224の中心に冷媒を流
して冷却能力を向上させることもできる。第6図に示す
攪乱部材224とロツド225はチユーブ220の上下
両端に各々設けられた上側スナツプフツク230と下側
スナツプフツク232によつてチユーブ220中に固定
されている。メタネーシヨン反応は高い発熱反応である
ため、好ましい実施例では攪乱部材を冷却通路で取り囲
んで、第8および第9図の実施例に示すように攪乱部材
反応器の中心とその外側との両方に冷媒を流すようにす
ることもできる。
これらの実施例では、触媒は環状通路中に螺旋状に配置
されている。環状通路の中心にあるチユーブは第1冷媒
を流すもので、これらは第8図では400で、また第9
図では500でそれぞれ示してある。第2冷媒は外壁す
なわちシースチユーブ(第8図の402および第9図の
502)の外側を循環している。第9図の実施例では第
1と第2の冷媒は同一である。第8図では第1冷媒は原
料ガス自体であり、原料ガスはチユーブの底に到達後、
反転してシースチユーブ402の内側の攪乱部材上を流
れる。これらの好ましい実施例の利点は伝熱表面に対す
る触媒表面の比率が小さく、それによつてメタネーシヨ
ンの冷却能力を最適化できる点にある。既に述べたよう
に、第6図の実施例では冷却流体を撹乱部材の中心に流
すのが好ましいことである。第9図の実施例では、複数
のメタネーシヨンチユーブがスチームドラム506中に
平行に配列されている。各メタネーシヨンチユーブは中
心冷却チユーブ500の囲りに端縁を付けて螺旋状に巻
き付けられたニツケル含有金属のストリツプの形状をし
た触媒攪乱部材を収容した外部チユーブすなわちシース
502によつて構成されている。冷却チユーブ500の
入口端はメタネーシヨンチユーブに内部冷媒すなわち第
1冷媒を供給するウオータヘツダ一508が結合されて
いる。チューブ500を出た冷却水は第2ヘツダ一51
0へ排出され、このヘツダ一510から出た過熱水すな
わち混合水はスチームドラム中に噴射される。もちろん
、これらのウオータヘツダ一は任意のもので、全く無く
てもよい。原料ガスは入口514を介してガスヘツダ一
512へ入り、次いで管状部材500および502で形
成されるメタネーシヨンチユープの環状内部空間へと流
れる。このメタネーシヨンチユーブ中の環状空間を流れ
る間に、原料ガスは触媒ストリップあるいはリボン50
4の表面に沿つて螺旋路を通れる。最後にメタン含有生
成物としてメタネーシヨンチユーブから出たガスヘツダ
一516を介して出口518から通常のメタン含有生成
物として取り出される。本発明の攪乱部材は通常の冷間
加工によつて作ることができる。
例えば、第1,4図に示す攪乱部材は第2図にエレメン
ト36として示した平らなストリツプまたはリボンの両
端を固定し、このストリツプを円形矢印Tで示すように
180度づつねじつて作ることができる。第1,4図と
同様な攪乱部材は第3図に示す直角エレメント40を同
様にねじつて作ることもできる。これらの攪乱部材は一
般に波状(SinusOidal)形状によつて特徴付
けられる。第4図に示すように、ねじり度合は1回のね
じりTの長さをチユーブ20の直径D(または第2,3
図の直径d)で割つた値に等しいYフアクタ一によつて
与えられる。本発明で用いる触媒のYフアクタ一の典型
的な範囲は2.0から3.0である。触媒効率上はYフ
アクタ一が小さい方が好ましいが、Yフアクタ一が小さ
いとねじり度が大きくなる。Yフアクタ一の最小限度は
触媒金属の機械的特性すなわち破損しない最大ねじり度
によつて決定される。従つて、触媒金属の特性上許容さ
れる範囲内でYフアクタ一が2.0以下の攪乱部材も作
ることはできる。本発明で用いる触媒ストリツプまたは
リボンの寸法と形状は絶対的なものではなく、反応器の
形状、管状反応器の寸法等によつて大きく変えることが
できる。
本発明では、リボンとは断面が四角形の任意の細長い部
材と定義することができる。本発明では、管状触媒はニ
ツケル金属またはニツケルが主成分であるニツケル含有
合金から作ることができる。あるいは、攪乱部材自体は
別の金属で作り、ニツケル触媒をその表面上にメツキま
たは沈着塗装してもよい。ニツケルまたはニツケル合金
ストリツプから攪乱部材を作る場合には、1975年4
月29日出願の米国特許願第572797号に詳細に開
示されているように冷間加工によつて応力を作つて触媒
