JPS59156942A - 光フアイバ−用の可剥性被覆組成物 - Google Patents
光フアイバ−用の可剥性被覆組成物Info
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- JPS59156942A JPS59156942A JP58232636A JP23263683A JPS59156942A JP S59156942 A JPS59156942 A JP S59156942A JP 58232636 A JP58232636 A JP 58232636A JP 23263683 A JP23263683 A JP 23263683A JP S59156942 A JPS59156942 A JP S59156942A
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- C03C25/10—Coating
- C03C25/104—Coating to obtain optical fibres
- C03C25/106—Single coatings
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/02395—Glass optical fibre with a protective coating, e.g. two layer polymer coating deposited directly on a silica cladding surface during fibre manufacture
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- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、放射線硬化性の被覆組成物を用いて行う光フ
ァイバーに対する被覆、よシ詳しくは。
ァイバーに対する被覆、よシ詳しくは。
光ファイバーのガラス表面に直接塗布することができ、
そして硬化した際のガラス表面に対する付着力が低く、
硬化ずみ被覆を容易に機械的に除去しうる紫外線硬化性
の組成物を提供することに関する。
そして硬化した際のガラス表面に対する付着力が低く、
硬化ずみ被覆を容易に機械的に除去しうる紫外線硬化性
の組成物を提供することに関する。
背景技術
ガラス光ファイバーは通信用としてその重要性が高まっ
ているが、ガラスファイバーを用いるには、湿気及び摩
耗からガラス表面を保護しなくてはならない。このこと
は、ガラスファイバーの形成直後に□それを被覆するこ
とによって達成される。
ているが、ガラスファイバーを用いるには、湿気及び摩
耗からガラス表面を保護しなくてはならない。このこと
は、ガラスファイバーの形成直後に□それを被覆するこ
とによって達成される。
溶剤溶液被覆及び押出しが適用され、これらによ゛る問
題が生じたが、その問題は紫外線硬化被覆組放物の利用
によってかなシな程度まで解決された。
題が生じたが、その問題は紫外線硬化被覆組放物の利用
によってかなシな程度まで解決された。
光ファイバーのガラス表面に付着させる被覆利用に起因
する一つの問題は、同じ種類又は別の種類のコネクター
内でファイバー末端をつなぎ合わせるときなどに、付着
ずみの被覆を機械的に取除きたくてもそれが困難なこと
である。それ故、単一層被覆によるか、又は複数個の重
ね塗ｐ被覆によるかに関係なく、ガラスの摩耗を最低限
度に抑えながら被覆を容易に機械的に剥離できるよりに
、ガラス表面に接触する被覆を変性して付着力を低下さ
せ、しかも同時に付着性の接触を維持することが所望さ
れる。
する一つの問題は、同じ種類又は別の種類のコネクター
内でファイバー末端をつなぎ合わせるときなどに、付着
ずみの被覆を機械的に取除きたくてもそれが困難なこと
である。それ故、単一層被覆によるか、又は複数個の重
ね塗ｐ被覆によるかに関係なく、ガラスの摩耗を最低限
度に抑えながら被覆を容易に機械的に剥離できるよりに
、ガラス表面に接触する被覆を変性して付着力を低下さ
せ、しかも同時に付着性の接触を維持することが所望さ
れる。
ミクロ屈曲（ｍｉｃｒｏｈｅｎｄｉｎｇ ） ｆ最低に
抑えるためには、ガラス表面に接触する被覆がきわめて
低いモジュラスを有するように選ばれ、そして適度の硬
さ及び強さと組合わされた低モジュラスを有する紫外線
硬化性被覆組成物が開発された。これらについては、本
発明と譲受人を特徴とする特許出願である１９８０年７
月１８日付のロバート・イー・アンセル（Ｒ，ｏｈｅｒ
ｔ Ｅ、 Ａｎｓｅｌ ）の米国特許出願第１７０，１
４８号及び１９８２年７月１９日付のロバートーイー拳
アンセル、オー・レイ中カッジー（０，Ｒａｙ Ｃｕｔ
ｌｅｒ ）及びエリアメ＋１ピー・モスコビス（Ｅｌｉ
ａｓ Ｐ、 Ｍｏ５ｃｏｖｉｓ ）の同第３９８．１６
１号各明細書に詳述されている。これらのきわめて低モ
