JPS59170256A - 摩擦による無電解金、白金銅めつき用組成物およびめつき方法 - Google Patents

摩擦による無電解金、白金銅めつき用組成物およびめつき方法

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JPS59170256A
JPS59170256A JP4230483A JP4230483A JPS59170256A JP S59170256 A JPS59170256 A JP S59170256A JP 4230483 A JP4230483 A JP 4230483A JP 4230483 A JP4230483 A JP 4230483A JP S59170256 A JPS59170256 A JP S59170256A
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Hiroshi Takahashi
博 高橋
Kyoji Yanagisawa
柳沢 恭治
Hiroki Satake
佐竹 寛紀
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Hitachi Ltd
Hitachi Kyowa Engineering Co Ltd
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Hitachi Kyowa Kogyo Ltd
Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は摩擦によつて無電解的に金、白金もしくは銅を
めっきするだめの組成物と、その方法に関する。
大型品へのめつきや据付けられた物品への現場でのめっ
きを行なう方法として、通常のめっき浴槽を用いる電解
めっきもしくは無電解めっき法は、大型のめつき浴槽や
多量のめっき液を必要とし、また、設置された物品を取
外さねばならないなど、作栗性、能率および経済性のう
えで不都合であわ、ヨシ目的に合った方法の開発が望ま
れている。
そのため、めっき浴槽を必要とせず無電解的にめっきす
ることのできるめっき組成物が、ごく一部で市販されて
いる。この組成物は、少量の水分を加えられて被めっき
体の表面に付着され、かつ、布やスポンジなどで摩擦さ
れることにより金属を析出する。しかし、このめっき組
成*IKは、厚付けめっきができず、めっき操作を続け
ても、得られるめっき膜の厚さはせいぜい1μm程度に
限られるという欠点があった。
本発明の目的は、めっき浴槽を必要とせず、かつ、無電
解的にめっきできる組成物において未開拓範囲である、
厚付は可能な金、白金および銅めっき用組成物並びに該
組成物を用い摩擦によってめっきする方法を提供するこ
とである。
その特徴は、組成物が (a)ALI、l’tおよびCLIのなかから選ばれた
めっきすべき金属の少なくとも1種の塩、(b)  L
it 13a、Ca+ Mg、At、Mnt Zn。
Co、Ni、SnおよびCuのなかから選ばれ、かつ前
記(a)のめっきすべき金属よシも卑なる標準電極電位
を有する少なくとも1種の金属の塩、および (C)  水素化ホウ素化合物 を含有してなることにある。
該組成物は、被めっき体表面に少量の水分の存在におい
て、接触し摩擦させられることによって、該物体上にめ
っき膜を形成できる。
次に、本発明の組成物の成分について説明する。
成分(a)はめつきされるべき金鵡(以下、単にめっき
金属と称する)、すなわちAutPtもしくはCIJの
供給源となる化合物でおって、例えば塩化金酸、塩化白
金網などの塩素化物、酸化金、酸化白金、酸化銅などの
酸化物や、硫酸銅、酢酸銅などのなかから、めっき金属
に合せてそれぞれ1種もしくは2種以上の塩が選ばれて
使用される。
成分(b)として含有される化合物は、めっき金属に比
較して卑なる標準電極電位を有する金属の塩であって、
下記金属の化合物群のなかから、めっき金属に応じて、
1種もしくは2種以上が選ばれ使用される。すなわち、
Li、 Ba、Ca、 Mg。
At、Mn、Zn、Fe、Co、 NiおよびCLIの
硫酸塩、硝酸塩、ハロゲン化物や酸化物など、イオン化
し得る化合物であれば使用可能である。
LiCt、 LiBr、 BaSO41BaCO5、B
aC1z 。
CaSO4、Ca (NOslz 、 Mg5O< 、
 MgCtz 。
A/!−11(804)3  、  AtCl3  、
  Mn S04 、  Iv丁nCtz。
Zn804.ZnC4,CO3O4,CoCl2.NI
 S04゜N1(OCOCH3)2,5nS04.5n
C1z、Cu5O<。
Cu (OCOCHs)g 、 CLIO,Cu、70
などがある。
本発明者らは、ここに列挙された塩の全てについて実験
した結果、Li塩およびMg塩が、とくにめっき膜の平
滑性や光沢の点でひいて、なかでも、Li2804 、
 LtNO3、LfCl、Mg5O<およびM g C
t2 が優れていることを確認した。
また、成分(C)として配合される水素化ホウ素化合物
は、水素を放出し還元剤として作用するものと推測され
る。水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、
水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素トリエチルリテク
