JPS5914471B2 - 2−ハイドロキシ−2.6.6−トリメチル−3−シクロヘキセニルアセティックアシッドラクトンの製法 - Google Patents

2−ハイドロキシ−2.6.6−トリメチル−3−シクロヘキセニルアセティックアシッドラクトンの製法

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JPS5914471B2
JPS5914471B2 JP10317780A JP10317780A JPS5914471B2 JP S5914471 B2 JPS5914471 B2 JP S5914471B2 JP 10317780 A JP10317780 A JP 10317780A JP 10317780 A JP10317780 A JP 10317780A JP S5914471 B2 JPS5914471 B2 JP S5914471B2
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JP
Japan
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trimethyl
acid
oxyacid
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hydroxy
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JP10317780A
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才三 柴田
真 柴垣
肇 松下
邦雄 加藤
肇 金子
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Japan Tobacco Inc
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Japan Tobacco and Salt Public Corp
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は構造式(I)で示される2−ハイドロキシー2
|6|6−トリメチルー3−シクロヘキセニルアセテイ
ツクアシツドラクトンの製造法に関する。
5□O(I) 上記の構造式(I)で表わされる2−ハイドロキシー2
|6|6−トリメチルー3−シクロヘキセニルアセテイ
ツクアシツドラクトン(以下「本化合10物」という。
)は既にバーレー葉たばこ中より単離同定され〔ロバー
ツ(D、Robeにをs)等、タバコサイエンス(To
baccoScience)第16巻、107頁(19
72年)〕、かつたばこの香喫味改良に効果を示す事が
知られている化合物である。15従来、本化合物の合成
法としては、β−シクロシトラールをシアンヒドリン法
を用いて炭素鎖をのばしその後数工程を経て合成する方
法〔デモール(E、Demole)等、ヘルベチカシミ
カアクタ(HelveticaChimicaActa
)第51巻、ク0481頁(1968年)〕が知られて
いるが、この方法においては高価なβ−シクロシトラー
ルを原料とするため経済的に不利であつた。
又反応試薬として有毒なシアン化ナトリウムを用いる必
要があるほ力ゝオキシ塩化リン−ピリジン系による■5
脱水工程などを含むため環境汚染防止対策上その設備お
よび操作面に大きな難点があつた。本発明者らは上記従
来法の欠点を克服し本化合物を効率よく製造する方法を
開発するため、鋭意研究を重ねた結果、安価なイソボロ
ンより容易に30合成しうる4−オキソー2、6、6−
トリメチルー2−シクロヘキセンー1−アセテイツクア
シツドの4位のカルボニル基を還元してオキシ酸とし、
このオキシ酸を酸で処理すると容易に環化脱水して本化
合物を生成することを見い出し、本発明を35なすに至
つた。
すなわち、本発明は4−オキソー2、6、6ートリメチ
ルー2−シクロヘキセンー1−アセテイツクアシツドを
還元してそのオキシ酸とした後、該オキシ酸を酸触媒を
