JPS59151107A - 光導波路 - Google Patents
光導波路Info
- Publication number
- JPS59151107A JPS59151107A JP1612683A JP1612683A JPS59151107A JP S59151107 A JPS59151107 A JP S59151107A JP 1612683 A JP1612683 A JP 1612683A JP 1612683 A JP1612683 A JP 1612683A JP S59151107 A JPS59151107 A JP S59151107A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical waveguide
- refractive index
- polymer compound
- substrate
- optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
- G02B6/138—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by using polymerisation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
この発明は光Ｍｉｉ波路ｌ二係り、安「Ｃ二元づ゛Ｊ波
路層の月料を改良した光導波路に関する。
路層の月料を改良した光導波路に関する。
ｉｌｒ米高米子分子化合物いた光導波路は、第１１文１
のようイエ基板１１１二石英ガラス、パイレックスガラ
ス等の光学ガラスを用い、光導波路層１２１ニシリコー
ン樹脂、ポリメタアクリル酸メチル等のｊ［｛１分子化
台物を用いていた。このような光導波路を分波器、偏光
器等に用いる場合、Ｗρヅ路層の実効屈折率の変動、損
失の変化は、大きなＩＢ）題となる。
のようイエ基板１１１二石英ガラス、パイレックスガラ
ス等の光学ガラスを用い、光導波路層１２１ニシリコー
ン樹脂、ポリメタアクリル酸メチル等のｊ［｛１分子化
台物を用いていた。このような光導波路を分波器、偏光
器等に用いる場合、Ｗρヅ路層の実効屈折率の変動、損
失の変化は、大きなＩＢ）題となる。
すなわち設計段階で決定した睨訳：路層の実効Ｊｌｌ］
折率が変化することｊ二より、装置としての役目をなさ
なくなるためである。特ｌ二高０分子化合物を用いる光
導波路層では屈折率の温度に対する変化率が基板である
ガラスの約±３ Ｘ １０ ’／’Ｃに対し、光群波路
層である高分子が変化率で約−Ｉ Ｘ １０−ン′Ｃと
２桁も値１なるため、第２図のようｌ二、屈折率差が、
大きく温度Ｉ：影響する。この屈折率差が変動テると、
基板又は光群波路層が同一の割合で屈折率が変化したと
きｌ二比べ実効ｊ出折率等の伝搬定数変化に及ぼす影響
は敬十倍となって現われ、分波器、偏光器等としてこの
光導波路は使用できなくなる。
折率が変化することｊ二より、装置としての役目をなさ
なくなるためである。特ｌ二高０分子化合物を用いる光
導波路層では屈折率の温度に対する変化率が基板である
ガラスの約±３ Ｘ １０ ’／’Ｃに対し、光群波路
層である高分子が変化率で約−Ｉ Ｘ １０−ン′Ｃと
２桁も値１なるため、第２図のようｌ二、屈折率差が、
大きく温度Ｉ：影響する。この屈折率差が変動テると、
基板又は光群波路層が同一の割合で屈折率が変化したと
きｌ二比べ実効ｊ出折率等の伝搬定数変化に及ぼす影響
は敬十倍となって現われ、分波器、偏光器等としてこの
光導波路は使用できなくなる。
さらｊ二、膨張係数が基板と光導波路層とでは約１ ｘ
ｔｏ″／℃に対し約５ Ｘ’ １０−’／ ℃ト異な
ッテいるため、濡ｉ変化で、光導波路層ｌ二応力かがか
り、複屈折等の光学的歪みが発生し易く、損失増加の原
因となり易かった。
ｔｏ″／℃に対し約５ Ｘ’ １０−’／ ℃ト異な
ッテいるため、濡ｉ変化で、光導波路層ｌ二応力かがか
り、複屈折等の光学的歪みが発生し易く、損失増加の原
因となり易かった。
〔発明の目的〕
この発明は上述した温度ｌ二対する影響を改良したもの
で、伝搬定数や光１月失の変化を軽減する光導波路を提
供することを目的とする。
で、伝搬定数や光１月失の変化を軽減する光導波路を提
供することを目的とする。
本発明は光導波路ｌ重用いる高分子化合物より、屈折率
の低い熱ｏＪ塑性樹脂或いは熱硬化性樹脂等の高分子化
合物を基板とするが、光導波路層に対する基板の／ＭＩ
ＪｔＭ＝よる屈折率変化の比が少なくとも２から０５の
間Ｃ二あり、膨張係数の導波路と基板の比が２から０５
であるようなものを用いる。
の低い熱ｏＪ塑性樹脂或いは熱硬化性樹脂等の高分子化
合物を基板とするが、光導波路層に対する基板の／ＭＩ
ＪｔＭ＝よる屈折率変化の比が少なくとも２から０５の
間Ｃ二あり、膨張係数の導波路と基板の比が２から０５
であるようなものを用いる。
このような基板と光導波路層の組合せをとることｌ二よ
り、通常使用温度範囲で、屈折率の差の変化が１０ ’
台以下となり、伝搬定数ｌ二及ぼす影響を無視すること
ができる。又、膨張による応力は１／１０以下となるた
め、複屈折等の光学的歪みの発生を抑制でき損失の増加
を無視することができる。
り、通常使用温度範囲で、屈折率の差の変化が１０ ’
台以下となり、伝搬定数ｌ二及ぼす影響を無視すること
ができる。又、膨張による応力は１／１０以下となるた
め、複屈折等の光学的歪みの発生を抑制でき損失の増加