ム、ジメチルアミン・ボラ7 C(CHs )z HN
 : BH3)などの1種もしくは2種以上が用いられ
、とくに、水素化ホウ素ナトリウムが有用である。
本発明のめっき用組成物は、上記成分のほかに、無電解
めっきに用いられている公知の炭酸水素ナトリウムなど
の緩衝剤や、例えばサッカリンナトリウムなどの光沢向
上剤、めっき膜の伸びを増すためのステアリン酸や低級
アルコールなども含有することができる。
各成分の一般的な配合割合についていえば、(a)めっ
き金属塩100重量部釦対して、標準電極電位に関して
めっき金属よシも卑な(b)の金属塩類10〜200重
量部と、(C)還元剤5〜1oo重量部、さらに緩衝剤
0〜300重量部、光沢向上剤0〜50重量部および伸
び向上剤0〜30重量部が適酒な範囲である。
不発明のめっき用組成物の保管に当っては、湿気をしゃ
断するか、もしくは(C)還元剤または<a>めっき金
属塩をそれぞれ池の成分と分離しておくことが望ましい
本発明のめっき用組成物を用いた最も効果的なめつき方
法は、各成分の粉末を混合してなる該組成物の漣当量を
、金属からなる被めっき体上に載せ、その上から少量の
水を含んだ木綿布やポリエステル繊維布などのような繊
維質材料やスポンジなどで摩擦するか、あるいは被めっ
き体上に該めっき用組成物を載せ、それに少量の水を加
えて湿潤状態としたのち、そのうえから繊維材料やスポ
ンジなどで摩擦する方法である。そのほか、予め少量の
水をめっき用組成物に加えて湿潤状態ないしスラリー状
態にし、それを被めっき体上にのせて上から繊維質材料
、スポンジ等で摩擦する方法をとることもできる。
めっき作業は、めっき膜が所望の厚さに達するまで、被
めっき体上にめっき用組成物を少量ずつ補給しながら続
けられる。同時に水分の補給も行なう。なお、本発明に
おいて水分量は、常に、多くともめっき用組成物がスラ
リー化される程度に限られるべきで、それを越えること
はめつき膜形成を困難にする。
本発明においては、前記成分(C)の還元作用によって
成分(b)の金属塩からその金属が析出し、該金属に媒
介される電気化学的作用によ多成分(a)からめつき金
属の析出が飽和することなく進行すると推測される。従
って、本発明によれば、厚付けめっきが可能であり、し
かも、めっき浴槽などの設備も要しないので、現地での
補修めつきや大型品のめっきを容易に行なうことができ
る。
本発明のめつ′き用組成物およびめっき方法は、とpわ
け鋼糸および鉄系物品表面のめつきに有用である。
次に、実施例によって説明する。
実施例 1 清浄にした銅板上に、次の(a)〜(f)の組成からな
るめっき用組成物(粉末混合物)を置き、水分を含ませ
た布を用いてその上から、20〜50cm/秒の連層で
摩擦することによシめりき膜を析出させた。この場合、
銅板1cm2当シの上記組成物の使用量(金量として)
とめりき膜厚との関係を図の曲線Aで示す。曲線Bは硫
酸リチウム無添加の場合の結果を示すものである。析出
しためつき膜は平滑で光沢に富んだものであった。
組成 (a)  塩化金酸(F(AIJCt4)     1
00重量部(b)  硫酸リチウム(L12SO415
0重量部(C)  水素化ホウ素ナトリウム(NaBH
4)25重蓋部 (d)サッカリフf−トリウA (C6H4CO8O2
’NNa)25fi量部 (e)ステアリン酸(CH3(CH2) tacOOH
)25重量部 (f)  炭酸水素ナトリウム(NaHcOs )22
5重量部 実施例 2 下記組成をもつ組成物音スラリー状にして用いた点を除
いては、実施例1と同様の条件で白金めつきを行った。
光沢のある平滑なめつき膜(厚さμm)が得られた。
組成 (a)  塩化白金酸カリウム(K2 P tCL<)
100重量部 (b)  硫酸リチウム         50重量部
(C)  水素化ホウ素ナトリウム    25重量部
(d)?ツカリンナトリウム     25重量部(e
)ステアリン酸         25重量部(f) 
 炭酸水素す) IJウム     225重量部なる
組成物を用いた点を除いては、実施例1と同様の方法で
銅めっきを行った。光沢のある平滑なめつ11厚さ5μ
m)が得られた。
組成 (a)  酢酸銅((CH3COO)2Cu)   1
00重量部(b)  硫酸リチウム         
30重量部(C)  水素化ホウ素ナトリウム    
20重量部((i)  サッカリンナトリウム    
 20重量部(e)ステアリン酸         2
0重針部(f)  炭酸水素ナトリウム      2
0重量部実施例 4 前記実施例1,2および3の組成中、(b)成分として
硫酸リチウムの代シに1次表に示す20種類の金属塩の
中から、めっき金属よりも卑なる標準成極電位をもつ金
属の塩類を選び、各々50重量めっき作業は組成物を補
給しながら所望膜厚となるまで継続して行った。この結
果、10μm厚のせ、白金および銅めっき膜が容易に得
られた。
また、上記20種類のうち、L i NO3およびMg
80<は前記L!tso4と並んで膜の平滑性および光
沢の点で極めてすぐれていた。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の一実施例になる金めつき用組成物を用いて
めっきを行った場合のめつき膜厚とそれに要した該組成
物のけ(金量に換算した11II]との関係を示す。 めっきS厘≠m〕