ジュラスの被覆は上塗シ処理を必要とするのであるが、
好ましい性質を得るのに上塗シ処理を必要としないです
む、硬さ及び強さにすぐれた被覆がさらに開発され、そ
してそれが同時係属の本発明の目的でおる。
抑えるためには、ガラス表面に接触する被覆がきわめて
低いモジュラスを有するように選ばれ、そして適度の硬
さ及び強さと組合わされた低モジュラスを有する紫外線
硬化性被覆組成物が開発された。これらについては、本
発明と譲受人を特徴とする特許出願である１９８０年７
月１８日付のロバート・イー・アンセル（Ｒ，ｏｈｅｒ
ｔ Ｅ、 Ａｎｓｅｌ ）の米国特許出願第１７０，１
４８号及び１９８２年７月１９日付のロバートーイー拳
アンセル、オー・レイ中カッジー（０，Ｒａｙ Ｃｕｔ
ｌｅｒ ）及びエリアメ＋１ピー・モスコビス（Ｅｌｉ
ａｓ Ｐ、 Ｍｏ５ｃｏｖｉｓ ）の同第３９８．１６
１号各明細書に詳述されている。これらのきわめて低モ
ジュラスの被覆は上塗シ処理を必要とするのであるが、
好ましい性質を得るのに上塗シ処理を必要としないです
む、硬さ及び強さにすぐれた被覆がさらに開発され、そ
してそれが同時係属の本発明の目的でおる。
発明の開示
本発明によれば、放射線硬化性のポリエチレン系有機化
合物からなる放射線硬化性被覆組成物が該被覆組成物の
約２〜約２０％に相当する有機ポリシロキサン（但し、
この有機ポリシロキサンは炭素−珪素結合によってポリ
シロキサン鎖内の若干の珪素原子に結合した複数個のヒ
ドロキシ末端停止基を有する）を含むように変性される
。これらのヒドロキシ末端停止基はカルビノール基であ
るのが望ましく、従ってこのポリシロキサンは１〜６個
のカルビノール基を有するポリカルビノールポリシロキ
サンとして表わすことができ、そしてこれらのカルビノ
ール基が最高１５個までのエーテル基を含むのが好まし
い。
合物からなる放射線硬化性被覆組成物が該被覆組成物の
約２〜約２０％に相当する有機ポリシロキサン（但し、
この有機ポリシロキサンは炭素−珪素結合によってポリ
シロキサン鎖内の若干の珪素原子に結合した複数個のヒ
ドロキシ末端停止基を有する）を含むように変性される
。これらのヒドロキシ末端停止基はカルビノール基であ
るのが望ましく、従ってこのポリシロキサンは１〜６個
のカルビノール基を有するポリカルビノールポリシロキ
サンとして表わすことができ、そしてこれらのカルビノ
ール基が最高１５個までのエーテル基を含むのが好まし
い。
好ましいポリシロキサンはコポリマー又はグラフトコポ
リマーであってよく、従って次の構造（１）又は（２）
のいずれかを有しうる： 上記の式中、Ｂは炭素数１〜１２の炭化水素基であり、 Ｒ１は炭素数１〜１６のアルキレン基、例えば“ブチレ
ンもしくはプロピレンであるか、又は炭素数２〜４のア
ルキレン基と最高１５個棟でのエーテル基とを有するポ
リエーテル、例えば約６＠のエーテル基を有するポリオ
キシプロピレンであシ。
リマーであってよく、従って次の構造（１）又は（２）
のいずれかを有しうる： 上記の式中、Ｂは炭素数１〜１２の炭化水素基であり、 Ｒ１は炭素数１〜１６のアルキレン基、例えば“ブチレ
ンもしくはプロピレンであるか、又は炭素数２〜４のア
ルキレン基と最高１５個棟でのエーテル基とを有するポ
リエーテル、例えば約６＠のエーテル基を有するポリオ
キシプロピレンであシ。
Ｘは１〜１０００の値を有し１例えば５０又は１００で
あり、そして ａは２〜乙の値、好ましくは乙の値を有する。
あり、そして ａは２〜乙の値、好ましくは乙の値を有する。
上記の各式中、Ｒはメチルであるのが好ましいが、エチ
ルもしくはブチル、又は時によってはフェニルもしくは
トルイルであってもさしつかえない。
ルもしくはブチル、又は時によってはフェニルもしくは
トルイルであってもさしつかえない。
前記のごときタイプのポリシロキサンポリカルビノール
は公知でおる。それらは例えば米国特許第４．３３１．
７０４号に開示されてお凱またダウ・コーニング社（Ｄ
ｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ ）から市販されている。本発明
に用いるのに好ましいダウ・コーニング社の製品は商標
ｐｃ １９３として販売されている。被覆組成物に対し
て６〜１５％の量でこのポリシロキサンを用いるのが好
ましい。
は公知でおる。それらは例えば米国特許第４．３３１．
７０４号に開示されてお凱またダウ・コーニング社（Ｄ
ｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ ）から市販されている。本発明
に用いるのに好ましいダウ・コーニング社の製品は商標
ｐｃ １９３として販売されている。被覆組成物に対し
て６〜１５％の量でこのポリシロキサンを用いるのが好
ましい。
前記特許請求の範囲を含めて本明細書中、特記しない限
りすべての割合は重量によるものであ九七してアクリレ
ート化合物を例として用いる。
りすべての割合は重量によるものであ九七してアクリレ