用いて脱水環化し本化合物を製造することを要旨とする
次に本発明を以下に示す製造工程にもとづき詳細に説明
する。
なお、化合物の呼称については、主骨格構造部分を省略
し官能基部分のみを簡略化して記載することがある。本
発明の出発物質としての4−オキソ一2,6,6−トリ
メチル−2−シクロヘキセン−1−アセテイツクアシツ
ド()は公知物質、〔ワダ(T.Wada)、ケミカル
アンド フアーマシユチカル ブリチン(Chemi
calandPharmaceuticalBulle
tin)第13巻、43頁(1965)〕であり、本文
献記載の方法によつて製造しうることが知られているが
、本発明者等は以下に述べる方法によつて合成した。
まず、イソボロン()を出発原料として既知の方法によ
りケタール(を合成する。すなわち、イソボロン()を
クロム酸で酸化してジケトン(NI)とし、これを亜鉛
で還元して飽和ジケトン(5)とし、ついでエチレング
リコールによりケタール化を行なつてケタール(7)を
合成する。一方、不活性ガス気流下2,4,4−トリメ
チル−2−オキサゾリンを、乾燥したエーテル、テトラ
ヒドロフランなどに溶解しO℃以下好ましくは−80ロ
C〜−30℃に冷劫する。
この混合液にn−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム
などの有機リチウムを1〜1.2当量加えO℃以下好ま
しくは−8『C〜−30℃で10分以上好ましくは30
分〜1時間攪拌する。この混合液に前述のケタールV)
(1〜1.5当量)をそのままもしくは乾燥したエーテ
ル、テトラヒドロフランなどで希釈して加え、生成した
ヒドロキシオキサゾリン(Vl)をエーテルなどで溶媒
抽出する。次いで、溶媒を減圧留去し得られた化合物(
Vl)を塩酸、硫酸などの鉱酸と加熱還流する。次いで
エーテルなどで溶媒抽出してケト酸()を得る。ケト酸
()はそのまま又は再結晶などにより精製した本発明の
出発物質とする。まず、ケト酸()のカルボニル基を次
に述べる方法により還元して水酸基に変換する。
すなわちたとえば水、メタノール、又はこれらの混合溶
媒にケト酸()を加え、さらに水素化ホウ素ナトリウム
を当量比で2当量以上好ましくは4〜50当量加える。
この反応混合物を5〜70℃、望ましくは20〜50℃
で5時間以上望ましくは5〜20時間攪拌する。その他
の還元方法としては、還元剤として水素化リチウムアル
ミニウムなどを使用することもできる。反応終了後、例
えば酢酸エチル、クロロホルムなどの有機溶剤を用いて
溶媒抽出し粗オキシ酸()を得る。この粗オキシ酸(V
ll)をそのままもしくは前記の有機溶媒に溶解した後
、鉱酸又は塩化第二スズなどのルイス酸を加え激しく攪
拌することによりオキシ酸(V]11)を脱水環化し本
化合物を得る。
本発明の方法は本化合物を安価なイソボロンを原料とし
て合成できるため従来法のβ−シクロシトラールを出発
原料とする方法よりもはるかに経済的に有利である。又
本発明における還元工程および脱水環化工程は緩和な条
件下に行なうことができ、かつ環境汚染の可能性も従来
法にくらべてはるかに小さいため操作および設備上従来
の方法と比較して明らかに有利である。実施例 1 アルゴン気流下2,4,4−トリメチル−2オキサゾリ
ン48.69を300m1の乾燥テトラヒドロフランに
溶解し−78℃に冷却した。
この混合液に1.3M(7)n−ブチルリチウムヘキサ
ン溶液388TfL1を15分間かけて滴下した後、−
78液Cで30分間攪拌し、これにイソボロン()を出
発原料として前述の公知方法を用いて合成したケタール
V)69.69を乾燥テトラヒドロフラン60m1に溶
解した混合液を15分間かけて加えた。この反応混合物
を室温に戻した後、水1.8!にそそぎ6N塩酸にてP
Hlとしでエーテルにて洗浄した。この水層を40%水
酸化ナトリウム水溶液にて中和した後、エーテル抽出し
、次いでエーテル層を乾燥後減圧濃縮してヒドロキシオ
キサゾリン(VDを含む残渣を得た。この残渣を6N塩
酸と加熱還流することにより加水分解した。生成したケ
ト酸()をエーテル抽出し再結晶により精製して16.
