JPS5913798A - チロシン誘導体、それらの製造方法およびそれらを含有する医薬組成物 - Google Patents
チロシン誘導体、それらの製造方法およびそれらを含有する医薬組成物Info
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- JPS5913798A JPS5913798A JP58116819A JP11681983A JPS5913798A JP S5913798 A JPS5913798 A JP S5913798A JP 58116819 A JP58116819 A JP 58116819A JP 11681983 A JP11681983 A JP 11681983A JP S5913798 A JPS5913798 A JP S5913798A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
- C07H17/00—Compounds containing heterocyclic radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
- C07H17/04—Heterocyclic radicals containing only oxygen as ring hetero atoms
- C07H17/08—Hetero rings containing eight or more ring members, e.g. erythromycins
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なマクロライド系抗菌剤に関する。
さらに詳細には、本発明は26−説ミシノシルーチロシ
ン誘導体に関する。
ン誘導体に関する。
月9)ミシノシルーおよび脱(ミシノシルオキシ)−チ
ロシンおよびこれらのアシル誘導体は当該技術分野にお
℃・て知られている。例えば、英国公開特許出願第20
7773.0号明細書は26−説(ミシノシルオキシ)
−チロシンおよびそのエステル類を開示しており、また
英国公開特許lJ3願第207773、1号明細書は2
6−説ミシノシルーチロシンおよびそのエステル類を開
示している8本発明の新却26−説ミシノシルーチロシ
ン誘導体は強力でしかも広いスはクトルの抗菌活性を特
にダラム陽生菌株に対して所有しており、また当該技術
においてすでに知られている化合物よりも吸収されやす
い性質がある。
ロシンおよびこれらのアシル誘導体は当該技術分野にお
℃・て知られている。例えば、英国公開特許出願第20
7773.0号明細書は26−説(ミシノシルオキシ)
−チロシンおよびそのエステル類を開示しており、また
英国公開特許lJ3願第207773、1号明細書は2
6−説ミシノシルーチロシンおよびそのエステル類を開
示している8本発明の新却26−説ミシノシルーチロシ
ン誘導体は強力でしかも広いスはクトルの抗菌活性を特
にダラム陽生菌株に対して所有しており、また当該技術
においてすでに知られている化合物よりも吸収されやす
い性質がある。
本発明の化合物は下記の一般式で示される化合物および
その医薬として適当な塩である。
その医薬として適当な塩である。
〔式中、
R1は水素またはアシルであり;
R2はアシルであり;
R3は水素またはアシルであり:またR2とR3は−g
になって6“−および4“−ヒビロキシル基を結合する
カルボニル基であり; R4は水素またはアシルであり: R6はメチル、ヒトゝロキシメチル、フルオロメチル、
クロロメチル、ブロモメチル、ヨービメチル、ジー(C
1−C6)アルキルアミノメチル、アシルオキシメチル
、CHOまたは式CH=R5(R5は下記定義通りであ
る)の基であり;そして Zはイミノ基R1,であるがまたは、 R1が水素またはアシルであり: R2がアシルであり; R3が水素またはアシルであり: R4が水itたはアシルであり;そしてRがフルオロメ
チル、クロロメチル、ブロモメチル、ヨード9メチル、
アシルオキシメチル、CHO、ジー(C1−C6)アル
キルアミノメチルである時、 Zはオキソであることもでき; イミノ基R5はN−NH−アラルキル(特に(C7−0
10)アラルキル)、N −N d −G −i’J
H2または1 であり、ここで nはゼロ、1または2でk)す、 QはGH2,CI(F[7,0R7RFl、 NH、N
R7,0、S 。
になって6“−および4“−ヒビロキシル基を結合する
カルボニル基であり; R4は水素またはアシルであり: R6はメチル、ヒトゝロキシメチル、フルオロメチル、
クロロメチル、ブロモメチル、ヨービメチル、ジー(C
1−C6)アルキルアミノメチル、アシルオキシメチル
、CHOまたは式CH=R5(R5は下記定義通りであ
る)の基であり;そして Zはイミノ基R1,であるがまたは、 R1が水素またはアシルであり: R2がアシルであり; R3が水素またはアシルであり: R4が水itたはアシルであり;そしてRがフルオロメ
チル、クロロメチル、ブロモメチル、ヨード9メチル、
アシルオキシメチル、CHO、ジー(C1−C6)アル
キルアミノメチルである時、 Zはオキソであることもでき; イミノ基R5はN−NH−アラルキル(特に(C7−0
10)アラルキル)、N −N d −G −i’J
H2または1 であり、ここで nはゼロ、1または2でk)す、 QはGH2,CI(F[7,0R7RFl、 NH、N
R7,0、S 。
SO2,CHOH、CHOH7,CR70H、0R70
R8゜1 CICON)(2またはに1(GNII7R8でに、す
、ここでR7およびR8は独S’fシて(c、−C6)
アルキルl (C7−C10)アラルキル、x−ti
換−(C7−C5o)アラルニ1′ル。
R8゜1 CICON)(2またはに1(GNII7R8でに、す
、ここでR7およびR8は独S’fシて(c、−C6)
アルキルl (C7−C10)アラルキル、x−ti
換−(C7−C5o)アラルニ1′ル。
CC6−GH。)−/”) −ル+ タハX −W換’
−(C6−C4゜)アリールであり、ここでXはノ・ロ
ゲン、トリフルオロメチノー (G1−06)アルコ犬
シー!F、たは(C,−C6)アルキルカルボニルでk
)る。〕 上記構造式においてはh′r体配置を161も示してい
ないが、その立体配置はチロシンのそれと同じであるこ
とが叩解されるだろう。
−(C6−C4゜)アリールであり、ここでXはノ・ロ
ゲン、トリフルオロメチノー (G1−06)アルコ犬
シー!F、たは(C,−C6)アルキルカルボニルでk
)る。〕 上記構造式においてはh′r体配置を161も示してい
ないが、その立体配置はチロシンのそれと同じであるこ
とが叩解されるだろう。
(C1−C6)アルキル基は1〜6個の炭素原子を含む
ことを意味しており、例えばメチル、エチル、プロピル
、ブチル、Rメチル、ヘキシルおよびその対【6する分
枝鎖異性体である6 (C□−C6)アルコキシ基は上と同(子に1〜6個の
炭素原子を含むことを意味しており、例えばメトキシ、
エトキシ、プロポキシなどが含まれる。
ことを意味しており、例えばメチル、エチル、プロピル
、ブチル、Rメチル、ヘキシルおよびその対【6する分
枝鎖異性体である6 (C□−C6)アルコキシ基は上と同(子に1〜6個の
炭素原子を含むことを意味しており、例えばメトキシ、
エトキシ、プロポキシなどが含まれる。
本明細古で使用する”(C6−C1o)アリール”とい
う用語はフェニルおよび1つJR−ヒの置換基で置換さ
れたフェニルを意味し、ここでその置換基はハロゲン(
フルオロ、クロロオdよびブロモが含まれる)、トリフ
ルオロメチル、(C1−06)アルコキシおよび(C,
、−06)アルキルカルボニルれる。そのようなアリー
ル基には例えば2−フルオロフェニル、2.6−シメト
キシフエニル、3.4−シクロロノーニニルおJUL5
−T7’ロモフェニルがある。
う用語はフェニルおよび1つJR−ヒの置換基で置換さ
れたフェニルを意味し、ここでその置換基はハロゲン(
フルオロ、クロロオdよびブロモが含まれる)、トリフ
ルオロメチル、(C1−06)アルコキシおよび(C,
、−06)アルキルカルボニルれる。そのようなアリー
ル基には例えば2−フルオロフェニル、2.6−シメト
キシフエニル、3.4−シクロロノーニニルおJUL5
−T7’ロモフェニルがある。
″(C7−C1o)プラノ1信ル”という用語はベンジ
ル、フェネチル、D−フルオロベンジル、0−トリルエ
チルおよびm−クロロフェネチルのようなアリール置換
低級アルキル基を意味する。
ル、フェネチル、D−フルオロベンジル、0−トリルエ
チルおよびm−クロロフェネチルのようなアリール置換
低級アルキル基を意味する。
(C1−06)−rルキルカルポニル基1,主アルキル
部分に1〜5晶1の炭素原子を含み、例えばアセチル、
プロピオニル、ノ丁−リルのような基である。
部分に1〜5晶1の炭素原子を含み、例えばアセチル、
プロピオニル、ノ丁−リルのような基である。
本明細省で使用する”アシル”という用語はモノ−カル
ボンIfまたはジ−カルボン酸から誘導されるアシル基
を意味し、これらの酸は各々2〜18個の炭素原子をも
つものであり、酢酸、クロロ酢酸、プロピオン酸、酪酸
、インパレリアン酸、アルコキシ炭酸、修酸、オレイン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ラウリン酸、バレリ
アン酸、安息香酸、アダマンタンカルボン酸、シクロプ
ロパンカルボン酸、シクロプロパンカルボン酸、β−シ
クロヘキシルプロピオン酸、フェニル酢酸、フェノキシ
酢酸、マンデル酸、2−チェニル酢酸、およびアルキル
−、アリールおよびアラルキル−スルホン酸(アリール
およびアラルキル酸は芳香環部分がハロゲン、ニトロ、
アルコキシ千dよび類似の置換基で置換されていてもよ
い)などが含まれる。適当なエステル類にはコハク酸、
マレイン酸、フマル酸およびフタル酸のようなジカルボ
ン酸から誘導される半エステルが含まれる。特に好まし
いアシル基はアセチル、プロピオニル、n−ノチリルお
よびイソバレリルのような2〜5個の炭素原子をもつア
ルカン酸から誘導されるものである。
ボンIfまたはジ−カルボン酸から誘導されるアシル基
を意味し、これらの酸は各々2〜18個の炭素原子をも
つものであり、酢酸、クロロ酢酸、プロピオン酸、酪酸
、インパレリアン酸、アルコキシ炭酸、修酸、オレイン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ラウリン酸、バレリ
アン酸、安息香酸、アダマンタンカルボン酸、シクロプ
ロパンカルボン酸、シクロプロパンカルボン酸、β−シ
クロヘキシルプロピオン酸、フェニル酢酸、フェノキシ
酢酸、マンデル酸、2−チェニル酢酸、およびアルキル
−、アリールおよびアラルキル−スルホン酸(アリール
およびアラルキル酸は芳香環部分がハロゲン、ニトロ、
アルコキシ千dよび類似の置換基で置換されていてもよ
い)などが含まれる。適当なエステル類にはコハク酸、
マレイン酸、フマル酸およびフタル酸のようなジカルボ
ン酸から誘導される半エステルが含まれる。特に好まし
いアシル基はアセチル、プロピオニル、n−ノチリルお
よびイソバレリルのような2〜5個の炭素原子をもつア
ルカン酸から誘導されるものである。
本発明化合物は6′位置にジメチルアミノ基が存在する
ために無機酸や有機酸と非毒性の医薬として適当な酸付
加塩を形成することが出来る。
ために無機酸や有機酸と非毒性の医薬として適当な酸付
加塩を形成することが出来る。
”非毒性の医薬として適当な酸付加塩”は通常の治療投
薬量において毒性が現われないということを意味してい
る。そのような壇の例には塩酸、硫酸、燐酸、クエン酸
、酢酸、プロピオン酸、酒石酸、マレイン酸、安息香酸
、シクロプロピルカルボン酸、アダマンチルカルボン酸
、ラウリル硫酸、グルコヘプトン1#,ステアリン酸お
よびラクトビオン酸のような酸により生成されるものが
含まれる。酸付加塩は非反応性有機溶媒中の抗生物質の
溶液に化学堀論針の酸を加え、堪が認め5る程度に溶解
しない溶媒(例えばジエチルエーテル)を用いて堪を沈
殿させて単離するような一般に使用される方法により製
造することが出来る。非反応性の有機溶媒とは抗生物質
、酸または塩と反応しないものである。
薬量において毒性が現われないということを意味してい
る。そのような壇の例には塩酸、硫酸、燐酸、クエン酸
、酢酸、プロピオン酸、酒石酸、マレイン酸、安息香酸
、シクロプロピルカルボン酸、アダマンチルカルボン酸
、ラウリル硫酸、グルコヘプトン1#,ステアリン酸お
よびラクトビオン酸のような酸により生成されるものが
含まれる。酸付加塩は非反応性有機溶媒中の抗生物質の
溶液に化学堀論針の酸を加え、堪が認め5る程度に溶解
しない溶媒(例えばジエチルエーテル)を用いて堪を沈
殿させて単離するような一般に使用される方法により製
造することが出来る。非反応性の有機溶媒とは抗生物質
、酸または塩と反応しないものである。
R がCH20Hである式Iの(1合物は23−説ミジ
ノシルチロシンまたは23−0−11φミシノシルチロ
シンまたはD M ’I’の誘導体に相当する。R6が
CH3である式■の化合物:・ま2ろ一説(ミシノシル
オキシ)チロシンまたはDMOTの誘導体に相当する。
ノシルチロシンまたは23−0−11φミシノシルチロ
シンまたはD M ’I’の誘導体に相当する。R6が
CH3である式■の化合物:・ま2ろ一説(ミシノシル
オキシ)チロシンまたはDMOTの誘導体に相当する。
他の式Iの化合物の命名法も全て口様に使用され、例え
ばR6が−(:I(0であるイビ合物は23−説(ミシ
ノシルオギシ)−23−デヒドロ−26−オキソチロシ
ン透導体と命名される。
ばR6が−(:I(0であるイビ合物は23−説(ミシ
ノシルオギシ)−23−デヒドロ−26−オキソチロシ
ン透導体と命名される。
本発明の節囲内の好ましい領域はZがイミノ基R5であ
り、特にR,が で七ンろ式Iの化合物; ・基R5においてqが1でk)ろ化合物;・基R,にお
い・てQがOH2, GHR7, Nil 、 NR”
t +o 、 s 、 SO2 または nが1でありかつQfJ″−SO2である化合物=lI
R6がメチル、ヒドロキシメチルまたはジー(C1また
はC2)アルキルアミノメチルであり特にメチルまたは
ヒドロキシメチルである化合物;でキンる。
り、特にR,が で七ンろ式Iの化合物; ・基R5においてqが1でk)ろ化合物;・基R,にお
い・てQがOH2, GHR7, Nil 、 NR”
t +o 、 s 、 SO2 または nが1でありかつQfJ″−SO2である化合物=lI
R6がメチル、ヒドロキシメチルまたはジー(C1また
はC2)アルキルアミノメチルであり特にメチルまたは
ヒドロキシメチルである化合物;でキンる。
本発明化合物はまたそれらのエステル形1fおいてもイ
1用でk)ろ。ニスデル類σ)うしで好ましいもσ)&
j。
1用でk)ろ。ニスデル類σ)うしで好ましいもσ)&
j。
・R,、R3およびR4が水素でな、りかっR2がアセ
デル、ソL+ヒ0オニル、 −ブチリルまt−はイン
バレリルである化合物; ・1(1がアヒヂフルであり、R3お、LびR4が水素
でありかつR2がアヒチル、プロピオニル、ロープチリ
ルまたはインバレリルである化合物:・上(1オ6よび
R3が水素でありかつR2オ・iよびR4が立に独立し
てアセザル、プロピオール、ロープチリルまたV主イソ
バレリルである化仔°拗:・R1およびR4が水素であ
りかつR2オdよびR3が互に独立してアセチル、プロ
ピオニル、n−ブチリルまたはインバレリルである化合
物;・R1が水素でありかつR2,R3オ(τよびR4
が互に独\γしてアセザル、プロピオニル、n−ブチリ
ルまたはインバレリルである化合物; ・i(2およびR3が一緒になって橋架はカルボニル基
であるイト合物;である。
デル、ソL+ヒ0オニル、 −ブチリルまt−はイン
バレリルである化合物; ・1(1がアヒヂフルであり、R3お、LびR4が水素
でありかつR2がアヒチル、プロピオニル、ロープチリ
ルまたはインバレリルである化合物:・上(1オ6よび
R3が水素でありかつR2オ・iよびR4が立に独立し
てアセザル、プロピオール、ロープチリルまたV主イソ
バレリルである化仔°拗:・R1およびR4が水素であ
りかつR2オdよびR3が互に独立してアセチル、プロ
ピオニル、n−ブチリルまたはインバレリルである化合
物;・R1が水素でありかつR2,R3オ(τよびR4
が互に独\γしてアセザル、プロピオニル、n−ブチリ
ルまたはインバレリルである化合物; ・i(2およびR3が一緒になって橋架はカルボニル基
であるイト合物;である。
本発明イト合物の好ましい例(1XIU定的なものでは
ない)Kは次のよりなイ[4合物がある、23−説ミジ
ノシルー20−デオキソ−2o−〔(4,4−ジオキソ
チオモルホリニル)イミノ1−4″−0−インバレリル
チロシン: 4“−臭−アセチル−23−脱ミシノシルー20−デオ
キソ−20−r(4,4−ジオキンチー1千ルホリニル
)イミノ]チロシン; 2′、4“−ジー9−アセチル−23−説ミジノシルー
20−デ材キソ−20−1:(4,4−:)オギンチオ
モルホリニル)イミノ〕−4“−0−イソメ1/リル千
ロジン; 2′−q−アセチル−23−説ミジノシルー20−デオ
キソ−20−〔(4,4−ジオキソチオモルホリニル)
イミノ〕−4“−〇−インバレリルチロシン:4“二0
−p−ブチリルー23−脱ミジノシル−20−デオキソ
−20−C(4,4−ジオキソチオモルホリニル)イミ
ノ〕−3“−〇−プロピメニルチロシン;2′ −p−
アセチル−4“−ρ−T1−ブチl坤・−23−説ミジ
ノシルー20−デオキソ−70−[(4,4−ジオキソ
チオモルホリニル)イミノ’]−3″−0−プロピオニ
ルチロシン: 3″−o−アセチル−26−説ミシノシルー20−デオ
キソ−20−[(4,4−ジオキソチオモルホリニル)
イミノ)−4″−0−イソバレリルチロシン;2′、6
“−ジー0−アセチル−26−説ミシノシルー20−デ
オキソ−20−[−(4,4−ジオキソチオモルホリニ
ル)イミノ〕−4“−〇−イソバレリルチロシン; 6″、4“−〇−カルボニルー2′、ろ一ジアセチルー
23−脱ミジノシル−20−デオキソ−20−[(4,
4−ジオキソチオモルホリニル)イミノ〕チロシン;2
′−〇−アセチル−6“、4“−〇−カルボニルー23
−説ミジノシル−20−デオキソ−20−CC4,4−
ジオキソチオモルホリニル)イミノ〕チロシン;26−
説ミシノシル−20−デオキソ−’)0−CC4,4−
ジオキソチオモルホリニル)イミノ〕チロシン−3r4
“−カーボネート、 本発明化合物は細菌感染をもつ咄乳動物に抗菌的応答を
引き出すものである、その抗菌効果を引き出すために、
本発明化合物は経口、外用、筋肉内注射または静脈内注
射により投与さ第1る。投与は慣用方法、すなわち錠剤
、カプセル剤、懸濁剤、溶液剤、クリーム剤、軟膏剤ま
たは汀射剤を使用して行われる、これらの剤形は各々当
該技術でよ(知られている非毒性の製剤十詐賓できる希
釈剤を利用して処方される。本発明化合物は一回の投与
または分割投与において一日あたり約5〜500LIQ
/ k、9好ましくは・5〜50m&/に!17の範
囲で投与される。
ない)Kは次のよりなイ[4合物がある、23−説ミジ
ノシルー20−デオキソ−2o−〔(4,4−ジオキソ
チオモルホリニル)イミノ1−4″−0−インバレリル
チロシン: 4“−臭−アセチル−23−脱ミシノシルー20−デオ
キソ−20−r(4,4−ジオキンチー1千ルホリニル
)イミノ]チロシン; 2′、4“−ジー9−アセチル−23−説ミジノシルー
20−デ材キソ−20−1:(4,4−:)オギンチオ
モルホリニル)イミノ〕−4“−0−イソメ1/リル千
ロジン; 2′−q−アセチル−23−説ミジノシルー20−デオ
キソ−20−〔(4,4−ジオキソチオモルホリニル)
イミノ〕−4“−〇−インバレリルチロシン:4“二0
−p−ブチリルー23−脱ミジノシル−20−デオキソ
−20−C(4,4−ジオキソチオモルホリニル)イミ
ノ〕−3“−〇−プロピメニルチロシン;2′ −p−
アセチル−4“−ρ−T1−ブチl坤・−23−説ミジ
ノシルー20−デオキソ−70−[(4,4−ジオキソ
チオモルホリニル)イミノ’]−3″−0−プロピオニ
ルチロシン: 3″−o−アセチル−26−説ミシノシルー20−デオ
キソ−20−[(4,4−ジオキソチオモルホリニル)
イミノ)−4″−0−イソバレリルチロシン;2′、6
“−ジー0−アセチル−26−説ミシノシルー20−デ
オキソ−20−[−(4,4−ジオキソチオモルホリニ
ル)イミノ〕−4“−〇−イソバレリルチロシン; 6″、4“−〇−カルボニルー2′、ろ一ジアセチルー
23−脱ミジノシル−20−デオキソ−20−[(4,
4−ジオキソチオモルホリニル)イミノ〕チロシン;2
′−〇−アセチル−6“、4“−〇−カルボニルー23
−説ミジノシル−20−デオキソ−20−CC4,4−
ジオキソチオモルホリニル)イミノ〕チロシン;26−
説ミシノシル−20−デオキソ−’)0−CC4,4−
ジオキソチオモルホリニル)イミノ〕チロシン−3r4
“−カーボネート、 本発明化合物は細菌感染をもつ咄乳動物に抗菌的応答を
引き出すものである、その抗菌効果を引き出すために、
本発明化合物は経口、外用、筋肉内注射または静脈内注
射により投与さ第1る。投与は慣用方法、すなわち錠剤
、カプセル剤、懸濁剤、溶液剤、クリーム剤、軟膏剤ま
たは汀射剤を使用して行われる、これらの剤形は各々当
該技術でよ(知られている非毒性の製剤十詐賓できる希
釈剤を利用して処方される。本発明化合物は一回の投与
または分割投与において一日あたり約5〜500LIQ
/ k、9好ましくは・5〜50m&/に!17の範
囲で投与される。
本発明化合物はダラム陽生菌株に差]して広いスはクト
ルの活性を示す抗菌剤であり、ブトつ球菌、レンサ球菌
、稈状菌およびへ連球菌の多数の菌株に対して著しい活
性をイ1している。
ルの活性を示す抗菌剤であり、ブトつ球菌、レンサ球菌
、稈状菌およびへ連球菌の多数の菌株に対して著しい活
性をイ1している。
本発明化合物の抗菌活性はムエラーーヒントン(Mue
Tler−Hjnt、on)培地での標準的な抗生物質
希釈検定法を用いて多数の病原体に対して試験すること
により決定され、その活性は最小IS[4d=濃度(M
工G、 mc 87mg、24時間)として表わされ
る。
Tler−Hjnt、on)培地での標準的な抗生物質
希釈検定法を用いて多数の病原体に対して試験すること
により決定され、その活性は最小IS[4d=濃度(M
工G、 mc 87mg、24時間)として表わされ
る。
多くの本発明化合物にとっての幾何平均MICは0.1
25〜200節囲である。
25〜200節囲である。
本発明化合物の血清濃度は試験動物に静脈内注射、皮下
注射または経口投与のいずれかで投与することにより決
定できる。一般に、血清濃度は特定の時間内の曲線下の
領域として表わされる。試験化合物は通常静脈内注射に
おいて12.5 m97に9の用量で、皮下注射におい
て100m1?/kLjの用量で、また経口投りにおい
て400mり/kgO用曖で投与される。本発明化合物
の静脈内急性毒性はノ・ツカネズミを用いて決定され、
ノ・ツノノネズミの50%致死量として表わさねる。
注射または経口投与のいずれかで投与することにより決
定できる。一般に、血清濃度は特定の時間内の曲線下の
領域として表わされる。試験化合物は通常静脈内注射に
おいて12.5 m97に9の用量で、皮下注射におい
て100m1?/kLjの用量で、また経口投りにおい
て400mり/kgO用曖で投与される。本発明化合物
の静脈内急性毒性はノ・ツカネズミを用いて決定され、
ノ・ツノノネズミの50%致死量として表わさねる。
化合物A:23−説−ミシノシル−20−デオキソ−2
0−[(4,4−:)オキソチメモルホリニル)イミノ
〕−チロシン ラクトビオン酸塩 化合物B:23−説ミジノシミジノシルデオキソ−20
−[(4,4−ジオキソチオモルホリニル)イミノ〕−
4“一旦一イソパレリルチロシン IC 化合物へのLD5o(IIV/kg): 375本発明
化合物はチロシン、アシル化チロシン誘導体または前述
の英国公開特許出願明細書に記載されている脱ミシノシ
ルチロシンを用いて当該技術分野において知られている
種々の多工程合成法により製造することが出来る。下に
述べる方法A〜Gは本発明化合物を製造するのに使用さ
れる。
0−[(4,4−:)オキソチメモルホリニル)イミノ
〕−チロシン ラクトビオン酸塩 化合物B:23−説ミジノシミジノシルデオキソ−20
−[(4,4−ジオキソチオモルホリニル)イミノ〕−
4“一旦一イソパレリルチロシン IC 化合物へのLD5o(IIV/kg): 375本発明
化合物はチロシン、アシル化チロシン誘導体または前述
の英国公開特許出願明細書に記載されている脱ミシノシ
ルチロシンを用いて当該技術分野において知られている
種々の多工程合成法により製造することが出来る。下に
述べる方法A〜Gは本発明化合物を製造するのに使用さ
れる。
所望生成物を製造するのに考えうるこれらの方法の順序
は後述する図式A−Hに記載されている。
は後述する図式A−Hに記載されている。
さらに、これらの図式A−Nから、式Iの化合物に含ま
れる種々のヒドロキシル基またはアシルオキシ基が異な
った反応性を有しているということが明らかになる。所
望する最終生成物によっては多工程合成中にある基を保
護またはそれを脱離することが必要であり、かつ/また
反応順序の順を追って必須の合成工程を実施することが
必要である。
れる種々のヒドロキシル基またはアシルオキシ基が異な
った反応性を有しているということが明らかになる。所
望する最終生成物によっては多工程合成中にある基を保