ート化合物を例として用いる。
被覆組成物中にシリコーン油が普通配合されるが、被覆
を硬化させた場合、特に加熱を行って硬化させる場合に
それらが表面にゾルーム（ｂｌｏｏｍ）しやすいことを
指摘したい。従来技術における検討の結果は、付着力を
そこなうことなしにすべすべした、又は滑性化された表
面を有する被゛覆を得ることであった。
を硬化させた場合、特に加熱を行って硬化させる場合に
それらが表面にゾルーム（ｂｌｏｏｍ）しやすいことを
指摘したい。従来技術における検討の結果は、付着力を
そこなうことなしにすべすべした、又は滑性化された表
面を有する被゛覆を得ることであった。
本発明は、通常前記とは逆の目的、すなわち。
基体に対する付着力を低下させる目的を有し、そして上
塗多処理を行う場合には１表面滑性を著るしく高めるこ
となしに基体に対する付着力を低下させることを目的と
している。
塗多処理を行う場合には１表面滑性を著るしく高めるこ
となしに基体に対する付着力を低下させることを目的と
している。
従って、本発明は適当なポリシロキサンを最低比率で含
む放射線硬化性組成物の放射線硬化の利用、及びガラス
上への被覆に限定され、他の基体は本発明の対象から外
される。事実、適当なポリシロキサンを他の基体に用い
、及び（又は）本発明で必要とｊる量よりも少量で用い
た場合には、焼付は又は放射線硬化によって得られるも
のは滑性化された表面を有する被覆である。
む放射線硬化性組成物の放射線硬化の利用、及びガラス
上への被覆に限定され、他の基体は本発明の対象から外
される。事実、適当なポリシロキサンを他の基体に用い
、及び（又は）本発明で必要とｊる量よりも少量で用い
た場合には、焼付は又は放射線硬化によって得られるも
のは滑性化された表面を有する被覆である。
表面滑性化を目的とした場合には約１％未満のポリシロ
キサンを用いるのが普通でアシ、本発明で用いるポリシ
ロキサンを用いるとすれば、本発明で必要とする量よシ
も少ない量で用いられるのが当然であろう。また、ガラ
ス表面への可剥性の付着被覆の概念が、光ファイバーの
ガラス表面と接触する被覆に関１しての主要な意義であ
る。これらは約１５０＋Ｄ Ｄ Ｏｐｓｘ未満、好まし
くは約１５＊０００ ｐｓｉ未満の比較的低いモジュラ
スを有すべきである。従って、ポリシロキサンの選択及
び比率は、硬化によって比較的低い規定値のモジュラス
を有する塗膜を形成する放射線硬化被覆を得るのに特に
重要である。
キサンを用いるのが普通でアシ、本発明で用いるポリシ
ロキサンを用いるとすれば、本発明で必要とする量よシ
も少ない量で用いられるのが当然であろう。また、ガラ
ス表面への可剥性の付着被覆の概念が、光ファイバーの
ガラス表面と接触する被覆に関１しての主要な意義であ
る。これらは約１５０＋Ｄ Ｄ Ｏｐｓｘ未満、好まし
くは約１５＊０００ ｐｓｉ未満の比較的低いモジュラ
スを有すべきである。従って、ポリシロキサンの選択及
び比率は、硬化によって比較的低い規定値のモジュラス
を有する塗膜を形成する放射線硬化被覆を得るのに特に
重要である。
ガラス光ファイバー用の放射線硬化性被覆は種種のタイ
プのものであってより０ しかしながら。
プのものであってより０ しかしながら。
ガラスに接触する被覆に必要とされる低〜中程度のモジ
ュラスを得るためには、ポリエチレン系の有機化合物を
必ず用いる必要がある。使用可能な適癌なポリエチレン
系の有機化合物で公知のものは多いが、好ましい性能を
達成することは困難であった。通常上塗多処理されるき
わめて低モジュラスの被覆が前記のアンセルの米国特許
出願第１７０．１４８号明細書に記載されている。これ
らは、約２０００〜約８０００の範囲内の分子量を有し
１分子量の６００〜９００単位ごとに１個のアミド、尿
素又はウレタンを含み、そしてアルキレン部分の炭素数
が２〜６であるポリアルキレンポリエーテル、ポリアル
キレン ポリチオール又はポリアルキレン ポリエステ
ルを含むエチレン基末端停止ポリウレタン、ポリアミド
又はポリ尿素オリゴマーとして記載することができる。
ュラスを得るためには、ポリエチレン系の有機化合物を
必ず用いる必要がある。使用可能な適癌なポリエチレン
系の有機化合物で公知のものは多いが、好ましい性能を
達成することは困難であった。通常上塗多処理されるき
わめて低モジュラスの被覆が前記のアンセルの米国特許
出願第１７０．１４８号明細書に記載されている。これ
らは、約２０００〜約８０００の範囲内の分子量を有し
１分子量の６００〜９００単位ごとに１個のアミド、尿
素又はウレタンを含み、そしてアルキレン部分の炭素数
が２〜６であるポリアルキレンポリエーテル、ポリアル
キレン ポリチオール又はポリアルキレン ポリエステ
ルを含むエチレン基末端停止ポリウレタン、ポリアミド
又はポリ尿素オリゴマーとして記載することができる。
これらのジアクリレート ポリウレタン−尿素は、組成
物の２０〜５０％に尚る。約−１０℃よジも低いテ を
