JPS59163435A - 金銀糸 - Google Patents
金銀糸Info
- Publication number
- JPS59163435A JPS59163435A JP3408683A JP3408683A JPS59163435A JP S59163435 A JPS59163435 A JP S59163435A JP 3408683 A JP3408683 A JP 3408683A JP 3408683 A JP3408683 A JP 3408683A JP S59163435 A JPS59163435 A JP S59163435A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- base material
- thin
- film
- gold
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Yarns And Mechanical Finishing Of Yarns Or Ropes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は金銀糸に関し、詳しくは、Ａ４薄膜が酸、ア
ルカリ、水などにより腐食され変質化して透明化するこ
とを防止した、耐腐食性の極めて良好なＡｌ薄膜を基材
上に設けた金銀糸に関する０ 真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング、電
子ビーム蒸着などにより基材上にＡｌ薄膜を設けた金銀
糸は従来から、Ａｌ薄膜が酸、アルカリ、水などにより
容易に腐食され、大きな問題となっている・この腐食は
Ａ４薄膜上に樹脂によシ保護層を設けた場合でも容易に
生じ、耐腐食性の良好なＡｌ薄膜を設けた金銀糸はこれ
まで切望されてきた。
ルカリ、水などにより腐食され変質化して透明化するこ
とを防止した、耐腐食性の極めて良好なＡｌ薄膜を基材
上に設けた金銀糸に関する０ 真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング、電
子ビーム蒸着などにより基材上にＡｌ薄膜を設けた金銀
糸は従来から、Ａｌ薄膜が酸、アルカリ、水などにより
容易に腐食され、大きな問題となっている・この腐食は
Ａ４薄膜上に樹脂によシ保護層を設けた場合でも容易に
生じ、耐腐食性の良好なＡｌ薄膜を設けた金銀糸はこれ
まで切望されてきた。
、Ｊ薄膜の一般的処理方法としては従来から、クロム酸
処理が知られている。しかしこれはいわば浸漬法であシ
公害が発生し現実には実施が不可能又は極めて困難であ
る。また、他の方法として、陽極酸化処理もあるがＡ４
薄膜は極めて薄いので実際上は容易でない。さらにまた
他の方法として、Ａｌ薄膜上にシリコンメタル蒸着層を
設ける方法も知られているが、これは水には強いが、耐
酸性、耐アルカリ性に劣るという欠点がある。
処理が知られている。しかしこれはいわば浸漬法であシ
公害が発生し現実には実施が不可能又は極めて困難であ
る。また、他の方法として、陽極酸化処理もあるがＡ４
薄膜は極めて薄いので実際上は容易でない。さらにまた
他の方法として、Ａｌ薄膜上にシリコンメタル蒸着層を
設ける方法も知られているが、これは水には強いが、耐
酸性、耐アルカリ性に劣るという欠点がある。
この発明は、上記の諸々の欠点を解消し、甑めて容易な
方法でＡｄ薄膜の表面にＣｒ薄膜を形成することにより
、非常に安定した耐腐食性の極めて良好なＡ４薄膜を基
材上に設けた金銀糸を提供するものである。
方法でＡｄ薄膜の表面にＣｒ薄膜を形成することにより
、非常に安定した耐腐食性の極めて良好なＡ４薄膜を基
材上に設けた金銀糸を提供するものである。
すなわちこの発明は、基材の少くとも片面に、表面にＣ
ｒ薄膜を形成したＡｌ薄膜を設けたことを特徴とする金
銀糸である。
ｒ薄膜を形成したＡｌ薄膜を設けたことを特徴とする金
銀糸である。
この発明にて使用される基材とは、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリプロピレン、紙、及びそれらを処理、加
工したもの等、金銀糸の基材として使用される従来公知
