JPS59142547A - 溶解速度差現像液の像鮮明性増大剤 - Google Patents
溶解速度差現像液の像鮮明性増大剤Info
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- JPS59142547A JPS59142547A JP1591383A JP1591383A JPS59142547A JP S59142547 A JPS59142547 A JP S59142547A JP 1591383 A JP1591383 A JP 1591383A JP 1591383 A JP1591383 A JP 1591383A JP S59142547 A JPS59142547 A JP S59142547A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/325—Non-aqueous compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1591383A JPS59142547A (ja) | 1983-02-02 | 1983-02-02 | 溶解速度差現像液の像鮮明性増大剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1591383A JPS59142547A (ja) | 1983-02-02 | 1983-02-02 | 溶解速度差現像液の像鮮明性増大剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59142547A true JPS59142547A (ja) | 1984-08-15 |
| JPH0332783B2 JPH0332783B2 (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html) | 1991-05-14 |
Family
ID=11902015
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1591383A Granted JPS59142547A (ja) | 1983-02-02 | 1983-02-02 | 溶解速度差現像液の像鮮明性増大剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59142547A (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61179435A (ja) * | 1985-02-04 | 1986-08-12 | Mitsubishi Electric Corp | 微細パタ−ン形成方法 |
| JPS6211852A (ja) * | 1985-07-10 | 1987-01-20 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | パタ−ン形成方法 |
| US6372415B1 (en) | 1997-10-30 | 2002-04-16 | Kao Corporation | Resist developer |
| US6432621B1 (en) | 1999-01-07 | 2002-08-13 | Kao Corporation | Resist developer |
| JP2012150445A (ja) * | 2010-12-27 | 2012-08-09 | Hoya Corp | レジスト現像剤、レジストパターンの形成方法及びモールドの製造方法 |
| JP2012150446A (ja) * | 2010-12-27 | 2012-08-09 | Hoya Corp | レジスト現像剤、レジストパターンの形成方法及びモールドの製造方法 |
| JP2013257379A (ja) * | 2012-06-11 | 2013-12-26 | Az Electronic Materials Mfg Co Ltd | リソグラフィー用現像またはリンス液およびそれを用いたパターン形成方法 |
| WO2014178285A1 (ja) * | 2013-05-02 | 2014-11-06 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、電子デバイス及びその製造方法、現像液 |
| JP2024007318A (ja) * | 2022-07-05 | 2024-01-18 | 三星エスディアイ株式会社 | 金属含有フォトレジスト現像液組成物、およびこれを用いた現像工程を含むパターン形成方法 |
| JP2024169310A (ja) * | 2023-05-23 | 2024-12-05 | 三星エスディアイ株式会社 | パターン形成方法 |
| JP2025023846A (ja) * | 2023-08-04 | 2025-02-17 | 三星エスディアイ株式会社 | 金属含有レジストのエッジビード除去用組成物または金属含有レジストの現像液組成物、およびこれを利用したパターン形成方法 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5460002A (en) * | 1977-10-19 | 1979-05-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Developer for photosensitive lithographi printing plate |
| JPS54135004A (en) * | 1978-04-10 | 1979-10-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive flat printing plate |
| JPS5552054A (en) * | 1978-10-11 | 1980-04-16 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Developing solution composition |
| JPS55100548A (en) * | 1979-01-26 | 1980-07-31 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | Developer |
| JPS5876837A (ja) * | 1981-10-09 | 1983-05-10 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト | 露光感光性のネガで作用する複写層の現像液 |
| JPS58137836A (ja) * | 1982-02-10 | 1983-08-16 | Toshiba Corp | ゴム系レジストの処理剤 |
-
1983
- 1983-02-02 JP JP1591383A patent/JPS59142547A/ja active Granted
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5460002A (en) * | 1977-10-19 | 1979-05-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Developer for photosensitive lithographi printing plate |
| JPS54135004A (en) * | 1978-04-10 | 1979-10-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive flat printing plate |
| JPS5552054A (en) * | 1978-10-11 | 1980-04-16 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Developing solution composition |
| JPS55100548A (en) * | 1979-01-26 | 1980-07-31 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | Developer |
| JPS5876837A (ja) * | 1981-10-09 | 1983-05-10 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト | 露光感光性のネガで作用する複写層の現像液 |
| JPS58137836A (ja) * | 1982-02-10 | 1983-08-16 | Toshiba Corp | ゴム系レジストの処理剤 |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61179435A (ja) * | 1985-02-04 | 1986-08-12 | Mitsubishi Electric Corp | 微細パタ−ン形成方法 |
| JPS6211852A (ja) * | 1985-07-10 | 1987-01-20 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | パタ−ン形成方法 |
| US6372415B1 (en) | 1997-10-30 | 2002-04-16 | Kao Corporation | Resist developer |
| US6432621B1 (en) | 1999-01-07 | 2002-08-13 | Kao Corporation | Resist developer |
| JP2012150445A (ja) * | 2010-12-27 | 2012-08-09 | Hoya Corp | レジスト現像剤、レジストパターンの形成方法及びモールドの製造方法 |
| JP2012150446A (ja) * | 2010-12-27 | 2012-08-09 | Hoya Corp | レジスト現像剤、レジストパターンの形成方法及びモールドの製造方法 |
| JP2013257379A (ja) * | 2012-06-11 | 2013-12-26 | Az Electronic Materials Mfg Co Ltd | リソグラフィー用現像またはリンス液およびそれを用いたパターン形成方法 |
| WO2014178285A1 (ja) * | 2013-05-02 | 2014-11-06 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、電子デバイス及びその製造方法、現像液 |
| JP2014219487A (ja) * | 2013-05-02 | 2014-11-20 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、電子デバイス及びその製造方法、現像液 |
| JP2024007318A (ja) * | 2022-07-05 | 2024-01-18 | 三星エスディアイ株式会社 | 金属含有フォトレジスト現像液組成物、およびこれを用いた現像工程を含むパターン形成方法 |
| JP2024169310A (ja) * | 2023-05-23 | 2024-12-05 | 三星エスディアイ株式会社 | パターン形成方法 |
| JP2025023846A (ja) * | 2023-08-04 | 2025-02-17 | 三星エスディアイ株式会社 | 金属含有レジストのエッジビード除去用組成物または金属含有レジストの現像液組成物、およびこれを利用したパターン形成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0332783B2 (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html) | 1991-05-14 |
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