有する放射線硬化性のモノエチレン系モノマー、例えば
フェノキシエチルアクリレート。
物の２０〜５０％に尚る。約−１０℃よジも低いテ を
有する放射線硬化性のモノエチレン系モノマー、例えば
フェノキシエチルアクリレート。
及び強力な水素結合能力を有する２〜２０％のモノエチ
レン系モノマー、例えばＮ−ビニルピロリドンと組合わ
８れる。
レン系モノマー、例えばＮ−ビニルピロリドンと組合わ
８れる。
前記タイプの例示的被覆は、３．４モルのＮ−ビニルピ
ロリドンＡ び９．７モルのフェノキシエチルアクリレ
ートの存在下において、４モルの４，４′−メチレンビ
ス（シクロヘキシルインシアネート）と２モルのポリオ
キシプロピレングリコール（分子量１０００）とを反応
させ、次に２モルの２−ヒドロキシエチルアクリレート
と反応させ１次に１モルのポリオキシプロピレンジアミ
ン（分子量２５０）と反応させることによって作られる
。光開始剤として３％のジェトキシアセトフェノンを含
む前記混合物を新たに延伸された光フアイバー上に紫外
線硬化させることができ、そして本発明に従ってガラス
に対する付着力が低下するようにそれを変性することが
できる。
ロリドンＡ び９．７モルのフェノキシエチルアクリレ
ートの存在下において、４モルの４，４′−メチレンビ
ス（シクロヘキシルインシアネート）と２モルのポリオ
キシプロピレングリコール（分子量１０００）とを反応
させ、次に２モルの２−ヒドロキシエチルアクリレート
と反応させ１次に１モルのポリオキシプロピレンジアミ
ン（分子量２５０）と反応させることによって作られる
。光開始剤として３％のジェトキシアセトフェノンを含
む前記混合物を新たに延伸された光フアイバー上に紫外
線硬化させることができ、そして本発明に従ってガラス
に対する付着力が低下するようにそれを変性することが
できる。
通常上塗多処理される別のタイプの低モジユラス被覆が
、やはりさきに記載したアンセルらの１９８２年７月１
９日付の米国特許出願第３９８．１６１号明細書に記載
されている。これらの被覆は、２〜６個の反応性の側鎖
を有し、その各々が官能基を有して１個の反応部位を提
供し。
、やはりさきに記載したアンセルらの１９８２年７月１
９日付の米国特許出願第３９８．１６１号明細書に記載
されている。これらの被覆は、２〜６個の反応性の側鎖
を有し、その各々が官能基を有して１個の反応部位を提
供し。
該反応部位の反応によって単一の放射線硬化性モノエチ
レン状不飽和側鎖がもたらされた有機ポリシロキサンか
ら本質的になるものであると記載することができる。分
子量の５００〜５０００単位ごとに前記のごとき側鎖が
約１個含まれる。このものは、室温及び−６０℃におい
て６０００未満のモジュラスを有する下塗シ被覆の形成
に用いられるのが望ましい。
レン状不飽和側鎖がもたらされた有機ポリシロキサンか
ら本質的になるものであると記載することができる。分
子量の５００〜５０００単位ごとに前記のごとき側鎖が
約１個含まれる。このものは、室温及び−６０℃におい
て６０００未満のモジュラスを有する下塗シ被覆の形成
に用いられるのが望ましい。
これらの被覆は、１モルの２−ヒドロキシエチルアクリ
レートと１モルのインホロンジイソシアネートとの反応
によってアクリレート官能性のウレタンモノイソシアネ
ートを生成し１次にこの反応生成物３モルを平均分子量
及び錨索が２０００である１モルのトリス（２−ヒドロ
キシポリオキシプロビル）ポリシロキサン（メチル置換
分８０％及びポリオキシプロピル置換分：２０％）と反
応させて得られる。ジェトキシアセトフェノン光開始剤
を６％添加すると、新たに延伸された光フアイバー上に
この混合物を紫外線硬化させることができ、また本発明
に従ってガラスに対する付着力を低下させることができ
る。
レートと１モルのインホロンジイソシアネートとの反応
によってアクリレート官能性のウレタンモノイソシアネ
ートを生成し１次にこの反応生成物３モルを平均分子量
及び錨索が２０００である１モルのトリス（２−ヒドロ
キシポリオキシプロビル）ポリシロキサン（メチル置換
分８０％及びポリオキシプロピル置換分：２０％）と反
応させて得られる。ジェトキシアセトフェノン光開始剤
を６％添加すると、新たに延伸された光フアイバー上に
この混合物を紫外線硬化させることができ、また本発明
に従ってガラスに対する付着力を低下させることができ
る。
上塗り被覆を施さなくても有用な、適度のモジュラスを
有する被覆は、（１）尿素基を含んで・いてもよい６５
〜８５％のジエチレン末端停止ポリウレタン（このポリ
ウレタンは４００〜５０００の平均分子量を有するジイ
ンシアネートを基剤とする）。
有する被覆は、（１）尿素基を含んで・いてもよい６５
〜８５％のジエチレン末端停止ポリウレタン（このポリ
ウレタンは４００〜５０００の平均分子量を有するジイ
ンシアネートを基剤とする）。
及び（２）約−２０℃よシも低いＴｇを有する５〜２５
％の放射線硬化性のモノエチレン状不飽和液体モノマー