の基材からなる。この発明は、かかる基材の少くとも片
面に、表面にＣｒ薄膜を形成したＡｄ薄膜を設けたもの
である。
タレート、ポリプロピレン、紙、及びそれらを処理、加
工したもの等、金銀糸の基材として使用される従来公知
の基材からなる。この発明は、かかる基材の少くとも片
面に、表面にＣｒ薄膜を形成したＡｄ薄膜を設けたもの
である。
Ｃｒ薄膜の厚さは目的に応じて任意に選択できるが、Ａ
５本来の光沢を充分発揮させるには５〜６ＯＡの厚さに
形成するのが好ましい。また、Ｃｒ薄膜は、真空蒸着法
、ヌパッタリング法、イオンブレーティング法、電子ビ
ーム蒸着法など、従来公知の方法により形成すればよい
。
５本来の光沢を充分発揮させるには５〜６ＯＡの厚さに
形成するのが好ましい。また、Ｃｒ薄膜は、真空蒸着法
、ヌパッタリング法、イオンブレーティング法、電子ビ
ーム蒸着法など、従来公知の方法により形成すればよい
。
この発明は、基材上に設けられたＡβ薄膜の基材と反対
（財）の面の力にＣｒ薄膜を形成してもよいが、基材の
種類によっては、該基材を透過した酸、アルカリ、水な
どがＡ４薄膜を侵さないように、ＡＩ！薄膜の両面にＣ
ｒ薄膜を形成するのが好ましい。すなわち、基材に予め
Ｃｒ薄膜を形成しその上にＡβ薄膜を形成し更に該ＡＩ
薄膜上にＣｒ薄膜を形成するのがよい。
（財）の面の力にＣｒ薄膜を形成してもよいが、基材の
種類によっては、該基材を透過した酸、アルカリ、水な
どがＡ４薄膜を侵さないように、ＡＩ！薄膜の両面にＣ
ｒ薄膜を形成するのが好ましい。すなわち、基材に予め
Ｃｒ薄膜を形成しその上にＡβ薄膜を形成し更に該ＡＩ
薄膜上にＣｒ薄膜を形成するのがよい。
この発明では、Ｃｒ薄膜が数λから数１ＯＡという薄い
ものであってもＡｄ薄膜を酸、アルカリ、水から充分に
保護し、Ｃｒ薄膜自体がＡｌｌ薄膜の物性に悪影響を与
えることもなく、Ａ（１？薄膜に安定して優れた特性を
発揮させうるものである。しかもＣｒ薄膜がかかる極薄
である場合には、Ａｌｌ薄膜の色及び光沢はそのまま外
にあられれ、純粋なＡＩ薄膜と全く変らない外観を呈し
ているものである０ この発明は、Ｃｒ薄膜上に別途保護層を設けてもよいが
これは必ずしも必要ではなく、保護層が存在しなくても
Ａ４薄膜はＣｒ薄膜により充分に保護される。しかし、
一般的には薄膜は機械的強度が弱い。そのためＣｒ薄膜
上に保護層を設ける方及物理的、機械的にも万全である
・保護層を設ける場合には、アクリル樹脂、塩化ビニル
−酢酸ビニル樹脂など保護層として通常に使用される樹
脂を使用すればよい。
ものであってもＡｄ薄膜を酸、アルカリ、水から充分に
保護し、Ｃｒ薄膜自体がＡｌｌ薄膜の物性に悪影響を与
えることもなく、Ａ（１？薄膜に安定して優れた特性を
発揮させうるものである。しかもＣｒ薄膜がかかる極薄
である場合には、Ａｌｌ薄膜の色及び光沢はそのまま外
にあられれ、純粋なＡＩ薄膜と全く変らない外観を呈し
ているものである０ この発明は、Ｃｒ薄膜上に別途保護層を設けてもよいが
これは必ずしも必要ではなく、保護層が存在しなくても
Ａ４薄膜はＣｒ薄膜により充分に保護される。しかし、
一般的には薄膜は機械的強度が弱い。そのためＣｒ薄膜
上に保護層を設ける方及物理的、機械的にも万全である
・保護層を設ける場合には、アクリル樹脂、塩化ビニル
−酢酸ビニル樹脂など保護層として通常に使用される樹
脂を使用すればよい。
実施例
厚さ１２μのポリエチレンテレフタレートフィルムの片
面に６００Ｘの厚さのＡｅ蒸着層を形成し、次いでＡｆ
ｉ蒸着層上にＣｒを０〜１５０又の範囲に膜厚を変化さ
せて蒸着し、その後これを一部はそのまま他の一部はＣ
ｒ薄膜上にウレタン系樹脂によシ保護層を形成した後に
、それぞれスリッター加工して糸状とし試験用サンプル
とした０さらに、厚さ１２μのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムの片面に６００Ｘの厚さのＡ４蒸着層を形
成し、次いでＡ［蒸着層上にＳｉを１０Ａ、１００Ｘの
膜厚でそれぞれ蒸着したものを一部はそのまま他の一部
はＳｉ蒸着層上にウレタン系樹脂により保護層を形成し
た後に、それぞれスリッター加工して糸状とし試験用サ