89(融点96〜98.5結C)の4−オキソ一2,6
,6−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−アセテイ
ツクアシツド(VI)を得た。このケト酸()129を
炭酸水素ナトリウム10.39を含む50%メタノール
水溶液に溶解した後水素化ホウ素ナトリウム23.29
を加え、6.5時間室温にて攪拌した。この反応混合液
を氷冷下2N塩酸にてPH2,Oとし、この酸性混合液
に2.51の水を加えた後エーテル抽出した。エーテル
層を水洗乾燥した後減圧濃縮して12gの粗オキシ酸(
)を得た。この粗オキシ酸39を200m1の酢酸エチ
ルに溶解し、0,5N塩酸100T!Llを加え1時間
はげしく攪拌した。有機層を水層と分離した後、水層を
さらに酢酸エチルで抽出し、有機層を合し、5Cfb素
酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後乾燥濃縮し残渣を
減圧蒸留して1.99の本化合物を得た〔収率 ケト酸
(VIl)に対し69重量%〕。得られた本化合物の物
理化学的データは以下のとおりであつて、本化合物の標
品と全く一致した。屈折率:N2Ol.4882D 質量分析スペクトル:(70e) m/e(%) 180(M+,12),93(100)
,41(96),165(92),69(65),39
(65)赤外線吸収スペクトル:(Cm−1) 1765,1652 核磁気共鳴スペクトル:(δ) 0.96(3H,S),1.05(3H,S),1.5
0(3H,S),1.8〜2.5(5H,m),5.7
0(2H,m)実施例 2 実施例1で示した方法により合成したケト酸(至)10
9を炭酸水素ナトリウム8.61を含む20%メタノー
ル水溶液に溶解した後、水素化ホウ素ナトリウム7.6
9を加え10時間40℃にて攪拌した。
この反応混合液を氷冷下2N塩酸にてPH2,Oとし、
この酸性混合液に11の水を加えた後エーテル抽出した
。有機層を水洗乾燥した後濃縮して10gの粗オキシ酸
()を得た。この粗オキシ酸49を100m1のクロロ
ホルムに溶解し、酸触媒として無水塩化第二スズ3m1
を加え2時間攪拌した。クロロホルム層を水洗後、さら
に50!)炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後乾燥
濃縮し残渣を減圧蒸留して2.49の本化合物を得た〔
収率ケト酸()に対し6.5重量%〕。得られた本化合
物の物理化学的データは実施例1と全く同様であり、本
化合物の標品と全く一致した。
実施例 3 乾燥テトラヒドロフラン150m1に還元剤として水素
化リチウムアルミニウム0.79を加えた後この混合液
に実施例1で示した方法により合成したケト酸()69
を50m1の乾燥テトラヒドロフランに溶解した液を滴
下した。
室温にて10時間攪拌した後、注意深く水10m1を加
えた。生成したスラリーをブフナーロートで3別し、さ
らにこのスラリーをテトラヒドロフランで洗浄した後、
3液と洗液を合して減圧濃縮した。残渣を酢酸エチルに
溶解し有機層を水洗乾燥後濃縮して粗オキシ酸()69
を得た。この粗オキシ酸39を100m1のクロロホル
ムに溶解し、1N硫酸50m1を加え2時間激しく撹拌
した。クロロホルム層を水層と分離した後水層をさらに
クロロホルムで抽出した。クロロホルム層を合し、5%
炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後乾燥濃縮し残査
を減圧蒸留して1.59の本化合物を得た〔収率 ケト
酸(有)に対し54%〕。得られた本化合物の物理化学
的データは実施例1と全く同様であり、本化合物の標品
と全く一致した。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 4−オキソ−2,6,6−トリメチル−2−シクロ
    ヘキセン−1−アセテイツクアシツドを還元してそのオ
    キシ酸とした後、該オキシ酸を酸触媒を用いて脱水環化
    させることを特徴とする2−ハイドロキシ−2,6,6
    −トリメチル−3−シクロヘキセニルアセテイツクアシ
    ツドラクトンの製法。
JP10317780A 1980-07-29 1980-07-29 2−ハイドロキシ−2.6.6−トリメチル−3−シクロヘキセニルアセティックアシッドラクトンの製法 Expired JPS5914471B2 (ja)

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