を組合わせることによって得られる。これらは、６００
〜８００の分子量を有するようにテトラヒドロ７ランを
重合して形成されたポリテトラメチレングリコールとト
ルエンジインシアネートとの付加物であるジイソシアネ
ート末端停止ポリウレタン１モルと２−ヒドロキシエチ
ルアクリレート２モルとの付加物である。このジインシ
アネートをアクリレート化して形成されるポリウレタン
の分子量は約１９００である。この生成物７５．４部と
、２．５部のベンゾフェノ／、０．４部のベンジルジメ
チルケクール光開始・剤、９部のトリメチロールプロパ
ントリアクリレート及び１２．４部のエトキシエトキシ
エチルアクリレートとを混合すると、ガラス光ファイバ
ー上に被覆可能であシ、紫外線硬化によって有効な単一
層被覆生成物をもたらす被覆組成物が得られる。この組
成物も本発明に従ってガラスに対する付着力が低下する
ように変性することができる。
％の放射線硬化性のモノエチレン状不飽和液体モノマー
を組合わせることによって得られる。これらは、６００
〜８００の分子量を有するようにテトラヒドロ７ランを
重合して形成されたポリテトラメチレングリコールとト
ルエンジインシアネートとの付加物であるジイソシアネ
ート末端停止ポリウレタン１モルと２−ヒドロキシエチ
ルアクリレート２モルとの付加物である。このジインシ
アネートをアクリレート化して形成されるポリウレタン
の分子量は約１９００である。この生成物７５．４部と
、２．５部のベンゾフェノ／、０．４部のベンジルジメ
チルケクール光開始・剤、９部のトリメチロールプロパ
ントリアクリレート及び１２．４部のエトキシエトキシ
エチルアクリレートとを混合すると、ガラス光ファイバ
ー上に被覆可能であシ、紫外線硬化によって有効な単一
層被覆生成物をもたらす被覆組成物が得られる。この組
成物も本発明に従ってガラスに対する付着力が低下する
ように変性することができる。
モノマーのＴｇというのは、該モノマーのホモポリマー
のガラス転移温度のことである。
のガラス転移温度のことである。
紫外線が好ましい関係上、アクリル不飽和が最善である
。しかし別の放射線を用いることもできて電子ビーム線
も有用であるので、不飽和の性格を変動させることがで
きる。他の有用なエチレン系不飽和の例として、メタク
リル、イタコン、クロトン、アリル、ビニル等の６不飽
和をあげることができる。これらは、（メタクリル不飽
和を例にとると）イソシアネート官能基と２−とドロキ
シエチルメタクリレートとの反応によって得られる。２
−ヒドロキシエチルアクリレートの代ｐにアリルアルコ
ールを用いることによシアリル不飽和を導くことができ
る。２−ヒドロキシエチルアクリレートの代夛にヒドロ
キシブチルビニルエーテルを用いることによってビニル
不飽和を導くことができる。
。しかし別の放射線を用いることもできて電子ビーム線
も有用であるので、不飽和の性格を変動させることがで
きる。他の有用なエチレン系不飽和の例として、メタク
リル、イタコン、クロトン、アリル、ビニル等の６不飽
和をあげることができる。これらは、（メタクリル不飽
和を例にとると）イソシアネート官能基と２−とドロキ
シエチルメタクリレートとの反応によって得られる。２
−ヒドロキシエチルアクリレートの代ｐにアリルアルコ
ールを用いることによシアリル不飽和を導くことができ
る。２−ヒドロキシエチルアクリレートの代夛にヒドロ
キシブチルビニルエーテルを用いることによってビニル
不飽和を導くことができる。
従って、さらにアクリレート不飽和を例にあげ。
これが好ましいと述べたのであるが、他の放射線硬化性
のモノエチレン状不飽和モノマーもメタクリル不飽和に
ついて前述したような方法で代用することが可能である
。これらの他のタイプの不飽和に対してはさらに強力な
放射Ｉｉｓがもちろん必要なことは周知の通９であシ、
その種の他の放射線の代表的なものは電子ビーム放射線
である。
のモノエチレン状不飽和モノマーもメタクリル不飽和に
ついて前述したような方法で代用することが可能である
。これらの他のタイプの不飽和に対してはさらに強力な
放射Ｉｉｓがもちろん必要なことは周知の通９であシ、
その種の他の放射線の代表的なものは電子ビーム放射線
である。
硬化に有効な放射線は、使用される光開始剤によって変
わる。適当な光開始剤を用いれば可視光線を用いること
もできる。そのような光開始剤の例として、トリエチル
アミンのごとき第三アミンと一緒に用いられるカンファ
ーキノン及びクマリンがあげられる。ジフェニルベンゾ
イルホスフィンオキシドは紫外及び近紫外範囲において
有効である。
わる。適当な光開始剤を用いれば可視光線を用いること
もできる。そのような光開始剤の例として、トリエチル
アミンのごとき第三アミンと一緒に用いられるカンファ
ーキノン及びクマリンがあげられる。ジフェニルベンゾ
イルホスフィンオキシドは紫外及び近紫外範囲において
有効である。
紫外線を用いる場合には１通常ケトン系の光開始剤５例