ンプルとした。
面に６００Ｘの厚さのＡｅ蒸着層を形成し、次いでＡｆ
ｉ蒸着層上にＣｒを０〜１５０又の範囲に膜厚を変化さ
せて蒸着し、その後これを一部はそのまま他の一部はＣ
ｒ薄膜上にウレタン系樹脂によシ保護層を形成した後に
、それぞれスリッター加工して糸状とし試験用サンプル
とした０さらに、厚さ１２μのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムの片面に６００Ｘの厚さのＡ４蒸着層を形
成し、次いでＡ［蒸着層上にＳｉを１０Ａ、１００Ｘの
膜厚でそれぞれ蒸着したものを一部はそのまま他の一部
はＳｉ蒸着層上にウレタン系樹脂により保護層を形成し
た後に、それぞれスリッター加工して糸状とし試験用サ
ンプルとした。
試験は次の種類のものとし７、上記の試験川音１７プル
につき試験を行った。
につき試験を行った。
試験の結果は次の表の通りである。なお表中のブランク
は未試験である。
は未試験である。
（注）○・・・・・殆んど腐食なし
△・・・・・少し腐食あり
×・・・・・完全に腐食あり
上記の表からも明らかな通り、Ｃｒ薄膜はＡｄ薄膜を非
常に効果的に保護するものである。
常に効果的に保護するものである。
また、上記の試験結果を補足すれば、ヌリノター加工に
よる断面からの腐食は特に影響はなく、肉眼では腐食は
生じていな〃１つた。
よる断面からの腐食は特に影響はなく、肉眼では腐食は
生じていな〃１つた。
特許出願人
株式会社 麗 光
Claims (1)
- 基材の少くとも片面に、表面にＣｒ薄膜を形成したＡ４
薄膜を設けたことを特徴とする金銀糸。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3408683A JPS59163435A (ja) | 1983-03-01 | 1983-03-01 | 金銀糸 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3408683A JPS59163435A (ja) | 1983-03-01 | 1983-03-01 | 金銀糸 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59163435A true JPS59163435A (ja) | 1984-09-14 |
Family
ID=12404449
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3408683A Pending JPS59163435A (ja) | 1983-03-01 | 1983-03-01 | 金銀糸 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59163435A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006095656A (ja) * | 2004-09-30 | 2006-04-13 | Doshisha | プリント基板用穴あけ加工機およびそれを用いたプリント基板の穴あけ加工条件決定方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4327970Y1 (ja) * | 1964-12-15 | 1968-11-18 |
-
1983
- 1983-03-01 JP JP3408683A patent/JPS59163435A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4327970Y1 (ja) * | 1964-12-15 | 1968-11-18 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006095656A (ja) * | 2004-09-30 | 2006-04-13 | Doshisha | プリント基板用穴あけ加工機およびそれを用いたプリント基板の穴あけ加工条件決定方法 |
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