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(a)Au、’ P t、 およびCuのながから
    選ばれためっきすべき金属の少なくとも1種の塩、(b
    )  Li、Ba、Ca、;vg、A4+ Mn1Zn
    、Co、 Ni、 SnおよびCuのなかから選ばれ、
    かつ、前記(a)のめっきすべき金属よシも卑なる標準
    電極電位を有する少なくとも1種の金属の塩、および、 (C)水素化ホウ素化合物 を含有してなることを特徴とする摩擦による無電解金、
    白金、もしくは銅めつき用組成物。 2、 さらに、緩衝剤、光沢向上剤および伸び向上剤が
    含有されてなる特許請求の範囲第1項記載のめっき用組
    成物。 3、(a)  Au、 P t、およびCuの々かから
    選ばれためつきすべき金属の少なくとも1種の塩、(b
    )  Li、13a、Cat Mg、A7.fvln。 zn+ co、 Ni、 SnおよびCLIのなかから
    選ばれ、かつ、前記(a)のめっきすべき金属よりも卑
    なる標準電極電位を有する少なくと。 も1種の金属の塩、および (C)  水素化ホウ素化合物 を含有してなる組成物を、少量の水分の存在において被
    めっき体表面に接触させて摩擦することを特徴とする摩
    擦による金、白金もしくは銅の無電解的めっき方法。 4、組成物に、さらに緩衝剤、光沢向上剤および伸び向
    上剤が含有された特許請求の範囲第3項記載のめつき方
    法。 5、組成物を湿潤状態ないしスラリー状態にして1♀擦
    する特許請求の範囲第3項もしくは第4項記載のめつき
    方法。
JP4230483A 1983-03-16 1983-03-16 摩擦による無電解金、白金銅めつき用組成物およびめつき方法 Pending JPS59170256A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003183844A (ja) * 2001-12-18 2003-07-03 Murata Mfg Co Ltd 電子部品の製造方法、及び電子部品

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003183844A (ja) * 2001-12-18 2003-07-03 Murata Mfg Co Ltd 電子部品の製造方法、及び電子部品

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