えば約３％のジェトキシアセトフェノンのごとき光開始
剤を組成物に含ませるのが望ましい。他の光開始剤、例
えばアセトフェノン、ベンゾフェノン、ｍ−クロロアセ
トフェノン、プロビオフエノン、チオキサントン、ベン
ゾイン、ベンジル、アントラキノン等も公知である。光
開始剤は単体で用いてもよいし、又は混合物として用い
てもよく、そして使用量は組成物の約１０％まで（通常
１〜５％）である。種々のアミン、例えばジエチルアミ
ンも添加可能であるが、大抵の場合必要でない。
えば約３％のジェトキシアセトフェノンのごとき光開始
剤を組成物に含ませるのが望ましい。他の光開始剤、例
えばアセトフェノン、ベンゾフェノン、ｍ−クロロアセ
トフェノン、プロビオフエノン、チオキサントン、ベン
ゾイン、ベンジル、アントラキノン等も公知である。光
開始剤は単体で用いてもよいし、又は混合物として用い
てもよく、そして使用量は組成物の約１０％まで（通常
１〜５％）である。種々のアミン、例えばジエチルアミ
ンも添加可能であるが、大抵の場合必要でない。
本発明の組成物は、新たに延伸された光フアイバー上に
塗布され、次にそれを適描な放射線、好ましくは紫外線
にさらすことによって硬化させる。
塗布され、次にそれを適描な放射線、好ましくは紫外線
にさらすことによって硬化させる。
ポリシロキサンポリカルビノールを大量に含む結果とし
て、ポリシロキサンを含ませる前の物理的特性と殆ど同
じ特性を示すに到るまで被覆の硬化が継続すること、被
覆がガラスに対する付着を保つこと、及び被覆されたフ
ァイバーの末端に近い所で被覆に切口を付け、ファイバ
ーの末端から単に被覆を引っ張るのみでガラスから被覆
がきわめて容易に剥ぎとられることが見いだされた。
て、ポリシロキサンを含ませる前の物理的特性と殆ど同
じ特性を示すに到るまで被覆の硬化が継続すること、被
覆がガラスに対する付着を保つこと、及び被覆されたフ
ァイバーの末端に近い所で被覆に切口を付け、ファイバ
ーの末端から単に被覆を引っ張るのみでガラスから被覆
がきわめて容易に剥ぎとられることが見いだされた。
次表に示す成分を単に混合するのみで配合された一連の
被覆組成物を例にとって本発明を説明することにする。
被覆組成物を例にとって本発明を説明することにする。
約５５℃に混合物を１時間加温してすべての成分を溶解
させる。
させる。
第 １ 表
成分 例１ 例２ 例６
１ ７１．０ ５５．０ ５５．７２ １０．
１ −− −− ３ ７．０ −− −− ４ ２．６ ２．１ ２．６５ ０．０１
０．０１ ０．０１６ ０．９ ０．６
１．７７ ０．１ −− ＝ ８ ０．２−一−− ９５，０５，０１０，０ １０１，５−−、−一 １１ １．０ −− −一１２
１２．７ ８．６１３ −− ２４．５
２１．４上記の表中、成分１はジアクリレートウレタン
である。例１におけるジアクリレートウレタンは。
１ −− −− ３ ７．０ −− −− ４ ２．６ ２．１ ２．６５ ０．０１
０．０１ ０．０１６ ０．９ ０．６
１．７７ ０．１ −− ＝ ８ ０．２−一−− ９５，０５，０１０，０ １０１，５−−、−一 １１ １．０ −− −一１２
１２．７ ８．６１３ −− ２４．５
２１．４上記の表中、成分１はジアクリレートウレタン
である。例１におけるジアクリレートウレタンは。
テトラヒドロフランの重合により分子量６００〜８００
のポリエーテルジオールとなしたポリテトラメチレング
リコールとトルエンジイソシアネー）（２，４−異性体
８０％と２，６−異性体２０％）との混合物の付加反応
によって得られたジイソシアネート末端停止ポリウレタ
ン１モルと２−ヒドロキシエチルアクリレート２モルと
の付加反応生成物である。このジイソシアネートをアク
リル化して形成されるポリウレタンは、約１９００の分
子量を有し、１分子当シ平均５〜６個のウレタン基を含
む。デュポン社（ｄｕ Ｐｏｎｔ ）の製品であるアジ
プレン（Ａｄｉｐｒｅｎｅ） Ｌ −２００を用いるこ
とができる。例２におけるジアクリレートウレタンは、
１７．８％のトルエンシイクシアネート。
のポリエーテルジオールとなしたポリテトラメチレング
リコールとトルエンジイソシアネー）（２，４−異性体
８０％と２，６−異性体２０％）との混合物の付加反応
によって得られたジイソシアネート末端停止ポリウレタ
ン１モルと２−ヒドロキシエチルアクリレート２モルと
の付加反応生成物である。このジイソシアネートをアク
リル化して形成されるポリウレタンは、約１９００の分
子量を有し、１分子当シ平均５〜６個のウレタン基を含
む。デュポン社（ｄｕ Ｐｏｎｔ ）の製品であるアジ
プレン（Ａｄｉｐｒｅｎｅ） Ｌ −２００を用いるこ
とができる。例２におけるジアクリレートウレタンは、
１７．８％のトルエンシイクシアネート。
６％の２−ヒドロキシエチルアクリレート、０．１％の
ジプチル錫ジラウレート、７６％のポリオキシプロピレ
ングリコール（分子量＝１０２５）及び０．０１％のフ
ェノチアジンの反応生成物である。