を無視することができる。
本発明ｌ二よれば、基板或いは光導波路層の高分子化合
物が熱によって変形又は変性する温順下では、従来のガ
ラス基板を用いるのｇ二比べて伝鉛定砂の変化、損失の
増加を無視できる範囲Ｃ二抑制することが可能である。
物が熱によって変形又は変性する温順下では、従来のガ
ラス基板を用いるのｇ二比べて伝鉛定砂の変化、損失の
増加を無視できる範囲Ｃ二抑制することが可能である。
また、光勾岐路が半棉体のように小型化できないことを
考えると、従沫のガラス基板のもの１＝比べて、重用を
半分以下ｌ二することができる。さらｌ二、ガラス基板
では、研ｉｄを必要とし、又任意の形状に加工すること
が内鍵であったが、高分子化合物基板の場合、形状加工
は非常に容易であり、基板作製時の型の表面積度が充分
であＪｔば研犀の必要がなく非常Ｉ′−低価ｔｆ５で光
導波路が得ら才’Ｌるものである。
考えると、従沫のガラス基板のもの１＝比べて、重用を
半分以下ｌ二することができる。さらｌ二、ガラス基板
では、研ｉｄを必要とし、又任意の形状に加工すること
が内鍵であったが、高分子化合物基板の場合、形状加工
は非常に容易であり、基板作製時の型の表面積度が充分
であＪｔば研犀の必要がなく非常Ｉ′−低価ｔｆ５で光
導波路が得ら才’Ｌるものである。
本発明の一実ハ２例を第３図を参照して説明する。
この実施例において、基板２１として、プラスチックレ
ンズ材料として知られる屈折率１４９のポリメタクリル
酸メチルを用い、光線波路１色１２２として力１（折率
１５０のエポキシ樹脂を用い７ともので、このエポキシ
Ｊｉ４１脂２２はスピンコード或いはディプｙｉ；＋：
より塗布し、熱硬化ｌ二より硬化させたものである。
ンズ材料として知られる屈折率１４９のポリメタクリル
酸メチルを用い、光線波路１色１２２として力１（折率
１５０のエポキシ樹脂を用い７ともので、このエポキシ
Ｊｉ４１脂２２はスピンコード或いはディプｙｉ；＋：
より塗布し、熱硬化ｌ二より硬化させたものである。
本実施例では、屈折率差がｏｏｌであるため、光ｉ；１
波路の膜厚をｌンングルモードとしても約２μｍ近いも
のでも良いことｔ二なり、光損失は非常に低損失となる
。又、膨４Ｎ係数もポリメタクリル酊メチルからなる基
板２１が６×ｌＯ」７℃、エポギｉ／／樹脂からなる光
群波路層２２が３ ｘ １ｏ ／”（：と近い値であ
り、屈折率変化は共に−ｔｘｔｏ″／℃であるためｌ二
温度で１００℃近くまで艶牲が安定していた。
波路の膜厚をｌンングルモードとしても約２μｍ近いも
のでも良いことｔ二なり、光損失は非常に低損失となる
。又、膨４Ｎ係数もポリメタクリル酊メチルからなる基
板２１が６×ｌＯ」７℃、エポギｉ／／樹脂からなる光
群波路層２２が３ ｘ １ｏ ／”（：と近い値であ
り、屈折率変化は共に−ｔｘｔｏ″／℃であるためｌ二
温度で１００℃近くまで艶牲が安定していた。
次ｌ二本発明の他の実施例を説明する。
（１） 基板２１をポリメタアクリル酸メチルで作製
した後、光導波路層２２１ニメタアクリル酸メチルとメ
タアクリル「俊グリシジル或いは、スチレンを混合した
ものを用いて、紫外線Ｃ二より重含させる。本方法Ｃ：
よれば、比屈折率差Δ−１，２２％のものが作製できる
。
した後、光導波路層２２１ニメタアクリル酸メチルとメ
タアクリル「俊グリシジル或いは、スチレンを混合した
ものを用いて、紫外線Ｃ二より重含させる。本方法Ｃ：
よれば、比屈折率差Δ−１，２２％のものが作製できる
。
本実施例では、基板２１、光導波路１＋１ｉ ２２の主
成分が同一なため、膨張保！２が６メ１０’／’Ｃで一
致させることが可能で、湿度変化による沿ざ＾生を０と
することができる。
成分が同一なため、膨張保！２が６メ１０’／’Ｃで一
致させることが可能で、湿度変化による沿ざ＾生を０と
することができる。
（２） 基板２１＋−アリルジグリコールカーボイ、
−トを用いて、光導波路層２２としてビニルトリメチル
シランを用いて、プラズマ重合性ｊ二より光咎伎路４・
作る。この実施例では、温度で１２０℃まで４１）用Ｅ
Ｊ能であり、ビニルトリメチルシランとへギサメチルジ
シロキサンとを混合させることにより光′）！！波路層
２２の屈折率を組成比で制御することがηＪ能である。
−トを用いて、光導波路層２２としてビニルトリメチル
シランを用いて、プラズマ重合性ｊ二より光咎伎路４・
作る。この実施例では、温度で１２０℃まで４１）用Ｅ
Ｊ能であり、ビニルトリメチルシランとへギサメチルジ
シロキサンとを混合させることにより光′）！！波路層
２２の屈折率を組成比で制御することがηＪ能である。
第１図は光♂ｆＩ閥路層として高分子化合物を用いたイ
ｌｆ米の光づメ波路の１１１Ｔ面図、第２図は基板をガ
ラスとし屈折率差０．０２（２０℃）のときの７昌度ｌ
二よる屈折率差の変化を示ｆは１、第３図は基板に４％
分子−化合物を用いた本発明の光４波路のＩＩＪＴ ｉ
）ｊ、ｉ図であ２）、。 ２１：商分子化合物＆板、２２：高分子化合物光４−Ｉ
！、゛！ｌ！各 バー） 。 代理人 弁理士 ｔｉｌｌ 近 恵 佑（ばか１名） 第１図 第２図 第３図 ２９−
ｌｆ米の光づメ波路の１１１Ｔ面図、第２図は基板をガ
ラスとし屈折率差０．０２（２０℃）のときの７昌度ｌ
二よる屈折率差の変化を示ｆは１、第３図は基板に４％
分子−化合物を用いた本発明の光４波路のＩＩＪＴ ｉ
）ｊ、ｉ図であ２）、。 ２１：商分子化合物＆板、２２：高分子化合物光４−Ｉ