を活性化することができる。
本発明の触媒として用いられる攪乱部材は反応器の長手
方向に沿つてガス状反応物を螺旋状に通す通路を与える
この作用を与えるための攪乱部材の形状は各種のものに
することができる。第1,4図の実施例では、触媒は管
状反応器に実質的に一満に収容された単一のねじれた平
らなストリツプまたはリボンの形状をしている。これと
同様な攪乱部材は米国特許第1809114号に開示さ
れている。第1,4図の実施例では上記のストリツプを
複数個互いに重さねることによつて同様な構造にするこ
とができる。第5図の実施例では複数の平らなねじられ
た細長いストリツプが反応器の長手方向に平行に配列さ
れている。さらに他の実施例では、攪乱部材を平らなス
トリツプでなく、例えば第6,7図の実施例のように管
状体から作ることもできる。
第7図の実施例では、チユーブ300を張力を掛けなが
らねじつて作られたねじられた偏平チユーブの細長X,
培附で攪乱部材が構成されている。
適当な形状の攪乱部材を作る方法はピータースタイナ一
の「攪乱部材の製造法」と題する米国特許第39479
39号および第3969037号に詳細に開示されてい
るので、ここではそれを参照する。上述のように、本発
明に従い、攪乱部材を用いる反応器を、その外側とその
中心の両方を冷却することによつて、著しい発熱反応で
あるメタネーシヨンの温度制御が最適になる。今、開示
した幾つかのタイプの反応器に溢つて、この中心部冷却
による効果を一層具体的に示せば次のようになる。反応
器1:第4図に示すような、チユーブ内に攪乱部材が配
置された反応器。
反応器:第8図に示すような、中心部冷却管を攪乱部材
が取り巻く反応器。
反応器:第6図に示すような、ロツドの周りを攪乱部材
がコイル状にねじられ、該攪乱部材の中心部を冷却媒体
が流れる反応器。
攪乱部材はいずれもニツケルから構成される。
反応器の内径(第4図におけるDに相当する)はいずれ
も3インチ(7.6(177!)である。また、反応器
lにおける中心部冷却管並びに反応器のロッドおよびコ
イル状攪乱部材の径は0,5インチ(1.3CT1L)
であり、また、反応器1には中心部冷却管が存しない。
入口ガスの温度、圧力および流量は、いずれも反応管に
ついても共通で、それぞれ800′F(427℃)、1
000psi(70気圧)、および3000(標準状態
Ft3/時間)と9する。冷却液体の温度は、いずれの
場合でも一定であり5001:′(260℃)である。
各反応器内で同一の反応熱が生じ、反応器の径方向に沿
つて反応熱が直線的に分布するものとし、且つ、反応器
の径方向の温度分布は無視し得るものとする。5 以上
の条件の下に、3つの反応器について、伝熱面積、総括
伝熱係数、および出口ガス温度を計算すると次のように
なる。
反応器lは、反応器1よりもかなり出口温度が低くなつ
ており、反応器の中心部を冷却することによつて、伝熱
面積および伝熱係数が向上し、反応器内のメ・タネーシ
ヨン反応の温度制御が効果的になることが理解される。
特に、反応器の伝熱係数は反応器の場合の30倍となつ
ており、伝熱が対流のみならず伝導によつても行なわれ
ることによつてメタネーシヨン反応において必須である
熱除去が効率的に行なわれることが理解される。
例 第10図に示した「ベンチ メタネータ一」は本発明で
行つた一連のテストで用いられたものである。
このメタネータ一の触媒600は3.2mn(%In)
×28mu(1.11n)のハツケルストリツプを2つ
用いており、各ストリツプの長さは45.7?(181
n)であつた。この触媒は旋盤で各ストリツプを保持し
、それをねじつて、180度ねじつたものが1.6パイ
プの径と同じになるようにして作られたものである。旋
盤は成形中ストリツプを一定長さに維持している。ねじ
られたストリツプ片の端縁は少し研摩して25い(11
n)のシエジユール40のインカロイ800の反応チユ
ーブ602中に嵌合した。2つの触媒区分AとBとの間
にはガス流用熱伝対T2を入れるために25?(11n
)の空間が空けられている。
この反応器の長さは2m(801n)で、予熱部分は8
50rIL(33%In)であつた。反応チユーブを加
熱するために3つの電気ヒーター604,606,60
8を用いた。攪乱部材の長さは91〔(361n)で、
Yフアクタ一は1.612管径/180度であつた。
表1、2でまとめたテストでは、反応器に加熱チッソを