ジプチル錫ジラウレート、７６％のポリオキシプロピレ
ングリコール（分子量＝１０２５）及び０．０１％のフ
ェノチアジンの反応生成物である。
例６におけるジアクリレートウレタンは、テトラヒドロ
フランの重合によって８００〜１２００の分子量を有す
るポリエーテルジオールとなしたポリテトラメチレング
リコールとトルエンジインシアネート（２，４−異性体
８０％と２．６−異性体２０％）との混合物の付加反応
によって得られたジイソシアネート末端停止ポリウレタ
ン１モルと２−ヒドロキシエチルアクリレート２モルと
の付加反応生成物である。このジイソシアネートをアク
リレート化して形成されるポリウレタンは、約２５００
の分子量及び６．３％のインシアネート官能基を有する
。デュポン社の製品アジプレンＬ−１６７を用いること
ができる。上記の付加物７５部と６．５部の２−ヒドロ
キシエチルアクリレート、ｏ、ｉ部のジプチル錫ジラウ
レート及び１７．６部の分子量６５０のポリテトラメチ
レングリコール〔デュポン社の製品テラコール（Ｔｅｒ
ａｃｏｌ ）６５０を用いることができる〕とを混合す
る。
フランの重合によって８００〜１２００の分子量を有す
るポリエーテルジオールとなしたポリテトラメチレング
リコールとトルエンジインシアネート（２，４−異性体
８０％と２．６−異性体２０％）との混合物の付加反応
によって得られたジイソシアネート末端停止ポリウレタ
ン１モルと２−ヒドロキシエチルアクリレート２モルと
の付加反応生成物である。このジイソシアネートをアク
リレート化して形成されるポリウレタンは、約２５００
の分子量及び６．３％のインシアネート官能基を有する
。デュポン社の製品アジプレンＬ−１６７を用いること
ができる。上記の付加物７５部と６．５部の２−ヒドロ
キシエチルアクリレート、ｏ、ｉ部のジプチル錫ジラウ
レート及び１７．６部の分子量６５０のポリテトラメチ
レングリコール〔デュポン社の製品テラコール（Ｔｅｒ
ａｃｏｌ ）６５０を用いることができる〕とを混合す
る。
成分２はトリメチロイルプロパントリアクリレートであ
る。
る。
成分６は２−エチルへキシルアクリレートである。
成分４は光開始剤のベンゾフェノンである。
成分５はフェノチアジンである。
成分６はジエチルアミンである。
成分７はジメチルポリシロキサンポリカルビノールグラ
フトポリマーである。ダウ拳コーニング社の製品ＤＣ−
５７を用いることができる。
フトポリマーである。ダウ拳コーニング社の製品ＤＣ−
５７を用いることができる。
成分８はジメチルポリシロキサンポリカルビノールグラ
フトポリマーである。ダウ・コーニング社の製品ＤＣ−
１９０を用いることができる。
フトポリマーである。ダウ・コーニング社の製品ＤＣ−
１９０を用いることができる。
成分９は前記のごときジメチルポリシロキサンポリカル
ビノールグラフトポリマーである。ダウ・コーニング社
の製品ＤＣ−１９０を用いることができる。
ビノールグラフトポリマーである。ダウ・コーニング社
の製品ＤＣ−１９０を用いることができる。
成分１０は高分子量のエステルワックスである。
アクセル社（Ａｘｅｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ ）の
モルト・ウィズ（Ｍｏ１ｄ Ｗｉｚ ） ＩＮＴ −Ｅ
Ｑ −６／ １０を用いることができる。
モルト・ウィズ（Ｍｏ１ｄ Ｗｉｚ ） ＩＮＴ −Ｅ
Ｑ −６／ １０を用いることができる。
成分１１は光開始剤として作用するベンジルジメチルケ
タールである。チバ・ガイギー社（’Ｏｉｈａ−Ｇｅｉ
ｇｙ ）のイルガキュアー（Ｉｒｇａｃｕｒｅ ） ６
５１を成分１１として用いることができる。
タールである。チバ・ガイギー社（’Ｏｉｈａ−Ｇｅｉ
ｇｙ ）のイルガキュアー（Ｉｒｇａｃｕｒｅ ） ６
５１を成分１１として用いることができる。
成分１２はＮ−ビニルピロリドンである。
成分１３ｉｔ、フェノキシエチルアクリレートである。
新たに延伸されたガラスファイバーに第１表に記載の塗
料を１２５μの厚さくファイバーの直径は約１２５μで
あった）に塗布した後、毎秒１．５ｍの速度で２個の直
列に配置された中圧水銀蒸気ランプ（，３００ワツト）
を通して湿潤被覆ファイバーを送りこみ、下記の結果を
得た。
料を１２５μの厚さくファイバーの直径は約１２５μで
あった）に塗布した後、毎秒１．５ｍの速度で２個の直
列に配置された中圧水銀蒸気ランプ（，３００ワツト）
を通して湿潤被覆ファイバーを送りこみ、下記の結果を
得た。
第２表
引張９強さくｐｓｉ） １．０００ ２
５０ ２００伸び％ ４
０ ２１０ １００２．５％の伸び率におけるモジ
４．０００ ３５０ ３００ユラス（ｐｓｉ） 破壊強さくポンド／立方インチ） ５００ ２
００ ４００シヨア−Ａ硬度 ６
８ ４４ ３５硬化ず与の被覆ガラスファイバ
ー上の被覆をファイバーの末端近くで切ると、被覆をフ
ァイバー末端から容易に剥がすことができ、ガラス表面
