JPS59147239A - 蒸発量モニタ - Google Patents
蒸発量モニタInfo
- Publication number
- JPS59147239A JPS59147239A JP2241883A JP2241883A JPS59147239A JP S59147239 A JPS59147239 A JP S59147239A JP 2241883 A JP2241883 A JP 2241883A JP 2241883 A JP2241883 A JP 2241883A JP S59147239 A JPS59147239 A JP S59147239A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- substrate
- window
- light
- measured
- Prior art date
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- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/3103—Atomic absorption analysis
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は蒸発量モニタに関Ｊるものである。
貞空蒸着やスパッタリングにおいて、高分子フィルム等
の基体に付着する蒸着金属等の厚さを制御づ°ることは
、その蒸着フィルム等の各種特性を決めるうえで、非常
に重要な作業となっ°Ｃいる。
の基体に付着する蒸着金属等の厚さを制御づ°ることは
、その蒸着フィルム等の各種特性を決めるうえで、非常
に重要な作業となっ°Ｃいる。
そのために従来は、例えば原子吸光式モニタを用いてい
るが、袖体が帯状物等の場合は、基体の全幅方向に亘る
蒸発物質全体の吸光度を測定するかまたは光路の一部に
蒸発物質を流入させるような方式が用いられていた。そ
れ故、前者の場合には蒸発物質の幅方向の平均値であり
、後者の場合には幅方向の一部の値であり、いずれも−
１幅方向の各部の蒸発物質の量を測定することができな
い欠点があった。
るが、袖体が帯状物等の場合は、基体の全幅方向に亘る
蒸発物質全体の吸光度を測定するかまたは光路の一部に
蒸発物質を流入させるような方式が用いられていた。そ
れ故、前者の場合には蒸発物質の幅方向の平均値であり
、後者の場合には幅方向の一部の値であり、いずれも−
１幅方向の各部の蒸発物質の量を測定することができな
い欠点があった。
本発明は、以上の欠点を改良し、基体の任意の箇所の蒸
発量を測定しうる蒸発量モニタの提供を目的とづるちの
である。
発量を測定しうる蒸発量モニタの提供を目的とづるちの
である。
本発明は、上記の目的を達成乃るために、原子吸光式の
蒸発量モニタにＪ５いて、発光部と受光部との間に、蒸
気が入射しかつ移動可能な窓を有する筒を設けることを
特徴とする蒸発量モニタを提供するものＣある。
蒸発量モニタにＪ５いて、発光部と受光部との間に、蒸
気が入射しかつ移動可能な窓を有する筒を設けることを
特徴とする蒸発量モニタを提供するものＣある。
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明づる。
図において、１は、高分子フィルム等の帯状の基体であ
り、キャン２の表面を走行している。３は、ルツボ笠の
蒸発源であり、アルミや亜鉛、コバル１−、ニッケル等
の金属４が収容されている。
り、キャン２の表面を走行している。３は、ルツボ笠の
蒸発源であり、アルミや亜鉛、コバル１−、ニッケル等
の金属４が収容されている。
５はホローカソードランプ等からなる発光部である。６
は光電子増倍管等からなる受光部であり、発光部５から
の光を受光するものである。７は、発光部５と受光部６
との間に配設された中空の円筒であり、下部の一部に真
直にスリット８が設りられており、このスリット８を遮
蔽するように円筒７の内側に遮蔽板９が設【プられてい
る。遮蔽板９はスリブ１へ８の箇所をスライドして移動
可能にイ５っていて、一部に窓１０が設【プられている
。
は光電子増倍管等からなる受光部であり、発光部５から
の光を受光するものである。７は、発光部５と受光部６
との間に配設された中空の円筒であり、下部の一部に真
直にスリット８が設りられており、このスリット８を遮
蔽するように円筒７の内側に遮蔽板９が設【プられてい
る。遮蔽板９はスリブ１へ８の箇所をスライドして移動
可能にイ５っていて、一部に窓１０が設【プられている
。
づ゛なわち、蒸発源３を抵抗加熱や高周波加熱し、収容
されている金属４を溶融し蒸発させる。蒸発した金属は
基体１に付着するが、一部は遮蔽板９の窓１０から円筒
７内に侵入するので、発光部５からの光の透過率がこの
金属蒸気によって減少し、透過光を受光部６で受光する
ことによって窓１０が位置する箇所の蒸着金属の付着速
度が測定できる。窓１０は移動可能であるから、基体１
のｒｌＪ方向の任意の位置の蒸着金属の付着速度を測定
でき、基体１のＩＩＪ方向の付着金属の厚みの分布を測
定することができる。
されている金属４を溶融し蒸発させる。蒸発した金属は
基体１に付着するが、一部は遮蔽板９の窓１０から円筒
７内に侵入するので、発光部５からの光の透過率がこの
金属蒸気によって減少し、透過光を受光部６で受光する
ことによって窓１０が位置する箇所の蒸着金属の付着速
度が測定できる。窓１０は移動可能であるから、基体１
のｒｌＪ方向の任意の位置の蒸着金属の付着速度を測定
でき、基体１のＩＩＪ方向の付着金属の厚みの分布を測
定することができる。
以上の通り、本発明によれば、帯状基体の巾方向の付着
金属の厚みの分布を測定できるので、蒸着フィルム等の
各種特性を容易にコントロールしつる蒸発量モニタが得
られる。
金属の厚みの分布を測定できるので、蒸着フィルム等の
各種特性を容易にコントロールしつる蒸発量モニタが得
られる。
図は本発明の実施例を配設した蒸着装置の内部の側面断
面図を示す。 ５・・・発光部、 ６・・・受光部、 ７・・・円筒、
８・・・スリット、 ９・・・遮蔽板、 １０・・・窓
。 特許出願人 日立コンデン勺株式会社
面図を示す。 ５・・・発光部、 ６・・・受光部、 ７・・・円筒、
８・・・スリット、 ９・・・遮蔽板、 １０・・・窓
。 特許出願人 日立コンデン勺株式会社
Claims (1)
- （１）原子吸光式の蒸発量モニタにおいて、発光部と受
光部との間に、蒸気が入射しかつ移動可能な窓をｈ！ｌ
る筒を設りることを特徴とする蒸発量モニタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2241883A JPS59147239A (ja) | 1983-02-14 | 1983-02-14 | 蒸発量モニタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2241883A JPS59147239A (ja) | 1983-02-14 | 1983-02-14 | 蒸発量モニタ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59147239A true JPS59147239A (ja) | 1984-08-23 |
| JPH0121456B2 JPH0121456B2 (ja) | 1989-04-21 |
Family
ID=12082116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2241883A Granted JPS59147239A (ja) | 1983-02-14 | 1983-02-14 | 蒸発量モニタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59147239A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6060109A (en) * | 1996-03-27 | 2000-05-09 | Nisshin Steel Co., Ltd. | Atomic absorption analysis for measuring and controlling the amount of a metal vapor in vapor deposition coating line and apparatus therefor |
-
1983
- 1983-02-14 JP JP2241883A patent/JPS59147239A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6060109A (en) * | 1996-03-27 | 2000-05-09 | Nisshin Steel Co., Ltd. | Atomic absorption analysis for measuring and controlling the amount of a metal vapor in vapor deposition coating line and apparatus therefor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0121456B2 (ja) | 1989-04-21 |
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