護またはそれを脱離することが必要であり、かつ/また
反応順序の順を追って必須の合成工程を実施することが
必要である。
A、ZがR5でありかつ/またR6がCH=R5である
(他の置換基は式Iに関1−て定義した通りである)式
■の化合物は、外)がオキソでありかつ/またR6がC
HOである(他の置換基は式■に関して定義した通りで
ある)式■の11合物を式H2F15の″1−アミノ反
応1剤”と反応させることにより製造することが出来る
。置換基R5は上で式Iに関して定義した通りである。
(他の置換基は式Iに関1−て定義した通りである)式
■の化合物は、外)がオキソでありかつ/またR6がC
HOである(他の置換基は式■に関して定義した通りで
ある)式■の11合物を式H2F15の″1−アミノ反
応1剤”と反応させることにより製造することが出来る
。置換基R5は上で式Iに関して定義した通りである。
出発物質においてZがオキソでありかつR6がCHOで
ある場合に、両方の基は同じ方法工程でその誘導体に転
化されZがR5でありかつR6がCH=R5である化合
物を生ずる。その同じ方法はチロシンまたはそのエステ
ル類に適用されて20−イミノ−20−チオキンーチロ
シンまたはそのエステル類を与え、これはいくつかの以
下の方法の出発物質どなる。
ある場合に、両方の基は同じ方法工程でその誘導体に転
化されZがR5でありかつR6がCH=R5である化合
物を生ずる。その同じ方法はチロシンまたはそのエステ
ル類に適用されて20−イミノ−20−チオキンーチロ
シンまたはそのエステル類を与え、これはいくつかの以
下の方法の出発物質どなる。
B、R6がヒドロキシメチルである(他の置換基は式I
に関して定義した通りである) 式Iの化合物は一般式 (式中、F(1,F(2,F(3,R4およびR35は
式■に関して定義した通りである。) の化合物から4”−、t=I’ソーミシノシル糖を加水
分解除去することにより製造することが出来る。
に関して定義した通りである) 式Iの化合物は一般式 (式中、F(1,F(2,F(3,R4およびR35は
式■に関して定義した通りである。) の化合物から4”−、t=I’ソーミシノシル糖を加水
分解除去することにより製造することが出来る。
26位置の糖基の除去は例えばメタノールにより任意に
NaOHの存在下に実施される21反応条件次第で、ろ
、2′、ろ〃および4″ 位置のアシル基もこの反応
で除去される。この方法のための出発化合物は適当な基
R11R21R3” 4およびR5を有するチロシン誘
導体をフイツツナーーモファット酸化(Pfitzne
r−Morfat、t、 0xidation)にかけ
ることにより製造することが出来る、 2ろ一説ミジノシルチロシン(本明細書で述べるいくつ
かの方法の適当な中間体)を製造するために、チロシン
またはそのエステル類のいずれかはフイツツナーーモフ
ァット酸化11C(Jt;せら(1、続いて上記方法B
にかけられる、 C0R6がフルオロメグル、り「lロメチル、ブロモメ
チルまたをよ司−トゝメチルである(仙の置換基は式I
に関して定義1〜た通りである)式Iの化合物をま対応
するヒト゛ロキシメチルfl′台物を1高尚な・・ロゲ
ン化反応にかけること1でより製造することが出来て)
。
NaOHの存在下に実施される21反応条件次第で、ろ
、2′、ろ〃および4″ 位置のアシル基もこの反応
で除去される。この方法のための出発化合物は適当な基
R11R21R3” 4およびR5を有するチロシン誘
導体をフイツツナーーモファット酸化(Pfitzne
r−Morfat、t、 0xidation)にかけ
ることにより製造することが出来る、 2ろ一説ミジノシルチロシン(本明細書で述べるいくつ
かの方法の適当な中間体)を製造するために、チロシン
またはそのエステル類のいずれかはフイツツナーーモフ
ァット酸化11C(Jt;せら(1、続いて上記方法B
にかけられる、 C0R6がフルオロメグル、り「lロメチル、ブロモメ
チルまたをよ司−トゝメチルである(仙の置換基は式I
に関して定義1〜た通りである)式Iの化合物をま対応
するヒト゛ロキシメチルfl′台物を1高尚な・・ロゲ
ン化反応にかけること1でより製造することが出来て)
。
ヨウ素化は田つ化アルコキシルスホニウノ・(例エバヨ
ウ化メチルトリフエノ4シホスホニウノ、)を使用する
ことにより実施できる。トリフェニルホスフィンとヨウ
素を使用してもよい。無水の41機溶媒はどれも使用で
きるが、ジメチルホルムアミドのような極性溶媒が好ま
しい。反応時間は約2〜10時間であり、反応温度は約
10〜50℃であって一般には室温が有利である。
ウ化メチルトリフエノ4シホスホニウノ、)を使用する
ことにより実施できる。トリフェニルホスフィンとヨウ
素を使用してもよい。無水の41機溶媒はどれも使用で
きるが、ジメチルホルムアミドのような極性溶媒が好ま
しい。反応時間は約2〜10時間であり、反応温度は約
10〜50℃であって一般には室温が有利である。
23−塩素化は慣用の塩素化剤を使用して実施できるが
、トリス(ジメチルアミノ)−燐アミド/lJ[a塩化
炭素が有利である。ジメチルホルムアミドのような伴水
の有機溶媒を使用することが好ましい。反応時間は、1
2〜36時間であり、反応温度は70〜10U3℃であ
る、 23−4素化はトリス(ジメチルアミノ)−燐アミビ/
四臭化炭素を使用して行われる、またジメチルホルムア
ミ1、゛のような無水の有機溶媒が使用される。反応温
度は約−60〜−ろO’Cであり反応時間は約0.5〜
2時間である。
、トリス(ジメチルアミノ)−燐アミド/lJ[a塩化
炭素が有利である。ジメチルホルムアミドのような伴水
の有機溶媒を使用することが好ましい。反応時間は、1
2〜36時間であり、反応温度は70〜10U3℃であ
る、 23−4素化はトリス(ジメチルアミノ)−燐アミビ/
四臭化炭素を使用して行われる、またジメチルホルムア
ミ1、゛のような無水の有機溶媒が使用される。反応温
度は約−60〜−ろO’Cであり反応時間は約0.5〜
2時間である。
23−フッ素化は2当量のフッ化トリフェニルホスフィ
ンを使用して実施できる、一般には無水のアセト二)
IIルのような溶媒を使用する。反応時間は4〜20時
間であり、反応温度は100〜170℃である。
ンを使用して実施できる、一般には無水のアセト二)
IIルのような溶媒を使用する。反応時間は4〜20時
間であり、反応温度は100〜170℃である。
20−アルデヒド基のヨウ素化反応を行う前に当該技術
で知られた慣用方法により例えば2〇−ジメチルアセタ
ールとして任意に保護される。その保護基はその後除去
されて20−アルデヒド誘導体を生ずる。
で知られた慣用方法により例えば2〇−ジメチルアセタ
ールとして任意に保護される。その保護基はその後除去
されて20−アルデヒド誘導体を生ずる。
D、R6がメチルである(他の置換基は式■に関し【定
義した通りである)式1の化合物を製造するために、R
6がヨードメチルである式■の対応化合物を水素化トリ
ーn−ブチル錫のような脱ヨウ素化試薬と反応させる。
義した通りである)式1の化合物を製造するために、R
6がヨードメチルである式■の対応化合物を水素化トリ
ーn−ブチル錫のような脱ヨウ素化試薬と反応させる。
好ましくは不活性雰囲気を維持して副反応を液小眼にす
る。適当な溶媒は無水の不活性有機溶媒であるが、ヲト
ラヒドロフランが有利である。反応温度は約50℃から
溶媒の還流温度までである。反応時間は12〜24時間
である。
る。適当な溶媒は無水の不活性有機溶媒であるが、ヲト
ラヒドロフランが有利である。反応温度は約50℃から
溶媒の還流温度までである。反応時間は12〜24時間
である。
この方法が20位置にホルミル基をもつ(ヒ合物に適用
される場合に、本明細書中で述べる方法に有用な中間体
(23−説(ミシノシルオヤシ)チロシンまたはそのエ
ステル)が得「)れる、E、Rがジー(CニーC6)ア
ルキルアミノメチルである(他の置換基は式■に関して
定義1〜だ通りである)式Iの化合物は、R6がハロメ
チル、好ましくはヨードメチルである式■の対応化合物
を式〔(C□−06)アルキル〕2NHのアルキカーア
ミンと反応させることにより製造することが出来る。反
応は高温においてアセl二) IJルのような溶媒中で
実施するのが有利である。
される場合に、本明細書中で述べる方法に有用な中間体
(23−説(ミシノシルオヤシ)チロシンまたはそのエ
ステル)が得「)れる、E、Rがジー(CニーC6)ア
ルキルアミノメチルである(他の置換基は式■に関して
定義1〜だ通りである)式Iの化合物は、R6がハロメ
チル、好ましくはヨードメチルである式■の対応化合物
を式〔(C□−06)アルキル〕2NHのアルキカーア
ミンと反応させることにより製造することが出来る。反
応は高温においてアセl二) IJルのような溶媒中で
実施するのが有利である。
F、 R6がCHO−′cある(他の置換基は式Iに関
して定義した通りである)式■の化合物は、R6がヒド
ロキシメチルでk)る式■の対応化合物をフイツツナー
ーモファット酸化に供することにより製造することが出
来る。この反応はジエチルカルボジイミドまたはジシク
ロへキシルカルボジイミドとピリジンのような有機塩基
とトリフルオロ酢酸との組合せを使用する。ジエチルカ
ルボジイミドがその副生物の水溶性のために有利である
。代表的にはジエチルカルボジイミドS6当量、有機塩
基1当量およびトリフルオロ酢酸05当量が使用される
。代表的な溶媒には無水のジメチルスルホキシド、ばン
ゼン、トルエンおよびこれらの混合物が含まれる。反応
温度は10〜50°Cであり、反応時間は2〜12時間
である。
して定義した通りである)式■の化合物は、R6がヒド
ロキシメチルでk)る式■の対応化合物をフイツツナー
ーモファット酸化に供することにより製造することが出
来る。この反応はジエチルカルボジイミドまたはジシク
ロへキシルカルボジイミドとピリジンのような有機塩基
とトリフルオロ酢酸との組合せを使用する。ジエチルカ
ルボジイミドがその副生物の水溶性のために有利である
。代表的にはジエチルカルボジイミドS6当量、有機塩
基1当量およびトリフルオロ酢酸05当量が使用される
。代表的な溶媒には無水のジメチルスルホキシド、ばン
ゼン、トルエンおよびこれらの混合物が含まれる。反応
温度は10〜50°Cであり、反応時間は2〜12時間
である。
G、Zがオキソでありかつ/またR6がGHQである(
他の置換基は式Iに関して定義した通りである)式Iの
化合物は、ZがR5でありかつ/またR6がGH,=R
5である式■の対応化合物を室温以上の温度で触媒とし
てシリカゲルを使用してアセトンと反応させることによ
り製造すること力1出来る。
他の置換基は式Iに関して定義した通りである)式Iの
化合物は、ZがR5でありかつ/またR6がGH,=R
5である式■の対応化合物を室温以上の温度で触媒とし
てシリカゲルを使用してアセトンと反応させることによ
り製造すること力1出来る。
一般式Iのfヒ合物の製法は次の反応図式で表わされる
。
。
図式A
保護−チロジン
上記製法は4″−ヒト90キシル基を保護するのに適し
た試薬とチロシンとを反応させることにより開始される
(工程Ai)。多くの慣用されているヒドロキシル保涌
基がこの目的に利用されるが(例えば米国特許第420
5 ’I 63号明細書を参照されたい)、本発明で使
用するのに最も好まし〜・4″−ヒドロキシル保護基は
t e r t−メチルジメチルシリル基であることが
判明した。この保護基は他のこのような保護基と同様に
イミダゾール、4−ジメチルアミノピリジン、トリエチ
ルアミンまたはピリジンのような酸受容体の存在下にチ
ロシンと塩化tert−ブチルジメチルシリルとを反応
させることにより、4“′−ヒドロキシル基に最も有利
に付加される。好ましくは反応媒体としてジメチルホル
ムアミド、ジクロロメタンまたはテトラヒドロフランの
ような無水の溶媒を使用する。
た試薬とチロシンとを反応させることにより開始される
(工程Ai)。多くの慣用されているヒドロキシル保涌
基がこの目的に利用されるが(例えば米国特許第420
5 ’I 63号明細書を参照されたい)、本発明で使
用するのに最も好まし〜・4″−ヒドロキシル保護基は
t e r t−メチルジメチルシリル基であることが
判明した。この保護基は他のこのような保護基と同様に
イミダゾール、4−ジメチルアミノピリジン、トリエチ
ルアミンまたはピリジンのような酸受容体の存在下にチ
ロシンと塩化tert−ブチルジメチルシリルとを反応
させることにより、4“′−ヒドロキシル基に最も有利
に付加される。好ましくは反応媒体としてジメチルホル
ムアミド、ジクロロメタンまたはテトラヒドロフランの
ような無水の溶媒を使用する。
反応は約10〜50℃の温度でおこるが、大抵σ)場合
に室温で十分である。代表的な反応時間は約12〜48
時間の間である。
に室温で十分である。代表的な反応時間は約12〜48
時間の間である。
工程A2では2′−ヒドロキシル基の位置にアシル基力
博入される。3“または4“位置へアシ四基を導入する
前にこのヒドロキシル基をブロックする必要がある。も
ちろん、4″位置に導入されるべきアシル基が2′位置
のアシル基と同一である場合に、本質的に工程A2と工
程A3を合わせて(図式Aに工程A2’として〆すよう
に)、アシル化剤のモル量を増加しかつ触媒としてピリ
ジンのような塩基を加えるだけで両方のアシル基を同時
に導入してもよい。2′−ヒドロキシル基の選択的アシ
ル化は一般的なマクロライド系抗生物質のアシル化にお
いて知られている慣用方法を用いて実施することができ
る2゜この目的のために使用されるアシル基は、例えば
、アセチル、プロ上0オニルまたはブチリルのような低
級アルカノイル基:モノクロロアセチル、トリクロロア
セチル、モノブロモアセチルまたはトリフルナロアセチ
ルのような低級ハロアルカノイル基;メトギシ力ルボニ
ルまたはエトキシカルボニルのような低級アルコキシカ
ルボニル基:およびフェノギシアセチルのようなアリー
ルオキジアルカノイル基である。
博入される。3“または4“位置へアシ四基を導入する
前にこのヒドロキシル基をブロックする必要がある。も
ちろん、4″位置に導入されるべきアシル基が2′位置
のアシル基と同一である場合に、本質的に工程A2と工
程A3を合わせて(図式Aに工程A2’として〆すよう
に)、アシル化剤のモル量を増加しかつ触媒としてピリ
ジンのような塩基を加えるだけで両方のアシル基を同時
に導入してもよい。2′−ヒドロキシル基の選択的アシ
ル化は一般的なマクロライド系抗生物質のアシル化にお
いて知られている慣用方法を用いて実施することができ
る2゜この目的のために使用されるアシル基は、例えば
、アセチル、プロ上0オニルまたはブチリルのような低
級アルカノイル基:モノクロロアセチル、トリクロロア
セチル、モノブロモアセチルまたはトリフルナロアセチ
ルのような低級ハロアルカノイル基;メトギシ力ルボニ
ルまたはエトキシカルボニルのような低級アルコキシカ
ルボニル基:およびフェノギシアセチルのようなアリー
ルオキジアルカノイル基である。
アシル化剤としては前述のアシル基に対応するカルボン
酸、酸ハロゲン什物および酸無水物を使用することが適
当である。有利には無水酢酸が反応の収率およびその特
異性のために利用さJする。最も1r−11<は乾燥ア
セトンのような無水の溶媒を反応媒体として使用さる。
酸、酸ハロゲン什物および酸無水物を使用することが適
当である。有利には無水酢酸が反応の収率およびその特
異性のために利用さJする。最も1r−11<は乾燥ア
セトンのような無水の溶媒を反応媒体として使用さる。
代表的な反応温度は約10〜50℃であるが室温が好ま
し℃・ものである。
し℃・ものである。
代表的な反応時間番ま使用される特定の反応剤により約
10〜48時間の間で変化す2)。
10〜48時間の間で変化す2)。
工程人3は4〃−アシル基の導入に関するものである。
2′f6よび4″′位置でアシル化されて保護されたチ
ロシン誘導体の4“−ヒ)#ロギシル基は一般に6−ヒ
ドロキシ基よりも容易にアシル化される。本発明方法に
従って4“−ヒドロキシル基をアシル化する場合に、使
用するアシル化剤により時々わずかな量の6.4“−ジ
アシル誘導体が副生物として生成する。対応する酸ハロ
ゲン化物酸無水物または適当なピバリン酸との混合酸無
水物がこの工程でのカルボン酸化合物の反応性誘導体と
して有利に使用される。カルボン酸の酸ハロゲン化物ま
たは混合酸無水物をアシル化剤として使用する場合に、
工程A3の反応は塩基性試薬の存在下に行われる。好ま
しい塩基性試薬はピリジン、4−ジメチルアミノピリジ
ン、ピコリン、ビはリジン、およびトリエチルアミン、
またはこれらの混合物である。トリエチルアミンと4−
ジメチルアミノピリジンとの混合管が最も好ましいもの
である。一般に、反応はばンゼン、トルエン、クロロホ
ルム、ジクロロメタン、テトラヒドロフランまたはこれ
らの混合物のような不活性有機溶媒中で実施される一塩
基性試薬それ自体を反応の溶媒として使用することもで
きる。温度範囲は代表的には−200ないし50℃の間
であり、これより高い温度では副生物の生成が促進され
る。一般に好ましい反応温度は一10℃ないし室温であ
る。任意に、この工程でろ“−ヒドロキシル基をアシル
化してもよい。この6“−ヒドロキシル基はある条件下
においてのみ反応する第三アルコールである。ろ−ヒド
ロキシル基は6″−アシル基を付加する前に、好ましく
はトリメチルシリルエーテル誘導体を使用してブロック
されねばならない。一般に、条件はより苛酷なもの、す
なわらより高温(60〜1r〕0℃)であらねばならず
、反応時間もやや長いものとなる。代表的には、酸塩化
物がアシル化剤として使用され、また頃基性試薬として
はトリベンジルアミンが使用される。非極性の有機溶媒
はどれもこの反応に適している。
ロシン誘導体の4“−ヒ)#ロギシル基は一般に6−ヒ
ドロキシ基よりも容易にアシル化される。本発明方法に
従って4“−ヒドロキシル基をアシル化する場合に、使
用するアシル化剤により時々わずかな量の6.4“−ジ
アシル誘導体が副生物として生成する。対応する酸ハロ
ゲン化物酸無水物または適当なピバリン酸との混合酸無
水物がこの工程でのカルボン酸化合物の反応性誘導体と
して有利に使用される。カルボン酸の酸ハロゲン化物ま
たは混合酸無水物をアシル化剤として使用する場合に、
工程A3の反応は塩基性試薬の存在下に行われる。好ま
しい塩基性試薬はピリジン、4−ジメチルアミノピリジ
ン、ピコリン、ビはリジン、およびトリエチルアミン、
またはこれらの混合物である。トリエチルアミンと4−
ジメチルアミノピリジンとの混合管が最も好ましいもの
である。一般に、反応はばンゼン、トルエン、クロロホ
ルム、ジクロロメタン、テトラヒドロフランまたはこれ
らの混合物のような不活性有機溶媒中で実施される一塩
基性試薬それ自体を反応の溶媒として使用することもで
きる。温度範囲は代表的には−200ないし50℃の間
であり、これより高い温度では副生物の生成が促進され
る。一般に好ましい反応温度は一10℃ないし室温であ
る。任意に、この工程でろ“−ヒドロキシル基をアシル
化してもよい。この6“−ヒドロキシル基はある条件下
においてのみ反応する第三アルコールである。ろ−ヒド
ロキシル基は6″−アシル基を付加する前に、好ましく
はトリメチルシリルエーテル誘導体を使用してブロック
されねばならない。一般に、条件はより苛酷なもの、す
なわらより高温(60〜1r〕0℃)であらねばならず
、反応時間もやや長いものとなる。代表的には、酸塩化
物がアシル化剤として使用され、また頃基性試薬として
はトリベンジルアミンが使用される。非極性の有機溶媒
はどれもこの反応に適している。
6−位置が合成過程においてブロックされている場合に
は、もちろん、3“−アシル基を付加した後の段階でそ
のろ一位置を脱ブロックしなければならない。一般には
これは工程A3の完了後になさ・れるか、あるいは合成
過程におけるいずれか他の有利なあとの段階でなされる
。
は、もちろん、3“−アシル基を付加した後の段階でそ
のろ一位置を脱ブロックしなければならない。一般には
これは工程A3の完了後になさ・れるか、あるいは合成
過程におけるいずれか他の有利なあとの段階でなされる
。
工程A4においては4“′−ヒドロキシル保護基が除去
される。正確な除去条件はもちろん工程A1で導入され
る保護基の性質に依存している。こσ)ような方法は当
該技術分野におし・て公知のものである。4″′−ヒド
ロキシル基護基とし7て最も好ましい士、Cr t−ブ
チルジメチルシリル基が使用される場合に、その除去は
フッ什デトラーη−ブチルアンモニウノ、または同様の
フッ化物イオン源を使用することにより都合よ(実施さ
れる。通常はテトラヒト90フランやジエチルニーデル
のような無水の溶媒が反応媒体として利用される。アル
ゴンのような非反応性の気体雰囲りは副生物の生成を妨
げる。代表的な反応温度は0〜50℃の範囲であり、反
応時間は1〜24時間の間である。
される。正確な除去条件はもちろん工程A1で導入され
る保護基の性質に依存している。こσ)ような方法は当
該技術分野におし・て公知のものである。4″′−ヒド
ロキシル基護基とし7て最も好ましい士、Cr t−ブ
チルジメチルシリル基が使用される場合に、その除去は
フッ什デトラーη−ブチルアンモニウノ、または同様の
フッ化物イオン源を使用することにより都合よ(実施さ
れる。通常はテトラヒト90フランやジエチルニーデル
のような無水の溶媒が反応媒体として利用される。アル
ゴンのような非反応性の気体雰囲りは副生物の生成を妨
げる。代表的な反応温度は0〜50℃の範囲であり、反
応時間は1〜24時間の間である。
工程A5においては上記化合物の20−アルデヒド基が
所望の20−イミノ−20−デオキソ−4“−アシル−
2′−アシル−チロシン誘導体に誘導される。これは工
8A4の生成物を式H2−H5(ここでR5は先に定義
した通りである)の″1−アアミノ応剤”と反応させる
こと姥より達成される。ここで利用される″′1−アミ
ノ反応剤”の多くは商業的に入手可能である。合成しな
ければならないものばBiel等によるJ 、Org、
Chem 。
所望の20−イミノ−20−デオキソ−4“−アシル−
2′−アシル−チロシン誘導体に誘導される。これは工
8A4の生成物を式H2−H5(ここでR5は先に定義
した通りである)の″1−アアミノ応剤”と反応させる
こと姥より達成される。ここで利用される″′1−アミ
ノ反応剤”の多くは商業的に入手可能である。合成しな
ければならないものばBiel等によるJ 、Org、
Chem 。
26,4096ば一ジ(19’61年)またはGnql
′sV、よるOrg−8yn−Collect、 、
、 m V巻。
′sV、よるOrg−8yn−Collect、 、
、 m V巻。
46は−ジ(1966年)に記載されている方法により
製造することができる。一般に、反応はばンゼン、トル
エン、クロロホル15、ジクロロメタン、テトラヒドロ
フランまたはこれらの混合物のような非極性の無水有機
溶媒中で実施される。反応温度は0〜50℃の範囲であ
るが室温が有利である。反応時間は使用する反応剤によ
り12時間ないし10日の間である。
製造することができる。一般に、反応はばンゼン、トル
エン、クロロホル15、ジクロロメタン、テトラヒドロ
フランまたはこれらの混合物のような非極性の無水有機
溶媒中で実施される。反応温度は0〜50℃の範囲であ
るが室温が有利である。反応時間は使用する反応剤によ
り12時間ないし10日の間である。
工iA6では4“′−ヒドロキシル基が4′′/−オキ
ソ基へ転化される、これはジエチルカルボジイミドまた
はジシクロへキシルカルボジイミドと有機塩基(例えば
ピリジン)およびトリフルオロ酢酸との組合せを使用す
るフィッッナ〜−モファット酸化を経て行われろ。ジエ
チルカルボジイミドはその副生物が水溶性であるために
有利である。
ソ基へ転化される、これはジエチルカルボジイミドまた
はジシクロへキシルカルボジイミドと有機塩基(例えば
ピリジン)およびトリフルオロ酢酸との組合せを使用す
るフィッッナ〜−モファット酸化を経て行われろ。ジエ
チルカルボジイミドはその副生物が水溶性であるために
有利である。
代表的には、ジエチルカルボジイミド93当量、有機塙
基1当量およびトリフルオロ酢酸0.5当量が使用され
る。代表的な溶媒は無水のジメチルスル、ホキシト9、
インゲン、)・ルエンおよびこれらの混合物である。反
応温度は10〜50’Cであり、反応時間は2〜12時
間である。
基1当量およびトリフルオロ酢酸0.5当量が使用され
る。代表的な溶媒は無水のジメチルスル、ホキシト9、
インゲン、)・ルエンおよびこれらの混合物である。反
応温度は10〜50’Cであり、反応時間は2〜12時
間である。
工程A7においてはミシノシル糖と21−アシル基の両
方が除去されて所望の23−説ミジノシルー20−イミ
ノ−2o−デオキソ−4〃−アシル−チロシンが生成す
る。通常これは仕分物をメタノールとシリカゲルとの混
合物に溶解して、0〜50℃(好ましくは室温)の温度
で1〜5日間攪拌することにより実施される。
方が除去されて所望の23−説ミジノシルー20−イミ
ノ−2o−デオキソ−4〃−アシル−チロシンが生成す
る。通常これは仕分物をメタノールとシリカゲルとの混
合物に溶解して、0〜50℃(好ましくは室温)の温度
で1〜5日間攪拌することにより実施される。
図式B
チロシン
20−イミノ−20−チオキン−チロシン23−説ミジ
ノシル−20−イミノ−20−デオキソ−チロシン 図式Bは図式Aと同じ基本反応工程を用いているが、そ
れらの実施順序が配列し直されている。
ノシル−20−イミノ−20−デオキソ−チロシン 図式Bは図式Aと同じ基本反応工程を用いているが、そ