における表面損傷（ｍａｒｒｉｎｇ ）は最低限度に抑
えられる。表面損傷はガラスを摩耗させ、そして光線の
ファイバー内透過を妨げる。
５０ ２００伸び％ ４
０ ２１０ １００２．５％の伸び率におけるモジ
４．０００ ３５０ ３００ユラス（ｐｓｉ） 破壊強さくポンド／立方インチ） ５００ ２
００ ４００シヨア−Ａ硬度 ６
８ ４４ ３５硬化ず与の被覆ガラスファイバ
ー上の被覆をファイバーの末端近くで切ると、被覆をフ
ァイバー末端から容易に剥がすことができ、ガラス表面
における表面損傷（ｍａｒｒｉｎｇ ）は最低限度に抑
えられる。表面損傷はガラスを摩耗させ、そして光線の
ファイバー内透過を妨げる。
第２表に示す性能は、光７アイパー上の被覆を用いず、
厚さ６ミルの流延フィルムを用いて得たものである。そ
の理由は、この方が測定を行うのにいちだんと実際的で
あることによる。
厚さ６ミルの流延フィルムを用いて得たものである。そ
の理由は、この方が測定を行うのにいちだんと実際的で
あることによる。
代理人 浅 村 皓
Claims (1)
- （１）放射線で硬化した後、ガラス表面上に好ましくは
１５＋０００ ｐｓ１未満の低モジュラスを有する付着
性の硬化被覆を設けるのに適した放射線硬化性の液体被
覆組成物であって、放射線硬化性のポリエチレン系有機
−化合物と、該＊ａ組成物の約２〜約２０％に当る有機
ポリシロキサンとを含み。 該ポリシロキサンが炭素−珪素結合によってポリシロキ
サン鎖内の若干の珪素原子に結合した複数個のヒドロキ
シ末端停止基を有し、そして該ポリシロキサンが望まし
くは、最高１５個までのエーテル基を含むポリエーテル
によってもたらされる２〜６個のカルビノール基を有す
ること、及びカルビノール基を除いてメチル基で置換さ
れていることが好ましく、シかもこのポリシロキサンが
ガラス表面に対する放射線硬化被覆の付着力を低減させ
る機能を有するものであることを特徴とする前記組成物
。 （２、特許請求の範囲（１）の組成物からなる放射線硬
化ずみ被覆組成物で被覆された光ファイバー。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/447,181 US4472021A (en) | 1982-12-10 | 1982-12-10 | Strippable radiation-cured coatings for optical fiber and method |
| US447181 | 1989-12-07 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59156942A true JPS59156942A (ja) | 1984-09-06 |
Family
ID=23775320
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58232636A Pending JPS59156942A (ja) | 1982-12-10 | 1983-12-09 | 光フアイバ−用の可剥性被覆組成物 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4472021A (ja) |
| EP (1) | EP0116140B1 (ja) |
| JP (1) | JPS59156942A (ja) |
| CA (1) | CA1208837A (ja) |
| DE (1) | DE3372960D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01152405A (ja) * | 1987-12-09 | 1989-06-14 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光フアイバテープ心線 |
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1982
- 1982-12-10 US US06/447,181 patent/US4472021A/en not_active Expired - Fee Related
-
1983
- 1983-10-17 CA CA000439132A patent/CA1208837A/en not_active Expired
- 1983-12-03 DE DE8383112165T patent/DE3372960D1/de not_active Expired
- 1983-12-03 EP EP19830112165 patent/EP0116140B1/en not_active Expired
- 1983-12-09 JP JP58232636A patent/JPS59156942A/ja active Pending
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