！、゛！ｌ！各 バー） 。 代理人 弁理士 ｔｉｌｌ 近 恵 佑（ばか１名） 第１図 第２図 第３図 ２９−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１） 基板上の光ゼ１波器層が有機化合物又は高分
子化合物で構成された光桿波路Ｃ二おいて、前記基板を
高分子化合物で構成したことを特徴とする光導波路。 （２） 基板を構成する高分子化合物がアクリル、ポ
リカーボネート、ポリスチレンからなる熱可塑性樹脂又
はエポキシ、シリコーンからなる熱硬化性樹脂である牛
、’ｒｆｌ−ｉｉ＋ｊ求の範囲第１項記載の光導波路。 に（） 基板である高分子化合物と光棉波路ｊビ１で
ある高分子化合物の主成分を同一とし、混８する成分を
変化或いは、組成比を変えることにより光埠波層とした
ことを特徴とする請求 項記載の光導波路。 （４） 光４波層である高分子化合物が熱、圧力ｌ二よ
り硬化させることにより形成されたことを特徴とする特
ｒＦ請求の範囲第１項記載の光導波路。 （５）光導波路層である高分子化合物が紫外線、用視光
、赤外線、電子線、Ｘ線、プラズマにより重合或いは、
縮合させて硬化させることｌ二より形成されたことを特
徴とする特許請求の範囲第ｌ偵記載の光導波路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1612683A JPS59151107A (ja) | 1983-02-04 | 1983-02-04 | 光導波路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1612683A JPS59151107A (ja) | 1983-02-04 | 1983-02-04 | 光導波路 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59151107A true JPS59151107A (ja) | 1984-08-29 |
Family
ID=11907804
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1612683A Pending JPS59151107A (ja) | 1983-02-04 | 1983-02-04 | 光導波路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59151107A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS626202A (ja) * | 1985-03-11 | 1987-01-13 | Kuraray Co Ltd | 薄膜導波路及びその製法 |
| JPH0815537A (ja) * | 1990-03-16 | 1996-01-19 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | ポリマー状光学導波管及びこれを製造する方法 |
| JP2006058831A (ja) * | 2004-03-29 | 2006-03-02 | Jsr Corp | 光導波路用感光性樹脂組成物および光導波路 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55106407A (en) * | 1979-02-10 | 1980-08-15 | Canon Inc | Production of light guide path sheet |
| JPS5614482U (ja) * | 1979-07-13 | 1981-02-07 |
-
1983
- 1983-02-04 JP JP1612683A patent/JPS59151107A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55106407A (en) * | 1979-02-10 | 1980-08-15 | Canon Inc | Production of light guide path sheet |
| JPS5614482U (ja) * | 1979-07-13 | 1981-02-07 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS626202A (ja) * | 1985-03-11 | 1987-01-13 | Kuraray Co Ltd | 薄膜導波路及びその製法 |
| US4749245A (en) * | 1985-03-11 | 1988-06-07 | Kuraray Co., Ltd. | Thin film waveguide device and manufacturing method for making same |
| JPH0815537A (ja) * | 1990-03-16 | 1996-01-19 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | ポリマー状光学導波管及びこれを製造する方法 |
| JP2006058831A (ja) * | 2004-03-29 | 2006-03-02 | Jsr Corp | 光導波路用感光性樹脂組成物および光導波路 |
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