れらの実施順序が配列し直されている。
工程B1の方法はチロシンを式H2−R5(ここでR5
は先に定義した通りである)の″1−アミノ反応剤”と
反応させることにより始められ、2゜−アルデヒド基の
20−イミノ−20−デオキソ基への誘導を行って20
−イミノ−20−デオキソ−チロシンを生成する。工程
B1の反応条件は前述の工程A5の反応条件と本質的に
同じである。
は先に定義した通りである)の″1−アミノ反応剤”と
反応させることにより始められ、2゜−アルデヒド基の
20−イミノ−20−デオキソ基への誘導を行って20
−イミノ−20−デオキソ−チロシンを生成する。工程
B1の反応条件は前述の工程A5の反応条件と本質的に
同じである。
20−イミノ−20−デオキソ−チロシンはその後工程
B2で4///−ヒドロキシル基を保iAfるのに適し
た試薬と反応して4”−0H−保■−20−イミノー2
0−デオキソ−チロシンを生ずる。
B2で4///−ヒドロキシル基を保iAfるのに適し
た試薬と反応して4”−0H−保■−20−イミノー2
0−デオキソ−チロシンを生ずる。
工程B2は図式Aの工程A1のところで述べた反応条件
のような一般的な条件を用いて行なわれる。
のような一般的な条件を用いて行なわれる。
4″−ヒドロキシル保護基はマク側ライドの技術分野で
よく知られた多くの保護基のうちから選択されるが、先
に述べたように本発明で使用するにはtert−ブチル
ジメチルシリル基が最も好ましいものである、 20−イミノ−20−デオキソ誘導体として保護された
20−アルデヒド基をもつことは、また4′′/−ヒド
ロキシル基の保護反応中に生成されるアルデヒド−誘導
副生物を排除して、所望の4″−ヒドロキシル保護誘導
体をかなりの高収率で得るという利点を有している。
よく知られた多くの保護基のうちから選択されるが、先
に述べたように本発明で使用するにはtert−ブチル
ジメチルシリル基が最も好ましいものである、 20−イミノ−20−デオキソ誘導体として保護された
20−アルデヒド基をもつことは、また4′′/−ヒド
ロキシル基の保護反応中に生成されるアルデヒド−誘導
副生物を排除して、所望の4″−ヒドロキシル保護誘導
体をかなりの高収率で得るという利点を有している。
図式Bの工程B6は工程B2で生成した化合物の2′−
ヒドロキシル基をアシル化するものであり、こうして2
′−アシル−4”−0H−保h−20−イミノー20−
デオキソ−チロシンが生成する。
ヒドロキシル基をアシル化するものであり、こうして2
′−アシル−4”−0H−保h−20−イミノー20−
デオキソ−チロシンが生成する。
このアシル化工程のための反応条件は自戒Aの工程A2
で先に述べたものと本質的に同じである。
で先に述べたものと本質的に同じである。
また、上に示1.たように2′および4“アシル基が同
一である場合に、工程B3と工程B4のそれぞれのアシ
ル化反応を合わせてアシル化剤のモル量を増加しかつピ
リジンのような塩基を触媒として加えるだけで洋−の工
程B3/としてもよい。
一である場合に、工程B3と工程B4のそれぞれのアシ
ル化反応を合わせてアシル化剤のモル量を増加しかつピ
リジンのような塩基を触媒として加えるだけで洋−の工
程B3/としてもよい。
2′−アシル−4”’−0H−保護−20−イミノー2
0−デオキソ−チロシンはその後工程B4において4“
−ヒドロキシル位置(および任意に6“−位置)でアシ
ル化されて、4“−アシル−2′−アシル−4“′−0
H−保護−20−イミノー20−デオキソ−チロシンを
生成する。4“−および6“−アシル什のための反応条
件は図式Aの工程A3で先に述べたものと実質的に同じ
である。
0−デオキソ−チロシンはその後工程B4において4“
−ヒドロキシル位置(および任意に6“−位置)でアシ
ル化されて、4“−アシル−2′−アシル−4“′−0
H−保護−20−イミノー20−デオキソ−チロシンを
生成する。4“−および6“−アシル什のための反応条
件は図式Aの工程A3で先に述べたものと実質的に同じ
である。
図式へのところで述べたように、ろ“−アシル基の付加
以前に3−ヒドロキシル基は好ましくはブロックされる
べきである。
以前に3−ヒドロキシル基は好ましくはブロックされる
べきである。
図式Bの工程B5は4“′−ヒ1゛ロキシグ・保腔基の
除去な行うものでキ・す、こうし7て所望の4“−アシ
ル−2′−アシル−20−イミノ−20−デオキソーチ
ロシンが生成する。、−の反応は図式Aの工程A4で使
用したものと同じ条件下に実施さiする。
除去な行うものでキ・す、こうし7て所望の4“−アシ
ル−2′−アシル−20−イミノ−20−デオキソーチ
ロシンが生成する。、−の反応は図式Aの工程A4で使
用したものと同じ条件下に実施さiする。
図式Bの工程B6、これは4〃−アシル−2′−アシル
−20−イミノ−20−デオギソー壬ロジンを4″′−
オキソ−2′−アシル−4“−アシル−20−イミノ−
20−デオキソ−チロシンに転化するものであり、図式
Aの工程A6で先に記載した反応条件と本質的に同じ条
件ドのフィッッナーーモファット酸化により実施される
、図式Bの最終工程である工NB7は工程A7で述べた
方法と本質的に同じ方法を用いて2′−アシル基とミシ
ノース糖を除去する。
−20−イミノ−20−デオギソー壬ロジンを4″′−
オキソ−2′−アシル−4“−アシル−20−イミノ−
20−デオキソ−チロシンに転化するものであり、図式
Aの工程A6で先に記載した反応条件と本質的に同じ条
件ドのフィッッナーーモファット酸化により実施される
、図式Bの最終工程である工NB7は工程A7で述べた
方法と本質的に同じ方法を用いて2′−アシル基とミシ
ノース糖を除去する。
図式C
チロシン
20−イミノ−20−デオキソ−チロシン4“−アシル
−6″−アシル−20−イミノ−2U−デオキソー−イ
ミノー20−デオキソ−チロメン 図式Cば、図式Bと同様に、式H2−R5(ここでR5
は先に定義した通りである)の″′1−アミノ反応剤”
と反応させてチロシンを20−イミノ−20−デオキソ
−チロシンに転化することにより開始される。この工程
C1のための反応条件は図式Bの工程B1で先に述べた
ものと本質的に同じである。
−6″−アシル−20−イミノ−2U−デオキソー−イ
ミノー20−デオキソ−チロメン 図式Cば、図式Bと同様に、式H2−R5(ここでR5
は先に定義した通りである)の″′1−アミノ反応剤”
と反応させてチロシンを20−イミノ−20−デオキソ
−チロシンに転化することにより開始される。この工程
C1のための反応条件は図式Bの工程B1で先に述べた
ものと本質的に同じである。
図式Cの工程2では3.2’、4“および4“′−ヒド
ロキシル基を同時にアシル化する。この反応は図式Aの
工程A2およびA5または図式Bの工程B6およびR4
で先に述べたものと同様の反応時間および反応温度を使
って実施されるが、アシル化剤と塩基性試薬のモル量を
通常約5〜20当量までかなり増加させて行われる、こ
うして、この工程において3.2’、4“、4″−テト
ラアシル−20−イミノ−20−デオキンーチロシンが
生成する。
ロキシル基を同時にアシル化する。この反応は図式Aの
工程A2およびA5または図式Bの工程B6およびR4
で先に述べたものと同様の反応時間および反応温度を使
って実施されるが、アシル化剤と塩基性試薬のモル量を
通常約5〜20当量までかなり増加させて行われる、こ
うして、この工程において3.2’、4“、4″−テト
ラアシル−20−イミノ−20−デオキンーチロシンが
生成する。
図式Cの工程3では4“−アシル基を新しい4″−アシ
ル基で置換して、もとの4″−アシル基を6“−ヒドロ
キシル基にアシル転移する。このアシル転移反に;は4
“−第二ヒドロキシル基と6“−第三シスヒドロ潔−シ
ル基との反応性の差異により可能となるものである。〔
例えば、Jaret等にょるJ、Chem、Soc +
l (e)、 1674 バージ(1975年)を参
照されたい。〕新しいアシル化剤は大過剰モル量(一般
には5〜10当量)を使用し、温度範囲は80°Cから
溶媒の還流温度までである。代表的にはe6 リジンが
溶媒として使用され、これはまた塩基性試薬の役割をも
果すのでこの反応は約110℃(ピリジンの還流)で進
行する。代表的な反応時間は12〜24時間である。
ル基で置換して、もとの4″−アシル基を6“−ヒドロ
キシル基にアシル転移する。このアシル転移反に;は4
“−第二ヒドロキシル基と6“−第三シスヒドロ潔−シ
ル基との反応性の差異により可能となるものである。〔
例えば、Jaret等にょるJ、Chem、Soc +
l (e)、 1674 バージ(1975年)を参
照されたい。〕新しいアシル化剤は大過剰モル量(一般
には5〜10当量)を使用し、温度範囲は80°Cから
溶媒の還流温度までである。代表的にはe6 リジンが
溶媒として使用され、これはまた塩基性試薬の役割をも
果すのでこの反応は約110℃(ピリジンの還流)で進
行する。代表的な反応時間は12〜24時間である。
こうして、工程Cろでは47−アシル−ろ、2′。
z、l/、 74///−テトラアシル−20−イミノ
−20−デオキソ−チロシン(ここで47−アシル基は
6゜2′、3“ 4///−アシル基と異なるものであ
る)が生成されろ。
−20−デオキソ−チロシン(ここで47−アシル基は
6゜2′、3“ 4///−アシル基と異なるものであ
る)が生成されろ。
工程C4では4”、 3および2′アシル基が有機塩基
(代表的にはトリエチルアミン)の添加により除去され
る。代表的な溶媒はメタノールのようなものであり、代
表的な温度範囲は25〜60°Cである。この反応は4
“′、3および2′−アシル基の除去が完了しかつ所望
の4″−アシル−6″−アシルー20−イミノ−20−
デオキソ−チロシンが生成するのを決定ずけるために監
視される。
(代表的にはトリエチルアミン)の添加により除去され
る。代表的な溶媒はメタノールのようなものであり、代
表的な温度範囲は25〜60°Cである。この反応は4
“′、3および2′−アシル基の除去が完了しかつ所望
の4″−アシル−6″−アシルー20−イミノ−20−
デオキソ−チロシンが生成するのを決定ずけるために監
視される。
工程C5のフイツツナーーモフ了ットヤ化は図式Aの工
程A6で先に述べた方法と本質的に同じ方法で行われる
。
程A6で先に述べた方法と本質的に同じ方法で行われる
。
工程C6ではミシノース糖と2′−アシル基が除去され
て所望の26−脱ミシノシル−4“−アシ/I/−3“
−アシル−20−イミノ−20−デオキソ−チロシンが
生成する。この工程は図式Aの工程A7で先に述べた方
法に従って実施されろ。
て所望の26−脱ミシノシル−4“−アシ/I/−3“
−アシル−20−イミノ−20−デオキソ−チロシンが
生成する。この工程は図式Aの工程A7で先に述べた方
法に従って実施されろ。
図式D
オギソーチロシン
ミノ−20−デオギソーチロシン
図式りは図式Bの工程B1〜Bろで先に述べた方法を使
用して千ロジンを2′ −アシル−4“′−0H−保縛
−20−イミノー20−デオキソ−チロシンに転化する
ことにより開始する。2′−アシル−4”−0H−保護
−20−イミノ−20−デオキソ−チロシンはその後工
程D1にお℃・て2′−アシルー4”−0H−保護一ろ
“、4“−カル、(ぜニル−20−イミノ−20−デオ
キンーチロシンに転化される。この転化反応は通常蕪水
のジクロロメタンのような不活性溶媒中N、N′−カル
ボニルジイミダゾールを使用して実施さハど)。代表的
な反応時間は12〜30時間であり、代表的な反応湿度
は約O−ろ0℃である。
用して千ロジンを2′ −アシル−4“′−0H−保縛
−20−イミノー20−デオキソ−チロシンに転化する
ことにより開始する。2′−アシル−4”−0H−保護
−20−イミノ−20−デオキソ−チロシンはその後工
程D1にお℃・て2′−アシルー4”−0H−保護一ろ
“、4“−カル、(ぜニル−20−イミノ−20−デオ
キンーチロシンに転化される。この転化反応は通常蕪水
のジクロロメタンのような不活性溶媒中N、N′−カル
ボニルジイミダゾールを使用して実施さハど)。代表的
な反応時間は12〜30時間であり、代表的な反応湿度
は約O−ろ0℃である。
図式りの二[程D2では4″−ヒドロキシル保護基を除
去して所望の2′−アシル−ろ//、IJ//−カルボ
ニル−20−イミノ−20−デオキソ−チロシンを得る
。この反応は図式Aの]−程A4で使用したものと同じ
反応条件下に実施される。
去して所望の2′−アシル−ろ//、IJ//−カルボ
ニル−20−イミノ−20−デオキソ−チロシンを得る
。この反応は図式Aの]−程A4で使用したものと同じ
反応条件下に実施される。
工程D3のフイツツナーーモファット酸化は図式へのゴ
ー程A6で述べたものと本質的に同じ方法で行われる。
ー程A6で述べたものと本質的に同じ方法で行われる。
工程D4では図式Aの工程A7で先に記載したようにし
てミシノース響と2′−アシル基が除去される。
てミシノース響と2′−アシル基が除去される。
図式E
チロシン
4”−0H−保護−チロジン
−へミアセタール
2ろ一〇−説、ミシノンルーチロシン(2,’S−DM
T)図式Eの2P一工程(工程E1)は図式Aと同様に
チロシンを4“′−0H−保護−チロシンに転化するこ
とにより開始される。試薬および反応条件は図式Aの工
程A1で先に述べたものと同じである。
T)図式Eの2P一工程(工程E1)は図式Aと同様に
チロシンを4“′−0H−保護−チロシンに転化するこ
とにより開始される。試薬および反応条件は図式Aの工
程A1で先に述べたものと同じである。
図式Eの工程E2では同時に6,20−へミアセクール
を生成しかつ20.2’および4“−ヒドロキシル基を
アシル化することにより、4“’−0H−保護−チロシ
ンを20.2’、4“−トリアジル−4ttt −0H
−保4−チロシン−5,20−へミアセクールに転化さ
れろ。この反応は塩基の存在下に適当な酸無水物を過剰
モル量使用して実施される。好ましい塩基は無水炭酸カ
リウムのような無機塩基であり、これもまた過剰モル量
で使用される。反応温度は50〜100℃であり、反応
時間は5〜12時間である。
を生成しかつ20.2’および4“−ヒドロキシル基を
アシル化することにより、4“’−0H−保護−チロシ
ンを20.2’、4“−トリアジル−4ttt −0H
−保4−チロシン−5,20−へミアセクールに転化さ
れろ。この反応は塩基の存在下に適当な酸無水物を過剰
モル量使用して実施される。好ましい塩基は無水炭酸カ
リウムのような無機塩基であり、これもまた過剰モル量
で使用される。反応温度は50〜100℃であり、反応
時間は5〜12時間である。
図式Eの工程E3においてば4“′−ヒドロギシル保護
基を除去して20.2’ 、 4″−) 1.1アシル
−チロシン−6,20−ヘミアセクールを得る。こオt
は図式Aの工程A4で先に述べたもσ)と実質的に同じ
方法で行われる。
基を除去して20.2’ 、 4″−) 1.1アシル
−チロシン−6,20−ヘミアセクールを得る。こオt
は図式Aの工程A4で先に述べたもσ)と実質的に同じ
方法で行われる。
図式Eの一工程E4はフイツツナーーモファット酸化で
あり、これにより4″−オキソ−20,2’。
あり、これにより4″−オキソ−20,2’。
4“−トリアジル−チロシン−3,20−へミーアセタ
ールが生ずる。この工程は図式への工程A6で先に述べ
たものと本質的に同じ方法で実施される。
ールが生ずる。この工程は図式への工程A6で先に述べ
たものと本質的に同じ方法で実施される。
工程E5において、ミシノース糖と20.2’ 、 4
”−アシル基の全ては同時に4″′−オキソ−20,’
:)’。
”−アシル基の全ては同時に4″′−オキソ−20,’
:)’。
4“−トリアジル−チロシン−3,20−−、ミアセタ
ールから除去され、こうして次式で示される25−説ミ
ジノシルーチロシンll後時々23−DMTと略述する
)が生ずる1、 七の除去反応は一般に4′″−オキソ−70,2’。
ールから除去され、こうして次式で示される25−説ミ
ジノシルーチロシンll後時々23−DMTと略述する
)が生ずる1、 七の除去反応は一般に4′″−オキソ−70,2’。
4“−トリアジル−チロシン−3,20−へミアセター
ルを1〜5%メタノール性水酸化すトリウムと室温で1
5〜60分間処理し、続いて少量の有機塩基を含有する
アルコール系溶媒(代表的にはトリエチルアミン含有メ
タノール)に溶解して還流温度で12〜24時間加熱す
ること姥より行われる。
ルを1〜5%メタノール性水酸化すトリウムと室温で1
5〜60分間処理し、続いて少量の有機塩基を含有する
アルコール系溶媒(代表的にはトリエチルアミン含有メ
タノール)に溶解して還流温度で12〜24時間加熱す
ること姥より行われる。
図式Eの工程E6において、2ろ一説ミジノシルーチロ
シンの20アルデヒl−基は図式Bの工程B1で先に述
べた方法に従って″1−アミノ反応剤”と反応して20
−イミノ−20−デオキソ−26−説ミシノシルーチロ
シンを生成する。
シンの20アルデヒl−基は図式Bの工程B1で先に述
べた方法に従って″1−アミノ反応剤”と反応して20
−イミノ−20−デオキソ−26−説ミシノシルーチロ
シンを生成する。
FS?I式Fは23− 脱ミシノシルーチロシンの26
−ヒドロキシル基を保誇することにより開始する、この
ヒドロキシル保獲反応はそめ技術分野で1(知られた多
数の方法で実施することが出来るが、代表的には有利な
保護基であるtert−ブチルジメチルシリル基を用い
て行われる、他のこのような保障基と同じように、それ
はイミダゾール、4−ジメチルアミノピリジン、トリエ
チルアミンまたはピリジンのような酸受容体の存在下に
26−脱ミシノシルーチロシンを塩化t、er t、−
ブチルジメチルシリルと反応させることにより最も有利
に23−ヒドロキシル基に付加さね、ろ。好ましくはジ
メチルホルムアミビ、ジクロロメタン土たはテトラヒド
ロフランのごとき無水の溶媒を反応媒体として使用する
。反応は約10〜50℃の温度でおこり、大抵の場合に
室温が満足すべきものである。代表的な反応時間は約1
2〜48時間で糸、る。
−ヒドロキシル基を保誇することにより開始する、この
ヒドロキシル保獲反応はそめ技術分野で1(知られた多
数の方法で実施することが出来るが、代表的には有利な
保護基であるtert−ブチルジメチルシリル基を用い
て行われる、他のこのような保障基と同じように、それ
はイミダゾール、4−ジメチルアミノピリジン、トリエ
チルアミンまたはピリジンのような酸受容体の存在下に
26−脱ミシノシルーチロシンを塩化t、er t、−
ブチルジメチルシリルと反応させることにより最も有利
に23−ヒドロキシル基に付加さね、ろ。好ましくはジ
メチルホルムアミビ、ジクロロメタン土たはテトラヒド
ロフランのごとき無水の溶媒を反応媒体として使用する
。反応は約10〜50℃の温度でおこり、大抵の場合に
室温が満足すべきものである。代表的な反応時間は約1
2〜48時間で糸、る。
図式Fの工程F2は2′−ヒドロキシル基のアシル化を
包含している。この反応は図式Aの工程A2で先に述べ
た方法と本質的に同じ方法で実施できる。
包含している。この反応は図式Aの工程A2で先に述べ
た方法と本質的に同じ方法で実施できる。
図式Fの工程Fろにおいて、2′−アシル−25−OH
−保i−23−脱ミシノシルー千ロジンは4″−ヒト9
0キシル位置でアシル化さ才1て4“−アシル−2′−
アシル−23−0H−保護−26−脱ミシノシルーチロ
シンを生ずる、このアシル化反応は図式Aの工程A6で
先に述べたものと同じ方法で進行する。
−保i−23−脱ミシノシルー千ロジンは4″−ヒト9
0キシル位置でアシル化さ才1て4“−アシル−2′−
アシル−23−0H−保護−26−脱ミシノシルーチロ
シンを生ずる、このアシル化反応は図式Aの工程A6で
先に述べたものと同じ方法で進行する。
また、2′および4“−アシル基が同一である場合に、
工程F2とF6のアシル化反応を合わせて単一の工程と
することがでNる。こねは単にアシル化剤のモル量を増
し、かつヒごリジンのよ5 す塩基触媒を添加すること
により達成される。
工程F2とF6のアシル化反応を合わせて単一の工程と
することがでNる。こねは単にアシル化剤のモル量を増
し、かつヒごリジンのよ5 す塩基触媒を添加すること
により達成される。
ろ、2′および4′Lアシル井が同一である場合に工程
F2、F6およびF4のアシル化反応を合わせて単一の
工程とすることもできる、これはアシル化剤のモル量を
増し、かつピリジン、トリエチルアミン、4−ジメチル
アミノピリジンまたはこれらの混合物のような塩基を加
えることによりなされる。
F2、F6およびF4のアシル化反応を合わせて単一の
工程とすることもできる、これはアシル化剤のモル量を
増し、かつピリジン、トリエチルアミン、4−ジメチル
アミノピリジンまたはこれらの混合物のような塩基を加
えることによりなされる。
図式Fの工fi!F4ではろ一ヒト90キシル基ヲアシ
ル化してろ一アシルー4″−アシルー2′−アシル−2
3−○H−保護−23−説ミジノシル−チロシンを生成
する。一般には、6〜7当量のアシル化剤(例えば無水
酢酸)がピリジンや4−ジメチルアミノピリジンのよう
プf有機塩基の過剰当量と共に用いられる。反応媒体と
してはトリエチルアミンと塩化メチレンのような混合溶
媒をしばしば判知する。反VC;’lIA度は10〜5
0℃であり、反応時間は約18〜24時間であ/)。
ル化してろ一アシルー4″−アシルー2′−アシル−2
3−○H−保護−23−説ミジノシル−チロシンを生成
する。一般には、6〜7当量のアシル化剤(例えば無水
酢酸)がピリジンや4−ジメチルアミノピリジンのよう
プf有機塩基の過剰当量と共に用いられる。反応媒体と
してはトリエチルアミンと塩化メチレンのような混合溶
媒をしばしば判知する。反VC;’lIA度は10〜5
0℃であり、反応時間は約18〜24時間であ/)。
図式Fの工程F5において、26−ヒドロキシル保饅基
は除去されて3−アシル−4″−−γシルー2′−アシ
ルー23− 脱ミシノシルーチロンンが生成する。除去
反応のための条件は使用する保獲基の性質次第で変化す
る。t、 A r +、−ブチルジメチルシリル基を使
用する場合は80%酢酸水溶液で処理することにより都
合よく除去でき7−1゜代表的な反応温度は10〜50
”Cであるが、室温が有利である。反応時間は約1〜
5時間であるが、通常約2時間で反応の完結のためには
十分である。
は除去されて3−アシル−4″−−γシルー2′−アシ
ルー23− 脱ミシノシルーチロンンが生成する。除去
反応のための条件は使用する保獲基の性質次第で変化す
る。t、 A r +、−ブチルジメチルシリル基を使
用する場合は80%酢酸水溶液で処理することにより都
合よく除去でき7−1゜代表的な反応温度は10〜50
”Cであるが、室温が有利である。反応時間は約1〜
5時間であるが、通常約2時間で反応の完結のためには
十分である。
図式Fの■二程F6ば2′−アシル基の任意の除去反応
1/(関するものである。代表的には成分をメタ/−f
i/に溶丁QrI′I、Y−0〜50°(″/〕湛度、
好−? L <は室温で1〜5日間攪拌することに2L
り除去さ第1ろ−アシルー4″−アシルー23−説ミジ
ノシル−チロシン欠相ずるー 図式Fの工程F 7 K :r6いて、ろ−アシルー4
″−アシル−2ろ一説、ミシノシルー千ロジンの2 (
)−アルデヒド基は図式Bの工程B1で先に述べたノ5
法に従って′1−アアミノ応剤”と反)、6してその誘
導体に転化され、こうして所望の20−イミノ−20−
デメキソー5−アシルー4″、−アシル−23−0−脱
ミシノシルーチロシンヶ生じ、これは任意に2′−アシ
ル基を含むことが出来る、図式Fの工程F5’、F6.
’およびF7’は工程F5、F6およびF7のところで
先に記載した方法と本Jm的に同じ方法で4″−アシル
−2′−アシル−23−OH−保護−26−脱ミシノシ
ルーチロシンを用いて実施され、そねぞれ2′−アシル
−4“−アシル−23−脱ミシノシルーチロシン、4“
−アシル−23−脱ミシノシルーチロシン寸、)よび2
[]−]イミノー21−7’ナキンー4“−アシル−2
3−11Rミシノシルーチロシンが生成する。
1/(関するものである。代表的には成分をメタ/−f
i/に溶丁QrI′I、Y−0〜50°(″/〕湛度、
好−? L <は室温で1〜5日間攪拌することに2L
り除去さ第1ろ−アシルー4″−アシルー23−説ミジ
ノシル−チロシン欠相ずるー 図式Fの工程F 7 K :r6いて、ろ−アシルー4
″−アシル−2ろ一説、ミシノシルー千ロジンの2 (
)−アルデヒド基は図式Bの工程B1で先に述べたノ5
法に従って′1−アアミノ応剤”と反)、6してその誘
導体に転化され、こうして所望の20−イミノ−20−
デメキソー5−アシルー4″、−アシル−23−0−脱
ミシノシルーチロシンヶ生じ、これは任意に2′−アシ
ル基を含むことが出来る、図式Fの工程F5’、F6.
’およびF7’は工程F5、F6およびF7のところで
先に記載した方法と本Jm的に同じ方法で4″−アシル
−2′−アシル−23−OH−保護−26−脱ミシノシ
ルーチロシンを用いて実施され、そねぞれ2′−アシル
−4“−アシル−23−脱ミシノシルーチロシン、4“
−アシル−23−脱ミシノシルーチロシン寸、)よび2
[]−]イミノー21−7’ナキンー4“−アシル−2
3−11Rミシノシルーチロシンが生成する。
別の方71:と1−1て、工程F1〜F6は出発物質と
して2D−イミノ−20−デシ−キン−26−脱ミシノ
シルーチロシンを用いて実施すると同じ所望生成物が得
ら第1ろ。
して2D−イミノ−20−デシ−キン−26−脱ミシノ
シルーチロシンを用いて実施すると同じ所望生成物が得
ら第1ろ。
図式c′!