流して触媒を活性化させた。例えば表1の試験3。試験
12、13および14に対する結果は第2表にまとめて
ある。これらのテストは攪乱部材によるメタネーシヨン
が工業的に使用できるということを示しているが、ここ
で用いたメタネーシヨン装置は欠点があり、特に反応熱
を連続して除去する手段が欠けている。
この欠点によつて、この装置には局部過熱の問題がある
。したがつて、本発明ではメタネーシヨンチユーブの外
側に冷却流体を循環させるようにしている。さらに、既
に述べたように、好ましい実施例では攪乱部材触媒によ
つて取り囲まれた中心管中に第2冷媒を流している。本
発明はその基本的特徴を逸脱することなく他の特殊な形
態で具体化することができる。
したがつて、ここに示した実施例は単に例示にすぎず、
それに限定されるものではない。本発明の範囲は以上の
説明によつてではなく特許請求の範囲によつて定められ
るものであつて、特許請求の範囲の均等物の範囲内に入
るものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明によるメタネーシヨンチユーブを複数
本収容した反応器の概略正面図。 第2図は、一端が保持され、他端が矢印方向に捩れ冷間
加工が施された平らな金属ストリツプの正面図。第3図
は、一対の互いに直交した金属ストリツプの第2図と同
様な斜視図。第4図は、断面図で示した第1図に示す反
応器の1つの反応チユーブの概略拡大側面図。第5図は
、第4図と同様なメタネーシヨンチユーブの拡大断面図
であるが、3本の捩れストリツプがチユーブ中に収容さ
れている状態を示している。第6図は、チユーブ内で中
心ロツドの囲りに配口されたコイル状攪乱部材を示すメ
タネーシヨン反応チユーブの他の実施例の断面図。第7
図は、触媒攪乱部材が捩れたチユーブ材の形状をしてい
るようなメタネーシヨン反応装置の頂部断面図。第8図
は、触媒ストリツプが中心冷却管の囲りに端縁を接して
ねじられているような本発明の好ましい実施例の概略断
面図。第9図は、触媒ストリツプまたはリボンが中心冷
却管の囲りでねじられている他の好ましい実施例のメタ
ネーシヨンチユーブを有する反応器の一部を断面で示す
概略側面図。第10図は、本明細書の例で用いたベンチ
型メタネーシヨン反応器の概略図。10・・・・・・反
応器、12・・・・・・内部チヤンバ一20・・・・・
・チユーブ、24・・・・・・攪乱部材、30,32・
・・・・・スナツプフツク。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一酸化炭素と水素とを反応させてメタンを製造する
    方法において、水素と一酸化炭素とを含むガスを、らせ
    ん状のニッケル含有触媒であつて冷却管を取り巻き且つ
    前記ガスに対するらせん状通路を構成する触媒を収納し
    た少なくとも1個の反応管内に供給すること、前記冷却
    管中に冷却用媒体を通すこと、及び、前記反応管の外側
    を冷却して反応熱を除去することを特徴とする前記メタ
    ン製造方法。 2 前記触媒が3以下のYファクターを有する前記第1
    項の方法。 3 前記触媒が2から3のYファクターを有する前記第
    2項の方法。 4 冷却用媒体の流れ方向が前記らせん状触媒の一端に
    おいて反転し、前記反応管の外側を流れ且つ該管を冷却
    する前記第1項の方法。 5 前記ガスが前記反応管と前記冷却管との間の環状空
    間を通過する前記第1項の方法。 6 一酸化炭素と水素とを反応させてメタンを製造する
    装置において、(a)細長い管状の外部シース、 (b)前記シース内に収納されたらせん状のニッケル含
    有触媒であつて、前記外部シースの長手方向に沿つて反
    応ガスのらせん状通路を形成する触媒、(c)前記シー
    スの中央に配置された冷却管であつて、前記触媒によつ
    てそのまわりが取り巻かれた冷却管、及び、(d)前記
    冷却管内に冷却用媒体を通す手段を含むことを特徴とす
    る前記メタン製造装置。
JP53049712A 1977-04-28 1978-04-26 メタンの製造方法および装置 Expired JPS5917085B2 (ja)

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