20−イミノ−20−デオギソー23−DMT[&11
00工程G1において、2ろ一説ミジノシルーチロシン
の20−アルデヒド基は図式Bの工程B1で先に述べた
方法に従って″1−アミノ反応剤”と反応してその誘導
体に転化され、20−イミノ−20−デオキソ−23−
説εジノシル−チロシンを生じる。
00工程G1において、2ろ一説ミジノシルーチロシン
の20−アルデヒド基は図式Bの工程B1で先に述べた
方法に従って″1−アミノ反応剤”と反応してその誘導
体に転化され、20−イミノ−20−デオキソ−23−
説εジノシル−チロシンを生じる。
M弐Gの工程G2はろ、 23.7’および4“−ヒト
50キシル基の同時アシルを包含し、3.23.2’
。
50キシル基の同時アシルを包含し、3.23.2’
。
4“−テトラアシル−20−イミノ−20−デオキソ−
26−脱ミシノシルーチロシン火生成する、こ第1−は
大過剰モル酸(一般には5〜15当量)のアシル化剤お
よび大過剰モル量(これも5〜15当量)の塩基を添加
することにより有利に行われろ。適当な塩基はピリジン
、トリエチルアミンおよび4−ジメチルアミノピリジン
のような有機塩基である。済媒は塩化メチレン、クロロ
ホツノ、またはこれらの混合物のようなものである。代
表的な反応時間は12〜66時間であり、代表的な反応
温度は10〜50℃であって特に室温が好まし℃X。
26−脱ミシノシルーチロシン火生成する、こ第1−は
大過剰モル酸(一般には5〜15当量)のアシル化剤お
よび大過剰モル量(これも5〜15当量)の塩基を添加
することにより有利に行われろ。適当な塩基はピリジン
、トリエチルアミンおよび4−ジメチルアミノピリジン
のような有機塩基である。済媒は塩化メチレン、クロロ
ホツノ、またはこれらの混合物のようなものである。代
表的な反応時間は12〜66時間であり、代表的な反応
温度は10〜50℃であって特に室温が好まし℃X。
図式Gの工程G3においては、新しい4“−アシル基が
付加されてもとの4“−アシル基は6“−アシル浩にア
シル転移される。このアシル転移反応は図式Cの工程G
3で先に述べた方法と本質的に同じ方法で実施され、4
″−アシル−ろ、26゜2′、3“−テトラアシル−2
0−イミノ−20−デオキソ−26−説ミシノシルーチ
ロシンヲ生スる。
付加されてもとの4“−アシル基は6“−アシル浩にア
シル転移される。このアシル転移反応は図式Cの工程G
3で先に述べた方法と本質的に同じ方法で実施され、4
″−アシル−ろ、26゜2′、3“−テトラアシル−2
0−イミノ−20−デオキソ−26−説ミシノシルーチ
ロシンヲ生スる。
図式qの工程G4においては2′および26−アシル基
を除去して47−アシル−6,6“−ジアシル−20−
イミノ−20−デA−キソー26−脱ミシノシルーチロ
シンケ得ろ。この除去反応は仕合物をメタノールおよび
トリエチルアミン中に溶解して次第に室ン易から約60
〜70 ’Cに加熱することにより実施さ才する。反応
の完了は薄層クロマトグラノィーにより監視され、この
時点で反応混合物から所望生成物な単離する。
を除去して47−アシル−6,6“−ジアシル−20−
イミノ−20−デA−キソー26−脱ミシノシルーチロ
シンケ得ろ。この除去反応は仕合物をメタノールおよび
トリエチルアミン中に溶解して次第に室ン易から約60
〜70 ’Cに加熱することにより実施さ才する。反応
の完了は薄層クロマトグラノィーにより監視され、この
時点で反応混合物から所望生成物な単離する。
工程G4の別法として、−上記反1.j;を引き続き行
って2′および23−アシル基と同様にろ−アシル基を
除去する。こり、は図式Gに工程G4’ として示され
る。条件は反応時間の長さを除(・て工程G4と同じで
あり、こうして4“−アシル−ろ“−アシンー20−イ
ミノー20−デオキソ−23−0−脱ミジノシルーチロ
シンが生成する。
って2′および23−アシル基と同様にろ−アシル基を
除去する。こり、は図式Gに工程G4’ として示され
る。条件は反応時間の長さを除(・て工程G4と同じで
あり、こうして4“−アシル−ろ“−アシンー20−イ
ミノー20−デオキソ−23−0−脱ミジノシルーチロ
シンが生成する。
もう一つには図式Gの工程G2.G3.G4およびG4
′を出発物質として26−説ミシノシルーチロシンを用
いて実施し、4″−アシル−3,6“−ジアシル−26
−脱ミシノシルーチロシンまたは4“−アシル−6″−
アシル−2る一説ミジノシルーチロシンのいずれか火製
造し、これはその後図式Bの工程B1に記載したように
20−アルデヒド位置でその誘導体に転化さ才1.る7
この合成経路は図式G″′C′C製造のと同じ仕合物j
をもたら1゜ 図式Hの工程HIにおいて、23−説ミジノシルーチロ
シンの20−アルデヒド基は図式Bの工程B1で先に詳
述した方法に従って“1−アミノ反応剤”と反〔t;シ
てその誘導体に転化され、20−イミノ−20−デオキ
ソ−23−脱ミジノシルーチロシンが生成する。
′を出発物質として26−説ミシノシルーチロシンを用
いて実施し、4″−アシル−3,6“−ジアシル−26
−脱ミシノシルーチロシンまたは4“−アシル−6″−
アシル−2る一説ミジノシルーチロシンのいずれか火製
造し、これはその後図式Bの工程B1に記載したように
20−アルデヒド位置でその誘導体に転化さ才1.る7
この合成経路は図式G″′C′C製造のと同じ仕合物j
をもたら1゜ 図式Hの工程HIにおいて、23−説ミジノシルーチロ
シンの20−アルデヒド基は図式Bの工程B1で先に詳
述した方法に従って“1−アミノ反応剤”と反〔t;シ
てその誘導体に転化され、20−イミノ−20−デオキ
ソ−23−脱ミジノシルーチロシンが生成する。
図式Hの工程H2は26−ヒドロキシル基の保護を包含
する。通常のヒドロキシル保護基はこの目的のためにど
れも使用できるが、図式Aの工程A1で先に述べたよう
にuert−ブチルジメチルシリル基が最も好ましいも
のである、この保護反応のための条件は本質的に図式A
の工程A1で述べた通りである。
する。通常のヒドロキシル保護基はこの目的のためにど
れも使用できるが、図式Aの工程A1で先に述べたよう
にuert−ブチルジメチルシリル基が最も好ましいも
のである、この保護反応のための条件は本質的に図式A
の工程A1で述べた通りである。
図式Hの工程H6では20−イミノ−20−デオキソ−
26−OH−保護−26−脱ミシノシルチロシンの2′
−ヒドロキシル基をアシル化して2′−アシル−20−
イミノ−20−デオキソ−23−OH−保護−23−脱
ミジノシルチロシン欠得る。これは図式Aの工程A2で
先に述べた方法と本質的に同じ方法で行われる。
26−OH−保護−26−脱ミシノシルチロシンの2′
−ヒドロキシル基をアシル化して2′−アシル−20−
イミノ−20−デオキソ−23−OH−保護−23−脱
ミジノシルチロシン欠得る。これは図式Aの工程A2で
先に述べた方法と本質的に同じ方法で行われる。
図式Hの二[稈H4において、2′−アシル−20−イ
ミノ−20−デオキソ−23−OH−保ta −23−
脱ミシノシルチロシンは4“−ヒドロキシル基Rでアシ
ル化されて4″−アシル−2′−アシル−20−イミノ
−20−デオキソ−27)−OH−保1−26−脱ミシ
ノシルチロシン火生ずる。このアシル化反応は図式への
工程Aろで先に述べた方法と同じ方法で進行する、 2′および4″−アシル基が同じものである場合に、工
程H6とH4のアシル化ケ組合せてもよい。これは図式
Fで先に述べた方法と実質的に同じ方法で達成される。
ミノ−20−デオキソ−23−OH−保ta −23−
脱ミシノシルチロシンは4“−ヒドロキシル基Rでアシ
ル化されて4″−アシル−2′−アシル−20−イミノ
−20−デオキソ−27)−OH−保1−26−脱ミシ
ノシルチロシン火生ずる。このアシル化反応は図式への
工程Aろで先に述べた方法と同じ方法で進行する、 2′および4″−アシル基が同じものである場合に、工
程H6とH4のアシル化ケ組合せてもよい。これは図式
Fで先に述べた方法と実質的に同じ方法で達成される。
図式Hの工程H5ではろ一ヒドロキシル基がアシル化す
れてろ一アシルー2′−アシルー4“−アシル−20−
イミノ−20−デオキンー26−OH−保m−23−脱
ミジノシルチロシンが生ずる。この工程のための反応条
件は実質的に図式Fの工程F4で先に述べた通りである
。
れてろ一アシルー2′−アシルー4“−アシル−20−
イミノ−20−デオキンー26−OH−保m−23−脱
ミジノシルチロシンが生ずる。この工程のための反応条
件は実質的に図式Fの工程F4で先に述べた通りである
。
最終生成物における所望の2′、4“および6−アシル
基が同一である場合に、■稈Hろ、H4およびH5を合
わせた単一の工程で所望生成物を得ることが出来ろ。こ
れは図式Fで先に述べた通りにして達成される。
基が同一である場合に、■稈Hろ、H4およびH5を合
わせた単一の工程で所望生成物を得ることが出来ろ。こ
れは図式Fで先に述べた通りにして達成される。
別法トしてろ一ヒドロキシル基はアシル化されるよりも
むしろ保護される(工程H5′ )。これはまた図式A
の工程A1で先に述べたものと同じ方法で有利に行われ
、5−0H−保護−2′−アシル−4“−アシル−20
−イミノ−20−デオキソ−26−OH−保f−j−2
3−説ミジノシル千ロジンが生ずる、 工程H6では6“−ヒドロキシル基欠アシル化する。一
般的にはアシル什剤として酸塩化物が使用され、有機塩
基とt7てはトリズンジルアミンが使用される。非極性
の有機溶媒はどれもこの反応にとって適当である。
むしろ保護される(工程H5′ )。これはまた図式A
の工程A1で先に述べたものと同じ方法で有利に行われ
、5−0H−保護−2′−アシル−4“−アシル−20
−イミノ−20−デオキソ−26−OH−保f−j−2
3−説ミジノシル千ロジンが生ずる、 工程H6では6“−ヒドロキシル基欠アシル化する。一
般的にはアシル什剤として酸塩化物が使用され、有機塩
基とt7てはトリズンジルアミンが使用される。非極性
の有機溶媒はどれもこの反応にとって適当である。
図式Hの工程H7およびI(7’において、26−ヒド
ロキシル保護基が除去されろ。工程H7では6−ア′シ
ル基が存在するために、80%酢酸水溶液のような緩和
な保護基除去用媒体火使用しなければならない、工程H
7’のように3−ヒドロキシル保護基の除去が望ま1す
る場合Cては、その保護基除去反応は図式Aの工8A4
で先に述べたようなフッ化物イオンを使用して達成する
ことが出来ろ。
ロキシル保護基が除去されろ。工程H7では6−ア′シ
ル基が存在するために、80%酢酸水溶液のような緩和
な保護基除去用媒体火使用しなければならない、工程H
7’のように3−ヒドロキシル保護基の除去が望ま1す
る場合Cては、その保護基除去反応は図式Aの工8A4
で先に述べたようなフッ化物イオンを使用して達成する
ことが出来ろ。
工程H8では2′ −アシル基を任意に除去する。
そのような除去を望む場合に、それは図式Bの工程B6
で先に述べたものと木質的に同じ方法で実施され、所望
の3−7ツルー6′Lアシル−4′4アシル−20−イ
ミノ−20−デオキソ−23−説ミジノシル−チロシン
かまたはろ“−アシル−4″−アシル−20−イミノ−
20−デオキソ−23−脱ミジノシルーチロシンが生成
す6゜ 別の方法として、工程H2〜H8は出発物質として2ろ
一説ミジノシルーチロシンを用いて実施し、その後に2
0−イミノ−20−デオギン化合物に誘導され得ろ化合
物火生成してもよい。
で先に述べたものと木質的に同じ方法で実施され、所望
の3−7ツルー6′Lアシル−4′4アシル−20−イ
ミノ−20−デオキソ−23−説ミジノシル−チロシン
かまたはろ“−アシル−4″−アシル−20−イミノ−
20−デオキソ−23−脱ミジノシルーチロシンが生成
す6゜ 別の方法として、工程H2〜H8は出発物質として2ろ
一説ミジノシルーチロシンを用いて実施し、その後に2
0−イミノ−20−デオギン化合物に誘導され得ろ化合
物火生成してもよい。
図式Iは23− 脱ミシノシルーチロシンヲ23−ヨー
ド″−26−脱(ミシノシルオキシ)−チロシンに転化
することにより開始する。一般に、ヨウ素化はヨウ化ア
ルコキシホスホニウム試薬、例エバヨウ化メチルトリフ
エノキシホスホニウムを使用して実施される。トリフェ
ニルホスフィンとヨウ素もまた使用できる。無水の有機
溶媒はどれも利用できるが、ジメチルホルムアミド8の
よ5 す極性溶媒が好ましい。反応時間は約2〜10時
間であり、反応温度は約10〜50℃であって一般には
室温が有利である。
ド″−26−脱(ミシノシルオキシ)−チロシンに転化
することにより開始する。一般に、ヨウ素化はヨウ化ア
ルコキシホスホニウム試薬、例エバヨウ化メチルトリフ
エノキシホスホニウムを使用して実施される。トリフェ
ニルホスフィンとヨウ素もまた使用できる。無水の有機
溶媒はどれも利用できるが、ジメチルホルムアミド8の
よ5 す極性溶媒が好ましい。反応時間は約2〜10時
間であり、反応温度は約10〜50℃であって一般には
室温が有利である。
任意に20−アルデヒド基はヨウ素化反応の前に当該技
術で知られた慣用方法のいずれがで、例えば20−ジメ
チルアセクールとして保護されてもよい。その保護基は
その後除去されて20−アルデヒド誘導体を生ずる。
術で知られた慣用方法のいずれがで、例えば20−ジメ
チルアセクールとして保護されてもよい。その保護基は
その後除去されて20−アルデヒド誘導体を生ずる。
図式■の工程工2において、23−ヨード置換基は水素
原子で置換されて23−メチル基を生じその結果状の構
造式を有する26−説(ミシノシルオキシ)−チロシン
が製造され、これは時々23−DMOTと略述される。
原子で置換されて23−メチル基を生じその結果状の構
造式を有する26−説(ミシノシルオキシ)−チロシン
が製造され、これは時々23−DMOTと略述される。
この反応は水素化トリn−ブチル錫のような適当な脱ヨ
ウ素化試薬な用いて行われる。好ましくは不活性雰囲気
を維持して副反応を最小限にする。
ウ素化試薬な用いて行われる。好ましくは不活性雰囲気
を維持して副反応を最小限にする。
適当な溶媒は無水の不活性有機溶媒であるがテトラヒド
ロフランが有利である。反応温度は約50°Cから溶媒
の還流温度までであり、反応時間は12〜24時間であ
る。
ロフランが有利である。反応温度は約50°Cから溶媒
の還流温度までであり、反応時間は12〜24時間であ
る。
工程■6では2′−ヒドロキシル基がアシル化されて2
′−アシル−23−説(ミシノシルオキシ)−チロシン
を生じる。これは図式Aの工程A2で先に述べた方法と
本質的に同じ方法で実施される。
′−アシル−23−説(ミシノシルオキシ)−チロシン
を生じる。これは図式Aの工程A2で先に述べた方法と
本質的に同じ方法で実施される。
工程工4にオdいて、4″−ヒト80キシル基は図式A
の工程Aろで詳述した方法に従ってアシル化され、4″
−アシル−2′−アシル−23−説(ミシノシルオキシ
)−チロシンを与エル。
の工程Aろで詳述した方法に従ってアシル化され、4″
−アシル−2′−アシル−23−説(ミシノシルオキシ
)−チロシンを与エル。
4″−ヒドロキシル基のアシル化に続いて、図式10工
程15で6−ヒト80キシル基YM式Aの工程Alの方
法と実質的に同じ方法で任意にアシル化する。(図式A
の工程A6の説明を参照されたい。)ろ−ヒドロキシル
基がアシル化さ才1.る場合にはろ−アシルー4“−ア
シル−2′−アシル−23−脱(ミシノシルオキシ)−
チロシンが製造される。
程15で6−ヒト80キシル基YM式Aの工程Alの方
法と実質的に同じ方法で任意にアシル化する。(図式A
の工程A6の説明を参照されたい。)ろ−ヒドロキシル
基がアシル化さ才1.る場合にはろ−アシルー4“−ア
シル−2′−アシル−23−脱(ミシノシルオキシ)−
チロシンが製造される。
ま1こ、6,21および4“−アシル基が1ij−であ
る場合に、図式Fと同様に、アシル化剤のモル量ヲ増し
かつピリジン、トリエチルアミン、4−ジメチルアミノ
ピリジンまたはこれらの混合物のような塩基な加えるだ
けで、■程■4、工5および■6のそjtぞれのアシル
化を合わせて単一の工程とすることが出来る。
る場合に、図式Fと同様に、アシル化剤のモル量ヲ増し
かつピリジン、トリエチルアミン、4−ジメチルアミノ
ピリジンまたはこれらの混合物のような塩基な加えるだ
けで、■程■4、工5および■6のそjtぞれのアシル
化を合わせて単一の工程とすることが出来る。
2′および4“−アシル基が同一である場合に工程■4
および工5のアシル化もまた図式Bで述べたようにアシ
ル化剤のモル量夕増しかつ触媒としてピリジンのような
塩基を加えるだけで岸、−の工程に合わぜることか出来
ろ。
および工5のアシル化もまた図式Bで述べたようにアシ
ル化剤のモル量夕増しかつ触媒としてピリジンのような
塩基を加えるだけで岸、−の工程に合わぜることか出来
ろ。
別法と【7て工程15′に示すように、3−ヒドロキシ
ル基は図式Aの工程A1で先に述べた方法に従って適当
な保護基で保護さ第11、ろ−Ol−1−保護−2′−
アシル−4“−アシル−23−説(ミシノシルオキシ)
−チロシンが牛スろ、]二程工6においてろ“−ヒドロ
キシル基は任Xに′アシル化される。こ、f′1は図式
Cの工程c 3アシル転移反応で先に述ベプこ条件下に
進行する、3″−ヒドロキシル基のアシル化が望キAす
る場合に、まス3−11 )ゝロキシル基がアシル化き
チしろか士たは保護されねばなr)ない。
ル基は図式Aの工程A1で先に述べた方法に従って適当
な保護基で保護さ第11、ろ−Ol−1−保護−2′−
アシル−4“−アシル−23−説(ミシノシルオキシ)
−チロシンが牛スろ、]二程工6においてろ“−ヒドロ
キシル基は任Xに′アシル化される。こ、f′1は図式
Cの工程c 3アシル転移反応で先に述ベプこ条件下に
進行する、3″−ヒドロキシル基のアシル化が望キAす
る場合に、まス3−11 )ゝロキシル基がアシル化き
チしろか士たは保護されねばなr)ない。
工程エフば6−ヒドロキシル保護基の除去を包含する。
、−れは図式Hの工程H7で先に述べたのと同じ反応条
件下に行われる一 工程18では5−アシル−4“−アシル−6″−アシル
−2′−アシル−23−脱(ミシノシルオヤシ)チ「1
シンオ・マよびΔ“−アシル−2′−アシル−23−脱
Cミシノシルオキシ)千「1シンまたはその5″−アシ
ル誘導体から2′−アシル基が任意に除去さJする、こ
れは図式Fの工程F6で詳述(−だ方法に従って行われ
ろ。
件下に行われる一 工程18では5−アシル−4“−アシル−6″−アシル
−2′−アシル−23−脱(ミシノシルオヤシ)チ「1
シンオ・マよびΔ“−アシル−2′−アシル−23−脱
Cミシノシルオキシ)千「1シンまたはその5″−アシ
ル誘導体から2′−アシル基が任意に除去さJする、こ
れは図式Fの工程F6で詳述(−だ方法に従って行われ
ろ。
f程T9にr6いて、3−アシル−4“−アシル−23
−脱(ミシノシルオキシ)千ロジンおよび4″−−フル
、n、−23〜脱(ミシノシルオキシ)チロシンまたは
こハらの3″−アシル誘導体の20−アルデヒド基は゛
1−アミノ反応剤”との反応によりその誘導体に転化さ
れる。この反応は図式Bの工程B1で先に述べたものと
木質的に同じ方法で実施され、所望の20−イミノ−2
o−ジオギン−4″−アシルー23−脱(ミシノシルオ
キシ)チロシンおよび20−イミノ−2o−デオキソ−
6−アシル−4“−アシル−23−説(ミシノシルメギ
シ)チロシンまたはこれらの6〃−アシル誘導体が生成
し、これらは任意に2’ −アシル基を含有していても
よい、 別法として20−イミノ−20−デオキソ−23−脱(
ミシノシルオギシ)チロシン(図式Bの工程B1の方法
に従って23−説(ミシノシルオキシ)チロシンの20
−アルデヒド基をその誘導体に転化することにより製造
したもの)は工程F4、F5、F6、F7、F7’で述
べたようにしてアシル化され、所望の20−イミノ−2
θ−デオキソ−アシル誘導体を生ずる。
−脱(ミシノシルオキシ)千ロジンおよび4″−−フル
、n、−23〜脱(ミシノシルオキシ)チロシンまたは
こハらの3″−アシル誘導体の20−アルデヒド基は゛
1−アミノ反応剤”との反応によりその誘導体に転化さ
れる。この反応は図式Bの工程B1で先に述べたものと
木質的に同じ方法で実施され、所望の20−イミノ−2
o−ジオギン−4″−アシルー23−脱(ミシノシルオ
キシ)チロシンおよび20−イミノ−2o−デオキソ−
6−アシル−4“−アシル−23−説(ミシノシルメギ
シ)チロシンまたはこれらの6〃−アシル誘導体が生成
し、これらは任意に2’ −アシル基を含有していても
よい、 別法として20−イミノ−20−デオキソ−23−脱(
ミシノシルオギシ)チロシン(図式Bの工程B1の方法
に従って23−説(ミシノシルオキシ)チロシンの20
−アルデヒド基をその誘導体に転化することにより製造
したもの)は工程F4、F5、F6、F7、F7’で述
べたようにしてアシル化され、所望の20−イミノ−2
θ−デオキソ−アシル誘導体を生ずる。
図式J
23−ハロ誘導体の製造
23−説ミジノシルーチロシン(23−DMT)20−
イミノ−20−デオキソ−ハロー23−DMOTロー2
3−DMOT ロー23−IJMOT
し1式、■において第1工程(工程Jl)は26−ヒド
ロキシル基の26−・・口置換基への転化を包含し、ハ
ロ置換基はフルオロ、クロロ、ブロモまたはロー1’で
ある、26−ヨウ素化は図式Iの工程工1で先に述べた
ようにして達成さね、ろ。2ろ一クロル化は通常のクロ
ル化剤を用(・て行われるが、トリス(ジメチルアミノ
)−燐アミド9/四塩化炭素が有利である。ジメチルホ
ルムアミド9のような無水の有機溶媒火使用することが
好ましい。
イミノ−20−デオキソ−ハロー23−DMOTロー2
3−DMOT ロー23−IJMOT
し1式、■において第1工程(工程Jl)は26−ヒド
ロキシル基の26−・・口置換基への転化を包含し、ハ
ロ置換基はフルオロ、クロロ、ブロモまたはロー1’で
ある、26−ヨウ素化は図式Iの工程工1で先に述べた
ようにして達成さね、ろ。2ろ一クロル化は通常のクロ
ル化剤を用(・て行われるが、トリス(ジメチルアミノ
)−燐アミド9/四塩化炭素が有利である。ジメチルホ
ルムアミド9のような無水の有機溶媒火使用することが
好ましい。
反応時間は12〜66時間であり、反応温度は70〜1
00℃である。23−ブロム化はトリス(ジメチルアミ
ノ)−燐アミド/四臭化炭素を用いて達成される。、−
1:た、ジメチルホルムアミドゝのような飽水の有機溶
媒が使用される1反応基度は約−60〜−30°Cでに
、す、反応時間は一般に約05〜2時間である。2ろ一
フッ素化は2当量のフッ化トリフェニルホスフィンを使
用して実施される。一般1(は無水のアセトニ) IJ
ルのような溶媒ケ使用する。反応時間は4〜20時間で
あり、反応温度は100〜170℃である。
00℃である。23−ブロム化はトリス(ジメチルアミ
ノ)−燐アミド/四臭化炭素を用いて達成される。、−
1:た、ジメチルホルムアミドゝのような飽水の有機溶
媒が使用される1反応基度は約−60〜−30°Cでに
、す、反応時間は一般に約05〜2時間である。2ろ一
フッ素化は2当量のフッ化トリフェニルホスフィンを使
用して実施される。一般1(は無水のアセトニ) IJ
ルのような溶媒ケ使用する。反応時間は4〜20時間で
あり、反応温度は100〜170℃である。
図式Jの工程J1で得られた23−ノ・ロー26−脱(
ミシノシルオキシ)チロシンはその後図式1で26−説
(ミシノシルオキシ)チロシンに利用したものと同一の
反応工程に供せられて、所望の20−イミノ−20−チ
オキソ−6“−アシル−4″−アシル−23−ノ・ロー
26−説(ミシノシルオキシ)チロシンまたは20−イ
ミノ−20−チオキソ−6“−アシル−ろ−アシルー4
″−アシルー26〜ノーロー23− 脱(ミシノシルオ
ギシ)チロシンを生成し、これらのいずれも任意に2′
−アシル基火含むことができる。
ミシノシルオキシ)チロシンはその後図式1で26−説
(ミシノシルオキシ)チロシンに利用したものと同一の
反応工程に供せられて、所望の20−イミノ−20−チ
オキソ−6“−アシル−4″−アシル−23−ノ・ロー
26−説(ミシノシルオキシ)チロシンまたは20−イ
ミノ−20−チオキソ−6“−アシル−ろ−アシルー4
″−アシルー26〜ノーロー23− 脱(ミシノシルオ
ギシ)チロシンを生成し、これらのいずれも任意に2′
−アシル基火含むことができる。
20−アルデヒド基は図式1の説明中で述べたごどく保
挿されてもよく、ノ・ロゲン化の後にその保護基は脱離
されろ。
挿されてもよく、ノ・ロゲン化の後にその保護基は脱離
されろ。
別法として、23−ノ・ロー26−説(ミシノシルオキ
シ)チロシンの20−アルデヒド基はまず第一に図式B
の工程B1で述べた方法に従ってその誘導体に転化され
、その後工程F4、F5、F6およびF7で述べたアシ
ル化反応に供せられて所望の化合vP火生成することが
出来る。
シ)チロシンの20−アルデヒド基はまず第一に図式B
の工程B1で述べた方法に従ってその誘導体に転化され
、その後工程F4、F5、F6およびF7で述べたアシ
ル化反応に供せられて所望の化合vP火生成することが
出来る。
図式にの工程に1は23−〇−説ミジノシルチロシンを
23−ヨーV −23−脱<ミシノシルオキシ)チロシ
ンに転化させる。この転化反応は図式■の工程工1で先
に述べた通りである。所望ならば20−アルデヒド9基
は図式1について述べた通りに保穫されたその後その保
誇基は脱離される。
23−ヨーV −23−脱<ミシノシルオキシ)チロシ
ンに転化させる。この転化反応は図式■の工程工1で先
に述べた通りである。所望ならば20−アルデヒド9基
は図式1について述べた通りに保穫されたその後その保
誇基は脱離される。
工程に2において、23−ヨービー23−説(ミシノシ
ルオギシ)チロシンはその20−アルデヒド位置で誘導
体に転化されて20−イミノ−20−f71′ギソ−2
6−ヨード″−23−脱(ミシノシルオキシ)チロシン
を与える。こオtは図式Bの工程B1のために先に詳述
した方法に従って行われる。
ルオギシ)チロシンはその20−アルデヒド位置で誘導
体に転化されて20−イミノ−20−f71′ギソ−2
6−ヨード″−23−脱(ミシノシルオキシ)チロシン
を与える。こオtは図式Bの工程B1のために先に詳述
した方法に従って行われる。
工程に3に−jdいて、20−イミノ−20−デオキソ
−23−ヨード−26−脱(ミシノシルオギシ)千ロジ
ンは式〔(C1−C6)アルギル’)2NH(ここでア
ルキル基は同じでも異なっていてもよい)のアルギルア
ミンと反応して次式の26−ジアルキルアミノ−20−
イミノ−20−デオキソ−23−説(ミシノシルオキシ
)チロシンを生ずるア談ノ アル和 (20−位Rには代表的な基を記−t)図式にの工程に
4では2′ −ヒト90ギシル基がアシル化されて2′
−アシル−23−ジアルキルアミノ−20−イミノ−2
0−デオキソ−23−DMOT火生ずる。これは図式A
の工程A2で先に述べた方法と実質的に同じ方法で達成
される。
−23−ヨード−26−脱(ミシノシルオギシ)千ロジ
ンは式〔(C1−C6)アルギル’)2NH(ここでア
ルキル基は同じでも異なっていてもよい)のアルギルア
ミンと反応して次式の26−ジアルキルアミノ−20−
イミノ−20−デオキソ−23−説(ミシノシルオキシ
)チロシンを生ずるア談ノ アル和 (20−位Rには代表的な基を記−t)図式にの工程に
4では2′ −ヒト90ギシル基がアシル化されて2′
−アシル−23−ジアルキルアミノ−20−イミノ−2
0−デオキソ−23−DMOT火生ずる。これは図式A
の工程A2で先に述べた方法と実質的に同じ方法で達成
される。
図式にの工程に5において、4“−ヒト90ギシル基は
アシル化されて4“−アシル−2′−アシル−23−ジ
アルキルアミノ−20−イミノ−20−デオキソ−23
−0−脱(ミシノシルオギシ)チロシンが生ずる。この
反応は図式Aの工程A5で先に述べた条件に従って行わ
れる。所望の27−および4“−アシル基が同一である
場合に工程に4およびに5は図式Fの工程F2およびF
3で先に述べたごとく単一の工程に合わせろことが出来
る。
アシル化されて4“−アシル−2′−アシル−23−ジ
アルキルアミノ−20−イミノ−20−デオキソ−23
−0−脱(ミシノシルオギシ)チロシンが生ずる。この
反応は図式Aの工程A5で先に述べた条件に従って行わ
れる。所望の27−および4“−アシル基が同一である
場合に工程に4およびに5は図式Fの工程F2およびF
3で先に述べたごとく単一の工程に合わせろことが出来
る。
4“−ヒドロキシル基のアシル化後に、工程に6におい
てろ−ヒドロキシル基は任意にアシル化される。(図式
への工程A3における説明を参照されたい。)6−ヒト
90キシル基がアシル化すtt ロト3−アシル−4“
−アシル−2′−アシル−2ろ−ジアルキルケミノー2
0−イミ/−20−テオギソー23−説(ミシノシルオ
キシ)チロシンが生成する。このアシル化工程に6は/
)/、4//およびろ一−rシル基が同じである場合に
、図式Fの工程F2、FろおよびF4で先に述べたごと
く工程に4およびに5と組合せることが出来る。
てろ−ヒドロキシル基は任意にアシル化される。(図式
への工程A3における説明を参照されたい。)6−ヒト
90キシル基がアシル化すtt ロト3−アシル−4“
−アシル−2′−アシル−2ろ−ジアルキルケミノー2
0−イミ/−20−テオギソー23−説(ミシノシルオ
キシ)チロシンが生成する。このアシル化工程に6は/
)/、4//およびろ一−rシル基が同じである場合に
、図式Fの工程F2、FろおよびF4で先に述べたごと
く工程に4およびに5と組合せることが出来る。
別法として工程に6/に示すように、6−ヒドロキシル
基は図式Aの工程A1で先に述べた方法に従って適当な
保護基で保護さえし、こうして3−0H−保護−2′−
アシル−4“−アシル−23−ジアルキルアミノ−20
−イミノ−20−デオキ7−23−脱(ミシノシルオキ
シ)チロシンが生ずる。
基は図式Aの工程A1で先に述べた方法に従って適当な
保護基で保護さえし、こうして3−0H−保護−2′−
アシル−4“−アシル−23−ジアルキルアミノ−20
−イミノ−20−デオキ7−23−脱(ミシノシルオキ
シ)チロシンが生ずる。
工程に7において1.’l、 // −1−: )、’
ロヤシル基は任意にアシル化されろ。これは図式Cのア
シル転移工程C3で先に述べた条件下に進行する一’!
、//−ヒト90キシル基のアシル化が望まれろ場合に
、まず第一に6−ヒト゛ロキシル基がアシル化さね2る
かまたは保護されねばならない。
ロヤシル基は任意にアシル化されろ。これは図式Cのア
シル転移工程C3で先に述べた条件下に進行する一’!
、//−ヒト90キシル基のアシル化が望まれろ場合に
、まず第一に6−ヒト゛ロキシル基がアシル化さね2る
かまたは保護されねばならない。
工aK8はろ一1テトロキシル保護基の除去を包含して
いる。これは図式Hの二[程H7で先に述べたものと同
じ反応条件下に達成されろ。
いる。これは図式Hの二[程H7で先に述べたものと同
じ反応条件下に達成されろ。
図式にの工程に9ではろ“−゛アシルー4“−アシル−
2′−アシル−23−シアシャールアミノ−20−イミ
ノ−2[)−デフ1−キン−23−脱(ミシノシルオキ
シ)チロシン、3″−アシル−3−アシル−2′−アシ
ル−4″−アシル−23−ジアルキルアミノ−20−イ
ミノ−20−デオキソ−23−脱(ミシノシルオキシ)
チロシン、4“−アシル−2′−アシル−2ろ一シアル
ギルアミノー20−イミノ−20−デオキソ−23−説
(ミシノシルオキシ)チロシンまたは6−アシル−4“
−アシル−2′−アシル−23−ジアルキルアミノ−2
0−イミノ−20−デオキソ−23−説(ミシノシルオ
キシ)千【コシンから2′−アシル基が任意に除去され
る。これは図式P゛σ)工程F6で詳述した方法に従っ
て行われ、こうして所望の3“−アシル−4“−アシル
−2ろ−ジアルキルアミノー20−イミノ−20−デメ
偶・ソー23− 脱(ミシノシルオギシ)チロシン、4
“−アシル−23−ジアルヤルアミノー20−イミノ−
20−デオキソ−23−説(ミシノシルオ;Vシ)チロ
シン、ろ“−アシル−3−“アシノし−4“−アシル−
23−ジアルキルアミノ−20−イミノ−20−デオキ
ソ−23−説(ミシノシルメーオーシ)チロシンまたは
6−アシル−4″−アシ/L・−23−ジアルキルアミ
ノ−20−イミノ−20−デオキソ−23−脱(ミシノ
シルオキシ)チロシンを得る。
2′−アシル−23−シアシャールアミノ−20−イミ
ノ−2[)−デフ1−キン−23−脱(ミシノシルオキ
シ)チロシン、3″−アシル−3−アシル−2′−アシ
ル−4″−アシル−23−ジアルキルアミノ−20−イ
ミノ−20−デオキソ−23−脱(ミシノシルオキシ)
チロシン、4“−アシル−2′−アシル−2ろ一シアル
ギルアミノー20−イミノ−20−デオキソ−23−説
(ミシノシルオキシ)チロシンまたは6−アシル−4“
−アシル−2′−アシル−23−ジアルキルアミノ−2
0−イミノ−20−デオキソ−23−説(ミシノシルオ
キシ)千【コシンから2′−アシル基が任意に除去され
る。これは図式P゛σ)工程F6で詳述した方法に従っ
て行われ、こうして所望の3“−アシル−4“−アシル
−2ろ−ジアルキルアミノー20−イミノ−20−デメ
偶・ソー23− 脱(ミシノシルオギシ)チロシン、4
“−アシル−23−ジアルヤルアミノー20−イミノ−
20−デオキソ−23−説(ミシノシルオ;Vシ)チロ
シン、ろ“−アシル−3−“アシノし−4“−アシル−
23−ジアルキルアミノ−20−イミノ−20−デオキ
ソ−23−説(ミシノシルメーオーシ)チロシンまたは
6−アシル−4″−アシ/L・−23−ジアルキルアミ
ノ−20−イミノ−20−デオキソ−23−脱(ミシノ
シルオキシ)チロシンを得る。
図式にの工程に111は2′5−シアルギルアミノ−2
0−イミノ−20−デオキソ−23−脱(ミシノシルオ
ギシ)チロシン誘導体を触媒としてシリカゲルな使用し
てアセトンと反応させることにより実施される。この反
応は25〜60°C′で16〜80時間行われ、23−
シアルギルアミノ−23−脱(ミシノシルオキシ)チロ
シン誘導体な生成する。
0−イミノ−20−デオキソ−23−脱(ミシノシルオ
ギシ)チロシン誘導体を触媒としてシリカゲルな使用し
てアセトンと反応させることにより実施される。この反
応は25〜60°C′で16〜80時間行われ、23−
シアルギルアミノ−23−脱(ミシノシルオキシ)チロ
シン誘導体な生成する。
べ べ 旅
(イ)寸 (イ)寸1ト
レ1式■」において、■程L1は2′ −アシル−4“
−アシル−23−脱ミシノシルチロシン(図式Fの工程
F5’に従って製造したもの)の5および26−ヒドロ
ギシル基火アシル化することにより開始され、3,26
−ジアシル−2′アシル−4″−アシル−23−説ミジ
ノシルチロシンカ生成する。このジ−アシル化反応は一
般に過剰モル量(代表的には5〜15当量)のアシル化
剤および過剰量の有機塩$(例えば、ピリジン、4−ジ
メチルアミノピリジン、トリエチルアミンまたはこれら
の混合物)を使用して達成される。代表的には5〜15
当量の有機塩基。塩化メチレンのような有機溶媒が反応
媒体として使用される。反応温度は約10〜50℃であ
り、室温力鍾了ましい。
−アシル−23−脱ミシノシルチロシン(図式Fの工程
F5’に従って製造したもの)の5および26−ヒドロ
ギシル基火アシル化することにより開始され、3,26
−ジアシル−2′アシル−4″−アシル−23−説ミジ
ノシルチロシンカ生成する。このジ−アシル化反応は一
般に過剰モル量(代表的には5〜15当量)のアシル化
剤および過剰量の有機塩$(例えば、ピリジン、4−ジ
メチルアミノピリジン、トリエチルアミンまたはこれら
の混合物)を使用して達成される。代表的には5〜15
当量の有機塩基。塩化メチレンのような有機溶媒が反応
媒体として使用される。反応温度は約10〜50℃であ
り、室温力鍾了ましい。
反応時間は使用される特定の反応剤の性質にも依るが1
2〜36時間である。
2〜36時間である。
一方、図式りの工程Ll’に示されるように、アシル化
剤71モル当量のみ使用して他の条件は同様に維持する
ことによりこのアシル化反応を23−位置に限定するこ
とが出来る。アシル化剤を1当量のみ用いると23−ア
シル−2′−アシル−4″−アシル−23−説ミジノシ
ルチロシンが製造される。
剤71モル当量のみ使用して他の条件は同様に維持する
ことによりこのアシル化反応を23−位置に限定するこ
とが出来る。アシル化剤を1当量のみ用いると23−ア
シル−2′−アシル−4″−アシル−23−説ミジノシ
ルチロシンが製造される。
図式りの工程L2において、2′−アシル基は任意に除
去されて6,26−ジアシル−4“−アシル−2ろ一鋭
パジノシル千ロジンかまたは25−アシル−4“−アシ
ル−23−脱ミシノシルチロシンが生成する。この除去
反応は図式Fの工程F6で先に述べた方法と実質的に同
じ方法で達成される。
去されて6,26−ジアシル−4“−アシル−2ろ一鋭
パジノシル千ロジンかまたは25−アシル−4“−アシ
ル−23−脱ミシノシルチロシンが生成する。この除去
反応は図式Fの工程F6で先に述べた方法と実質的に同
じ方法で達成される。
図式りの工程L3において、3−ヒト80キシル基は図
式への工程A1で先に述べた方法に従って適当な保護基
で保護されろ。この工程は工程L1で6−ヒピロギシル
基がアシル化される場合には不必要である。
式への工程A1で先に述べた方法に従って適当な保護基
で保護されろ。この工程は工程L1で6−ヒピロギシル
基がアシル化される場合には不必要である。
工程L4でば6“−ヒト90ギシル基が任意にアシル化
される。これは図式Cのアシル転移工程Cろで先に述べ
10条件下に進行する。
される。これは図式Cのアシル転移工程Cろで先に述べ
10条件下に進行する。
工程L5では6−ヒト90キシル保護基が除去される。
これは図式Hの工程H7で先に述べたものと実質的に同
じ反応条件下に達成される。
じ反応条件下に達成される。
図式りの工程L6では26−アシル−2′−アシル−6
″−アシル−4″−アシル−23−説ミジノシルチロシ
ンまたは3.23−ジアシル−27−アシル−ろ“−ア
シル−4″−アシ八−26−説ミシノシルチロシンから
2′ −アシル基が任意に除去される。これは図式Fの
工程F6で先に詳述した方法に従って行われ、こうして
所望(7)23−アシル−ろ“−アシル−4“−アシル
−23−脱ミシノシルチロシンまたは3.23−ジアシ
ル−6″−アシル−4″−アシル−2ろ一説ミジノシル
チロシンが生成する。
″−アシル−4″−アシル−23−説ミジノシルチロシ
ンまたは3.23−ジアシル−27−アシル−ろ“−ア
シル−4″−アシ八−26−説ミシノシルチロシンから
2′ −アシル基が任意に除去される。これは図式Fの
工程F6で先に詳述した方法に従って行われ、こうして
所望(7)23−アシル−ろ“−アシル−4“−アシル
−23−脱ミシノシルチロシンまたは3.23−ジアシ
ル−6″−アシル−4″−アシル−2ろ一説ミジノシル
チロシンが生成する。
工程L7において、20−アルデヒド9基は図式Aの工
程A5で先に述べた方法に従って”1−アミン反応5剤
”と反応してその誘導体に転化される。
程A5で先に述べた方法に従って”1−アミン反応5剤
”と反応してその誘導体に転化される。
この反応は26−アシル−ろ“−アシル−4“−アシル
−20−イミノ−20−デオキソ−26−説ミシノシル
チロシンまたは3.23−ジアシル−6“−アシル−4
″−アシル−20−イミノ−20−デオキソ−23−脱
ミジノシル千ロジンを生じ、このうちのどちらも任意に
2′−アシル基を有しCいてもよい。
−20−イミノ−20−デオキソ−26−説ミシノシル
チロシンまたは3.23−ジアシル−6“−アシル−4
″−アシル−20−イミノ−20−デオキソ−23−脱
ミジノシル千ロジンを生じ、このうちのどちらも任意に
2′−アシル基を有しCいてもよい。
別法として、23−アシル−4〃−アシル−23=−脱
ミシノシルチロシンまたは3,23−シフ シ/l/
−4“−’7−フルー23−脱ミジノシルチロシンの2
0−アルデヒ)−”丼を図式Aの工程A5で先に開示1
7た方法に従って″1−アミン反応剤”と反応させろこ
とが出来ろ。この反応は所望の6.26−ジアシル−4
“−アシル−2o−イミノ−20−オキソ−23−脱ミ
シノシルチロシンまたi2ろ一アゾルー4“−アシル−
2o−イミノ−20−y’#キソ−26−脱ミシノシル
チロシンを生じ、このうちのどちらも任意に27−アシ
ル基火有していてもよい、こえしらのイと合物はその後
二丁稈F4.F5.F6.Fノ封よびF7’の方法に従
って一γシル化さ11所望の本発明化合物火生成する。
ミシノシルチロシンまたは3,23−シフ シ/l/
−4“−’7−フルー23−脱ミジノシルチロシンの2
0−アルデヒ)−”丼を図式Aの工程A5で先に開示1
7た方法に従って″1−アミン反応剤”と反応させろこ
とが出来ろ。この反応は所望の6.26−ジアシル−4
“−アシル−2o−イミノ−20−オキソ−23−脱ミ
シノシルチロシンまたi2ろ一アゾルー4“−アシル−
2o−イミノ−20−y’#キソ−26−脱ミシノシル
チロシンを生じ、このうちのどちらも任意に27−アシ
ル基火有していてもよい、こえしらのイと合物はその後
二丁稈F4.F5.F6.Fノ封よびF7’の方法に従
って一γシル化さ11所望の本発明化合物火生成する。
図式M
)
(式は明瞭にするため代表的な基な記す)アシル−4“
−アシル−26−説(ミシノシルオキシJ7−ロシン2
0.23−ジイミノ−20−デオキソ−26−デとドロ
ーろ一アシルー 4“−アシル−23−脱(ミシノシル
オキシ)千ロジン図式Mの工程M1は2o−イミノ−2
o−デオキソ−6−アシル−4〃−アシル−2′−アシ
ル−23−ρ−説ミジノシルチロシン(2’−脱yシル
化工程ケ除く図式Fの工程F1〜F7で製造したもの)
のフィッッナーーモファットm化を包含する。この酸化
反応は本質的に図式Aの工程A6で先に述べたようにし
て実だUさね1.2ろ一オキソー20−イミノー20−
デオキソ−2ろ−デヒトゝロー6−アシル−4“−アシ
ル−2′−アシル−23−dig(ミシノシルオギシ)
チロシンケ生成する。
−アシル−26−説(ミシノシルオキシJ7−ロシン2
0.23−ジイミノ−20−デオキソ−26−デとドロ
ーろ一アシルー 4“−アシル−23−脱(ミシノシル
オキシ)千ロジン図式Mの工程M1は2o−イミノ−2
o−デオキソ−6−アシル−4〃−アシル−2′−アシ
ル−23−ρ−説ミジノシルチロシン(2’−脱yシル
化工程ケ除く図式Fの工程F1〜F7で製造したもの)
のフィッッナーーモファットm化を包含する。この酸化
反応は本質的に図式Aの工程A6で先に述べたようにし
て実だUさね1.2ろ一オキソー20−イミノー20−
デオキソ−2ろ−デヒトゝロー6−アシル−4“−アシ
ル−2′−アシル−23−dig(ミシノシルオギシ)
チロシンケ生成する。
図式Mの工程M2において、2′−アシル基は図式Bの
工程B7で先に述べた方法に従って任意に除去される。
工程B7で先に述べた方法に従って任意に除去される。
図式Mの工程M31mおいて、14−アルデヒド基は図
式Aの工程A5で20−アルデヒド誘導体生成反応につ
いて先に述べたものと同じ方法で11−アミノ反応剤”
と反応してその誘導体に転化される。これは任意に2′
−アシル化された20.23−ジイミノ−20−デオキ
ソ−23−1ヒビロー6−アシル−4“−アシル−23
−説(ミシノシルオキシ)チロシン図式たらす。
式Aの工程A5で20−アルデヒド誘導体生成反応につ
いて先に述べたものと同じ方法で11−アミノ反応剤”
と反応してその誘導体に転化される。これは任意に2′
−アシル化された20.23−ジイミノ−20−デオキ
ソ−23−1ヒビロー6−アシル−4“−アシル−23
−説(ミシノシルオキシ)チロシン図式たらす。
また別に、871式Mに概略(また方法は出発物質とし
て20−イミノ−20−デオキソ−2′−アンルー4“
−アシル−2ろ−DMT(2’ −説アシル化工程F6
乞除く工程F1〜F7で製造したもの)、または20−
イミノ−20−デ六キソー2′−アシル−ろ“−アシル
−4“−アシル−23−DMT(図式I(の工程H1〜
)(7/で製造したもの)、または20−イミノ−20
−デオキシ−6−アシル−2′−アシル−6″−アシル
−4″−アジルーフ3−DMT(図式Hの工程H1〜H
7で製造したもの)を使用して実施してもよい。
て20−イミノ−20−デオキソ−2′−アンルー4“
−アシル−2ろ−DMT(2’ −説アシル化工程F6
乞除く工程F1〜F7で製造したもの)、または20−
イミノ−20−デ六キソー2′−アシル−ろ“−アシル
−4“−アシル−23−DMT(図式I(の工程H1〜
)(7/で製造したもの)、または20−イミノ−20
−デオキシ−6−アシル−2′−アシル−6″−アシル
−4″−アジルーフ3−DMT(図式Hの工程H1〜H
7で製造したもの)を使用して実施してもよい。
図式N
23−、!・千ソ誘導体の製造
3−7シルー2’ −7’/ルー4″−−アシル−73
−DMT(図式1の工程工1〜工5で製造したもの)(
1) l フイツツナーーモファット酸化2ろ−オキ
ソ−6−アシル−2′−アシル−4〃−アシル−23−
デヒドロ−73−11R(ミシノゾルオギシ)26−オ
キソ−ろ−アシル−4“−アシル−26−デヒl−’ロ
ー26−−脱(ミシノシルオギシ)チロシン 20.23−ジイミノ−2o−デオキソ−3−アシル−
4“−アシル−2ろ−デヒドロー23−脱(ミシノシへ
オキシ)チロシン図式Nの工程N1ば3−アシル−2′
−アシル−4“−アシル−23−脱ミゾ、′シル千ロジ
ン1(、図式1の工程丁1〜T5で豐造(,7たもの)
のフイツツナーーモファット酸化ケ包含−イろ、この酸
化反応は木質的に図式Aの工8A6で先もて述べたよう
に実施され、25−:7キソ−2’ −−アシル−6−
アシル−4″−アシル−26−ジヒドロ−23−脱(ミ
シノシルオギシ)千ロジンの製造をもたらす。
−DMT(図式1の工程工1〜工5で製造したもの)(
1) l フイツツナーーモファット酸化2ろ−オキ
ソ−6−アシル−2′−アシル−4〃−アシル−23−
デヒドロ−73−11R(ミシノゾルオギシ)26−オ
キソ−ろ−アシル−4“−アシル−26−デヒl−’ロ
ー26−−脱(ミシノシルオギシ)チロシン 20.23−ジイミノ−2o−デオキソ−3−アシル−
4“−アシル−2ろ−デヒドロー23−脱(ミシノシへ
オキシ)チロシン図式Nの工程N1ば3−アシル−2′
−アシル−4“−アシル−23−脱ミゾ、′シル千ロジ
ン1(、図式1の工程丁1〜T5で豐造(,7たもの)
のフイツツナーーモファット酸化ケ包含−イろ、この酸
化反応は木質的に図式Aの工8A6で先もて述べたよう
に実施され、25−:7キソ−2’ −−アシル−6−
アシル−4″−アシル−26−ジヒドロ−23−脱(ミ
シノシルオギシ)千ロジンの製造をもたらす。
図式Nの工程N2にオ6いて、2′−アシル基は図式B
の工程B7で先に述べた方法に従って任意に除去され、
26−オキソ−6−アシル−4“−アシル−2s−デヒ
ドロ−26−説(ミシノシルオキシ)チロシンw生ずる
。
の工程B7で先に述べた方法に従って任意に除去され、
26−オキソ−6−アシル−4“−アシル−2s−デヒ
ドロ−26−説(ミシノシルオキシ)チロシンw生ずる
。
図式Nの工程N3において、20および26−アルデヒ
ド基は図式Aの工程A5て20−丁ルデヒド誘導体生成
反応について先に述べた方法と同じ方法で″1−アミノ
反応剤”と反応してその誘導体に伝化さね2る。これは
20,2ろ−ジイミノー20−チオキソ−6−アシル−
4″−アシル−23−デヒドロ−26−説(ミシノシル
オキシ)チロシン火もたらす。
ド基は図式Aの工程A5て20−丁ルデヒド誘導体生成
反応について先に述べた方法と同じ方法で″1−アミノ
反応剤”と反応してその誘導体に伝化さね2る。これは
20,2ろ−ジイミノー20−チオキソ−6−アシル−
4″−アシル−23−デヒドロ−26−説(ミシノシル
オキシ)チロシン火もたらす。
また別W、図式Nに概、略した方法は出発物質として2
′−アシル−4″−アシA・−23−DMT(図式Fの
工程F1〜F5/で製造(7たもの)、または6−アシ
ル−2′−アシル−ろ“−アシル−4″−アシル−23
−DMT(図式Hの工程H2〜H7で製造され、この場
合20−アルデヒド基はその誘導体に転化されていブf
い)ケ使用して実施例 上記図式の全てにわたって、M式Cの1稈C6および図
式Gの工程G3で先に述べたアシル転移反応ケ含むよう
にその方法な改変することにより6″−アシル化合物が
製造可能であるという点を理解すべきである。
′−アシル−4″−アシA・−23−DMT(図式Fの
工程F1〜F5/で製造(7たもの)、または6−アシ
ル−2′−アシル−ろ“−アシル−4″−アシル−23
−DMT(図式Hの工程H2〜H7で製造され、この場
合20−アルデヒド基はその誘導体に転化されていブf
い)ケ使用して実施例 上記図式の全てにわたって、M式Cの1稈C6および図
式Gの工程G3で先に述べたアシル転移反応ケ含むよう
にその方法な改変することにより6″−アシル化合物が
製造可能であるという点を理解すべきである。
以下の実施例は本発明を説明するものとして化合物の製
造を詳細に述べている。当業者においては利料および方
法の両面での多くの変法が本発明の目的および意向から
はずれることなしに可能であるとり・5ことが明らかで
あるだろう。これらの実施例において、”UV”は紫外
線スペクトルを意味し、”IR”は赤外線スはクトル火
意味し、そしてNMR”は核磁気共鳴スはクトルを意味
する。
造を詳細に述べている。当業者においては利料および方
法の両面での多くの変法が本発明の目的および意向から
はずれることなしに可能であるとり・5ことが明らかで
あるだろう。これらの実施例において、”UV”は紫外
線スペクトルを意味し、”IR”は赤外線スはクトル火
意味し、そしてNMR”は核磁気共鳴スはクトルを意味
する。
−2乙
チロシン(25g)およびイミダゾール(18611)
y;x乾燥ジメチルホルムアミ)’(250ml)に溶
解し、環化t、Crt−ブチルジメチルシリル(19,
7g’)y、−添加した。その溶液を25℃に19時間
維持した。その後溶液は蒸発乾固させて残漬をクロロホ
ルムに取り上げ、水で洗浄し、乾燥(MgS04)シて
f5過した。P液は蒸発乾固させて残漬な熱ヘキサン(
3xII)でつき砕いた。
y;x乾燥ジメチルホルムアミ)’(250ml)に溶
解し、環化t、Crt−ブチルジメチルシリル(19,
7g’)y、−添加した。その溶液を25℃に19時間
維持した。その後溶液は蒸発乾固させて残漬をクロロホ
ルムに取り上げ、水で洗浄し、乾燥(MgS04)シて
f5過した。P液は蒸発乾固させて残漬な熱ヘキサン(
3xII)でつき砕いた。
不溶性の残漬はその後溶離剤として1.5%メタノール
−クロロホルム溶液を使用してシリカゲルカラム(16
0×5cR)のクロマトグラフにかけ、無色の非晶質、
固体として4″′−〇 −(−t、ert−ブチルジメ
チルシリル)−チロシン火得た。これは次のような物性
火もっていた。旋光度、〔α〕1゜−41,8°(GH
C7!3’) ; Uv:λm、X(GF 3 GHzOH)284 n
m’ (ε22.616)。
−クロロホルム溶液を使用してシリカゲルカラム(16
0×5cR)のクロマトグラフにかけ、無色の非晶質、
固体として4″′−〇 −(−t、ert−ブチルジメ
チルシリル)−チロシン火得た。これは次のような物性
火もっていた。旋光度、〔α〕1゜−41,8°(GH
C7!3’) ; Uv:λm、X(GF 3 GHzOH)284 n
m’ (ε22.616)。
IR:2/、、、 (GHGII3’) 3500.2
980.2950゜2910.1722,1682,1
600,1320,1662゜12.20.1050側
、NMR:δI□(CI)CI3)0.14(3H,
s、 4“’ −6iCH3)、 0.17 (3H,
s、 4”−3iCH3)0−97 (9Hs s、4
”−3]、G (GH3)3)v 1.80 (3H+
d。
980.2950゜2910.1722,1682,1
600,1320,1662゜12.20.1050側
、NMR:δI□(CI)CI3)0.14(3H,
s、 4“’ −6iCH3)、 0.17 (3H,
s、 4”−3iCH3)0−97 (9Hs s、4
”−3]、G (GH3)3)v 1.80 (3H+
d。
Jl3,221.5Hz 、 22−CI5)+ 2.
50(6H,s、 3’ −N(OH3)2) 3.5
1(3H,s、 2’“−〇CH3)−3,62(3H
。
50(6H,s、 3’ −N(OH3)2) 3.5
1(3H,s、 2’“−〇CH3)−3,62(3H
。
s、 3”’−0CH3”+ 4.24 (1H−d+
J 1t 、 2/ 7.5 HzIHll)、4
62(1H9d、J1″′・27′15H1・H1′〃
ゝ・5.95(IH,dg、J 1.5H7
,、J 10Hz13.22
13.14H13)+ 6.25’ IH1d+
Jlo、11 15Hz、 H16)7.35’ IH
t d+ Jlo、11 15Hz、 H,1)および
9.77(1H,s、 H2o) 4///−0−(t、er t−ブチルメチルシリル)
−チロシン(15g)を乾燥アセトン(5[)Qml)
に溶解し、無水酢酸(7,4g)を添加した。その混合
物を25℃で17時間維難した。その溶液はその後蒸発
乾固させて残漬をトルエンと共沸させて無色の非晶質固
体として2′一旦−アセチル−4″−仄−(t、ert
−ブチルジメチルシリル)−チロシンを得た。 分析用
試料は溶離斉1として20%アセトンーヘキザン溶・液
ヲ使用してシリカゲルカラム(70x2.5cm)のク
ロマトグラフにかki″′C精製した。生成物は次のよ
うな特性ケもっていた。
J 1t 、 2/ 7.5 HzIHll)、4
62(1H9d、J1″′・27′15H1・H1′〃
ゝ・5.95(IH,dg、J 1.5H7
,、J 10Hz13.22
13.14H13)+ 6.25’ IH1d+
Jlo、11 15Hz、 H16)7.35’ IH
t d+ Jlo、11 15Hz、 H,1)および
9.77(1H,s、 H2o) 4///−0−(t、er t−ブチルメチルシリル)
−チロシン(15g)を乾燥アセトン(5[)Qml)
に溶解し、無水酢酸(7,4g)を添加した。その混合
物を25℃で17時間維難した。その溶液はその後蒸発
乾固させて残漬をトルエンと共沸させて無色の非晶質固
体として2′一旦−アセチル−4″−仄−(t、ert
−ブチルジメチルシリル)−チロシンを得た。 分析用
試料は溶離斉1として20%アセトンーヘキザン溶・液
ヲ使用してシリカゲルカラム(70x2.5cm)のク
ロマトグラフにかki″′C精製した。生成物は次のよ
うな特性ケもっていた。
旋光度:〔fχ:) −45,40(GHO)(、
);[JV:λ、、8X3 (CF3GF(zOH)285nm (ε22.784
)、口(ニジrlaxCCDGII3)5550.29
80,2960,2920,1743゜1720.16
80,1590.1230,1160.1045cm−
’ 、 NMR:δ、(CGDG13)rl、10(3
1(、s、 4″l−81083)、0.13 (ろH
,s、4”−8jCH3)、0.94(9H。
);[JV:λ、、8X3 (CF3GF(zOH)285nm (ε22.784
)、口(ニジrlaxCCDGII3)5550.29
80,2960,2920,1743゜1720.16
80,1590.1230,1160.1045cm−
’ 、 NMR:δ、(CGDG13)rl、10(3
1(、s、 4″l−81083)、0.13 (ろH
,s、4”−8jCH3)、0.94(9H。
s、 4”−3tG(C)(3)、)、1.7f3(3
H,6,J、、2□1.5)1z。
H,6,J、、2□1.5)1z。
22−aH3)、 2.06(ろH,s−2’ −oc
ocH3)、 2.38(6H+ S+ 3’ −
N(CH3)2)、 ろ48(3H,s、 2’
−0CR3)、3.59 (3)′I、s、5/″−〇
〇H3’l、 4.27 (I H,d。
ocH3)、 2.38(6H+ S+ 3’ −
N(CH3)2)、 ろ48(3H,s、 2’
−0CR3)、3.59 (3)′I、s、5/″−〇
〇H3’l、 4.27 (I H,d。
J、’ 、2’ 7.5H7,、H,’ )、 4.6
0(1H,d、 Jl”、2”8Hz、 H,”)、
5.92(IHt dg、 J、3.1410.5Hz
。
0(1H,d、 Jl”、2”8Hz、 H,”)、
5.92(IHt dg、 J、3.1410.5Hz
。
Jl3,221.5H7,I H,3)、 6.25(
II(、+I、 J、o、1115H7,HI O)l
’7.31 (IH,cl−、J +o、 + +
15)(z。
II(、+I、 J、o、1115H7,HI O)l
’7.31 (IH,cl−、J +o、 + +
15)(z。
H)および9./)5(IH,S、 H2o)1
7/−−0−アセ千ルー4ttt−Q、 (tel’
t−ブチルシメーf−ルシリル)−チロシン(この実M
O例f7) ハートB′で製へし7たもの)(15,<
1 ’)、 4−ジメチルーγミノヒ0リジン(1,
F! 59 Lic;よびトリエチルアミン(ろQm/
l’4乾燥ジクロロメタン(1/)に溶解した。乾燥:
ンクロロメタン(200d ’) 中の無水・イソバレ
リアン酸(2,82,!7)71時11Bにわたって2
5℃で贋拌し1.Cがら滴下して加えた。
t−ブチルシメーf−ルシリル)−チロシン(この実M
O例f7) ハートB′で製へし7たもの)(15,<
1 ’)、 4−ジメチルーγミノヒ0リジン(1,
F! 59 Lic;よびトリエチルアミン(ろQm/
l’4乾燥ジクロロメタン(1/)に溶解した。乾燥:
ンクロロメタン(200d ’) 中の無水・イソバレ
リアン酸(2,82,!7)71時11Bにわたって2
5℃で贋拌し1.Cがら滴下して加えた。
その後その溶液ヲ25°゛Cでさ1;)に16時間攪拌
した。溶液χ水で洗浄し、乾燥(MgS○イ)し、濾過
し−〔蒸発乾固させた。、V9肩はその後溶離剤として
30%酢酸エチル−ジクロロメタン溶液を使用してシリ
カゲルカラム(160X 5濯)のクロマト2ラフにか
け、溶離の1晒に無色の非晶質固体として2′一旦−ア
セチル−4“′−≦) −(t、ert、−ブチルジメ
チルシリル)−4“−食一インバレリルチロシンおよび
未反応の2’−0−アセチル−4“’−0−(tart
−ブチルジメチルシリル)−チロシンを得た。画調は次
のような特性をもっていムコ。
した。溶液χ水で洗浄し、乾燥(MgS○イ)し、濾過
し−〔蒸発乾固させた。、V9肩はその後溶離剤として
30%酢酸エチル−ジクロロメタン溶液を使用してシリ
カゲルカラム(160X 5濯)のクロマト2ラフにか
け、溶離の1晒に無色の非晶質固体として2′一旦−ア
セチル−4“′−≦) −(t、ert、−ブチルジメ
チルシリル)−4“−食一インバレリルチロシンおよび
未反応の2’−0−アセチル−4“’−0−(tart
−ブチルジメチルシリル)−チロシンを得た。画調は次
のような特性をもっていムコ。
旋光度:〔α) −5170(CI−1(J3)、(
JV:λいア(GF3C1(zOH’) 285nm
(ε23.ろ2ろ)、工Rニジ (CDC/3)
3520,2980,2950,2900゜aX 1740.1720,1675,1590,12ろ5,
1160゜1050CrIL−’: NMR:δ、(C
DC13) 0.10(ろHl S+41〃−8]、C
H3)、0゜13(3H,s、 4”−3tGH3)、
0.94(9H,B、 4〃1−sic(CH3)3
)+ 0.98 (6Hd、 J6H714〃−0GO
CH2GH(則3)2)? 1.78(3H,d、 J
、、221.5 Hq、22− G H3) 、2.0
6 (5H2s−2’ ococH3)。
JV:λいア(GF3C1(zOH’) 285nm
(ε23.ろ2ろ)、工Rニジ (CDC/3)
3520,2980,2950,2900゜aX 1740.1720,1675,1590,12ろ5,
1160゜1050CrIL−’: NMR:δ、(C
DC13) 0.10(ろHl S+41〃−8]、C
H3)、0゜13(3H,s、 4”−3tGH3)、
0.94(9H,B、 4〃1−sic(CH3)3
)+ 0.98 (6Hd、 J6H714〃−0GO
CH2GH(則3)2)? 1.78(3H,d、 J
、、221.5 Hq、22− G H3) 、2.0
6 (5H2s−2’ ococH3)。
2.40(6H,s、 6′ −NCGH3)2)t
ろ、48(ろHt R+2”−OCH3)+
ろ58(3H,S、 ろ“’−0CH3)、4..2
5 (1H。
ろ、48(ろHt R+2”−OCH3)+
ろ58(3H,S、 ろ“’−0CH3)、4..2
5 (1H。
d+ J]’ + 2’ 75Hzy Hl” )+
4.59 (I Hl d、 J l”、 2”’8
Hz、 )11”)、 5.91 (1)1. dg、
Jl、2゜1.5)(7,。
4.59 (I Hl d、 J l”、 2”’8
Hz、 )11”)、 5.91 (1)1. dg、
Jl、2゜1.5)(7,。
’t3.13’ 0.5H1,Hl3)+ 6.24(
H(、d、 J、。、1115.5Hz+ H,o)、
7.31(1H,d、 J、o1115.5H7゜H
31)および 9.65(1H,S、 )(2o)D、
2’、O−アセチル−4″−o−イソバレリルチロ
シン2′ 一旦一アセチルー4///一旦一(tert
−ノチルジメチルシリル)−4″−o−イソバレリルチ
ロシン(この実施例のパー)Cで製造したもの)(8,
25g) xoよび無水のフッ化テトラ−n−ブチルア
ンモニウム(5水和Th (2,2、’/ ) ヲ)
ルxンと共沸することにより得らハ、た)火乾燥テトラ
ヒドロフラン 乾燥アルゴンガス下に25’Cで16時間そのままに維
持した。その溶液は蒸発乾固させて残漬火ジクロロメタ
ンに取り上げ、水で洗浄し、乾燥(MgSO4 ) L
,、δコ議して蒸発乾固させた。その残漬は溶離剤とし
て40%アセトン−ヘキサン溶液ケ使用してシリカゲル
カラム(16(]x2.5cm)のクロマトグラフにか
kJ、無色の非晶質固体として2’−0− アセチル−
4“−〇− イソバレリルチロシンケ得た。これは次の
ような特性をもっていた。
H(、d、 J、。、1115.5Hz+ H,o)、
7.31(1H,d、 J、o1115.5H7゜H
31)および 9.65(1H,S、 )(2o)D、
2’、O−アセチル−4″−o−イソバレリルチロ
シン2′ 一旦一アセチルー4///一旦一(tert
−ノチルジメチルシリル)−4″−o−イソバレリルチ
ロシン(この実施例のパー)Cで製造したもの)(8,
25g) xoよび無水のフッ化テトラ−n−ブチルア
ンモニウム(5水和Th (2,2、’/ ) ヲ)
ルxンと共沸することにより得らハ、た)火乾燥テトラ
ヒドロフラン 乾燥アルゴンガス下に25’Cで16時間そのままに維
持した。その溶液は蒸発乾固させて残漬火ジクロロメタ
ンに取り上げ、水で洗浄し、乾燥(MgSO4 ) L
,、δコ議して蒸発乾固させた。その残漬は溶離剤とし
て40%アセトン−ヘキサン溶液ケ使用してシリカゲル
カラム(16(]x2.5cm)のクロマトグラフにか
kJ、無色の非晶質固体として2’−0− アセチル−
4“−〇− イソバレリルチロシンケ得た。これは次の
ような特性をもっていた。
旋光度:〔tγ〕−66、60(CHC4);UV:2
m,、Y3 (CH30H) 28 2Hm (ε 22, 641
)、IRニジ]TlaX(CDC13) 3550,
2980, 2950, 2900, 1740。
m,、Y3 (CH30H) 28 2Hm (ε 22, 641
)、IRニジ]TlaX(CDC13) 3550,
2980, 2950, 2900, 1740。
1735、1730,1680,16(jo,1248
,1175。
,1175。
1065Crn 、NMR:δH<(EDciga>、
o9s(6H, d。
o9s(6H, d。
J 6H Z, 4′l−OCOcH 2 GH (
皿3)2)+ 1.78(3H, d。
皿3)2)+ 1.78(3H, d。
Jl3 22 1.5HzF 22−CH3)+ 2.
07 ( 3)1? S, 2’ −ococH,)、
2.4 1 ( 6H, S, ろ/ −N
(G[(3)2, ろ50(3H, S, 2“’−
0(J3)、 3.63(ろHl S, 3”’ −
OCH 3)。
07 ( 3)1? S, 2’ −ococH,)、
2.4 1 ( 6H, S, ろ/ −N
(G[(3)2, ろ50(3H, S, 2“’−
0(J3)、 3.63(ろHl S, 3”’ −
OCH 3)。
5’9 5 ( 1Ht dF + Jl 3, 22
1.5Hz” 1 3. 1 4 ’ 05H7,l
Hl 3’)t 6”) 1 (1H+ ’L Jl
0, ]、]15.5Hz+ Hlo)+7、’!>
6NH,h,J,、、1 15,587,、)(、1)
tc<よび9、70(1H, S, H□。) 2’−o− アセチル−4″−婁一イソノミレリA・チ
ロシン(この実施例の,”−トDで製造したもの)(1
.8g)および1−N−アミノ−<、4−>オギソチオ
モルホリン(458m!2)を乾燥ジクロロメタン(5
0ml)に溶解し、その混合物を2 5 ”にで212
時間攪拌した。その溶液は蒸発乾固させて残漬は溶離剤
としてろO%ブセトンーヘヤー→クン溶液欠使用して最
大流量でシリカゲルカラム、(110X2.5m)のク
ロマトグラフICかけ、無色の非晶質固体として2’−
o−アセチル−20−デオヤ・ソー20−C(4.4−
ジオヤンチオモルホリニ月・)イミ/’]ー4″ー〇ー
インノξレリルイーロ・ン:/v 1%だ。これは次の
ような特性火もつ゛(いた。
1.5Hz” 1 3. 1 4 ’ 05H7,l
Hl 3’)t 6”) 1 (1H+ ’L Jl
0, ]、]15.5Hz+ Hlo)+7、’!>
6NH,h,J,、、1 15,587,、)(、1)
tc<よび9、70(1H, S, H□。) 2’−o− アセチル−4″−婁一イソノミレリA・チ
ロシン(この実施例の,”−トDで製造したもの)(1
.8g)および1−N−アミノ−<、4−>オギソチオ
モルホリン(458m!2)を乾燥ジクロロメタン(5
0ml)に溶解し、その混合物を2 5 ”にで212
時間攪拌した。その溶液は蒸発乾固させて残漬は溶離剤
としてろO%ブセトンーヘヤー→クン溶液欠使用して最
大流量でシリカゲルカラム、(110X2.5m)のク
ロマトグラフICかけ、無色の非晶質固体として2’−
o−アセチル−20−デオヤ・ソー20−C(4.4−
ジオヤンチオモルホリニ月・)イミ/’]ー4″ー〇ー
インノξレリルイーロ・ン:/v 1%だ。これは次の
ような特性火もつ゛(いた。
旋光度:〔α)”−71.3°(E(G/ 3) ;
IJ V :λmflX(C)( OH) 240mn
(ε 8,033)、283n.m(ε 2ろ,
102);工R: νい、 (にDC7!3) 3
503。
IJ V :λmflX(C)( OH) 240mn
(ε 8,033)、283n.m(ε 2ろ,
102);工R: νい、 (にDC7!3) 3
503。
2980、2950,2900.17/10,1720
,1680。
,1680。
1600、1223,1192,1172,11ろ0,
1060m−1; NMR:δ)l(CDC/3)
0.98(6H, (1, J6F(y。
1060m−1; NMR:δ)l(CDC/3)
0.98(6H, (1, J6F(y。
4″− Oc,OCH2CkI(Gt(3) 2)、
1.7 8 (ろ)L 6 、 J ] 3 、 2
21、5Hz, 22−OH3)、 2.+16(3H
, 、電, 2’ −(X:Of](3)。
1.7 8 (ろ)L 6 、 J ] 3 、 2
21、5Hz, 22−OH3)、 2.+16(3H
, 、電, 2’ −(X:Of](3)。
2、40( 6H, S. 3’ −N((じH
3)2)、 64 8( 3+( R。
3)2)、 64 8( 3+( R。
2”/−OCH3)、 3.62(3)1, S, 3
”−0’:H3)lに90(1H, dg, J,3.
2□1.51(7.、 J,3,、4i(3t(z,
H131L6、25( 1H, d, Jlo,
11 15H7.、 ト’to)、 7.97(
18。
”−0’:H3)lに90(1H, dg, J,3.
2□1.51(7.、 J,3,、4i(3t(z,
H131L6、25( 1H, d, Jlo,
11 15H7.、 ト’to)、 7.97(
18。
m, )(20)−fnよび7.34( IH, tl
, J,、、、 15H7.。
, J,、、、 15H7.。
Hll)
2′−隻一丁セチルー20ープオキン−20−C(4,
、!−ジオへ1ソチオモルン1−1jニル・)−イミノ
〕、−4″−o−インバレリルチロシン(1,4,1?
)す6よびジシクロへギシル力ルポジイミ+−’Cノ3
7■)を乾燥ジメチルスルホキシド″(ろme)と乾ト
!コヘンゼy(20+n/りとの混合溶媒中に溶解しj
=、 n ”ノジン(93m9)とトリフルオロ酢酸(
65111にl)?!、−加えて、この混合物ケ25℃
で5時間攪拌した。
、!−ジオへ1ソチオモルン1−1jニル・)−イミノ
〕、−4″−o−インバレリルチロシン(1,4,1?
)す6よびジシクロへギシル力ルポジイミ+−’Cノ3
7■)を乾燥ジメチルスルホキシド″(ろme)と乾ト
!コヘンゼy(20+n/りとの混合溶媒中に溶解しj
=、 n ”ノジン(93m9)とトリフルオロ酢酸(
65111にl)?!、−加えて、この混合物ケ25℃
で5時間攪拌した。
ベンゼンケ真空中で蒸発させ、残漬はジクロロメタンに
取り上げて水で洗浄した。ジクロロメタン層夕乾燥(、
Mg5O4)t、、r過し、蒸発乾固させて粗衣2.α
生成物ン得た、 4″′−ケトン体(パートFで製造したもσ))vメタ
ノール(250mg)に溶解してシリカゲル(14g)
を添加した。その混合物’r’ 25 ’Gで168時
間攪拌した。シリカゲル欠11過してメタノールで洗浄
した。メタノールのH=i液火合わせて蒸発乾固させ、
残漬は溶離剤としてろ5%アーヒトンーへキサン溶液を
使用してシリカゲルカラム(160X 2.5(7rL
)のクロマトグラフにかけた。
取り上げて水で洗浄した。ジクロロメタン層夕乾燥(、
Mg5O4)t、、r過し、蒸発乾固させて粗衣2.α
生成物ン得た、 4″′−ケトン体(パートFで製造したもσ))vメタ
ノール(250mg)に溶解してシリカゲル(14g)
を添加した。その混合物’r’ 25 ’Gで168時
間攪拌した。シリカゲル欠11過してメタノールで洗浄
した。メタノールのH=i液火合わせて蒸発乾固させ、
残漬は溶離剤としてろ5%アーヒトンーへキサン溶液を
使用してシリカゲルカラム(160X 2.5(7rL
)のクロマトグラフにかけた。
適当な分画ン合わせて、溶離剤として50%了セトンー
ヘキザン溶液ケ使用してシリカゲルプレート(20X2
0cIn、)のクロマトグラフに町びかけた。最も極性
の大きい帯から23−〇−説ミジノシルー20−デオキ
ソ−204(4,,4−ジオキソチオモルホリニル)イ
ミノ]−4“−見一インバレリルチロシンケ無色の非晶
質固体として得、これは次の特性ケ有していた・ &[[: Cα]D−6t 5O(CI(C13) ;
UV:λmax(OH3GH20H) 236n m
(87,145)、284nm(821,172);
IRニジいX(CDC13) 、!+610゜298
0.2950,2900,1725,1683,159
8゜1315.1192,1172,113[1,10
60,[+60゜1 t:xt ; NMR:(5H(CDC43) 1
.00(6H,d、 J6H7,、4〃−0COCH2
CI((OH,)2.1.84 (3H−d、J13.
2□1.5Hz、22− CH3)−2,54(6H,
s、 3’ −N(CH3)2)、4.31 (1B、
cl、 J、’、 2’、 7.5H7,、’)H1
’ )5.95(IH,dg + J13.221.5
H7,、J13,1410H4H13)、6.33(I
Hld−Jlo、11 15.5H”l Hlo)、7
06(IF(、t、、J19,205Hzt H2O)
および7.40(1■(、d、J 15.5Hz
、Hl、)10.11 チロシン(30,9)および1−N−アミノ−4,4−
52オキソチオモルホリン(492g)火無水エタノー
ル(310+nl)に溶解し、この混合物を25°Cで
42時間攪拌した。その溶液乞蒸発乾固させた。その後
残漬は溶離剤として2%メタノール−クロロホルム溶液
を使用してシリカゲルカラム(120X 5cm、)の
クロマトグラフにかけ、次に重なり合った分画は溶離剤
として土5%メタノールークロロホルム溶液を使用して
シリカゲルカラム(120x5cTL)のクロマトグラ
フに再びかけて無色の非晶出固体として20−デメーギ
ソー20−[(4,4−ジオキソチオモルホリニル)イ
ミノ〕−チロシンを得た、この化合物は次の特性をって
いた。
ヘキザン溶液ケ使用してシリカゲルプレート(20X2
0cIn、)のクロマトグラフに町びかけた。最も極性
の大きい帯から23−〇−説ミジノシルー20−デオキ
ソ−204(4,,4−ジオキソチオモルホリニル)イ
ミノ]−4“−見一インバレリルチロシンケ無色の非晶
質固体として得、これは次の特性ケ有していた・ &[[: Cα]D−6t 5O(CI(C13) ;
UV:λmax(OH3GH20H) 236n m
(87,145)、284nm(821,172);
IRニジいX(CDC13) 、!+610゜298
0.2950,2900,1725,1683,159
8゜1315.1192,1172,113[1,10
60,[+60゜1 t:xt ; NMR:(5H(CDC43) 1
.00(6H,d、 J6H7,、4〃−0COCH2
CI((OH,)2.1.84 (3H−d、J13.
2□1.5Hz、22− CH3)−2,54(6H,
s、 3’ −N(CH3)2)、4.31 (1B、
cl、 J、’、 2’、 7.5H7,、’)H1
’ )5.95(IH,dg + J13.221.5
H7,、J13,1410H4H13)、6.33(I
Hld−Jlo、11 15.5H”l Hlo)、7
06(IF(、t、、J19,205Hzt H2O)
および7.40(1■(、d、J 15.5Hz
、Hl、)10.11 チロシン(30,9)および1−N−アミノ−4,4−
52オキソチオモルホリン(492g)火無水エタノー
ル(310+nl)に溶解し、この混合物を25°Cで
42時間攪拌した。その溶液乞蒸発乾固させた。その後
残漬は溶離剤として2%メタノール−クロロホルム溶液
を使用してシリカゲルカラム(120X 5cm、)の
クロマトグラフにかけ、次に重なり合った分画は溶離剤
として土5%メタノールークロロホルム溶液を使用して
シリカゲルカラム(120x5cTL)のクロマトグラ
フに再びかけて無色の非晶出固体として20−デメーギ
ソー20−[(4,4−ジオキソチオモルホリニル)イ
ミノ〕−チロシンを得た、この化合物は次の特性をって
いた。
旋光度:〔α’126−56.80(GHC;/!3)
: UV :λmay(CF3CH20H)2ろ5o
m (ε 6.626)、286nm(ε21.76
5):IRニジm3x(CDC/3)3580゜298
0.2950,29(10,1710,1675,15
85゜1305.1160,1170.1[1dOCT
L ;NMR:δ1、(CDC/3)0.94(ろH−
t、、 J 16.17 7 Hz、17−OH5)、
1.02(3t−1’+ J4 、 I B 6
H7,18−OH3)+1.80(ろH,d、 J13
,221.5H7,+ 22−OH5)+ 250(6
H,s、5’ N(CH3) 2 )、3.50 (3
H,S、2″−〇CH3)、6.6ろ(3H,s、 3
”−ocH3)、4.29(IH,d、J1’ 、 2
’7 H7,、H1’ )、4.58(IH,rl、J
、/If、 2/// 75 )(71、馬〃l)+
5.94 (I Ht dg + J13 、221
−5HZ+ Jt 3 、+ 410Hz、 Hl3)
+ 6.5o(IE(、d、 J、、0.15.5H7
,。
: UV :λmay(CF3CH20H)2ろ5o
m (ε 6.626)、286nm(ε21.76
5):IRニジm3x(CDC/3)3580゜298
0.2950,29(10,1710,1675,15
85゜1305.1160,1170.1[1dOCT
L ;NMR:δ1、(CDC/3)0.94(ろH−
t、、 J 16.17 7 Hz、17−OH5)、
1.02(3t−1’+ J4 、 I B 6
H7,18−OH3)+1.80(ろH,d、 J13
,221.5H7,+ 22−OH5)+ 250(6
H,s、5’ N(CH3) 2 )、3.50 (3
H,S、2″−〇CH3)、6.6ろ(3H,s、 3
”−ocH3)、4.29(IH,d、J1’ 、 2
’7 H7,、H1’ )、4.58(IH,rl、J
、/If、 2/// 75 )(71、馬〃l)+
5.94 (I Ht dg + J13 、221
−5HZ+ Jt 3 、+ 410Hz、 Hl3)
+ 6.5o(IE(、d、 J、、0.15.5H7
,。
H,o)、 7.01 (I H511、J19,20
5H1,’20)およびZろ7(IH,cl、Jlo、
1.15.5H7,、)1.、)20−ジオキソ−20
−[(4,4−ジオキソチオモルホリニル)イミノ]−
チロシン(この実施例の・ξ−トAで製造したもの)
(3,9)およびイミダゾール(975m9)火乾燥ジ
、メチルホルムアミドC45m1)に溶解し、塩化t、
ert−ブヂルジメチルシリル(2,16g)9添加し
た。この混合物を乾燥アルゴンガス下に25℃で18時
間攪拌した。その溶液火蒸発乾固され、残渣はジクロロ
メタンに取り上げて水で洗浄し、乾燥(MgSO4)l
。
5H1,’20)およびZろ7(IH,cl、Jlo、
1.15.5H7,、)1.、)20−ジオキソ−20
−[(4,4−ジオキソチオモルホリニル)イミノ]−
チロシン(この実施例の・ξ−トAで製造したもの)
(3,9)およびイミダゾール(975m9)火乾燥ジ
、メチルホルムアミドC45m1)に溶解し、塩化t、
ert−ブヂルジメチルシリル(2,16g)9添加し
た。この混合物を乾燥アルゴンガス下に25℃で18時
間攪拌した。その溶液火蒸発乾固され、残渣はジクロロ
メタンに取り上げて水で洗浄し、乾燥(MgSO4)l
。
:I″過して蒸発させた。その残71まその後溶離剤と
してろO%アセトンーヘキザン溶液火使用してシリカゲ
ルカラム(30X5CrfL)のクロマトグラフにかけ
、無色の非晶質固体として4ttt−Q −(j、Ar
t−ブチルジメチルシリル)−20−デオキソ−20−
[(4,4−ジオキソチオモルホリニル)イミノ〕−チ
ロシン欠得た。これは次の特性ケもっていた。
してろO%アセトンーヘキザン溶液火使用してシリカゲ
ルカラム(30X5CrfL)のクロマトグラフにかけ
、無色の非晶質固体として4ttt−Q −(j、Ar
t−ブチルジメチルシリル)−20−デオキソ−20−
[(4,4−ジオキソチオモルホリニル)イミノ〕−チ
ロシン欠得た。これは次の特性ケもっていた。
旋光度:〔α) −47,1°(C;HC/3)、
UV:λmaX■〕 (CF30H20H) 235nm (ε 6,7
10)、286nm(ε 23.082) ; 工Rニ
ジmax < cDC13) 3500v2970.
2940.29()0. 1740.1680.159
5゜1315.1260.1130.1052−、
:NMR:δ4(CDC13)(’1.(]9(3)
1.S、4“’ −S IGH3C1I’l、12(3
H1S、4”−8]、GH3)、0.94(9I(、i
χ、4 ”−L) IC(uT 3) 3)、1゜79
(38、S J 1.5H7,,22−
OH5)、2,50) 13,22 (6■(、s 、 3’ −t((C1(3)2 )、
350(ろH,s、2″−0GHい、 3.61(3H
,S、 3///−Q Gl(3)、 4.28(18
、(3、J1’ 、2’ 8!’Lz、 H1’ )
、4.62 (I Hl、 、 J 1/// 、2/
//8Hz、 トI、///) 、 5.95 (I
F(、’−R、Jl 3 、22 1.5HZ。
UV:λmaX■〕 (CF30H20H) 235nm (ε 6,7
10)、286nm(ε 23.082) ; 工Rニ
ジmax < cDC13) 3500v2970.
2940.29()0. 1740.1680.159
5゜1315.1260.1130.1052−、
:NMR:δ4(CDC13)(’1.(]9(3)
1.S、4“’ −S IGH3C1I’l、12(3
H1S、4”−8]、GH3)、0.94(9I(、i
χ、4 ”−L) IC(uT 3) 3)、1゜79
(38、S J 1.5H7,,22−
OH5)、2,50) 13,22 (6■(、s 、 3’ −t((C1(3)2 )、
350(ろH,s、2″−0GHい、 3.61(3H
,S、 3///−Q Gl(3)、 4.28(18
、(3、J1’ 、2’ 8!’Lz、 H1’ )
、4.62 (I Hl、 、 J 1/// 、2/
//8Hz、 トI、///) 、 5.95 (I
F(、’−R、Jl 3 、22 1.5HZ。
Jl3.14 10F(Z、 Hl3) 6.28(
IH−6、”1.0.1115.5Hz−Hlo )、
7.00(IH1tJ19,2051”Tz−H2O)
、および7.36 < iH,d、 Jl o、 11
15.5Hz、 Hl 1)チロシン 4”−0−(ter t−ブチルジメチルシリル)−2
0−デオキソ−20−4(4,4−ジオキソチオモルホ
リニル)イミノ〕−チロシン(この実施例の)ξ−1−
AおよびBで製造したもの’)(1,161y!l−乾
燥ピリジン(5+++/りに溶解してηに氷酢酸(1r
rtl)q添加した。この混合物を25℃で2D時間攪
拌した。その溶液乞蒸発乾固させ残渣はトルエンと共沸
させた。その残に’lt:)クロロメタンに取り上げ、
水および飽和ブラインで順次洗浄し、その後乾燥(Mg
SO4) t、、沢過し、蒸発乾固させて無色の非晶質
固体として2/、4//−ジーq−アセチル−A”−0
−tert−ブチルジメチルシリル)−20−デオキソ
−20−[(4,4−ジオキソチオモルホリニル)イミ
ノ〕−チロシンを得た。これは次の特性をもっていた。
IH−6、”1.0.1115.5Hz−Hlo )、
7.00(IH1tJ19,2051”Tz−H2O)
、および7.36 < iH,d、 Jl o、 11
15.5Hz、 Hl 1)チロシン 4”−0−(ter t−ブチルジメチルシリル)−2
0−デオキソ−20−4(4,4−ジオキソチオモルホ
リニル)イミノ〕−チロシン(この実施例の)ξ−1−
AおよびBで製造したもの’)(1,161y!l−乾
燥ピリジン(5+++/りに溶解してηに氷酢酸(1r
rtl)q添加した。この混合物を25℃で2D時間攪
拌した。その溶液乞蒸発乾固させ残渣はトルエンと共沸
させた。その残に’lt:)クロロメタンに取り上げ、
水および飽和ブラインで順次洗浄し、その後乾燥(Mg
SO4) t、、沢過し、蒸発乾固させて無色の非晶質
固体として2/、4//−ジーq−アセチル−A”−0
−tert−ブチルジメチルシリル)−20−デオキソ
−20−[(4,4−ジオキソチオモルホリニル)イミ
ノ〕−チロシンを得た。これは次の特性をもっていた。
旋光度:〔α:]1.−56.3°(CH(J3) :
UV : 2m、。
UV : 2m、。
(CF30H20H) 234nm (ε 6,4
3ろ)、286nm(820,760);工Rニジ
CGDGi3)3510゜aX 2975.2950,2900,1740,1685,
1595゜1317、1240.1175.1130.
1050 Crn−’NMR:δH(CD C13)
o、 12 (3H,s、4″’−8iCHい、0.1
5(ろH,B、A”−8IGHい、0,9ろ(9H,s
、4″−8in(CH) )、1.80 (3H,6,
、J 1.5Hz、3 3
13.2222−OH3)、2.10(
3H,s、2’ −OCOCH3’)、218(3)(
、S、 4″−0COCH3)、2.AA (6H,s
、 3’ −N(CH3)2)、5.52 (3H,8
,2”−c)CH3)、5.65(5)(、S、6“’
−0CH3)、6.00 (IH+ dg 、 Jl3
.221.5Hz、J 10Hz、H)、6.3
2(IH,d、 Jl、1□13.14
13 1sHz、 Hl o)、7.00(IH,t、 J、
、2o5H7,、”20 )および7.40(IH,(
]、、 J 15Hz、 H,、)10.11 一チロシン 2′、4“−シーク2− アセチル−4″′−≦2−(
士、ert−プチブチメヂメチリル)−20−ジオキソ
−20−〔C4,4−)オギソチオモルホリニル)イミ
ノ〕−チロシン(この実施例のパートCで製造したもの
)(2,3g)および無水のフッ化テトラ−n−ブチル
アンモニウム(3水和物(583■)をトルエンと共沸
させることにより得られたもの)ケ乾燥テトラヒドロフ
ラン(1007Mg)に溶解した。生じた溶液火乾燥ア
ルインガス下に25℃で2時間そのままに維持した。そ
の溶液ヶ蒸発乾固させて残渣はジクロロメタンに取り上
げた。そのジクロロメタン溶液7重炭酸ナトリウム飽和
水溶液および水で洗浄し、乾燥(MgSO4)L、r過
して蒸発乾固さ°せた。その残漬は溶離剤として40%
アセトン−ヘキサン溶液ケ使用してシリカゲルカラム(
60X 2cm、)のクロマトグラフにかけ、無色の非
晶質固体と[7て2′、4“−゛)−0−アセチル−2
0−デオキソ−20−4(4,、i−ジオキソチオモル
ホリニル)イミノ〕−チロシン々′得た。これは以下の
特性ケ有していた。
3ろ)、286nm(820,760);工Rニジ
CGDGi3)3510゜aX 2975.2950,2900,1740,1685,
1595゜1317、1240.1175.1130.
1050 Crn−’NMR:δH(CD C13)
o、 12 (3H,s、4″’−8iCHい、0.1
5(ろH,B、A”−8IGHい、0,9ろ(9H,s
、4″−8in(CH) )、1.80 (3H,6,
、J 1.5Hz、3 3
13.2222−OH3)、2.10(
3H,s、2’ −OCOCH3’)、218(3)(
、S、 4″−0COCH3)、2.AA (6H,s
、 3’ −N(CH3)2)、5.52 (3H,8
,2”−c)CH3)、5.65(5)(、S、6“’
−0CH3)、6.00 (IH+ dg 、 Jl3
.221.5Hz、J 10Hz、H)、6.3
2(IH,d、 Jl、1□13.14
13 1sHz、 Hl o)、7.00(IH,t、 J、
、2o5H7,、”20 )および7.40(IH,(
]、、 J 15Hz、 H,、)10.11 一チロシン 2′、4“−シーク2− アセチル−4″′−≦2−(
士、ert−プチブチメヂメチリル)−20−ジオキソ
−20−〔C4,4−)オギソチオモルホリニル)イミ
ノ〕−チロシン(この実施例のパートCで製造したもの
)(2,3g)および無水のフッ化テトラ−n−ブチル
アンモニウム(3水和物(583■)をトルエンと共沸
させることにより得られたもの)ケ乾燥テトラヒドロフ
ラン(1007Mg)に溶解した。生じた溶液火乾燥ア
ルインガス下に25℃で2時間そのままに維持した。そ
の溶液ヶ蒸発乾固させて残渣はジクロロメタンに取り上
げた。そのジクロロメタン溶液7重炭酸ナトリウム飽和
水溶液および水で洗浄し、乾燥(MgSO4)L、r過
して蒸発乾固さ°せた。その残漬は溶離剤として40%
アセトン−ヘキサン溶液ケ使用してシリカゲルカラム(
60X 2cm、)のクロマトグラフにかけ、無色の非
晶質固体と[7て2′、4“−゛)−0−アセチル−2
0−デオキソ−20−4(4,、i−ジオキソチオモル
ホリニル)イミノ〕−チロシン々′得た。これは以下の
特性ケ有していた。
旋光度:〔α〕、、 −71,60(C8(1;13)
;UV:λmEi−X(CF3GJ’20H) 2
32nm (87,355)、286nm(ε 22
.958) ; 工R: νmF、、、x (C丁〕C
/3) 3520゜2980、2950.2900.1
7.!110.1720,1680.。
;UV:λmEi−X(CF3GJ’20H) 2
32nm (87,355)、286nm(ε 22
.958) ; 工R: νmF、、、x (C丁〕C
/3) 3520゜2980、2950.2900.1
7.!110.1720,1680.。
1595.1315.1:l?40,1170,112
8.10501 cm ;NMR: δ、 (CD(J3)
1.79(3)T、 t−1、J、3,2゜1、5
Hz、22−G)(3)、2.08 (ろH,S、2’
−0GOCHい、2.17 (3H,S、4〃/−
0COqH3)、2.43 (6H,s、6′−N(C
H3)2)、3.50 (3H,s、2”−QC;H3
)、3.63(3H1S、 3“’−0CH3)、5.
96(IH,6g 、 Jl3.2215H1、Jl
3 、 s 410HZ−Hl 3 )、6.12(I
H,d、 Jl、、115.5Hz、B )、7.0
0(IH,t、 J 5Hz、10
19.20H2o)およびZao
< IH,a、 JIO、+ 115.5H7,Hll
)E、2′、4″−ジー0−アセチル−20−チオキ
ソ−2′、4“−ジー痣−・アセチル−2(]−]デメ
キソー20−1m4.4−ジオキソチオモルホリニル)
イミノ〕−チロシン父2’−o−アセチル−2〇−チオ
^・ソー’)Q−〔(4,A−:)ゼーヤソチオモルホ
リニル)イミノ1−4″−o−イソバレリルチロシンの
代りに使用し、前述の実施例1の、”−トFで述べた方
法7行うことにより表題生成物の2′、4″−ジーq−
アセチル−20−デオキソ−20−4(4,4−ジオキ
ソチオモルホリニル)イミノ1− 、!i”−オキソー
チロシンケ得た。
8.10501 cm ;NMR: δ、 (CD(J3)
1.79(3)T、 t−1、J、3,2゜1、5
Hz、22−G)(3)、2.08 (ろH,S、2’
−0GOCHい、2.17 (3H,S、4〃/−
0COqH3)、2.43 (6H,s、6′−N(C
H3)2)、3.50 (3H,s、2”−QC;H3
)、3.63(3H1S、 3“’−0CH3)、5.
96(IH,6g 、 Jl3.2215H1、Jl
3 、 s 410HZ−Hl 3 )、6.12(I
H,d、 Jl、、115.5Hz、B )、7.0
0(IH,t、 J 5Hz、10
19.20H2o)およびZao
< IH,a、 JIO、+ 115.5H7,Hll
)E、2′、4″−ジー0−アセチル−20−チオキ
ソ−2′、4“−ジー痣−・アセチル−2(]−]デメ
キソー20−1m4.4−ジオキソチオモルホリニル)
イミノ〕−チロシン父2’−o−アセチル−2〇−チオ
^・ソー’)Q−〔(4,A−:)ゼーヤソチオモルホ
リニル)イミノ1−4″−o−イソバレリルチロシンの
代りに使用し、前述の実施例1の、”−トFで述べた方
法7行うことにより表題生成物の2′、4″−ジーq−
アセチル−20−デオキソ−20−4(4,4−ジオキ
ソチオモルホリニル)イミノ1− 、!i”−オキソー
チロシンケ得た。
前述の実施例1のノξ−トGで使用した4“′−オキソ
ー20−デオギソー20− 〔、(4,4−ジオキソチ
オモルポリニル)イミ°ノ1−4′!−o−イソバレリ
ルチロシンの代りVC2’、4“−ジー0−アセチル−
20−デオキソ−20−1丁(4,4−ジオキソチオモ
ルホリニル)イミノ〕−4“′−オキソーチロシンχ使
用してここに記載の方法ケ行うことにより、表題化合物
の4“−Ω−アセチル−2ろ一−Q−脱ミシノシルー2
0−デオキソ−20−CC4,11−ジオキソチオモル
ホリニル)イミノ〕−チロシンケ得た。
ー20−デオギソー20− 〔、(4,4−ジオキソチ
オモルポリニル)イミ°ノ1−4′!−o−イソバレリ
ルチロシンの代りVC2’、4“−ジー0−アセチル−
20−デオキソ−20−1丁(4,4−ジオキソチオモ
ルホリニル)イミノ〕−4“′−オキソーチロシンχ使
用してここに記載の方法ケ行うことにより、表題化合物
の4“−Ω−アセチル−2ろ一−Q−脱ミシノシルー2
0−デオキソ−20−CC4,11−ジオキソチオモル
ホリニル)イミノ〕−チロシンケ得た。
4″′づと−(tertLブチルジメチルシリル)−チ
ロシン(実施例1のパートA″′C−製造したもの)(
5,82,9)および無水炭酸カリウム(5,82g)
ン無水酢酸(6ろ1Jn、i )と処理し、その混合物
乞乾燥窒素ガス下に60〜65℃で5時間加熱した。
ロシン(実施例1のパートA″′C−製造したもの)(
5,82,9)および無水炭酸カリウム(5,82g)
ン無水酢酸(6ろ1Jn、i )と処理し、その混合物
乞乾燥窒素ガス下に60〜65℃で5時間加熱した。
その混合*W真空中で蒸発乾固させ、残流はトルエンと
共沸させた。その後その残渣ンジクロロメタンー水に取
り上げた。ジクロロメタン層は水で洗浄し、乾燥(Mg
SO4) L、濾過して蒸発乾固させた。iその残漬は
シリカゲルカートリッジZ使用しかつ溶離剤として15
%アセトン−ヘキサン溶液ケ使用するWater Pr
ep 500 HPLG装置、でのクロマトグラフにか
け、無色非晶質固体の20゜2′、4“−トリーp−ア
セチル−4”−〇 −(tert−ブチルジメチルシリ
ル)−チロシン−3,20−ヘミアセクールケ得た。こ
れは次の特性ケもっていた。旋光度:〔α几6−79.
0O(GHG43) :UV:λ (OF OHOH
) 282nm (ε 24.707);aX32 IRニジmax (CDC13) ろ500,29
70,2930゜2900.1735,1650,16
ろ0,1365,124Q。
共沸させた。その後その残渣ンジクロロメタンー水に取
り上げた。ジクロロメタン層は水で洗浄し、乾燥(Mg
SO4) L、濾過して蒸発乾固させた。iその残漬は
シリカゲルカートリッジZ使用しかつ溶離剤として15
%アセトン−ヘキサン溶液ケ使用するWater Pr
ep 500 HPLG装置、でのクロマトグラフにか
け、無色非晶質固体の20゜2′、4“−トリーp−ア
セチル−4”−〇 −(tert−ブチルジメチルシリ
ル)−チロシン−3,20−ヘミアセクールケ得た。こ
れは次の特性ケもっていた。旋光度:〔α几6−79.
0O(GHG43) :UV:λ (OF OHOH
) 282nm (ε 24.707);aX32 IRニジmax (CDC13) ろ500,29
70,2930゜2900.1735,1650,16
ろ0,1365,124Q。
1050crrt : NMR: a n (CD
GII 3) o、10 (3HlS、4”−31GH
3)、0.12 (3H,a、4”’ −S 10H3
)、0.93(9H,s、4″l−8IC(CH3)3
)、1.92 (3H,s、2O−OCOCH3)、1
.92(ろH,d、Jl3.2□ 1.5Hz、22−
OH5)、2.08 (3H,s、2’−0COCHい
、2.14 (3)(,8,4〃−OCOCH5)、2
.34(6H,s、 3’ −N(引、)2)3.39
(3H,s、2ttt+OQH3)、3.56 (3
H,s、 3“′−0CH3)、5.79(IH−dd
、Jl9,202H7,Jl9.208Hz、H2O
)、6.04 (IH,dg 、J、、2□ 1.5H
7,、J 10H7,、H)、6.24 (I
H,a、 J、。、1□13.14
13 15.5H7,、Hlo)およびzrlo(IH,d、
、rlo、、。
GII 3) o、10 (3HlS、4”−31GH
3)、0.12 (3H,a、4”’ −S 10H3
)、0.93(9H,s、4″l−8IC(CH3)3
)、1.92 (3H,s、2O−OCOCH3)、1
.92(ろH,d、Jl3.2□ 1.5Hz、22−
OH5)、2.08 (3H,s、2’−0COCHい
、2.14 (3)(,8,4〃−OCOCH5)、2
.34(6H,s、 3’ −N(引、)2)3.39
(3H,s、2ttt+OQH3)、3.56 (3
H,s、 3“′−0CH3)、5.79(IH−dd
、Jl9,202H7,Jl9.208Hz、H2O
)、6.04 (IH,dg 、J、、2□ 1.5H
7,、J 10H7,、H)、6.24 (I
H,a、 J、。、1□13.14
13 15.5H7,、Hlo)およびzrlo(IH,d、
、rlo、、。
45.5Hz、H51)
20、2’、 4“−トリー9sアセチル−4” O−
(tert −ブチルジメチルシリル)チロシン−6゜
20−ヘミアセタール(この実施例のパートAで製造し
たもの)(1,9,9)’r無水のフッ化テトラ−n−
ブチルアンモニウム(ろ水和’1h(518〜)tトル
エンと共沸させて製造したもの)を含有する無水のテト
ラヒドロフラン(77、me)に溶解した。その溶液ン
乾燥アルゴンガス下に25℃で1時間放置した。その混
合物ケ蒸発乾固させて残清はジクロロメタンおよび水に
取り上げた。水酸化ナトリウム水溶液ケ用いてその、I
Hを99に調節した。その後、ジクロロメタン層は水で
洗浄し、乾燥(Mgso4) シ、〃(過して蒸発乾固
させた。その残漬ンシリカゲルカートリッジおよび溶離
剤として60%アセトンーヘギサン溶@ ft uJ’
用−するWaters Prep 500 H?LG装
置でのクロマトグラフにかげて、次の特性ケ有−する無
色づト品質固イ木の20.2’ t 4“−トリーq−
アセチA・チロシン−3,20−−\ミアセタールケ得
た。
(tert −ブチルジメチルシリル)チロシン−6゜
20−ヘミアセタール(この実施例のパートAで製造し
たもの)(1,9,9)’r無水のフッ化テトラ−n−
ブチルアンモニウム(ろ水和’1h(518〜)tトル
エンと共沸させて製造したもの)を含有する無水のテト
ラヒドロフラン(77、me)に溶解した。その溶液ン
乾燥アルゴンガス下に25℃で1時間放置した。その混
合物ケ蒸発乾固させて残清はジクロロメタンおよび水に
取り上げた。水酸化ナトリウム水溶液ケ用いてその、I
Hを99に調節した。その後、ジクロロメタン層は水で
洗浄し、乾燥(Mgso4) シ、〃(過して蒸発乾固
させた。その残漬ンシリカゲルカートリッジおよび溶離
剤として60%アセトンーヘギサン溶@ ft uJ’
用−するWaters Prep 500 H?LG装
置でのクロマトグラフにかげて、次の特性ケ有−する無
色づト品質固イ木の20.2’ t 4“−トリーq−
アセチA・チロシン−3,20−−\ミアセタールケ得
た。
旋光度: [ry〕26−94.90(cHc7い;U
V:福1.1) (CF3CH20H) 781nm (ε27.(39
7);IR:L′may(にDC/ ) ろ560.
ろ500,2980.29/in、2890゜1740
、 1655. 1 ろ7ろ、 1740. 105
0 cm、 。
V:福1.1) (CF3CH20H) 781nm (ε27.(39
7);IR:L′may(にDC/ ) ろ560.
ろ500,2980.29/in、2890゜1740
、 1655. 1 ろ7ろ、 1740. 105
0 cm、 。
NMR:δH< coCp 3 )C〕−89<ろHl
ll、’J+6.+77Hz、 17−(J3)、 [
1,99(3j(、d、 J、、 86Hワ、、18−
aH3)、1.11 (3H16,、J6)(71、C
H3)、1.13(3)(、s、3“−OH5)、11
6(ろHl()、J 6 )−I z 、(](3)、
1.28(68、cl、 J6H7,OH3and O
H3)、1.9a(3H,S、20−0GOCH3)、
’1,9 A (3戊d、Jl3,2□1.5Hz、2
2−OH3)−2−07(3Hls %82’ −oc
ocH3)2.13 (3H1S、A”−OC:0GH
3’)、2ろ7(6H18g、6′ −N(OH)
)、ろ41(3H,s、2ttt −Q a−13)、
35B(3H12 8,5t’r−OCA(3)、5.83(1)(、ad
、Jl、2o 2.OHz。
ll、’J+6.+77Hz、 17−(J3)、 [
1,99(3j(、d、 J、、 86Hワ、、18−
aH3)、1.11 (3H16,、J6)(71、C
H3)、1.13(3)(、s、3“−OH5)、11
6(ろHl()、J 6 )−I z 、(](3)、
1.28(68、cl、 J6H7,OH3and O
H3)、1.9a(3H,S、20−0GOCH3)、
’1,9 A (3戊d、Jl3,2□1.5Hz、2
2−OH3)−2−07(3Hls %82’ −oc
ocH3)2.13 (3H1S、A”−OC:0GH
3’)、2ろ7(6H18g、6′ −N(OH)
)、ろ41(3H,s、2ttt −Q a−13)、
35B(3H12 8,5t’r−OCA(3)、5.83(1)(、ad
、Jl、2o 2.OHz。
J19’ 、2010H2−HCl)、6.07 (I
H,dg 、 ’13.2□1.5Hz、 J、3.1
41Qi(Z、 H13)、6.28(4H,6、JI
Q、1.16F(Z、 )(+ o)および7.01(
IHlo、”In、、16Hz、 H,1) 20.2’、4“−トリー氾−アセチルチロシン−3,
20−へミアセタール(この実施例の/ξミートで製造
したもの)cB17+nQ)およびジシクロへキシル力
ルポジイミ)J(A 50 #!Q ) Y 乾燥ベン
ゼン(14,9m(り中の乾燥ジメチルスルホキシド5
15%溶液に溶〆(した。乾燥ベンゼン(3ml中の乾
燥ジメチルスルホキシド15%溶液に溶解した乾燥ぎり
ジン#9mQ’)およびトリフルオロ酢酸(3乙、 5
*q ’)をそれに添加−1その混合物ケ乾燥アルイ
ンガス下に25°Cで20時間攪拌した。
H,dg 、 ’13.2□1.5Hz、 J、3.1
41Qi(Z、 H13)、6.28(4H,6、JI
Q、1.16F(Z、 )(+ o)および7.01(
IHlo、”In、、16Hz、 H,1) 20.2’、4“−トリー氾−アセチルチロシン−3,
20−へミアセタール(この実施例の/ξミートで製造
したもの)cB17+nQ)およびジシクロへキシル力
ルポジイミ)J(A 50 #!Q ) Y 乾燥ベン
ゼン(14,9m(り中の乾燥ジメチルスルホキシド5
15%溶液に溶〆(した。乾燥ベンゼン(3ml中の乾
燥ジメチルスルホキシド15%溶液に溶解した乾燥ぎり
ジン#9mQ’)およびトリフルオロ酢酸(3乙、 5
*q ’)をそれに添加−1その混合物ケ乾燥アルイ
ンガス下に25°Cで20時間攪拌した。
追加のジシクロへキシルカルボジイミドゝ(450nv
) ) 、乾燥ピリジン(,49+n(z)およびトリ
フルオロ酢酸(33,5mり)χ加え、そσ)反応をさ
らに4時間続けた。はンゼンを真空蒸留して除超、残漬
はジクロロメタン−水に取り−Eげた。その後水酌化ナ
トリウム水溶液ケ用℃・てそσ)pli 系; 9.9
に調節した。ジクロロメタン層しま水でθ1洋し、乾燥
(M SO)L、濾過して蒸発乾固させた。そσ)残漬
g、1 は最初の溶離剤(1,54)としてジクV10メタン次
いで10%アセトン−ヘキサン溶液ケイΦ用するシリカ
ゲルプノラム(30x3ン:、”n )でσ)クロマト
グラフにかけて、所望の20.2’ 、 A″−ト1ノ
ーq−アセチルー4″′−オヤーンーチロら/ンーろ、
20−ヘミーγセタール欠得ブこO D、25−0−脱ミシノシルチロシン ーーーーーーーーーー−1−一一一一 70tS2’ta“−トリーq−了−ヒチルー4″−メ
゛キソーチロシンーろ、2θ−へミアセクール(この実
施例のパー)Cで製造しフ、:もの)欠メクノール(1
0m6)IL溶%、’1ll−テメタ/−ル(0,25
me )中のナトリウムメトキシ)j 2.8 R+/
′W%溶″!r!乞添加した。その混合′!P乞アルイ
ン下に25°Cで65分間放置した。その後そσ)溶液
ケ蒸発乾1制さ一亡て残渣はジクロロメタン−水に取り
上げた。ジクロロメタン層しま水で洗浄し、乾燥(Mf
iSO4)L、濾過し) て蒸発乾固させた。その
残清しまト1)エチ、ルアミン(2,5m1)?含有す
るメタノール(、lS5mfりに取り上げ、その溶液を
還流下に60’Cで20時間加熱した。その後その溶液
を蒸発乾固させ、残漬は溶離剤として20%〜30%ア
セトンーヘキザン溶液ケ使用−するシリカゲルカラム、
(30X5crn、)でのクロマトグラフにかげて次の
特性を有する無色非晶質固体の23〜p−説ミジノシル
チロシンを得た。
) ) 、乾燥ピリジン(,49+n(z)およびトリ
フルオロ酢酸(33,5mり)χ加え、そσ)反応をさ
らに4時間続けた。はンゼンを真空蒸留して除超、残漬
はジクロロメタン−水に取り−Eげた。その後水酌化ナ
トリウム水溶液ケ用℃・てそσ)pli 系; 9.9
に調節した。ジクロロメタン層しま水でθ1洋し、乾燥
(M SO)L、濾過して蒸発乾固させた。そσ)残漬
g、1 は最初の溶離剤(1,54)としてジクV10メタン次
いで10%アセトン−ヘキサン溶液ケイΦ用するシリカ
ゲルプノラム(30x3ン:、”n )でσ)クロマト
グラフにかけて、所望の20.2’ 、 A″−ト1ノ
ーq−アセチルー4″′−オヤーンーチロら/ンーろ、
20−ヘミーγセタール欠得ブこO D、25−0−脱ミシノシルチロシン ーーーーーーーーーー−1−一一一一 70tS2’ta“−トリーq−了−ヒチルー4″−メ
゛キソーチロシンーろ、2θ−へミアセクール(この実
施例のパー)Cで製造しフ、:もの)欠メクノール(1
0m6)IL溶%、’1ll−テメタ/−ル(0,25
me )中のナトリウムメトキシ)j 2.8 R+/
′W%溶″!r!乞添加した。その混合′!P乞アルイ
ン下に25°Cで65分間放置した。その後そσ)溶液
ケ蒸発乾1制さ一亡て残渣はジクロロメタン−水に取り
上げた。ジクロロメタン層しま水で洗浄し、乾燥(Mf
iSO4)L、濾過し) て蒸発乾固させた。その
残清しまト1)エチ、ルアミン(2,5m1)?含有す
るメタノール(、lS5mfりに取り上げ、その溶液を
還流下に60’Cで20時間加熱した。その後その溶液
を蒸発乾固させ、残漬は溶離剤として20%〜30%ア
セトンーヘキザン溶液ケ使用−するシリカゲルカラム、
(30X5crn、)でのクロマトグラフにかげて次の
特性を有する無色非晶質固体の23〜p−説ミジノシル
チロシンを得た。
旋光度:〔α]D−41,9°(CH(J3);UV
: 礼ax(OF30H20H) 28dnm (ε
18,236)、 工Rニジmax(CDC13)ろ
A9D、2980,29!10,29[30,1720
゜1680.1595.1250.1188,1165
.1050−1 。
: 礼ax(OF30H20H) 28dnm (ε
18,236)、 工Rニジmax(CDC13)ろ
A9D、2980,29!10,29[30,1720
゜1680.1595.1250.1188,1165
.1050−1 。
cm、 、NMR:δH(CDGA3) 0.95
(ろH,t、(■]、6 、 ] 77H2,17−0
H3)、1.00 (3)(、d、J 4 、186H
Z、13−0H3)、18ろ(ろH,a、Jl、2□
1.5Hz、22−CH)、2.5 [3(6H1S、
ろ’−N(OH3)2)、4.24<1H1d−J、
’ 、2’ 7Hz、 H1’ )、5.92(IH
,6g、 J、、221.5Hz、J ’I
OHZ、Hlい、6ろ1(IH,a、13.14 J、、1.15Hz、H)、7.36(IH,d、 J
lo、、。
(ろH,t、(■]、6 、 ] 77H2,17−0
H3)、1.00 (3)(、d、J 4 、186H
Z、13−0H3)、18ろ(ろH,a、Jl、2□
1.5Hz、22−CH)、2.5 [3(6H1S、
ろ’−N(OH3)2)、4.24<1H1d−J、
’ 、2’ 7Hz、 H1’ )、5.92(IH
,6g、 J、、221.5Hz、J ’I
OHZ、Hlい、6ろ1(IH,a、13.14 J、、1.15Hz、H)、7.36(IH,d、 J
lo、、。
0
15H7,H)および9.70 (IH,s、 H2O
)1 E。23−G、(ミシノシルオキシ)−23−ヨード9
チロシン23−0−説ミジノシルチロシン(この実施例
のパートD″?ll−製造したもの)(51)’r乾燥
ジメチルホルムアミド(100ml)に溶解した。乾燥
ジメチルホルムアミ)S(250ml)に溶解したヨウ
化メチルトリフエノギシホスホニウム(6,119酢酸
エチルで新たに洗浄したもの)を25℃で2時間にわた
って攪拌しながら滴下して加えた。その混合物ケさらに
2.5時間攪拌し、その後メタノール(50m/)を用
いて反応火停止ヒさせた。その溶液を蒸発乾固させて残
漬はクロロホルム−水の混合溶媒に取り上げた。クロロ
ホルム層は最初に希チオ硫酸ナトリウム水溶液次いで水
で洗浄し、乾燥(MgSO4CL、f過して蒸発乾固さ
せた。その残’/l Itt M 離削として4%メタ
ノール−クロロホルム溶液を使用してシリカゲルカラム
(120X5cTL)のクロマトグラフにかけ、表題什
合特の23−説(ミシノシルオキシ)−23−ヨード9
チロシンケ得た。
)1 E。23−G、(ミシノシルオキシ)−23−ヨード9
チロシン23−0−説ミジノシルチロシン(この実施例
のパートD″?ll−製造したもの)(51)’r乾燥
ジメチルホルムアミド(100ml)に溶解した。乾燥
ジメチルホルムアミ)S(250ml)に溶解したヨウ
化メチルトリフエノギシホスホニウム(6,119酢酸
エチルで新たに洗浄したもの)を25℃で2時間にわた
って攪拌しながら滴下して加えた。その混合物ケさらに
2.5時間攪拌し、その後メタノール(50m/)を用
いて反応火停止ヒさせた。その溶液を蒸発乾固させて残
漬はクロロホルム−水の混合溶媒に取り上げた。クロロ
ホルム層は最初に希チオ硫酸ナトリウム水溶液次いで水
で洗浄し、乾燥(MgSO4CL、f過して蒸発乾固さ
せた。その残’/l Itt M 離削として4%メタ
ノール−クロロホルム溶液を使用してシリカゲルカラム
(120X5cTL)のクロマトグラフにかけ、表題什
合特の23−説(ミシノシルオキシ)−23−ヨード9
チロシンケ得た。
F、23−説(ミシノシルオキシ)−26〜ヨードチロ
シン(コの実施例のパートEで製造し−rニー、モノ)
yr使用して実施例1のパー)B−F、に詳述した方
法を行うことにより、2’ −p−アセチル−20−チ
オA・ソー2O−4(4,4−ジオキソチオモルホリニ
ル)イミノ〕−4n−q−イソバレリル−23−説(ミ
シノシルオギシ)−26−ヨード9チロシンケ得た。
シン(コの実施例のパートEで製造し−rニー、モノ)
yr使用して実施例1のパー)B−F、に詳述した方
法を行うことにより、2’ −p−アセチル−20−チ
オA・ソー2O−4(4,4−ジオキソチオモルホリニ
ル)イミノ〕−4n−q−イソバレリル−23−説(ミ
シノシルオギシ)−26−ヨード9チロシンケ得た。
26−g−説ミシノシルチロシン(実施例40)ξ−1
−Dで製造したもの)(20μ)およびイミダゾール(
3,7g)’r乾燥ジメチルホルムアミド(2[’]0
m1)に溶解した。乾燥ジメチルホルムアミド(100
mg)生塩化t、e rj−ブチルジメチルシリル(4
,1,9)含有溶液を2時間にわたり滴下して加え、そ
の混合物は25°Cでさらに16時間攪拌した。反応ン
完了させ、生成物は実施例1のパートAのようにして精
製して23−O−(tert−ブチルジメチルシリル)
−26−〇−説ミシンシルチロシンケ得た。
−Dで製造したもの)(20μ)およびイミダゾール(
3,7g)’r乾燥ジメチルホルムアミド(2[’]0
m1)に溶解した。乾燥ジメチルホルムアミド(100
mg)生塩化t、e rj−ブチルジメチルシリル(4
,1,9)含有溶液を2時間にわたり滴下して加え、そ
の混合物は25°Cでさらに16時間攪拌した。反応ン
完了させ、生成物は実施例1のパートAのようにして精
製して23−O−(tert−ブチルジメチルシリル)
−26−〇−説ミシンシルチロシンケ得た。
実施例1のパートBに記載した方法と木質的に同じ方法
で23−〇−(t、ert、−ブチルジメチルシリル)
−23−0−脱ミシノシルチロシン(、二の実施例の
パートAで製造したもの)(10,?)ケ乾燥アセト7
(100ml)中無水酢酸(4,8,!?)と処理して
2/−0−アセチル−23−Q−(tert。
で23−〇−(t、ert、−ブチルジメチルシリル)
−23−0−脱ミシノシルチロシン(、二の実施例の
パートAで製造したもの)(10,?)ケ乾燥アセト7
(100ml)中無水酢酸(4,8,!?)と処理して
2/−0−アセチル−23−Q−(tert。
−ブチルジメチルシリル)−26−〇−説ミジノシルチ
ロシン乞得た。
ロシン乞得た。
ルチロシン
2′−〇−アセチルー2ろ−0−(tert−ブチルジ
メチルシリル) −23−0−脱ミシノシルチロシン(
この実施例の)ξ−トBで製造したもの)(89)およ
び4〜ジメチルアミノピリジン(1,1g)およびトリ
エチルアミン(1f1ml)Y乾燥ジクロロメタン(1
00ml)に溶解した。乾燥ジクロロメタン(50m/
)中の無水酢酸(0,9,11¥実施例1のパー)Cに
述べたようにして添加し、反応ケ仕上げ、生成物は実施
例1のように精製して2′、4“−ジーq−アセチルー
23一旦−(t、ert。
メチルシリル) −23−0−脱ミシノシルチロシン(
この実施例の)ξ−トBで製造したもの)(89)およ
び4〜ジメチルアミノピリジン(1,1g)およびトリ
エチルアミン(1f1ml)Y乾燥ジクロロメタン(1
00ml)に溶解した。乾燥ジクロロメタン(50m/
)中の無水酢酸(0,9,11¥実施例1のパー)Cに
述べたようにして添加し、反応ケ仕上げ、生成物は実施
例1のように精製して2′、4“−ジーq−アセチルー
23一旦−(t、ert。
−ブチルジメチルシリル)−23−0−説ミシノシルチ
ロシンゲ得た。
ロシンゲ得た。
2/、4//−ジーO−7セfルー 23−、q −(
t、ert−ブチルジメチルシリル)−26−〇−説ミ
ジノシルチロシン(この実施例のパー)Cで製造したも
の)(5g)乞80%酢酸水溶液(50m/りに溶解l
−1その溶液火25°(Cで2時間そのままに維持(7
た。全炭酸ナトリウム水溶液でpHy9.5に調節して
、水相はジクロロメタンで抽出した。ジクロロメタン層
を水で洗浄し、乾燥(M、、5o4)l、、濾過して蒸
発乾固させた。生成物はシリカゲルカートリッジおよび
溶離剤とし7て20%アセトン−ヘキサン混合溶媒を使
用する分取HP L C装置でのクロマトグラフにかけ
て2′、4″−ジ−p−アセチル−23−0−脱ミシノ
シルチロシンン得た。
t、ert−ブチルジメチルシリル)−26−〇−説ミ
ジノシルチロシン(この実施例のパー)Cで製造したも
の)(5g)乞80%酢酸水溶液(50m/りに溶解l
−1その溶液火25°(Cで2時間そのままに維持(7
た。全炭酸ナトリウム水溶液でpHy9.5に調節して
、水相はジクロロメタンで抽出した。ジクロロメタン層
を水で洗浄し、乾燥(M、、5o4)l、、濾過して蒸
発乾固させた。生成物はシリカゲルカートリッジおよび
溶離剤とし7て20%アセトン−ヘキサン混合溶媒を使
用する分取HP L C装置でのクロマトグラフにかけ
て2′、4″−ジ−p−アセチル−23−0−脱ミシノ
シルチロシンン得た。
E、 4“−0−yセ−y−ルー23−0−脱ミジノ
シルチロ−と/− 2′、4“−ジー9− アセチル−23−0−脱ミシ
ノシルチロシン(この実施例のパートDで製造したもの
(3I)ンメタノール(100rng)に溶解し、その
溶液ケ25℃で94時間そのままに維持した。溶液は蒸
発乾固させて、生成9pwシリカゲルカートリッジおよ
び溶離剤として20%アセトンーヘギサン混合溶媒ケ使
用する分取HPLC装置でのクロマトグラフにかけて4
“−以一アセチルー0−23−0−脱ミジノシルチロシ
ンχ得り。
シルチロ−と/− 2′、4“−ジー9− アセチル−23−0−脱ミシ
ノシルチロシン(この実施例のパートDで製造したもの
(3I)ンメタノール(100rng)に溶解し、その
溶液ケ25℃で94時間そのままに維持した。溶液は蒸
発乾固させて、生成9pwシリカゲルカートリッジおよ
び溶離剤として20%アセトンーヘギサン混合溶媒ケ使
用する分取HPLC装置でのクロマトグラフにかけて4
“−以一アセチルー0−23−0−脱ミジノシルチロシ
ンχ得り。
4“−0−アセチル−23−0−説ミジノシルチロシン
(この実施例のパートEで製造したもの)(2g)およ
び−)−N−アミノ−4,4−ジオギソヂオモルホリン
(386■)ケ乾燥ジクロロメタン(50mlりに溶解
し、この混合物725℃で72時間攪拌した。その溶液
乞蒸発乾固させて、残渣はシリカゲルカートリッジおよ
び溶離剤として30%アセトンーヘギサン混合溶媒乞使
用する分取HPLC装置のクロマトグラフにかけて4”
−。
(この実施例のパートEで製造したもの)(2g)およ
び−)−N−アミノ−4,4−ジオギソヂオモルホリン
(386■)ケ乾燥ジクロロメタン(50mlりに溶解
し、この混合物725℃で72時間攪拌した。その溶液
乞蒸発乾固させて、残渣はシリカゲルカートリッジおよ
び溶離剤として30%アセトンーヘギサン混合溶媒乞使
用する分取HPLC装置のクロマトグラフにかけて4”
−。
−アセチル−23−0−説ミジノシルー20−デオキソ
−20[(4,4−ジオキンヂオモルホリニル)イミノ
]−チロシンを得た。
−20[(4,4−ジオキンヂオモルホリニル)イミノ
]−チロシンを得た。
2′、4“−ジー没!アセチルー26一旦−(t、er
t−ブチルジメチルシリル)−23−0−説ミジノシル
チロシン(実施例5のパートCで製造したも(7))(
5g)、4−ジメチルアミノピリジン(3,25g)お
よびトリエチルアミン(5ml?)ン乾燥ジクロロメタ
ン(100m/りに溶解した。無水酢酸(2,7,9)
v加えて、その混合物χ25℃で16時間そのままに維
持した。反応を完了させ実施例1のパートCで述べたよ
うにして精製し、ろ、2/、4“−トリーp−アセチル
−23\9−(士、ert−プチルジメチ計シリル)−
23−〇−説ミシノシルチロシンヶ得た。
t−ブチルジメチルシリル)−23−0−説ミジノシル
チロシン(実施例5のパートCで製造したも(7))(
5g)、4−ジメチルアミノピリジン(3,25g)お
よびトリエチルアミン(5ml?)ン乾燥ジクロロメタ
ン(100m/りに溶解した。無水酢酸(2,7,9)
v加えて、その混合物χ25℃で16時間そのままに維
持した。反応を完了させ実施例1のパートCで述べたよ
うにして精製し、ろ、2/、4“−トリーp−アセチル
−23\9−(士、ert−プチルジメチ計シリル)−
23−〇−説ミシノシルチロシンヶ得た。
3、2’、 A″−トリ二9!ア七チルー23−更−(
tert−プチルジメチルシI)ル)−23−0−説ミ
ジノシルチロシン(この実施例の、”−)Aで製造した
もの(ろ、9:l’に80%酢酸水溶液(50mJlに
溶解して反応ケ実施し7、生成物は実施例5のパートD
で述べたようにして精製(2,3,2’ 、 A“−ト
リー朶−アセチル−2ろ一一〇−説ミジノシル馨得た、 c、3.4“−:)−〇−アセチルー23−説ミジノシ
ルチロシン 3、2’ 、 4“−トリーq−アセチルー23−0−
脱ミジノシルチロシン(この実施例のノー)Bで製造し
たもの)(2,9)χメタノール(50m/)◆ に溶解して反応χ実施し、生成物は実施例5のパー)E
のようにして精製し、6.4″−ジーO−アセチル−2
3−0−脱ミシノシルチロシンン得た。
tert−プチルジメチルシI)ル)−23−0−説ミ
ジノシルチロシン(この実施例の、”−)Aで製造した
もの(ろ、9:l’に80%酢酸水溶液(50mJlに
溶解して反応ケ実施し7、生成物は実施例5のパートD
で述べたようにして精製(2,3,2’ 、 A“−ト
リー朶−アセチル−2ろ一一〇−説ミジノシル馨得た、 c、3.4“−:)−〇−アセチルー23−説ミジノシ
ルチロシン 3、2’ 、 4“−トリーq−アセチルー23−0−
脱ミジノシルチロシン(この実施例のノー)Bで製造し
たもの)(2,9)χメタノール(50m/)◆ に溶解して反応χ実施し、生成物は実施例5のパー)E
のようにして精製し、6.4″−ジーO−アセチル−2
3−0−脱ミシノシルチロシンン得た。
6,4“−ジー曳!アセチに一26\q−説ミジノシル
チロシン(この実施例の)ξ−トC−C製造したもの)
(IV)および、1−N−アミノル4.4−ジオギソチ
オセルホリン(16o〜)ン乾燥ジクロロメタIン(5
0+++/)に溶解して反応χ実施し、生成物は実施例
50パートFで述べたようにして精製し、ろ、4“−ジ
ー見−゛γセヂルー23−法−説ミジノンルー20−デ
オキソ−20−[(4,4−ジオギソチオモルホ゛リニ
ル)、イミノ1−チロシンケ得た。
チロシン(この実施例の)ξ−トC−C製造したもの)
(IV)および、1−N−アミノル4.4−ジオギソチ
オセルホリン(16o〜)ン乾燥ジクロロメタIン(5
0+++/)に溶解して反応χ実施し、生成物は実施例
50パートFで述べたようにして精製し、ろ、4“−ジ
ー見−゛γセヂルー23−法−説ミジノンルー20−デ
オキソ−20−[(4,4−ジオギソチオモルホ゛リニ
ル)、イミノ1−チロシンケ得た。
3.2’、・4“−トリーq−アセチルー73−0−脱
ミジノシルチロシン(実施例6の1e−)Bで製造した
もの)(1,!7)および1−N−アミノ−4,4−ジ
オギソチ材モルポリ〉′(173mQ)を乾燥ジクロロ
メタン(50Tnl)に溶解して反応欠実施し、生成物
は実施例5のパートFのようにして精製し、ろ 2/
、 74// −)り一仄−アセチル−2ろ一Ω−継、
ミシノシルー20−チオキン−20−[(4,1−シオ
ギソチオモルホリニル)イミノ1−チロシンケ得た。
ミジノシルチロシン(実施例6の1e−)Bで製造した
もの)(1,!7)および1−N−アミノ−4,4−ジ
オギソチ材モルポリ〉′(173mQ)を乾燥ジクロロ
メタン(50Tnl)に溶解して反応欠実施し、生成物
は実施例5のパートFのようにして精製し、ろ 2/
、 74// −)り一仄−アセチル−2ろ一Ω−継、
ミシノシルー20−チオキン−20−[(4,1−シオ
ギソチオモルホリニル)イミノ1−チロシンケ得た。
2′ 一旦一アセチルー26−タ、−’(tert−ブ
チルジメチルシリル) −22−0−11R,ミシノシ
ル−4“−ρ−イソバレリルチロシン(実施例5の)ξ
−)Bおよび無水酢酸の代りに無水イソパレリアン酸ケ
使用して実施例5カーξ−トCで製造したもの)、(1
0,9>を乾燥1,2〕ジクロ°ロエタン(20017
11)に溶解して、゛トリベンジルアミン(’4.4.
9)および塩化トリメチルシリル(’1.3g)を添加
した。その溶液を5℃で16時間そのままに維持した。
チルジメチルシリル) −22−0−11R,ミシノシ
ル−4“−ρ−イソバレリルチロシン(実施例5の)ξ
−)Bおよび無水酢酸の代りに無水イソパレリアン酸ケ
使用して実施例5カーξ−トCで製造したもの)、(1
0,9>を乾燥1,2〕ジクロ°ロエタン(20017
11)に溶解して、゛トリベンジルアミン(’4.4.
9)および塩化トリメチルシリル(’1.3g)を添加
した。その溶液を5℃で16時間そのままに維持した。
溶液は水に注いで重炭酸ナトリウム水溶液でnHを95
に調節した。その後ジクロロエタン層を水で洗浄し、乾
燥(MgSO4)L、、濾過し蒸発乾固させて2′、3
“−ジーq−アセチル−26−O−(tert−ブチル
ジメチルシリル)−23−p−説ミジノシル−3−トI
Jメチルシリルー4″−0〜インバレリルチロシンを得
た。この生成物を乾燥1.2−ジクロロエタン(2DO
ml)に取り上げて、トリベンジルアミン(35,1,
9)および塩化アセチル(8,0,17)を添加した。
に調節した。その後ジクロロエタン層を水で洗浄し、乾
燥(MgSO4)L、、濾過し蒸発乾固させて2′、3
“−ジーq−アセチル−26−O−(tert−ブチル
ジメチルシリル)−23−p−説ミジノシル−3−トI
Jメチルシリルー4″−0〜インバレリルチロシンを得
た。この生成物を乾燥1.2−ジクロロエタン(2DO
ml)に取り上げて、トリベンジルアミン(35,1,
9)および塩化アセチル(8,0,17)を添加した。
その混合物は還流下に70’Cで20時間加熱した。水
を加えて重炭酸ナトリウム水溶液でpHを′95に調節
した。ジクロロエタン層を水で洗浄し、乾燥(MgSO
4)し、濾過して蒸発乾固させた。残漬はメタノール(
500ml)および8%炭酸カリウム水溶液(50rn
e )に溶解して、その混合物を25℃で1時間攪拌し
た。わHを酢酸でZOに調節してその溶液を蒸発乾固さ
せた。残漬はジクロロメタン−水の混合溶媒に取り上げ
てpHを9.5に調節した。ジクロロメタン層は水で洗
浄し、乾II (MgSO4)t、、濾過して蒸発乾固
させた。その残漬を2個のシリカゲルカートリッジおよ
び溶離剤として25%アセトン−ヘキサン溶液を使用す
る分取HPLG装置でのクロマトグラフにかけて、2′
、ろ“−ジー夏−アセチル−23−0−(tprt−ブ
チルジメチルシリル)−23−0−脱ミシノシル−4“
−p−イソバレリルチロシンを得た。
を加えて重炭酸ナトリウム水溶液でpHを′95に調節
した。ジクロロエタン層を水で洗浄し、乾燥(MgSO
4)し、濾過して蒸発乾固させた。残漬はメタノール(
500ml)および8%炭酸カリウム水溶液(50rn
e )に溶解して、その混合物を25℃で1時間攪拌し
た。わHを酢酸でZOに調節してその溶液を蒸発乾固さ
せた。残漬はジクロロメタン−水の混合溶媒に取り上げ
てpHを9.5に調節した。ジクロロメタン層は水で洗
浄し、乾II (MgSO4)t、、濾過して蒸発乾固
させた。その残漬を2個のシリカゲルカートリッジおよ
び溶離剤として25%アセトン−ヘキサン溶液を使用す
る分取HPLG装置でのクロマトグラフにかけて、2′
、ろ“−ジー夏−アセチル−23−0−(tprt−ブ
チルジメチルシリル)−23−0−脱ミシノシル−4“
−p−イソバレリルチロシンを得た。
2′、6″−ジ一旦−アセヂルー’) 5−0− (t
、pr+。
、pr+。
−ブチルジメチルシリル)−23−0−説ミジノシル−
4−0−イソバレリルチロシン(この実施例のパー)A
で製造したもの)(5、? )を80%酢酸水溶液(1
001nl)に溶解し、実施例5のパー)DK述べたよ
うに反応を実施して2/、3//−0−0−アセチル−
23−0−説ミジノシル−4“一旦一イソパレリルチロ
シンを得た。
4−0−イソバレリルチロシン(この実施例のパー)A
で製造したもの)(5、? )を80%酢酸水溶液(1
001nl)に溶解し、実施例5のパー)DK述べたよ
うに反応を実施して2/、3//−0−0−アセチル−
23−0−説ミジノシル−4“一旦一イソパレリルチロ
シンを得た。
C03″−〇−アセチルー26−〇−悦ミジノシル−A
“−〇−インパレリルチ口シン 2/、3//−ジーΩ−アセチル−26一旦−説ミジノ
シル−4“−〇−イソバレリルチロシン(この実施例
の)ξ−トBでjR1造し六−もの)(3[)をメタノ
ール(50m/りに溶解し、実施例5のパートEに述べ
たように反応を実施して6“−〇−アセチルー23−0
−説ミジノシル−A//−居一インバレリルチロシンを
得た。
“−〇−インパレリルチ口シン 2/、3//−ジーΩ−アセチル−26一旦−説ミジノ
シル−4“−〇−イソバレリルチロシン(この実施例
の)ξ−トBでjR1造し六−もの)(3[)をメタノ
ール(50m/りに溶解し、実施例5のパートEに述べ
たように反応を実施して6“−〇−アセチルー23−0
−説ミジノシル−A//−居一インバレリルチロシンを
得た。
ルチロシン
3″−−0−アセチル−23−瞬ミジノシル−4“−0
−イソバレリルチロシン(この実施例のパートCで製造
したもの)(2g)および1−N−アミノ−4,4−ジ
オヤンチオモルホリン(346mg)を乾燥ジクロロメ
タン(53m/りに溶解し、実施例5の)ξ−トFに述
べたように反応を実!na Lで6“一旦−アセチル−
23−0−脱ミシノシル−2゜−デオキソ−20−[(
4,4−:)オギソチオモルホリニル)イミノ〕−4“
−ρ−インバレリルチロシンを得た。
−イソバレリルチロシン(この実施例のパートCで製造
したもの)(2g)および1−N−アミノ−4,4−ジ
オヤンチオモルホリン(346mg)を乾燥ジクロロメ
タン(53m/りに溶解し、実施例5の)ξ−トFに述
べたように反応を実!na Lで6“一旦−アセチル−
23−0−脱ミシノシル−2゜−デオキソ−20−[(
4,4−:)オギソチオモルホリニル)イミノ〕−4“
−ρ−インバレリルチロシンを得た。
2′−以一アセヂルー23一旦−(t、erj−ブチル
ジメチルシリル)−23−0−脱ミジノシル−4“−ρ
−イソバレリルチロシン(実施例5のパー)Bおよび無
水インバレリアン酸を使用して実施例5のパートCで製
造したもの)(10g)4−ジメチルアミノピリジンC
6,2g)およびトリエチルアミン(10il)を乾燥
ジクロロメタン(200mg)に溶解した。無水酢酸(
5,2’)を添加して、その混合物を25”Cで16時
間そのままに維持した。反応を仕上げて実施例1のパー
トCで述べたようにして精製し、6,2′ −ジー0−
アセチル−26−仝−(tert、−ブチルジメチルシ
リル)、−Q3−Q−説ミジノシルー4″二q−インバ
レリルチロシンを得た。
ジメチルシリル)−23−0−脱ミジノシル−4“−ρ
−イソバレリルチロシン(実施例5のパー)Bおよび無
水インバレリアン酸を使用して実施例5のパートCで製
造したもの)(10g)4−ジメチルアミノピリジンC
6,2g)およびトリエチルアミン(10il)を乾燥
ジクロロメタン(200mg)に溶解した。無水酢酸(
5,2’)を添加して、その混合物を25”Cで16時
間そのままに維持した。反応を仕上げて実施例1のパー
トCで述べたようにして精製し、6,2′ −ジー0−
アセチル−26−仝−(tert、−ブチルジメチルシ
リル)、−Q3−Q−説ミジノシルー4″二q−インバ
レリルチロシンを得た。
(jert−ブチルジメチルシリル’)−23−0−説
6.2′−ジ一旦−アセチルー26−隻−(tert−
ブチルジメチルシリル)−23−0−説ミジノシル−4
“−y−イソバレリルチロシン(この実施例のパー)4
で製造したもの)(51)を乾燥1.2−ジクロロエタ
ン(100mg)に溶解してトリインジルアミン(16
,8,9)および順化アセチル(3,8,9)を加えた
。そσ)混合物を還流ドに70℃で20時間加熱した。
6.2′−ジ一旦−アセチルー26−隻−(tert−
ブチルジメチルシリル)−23−0−説ミジノシル−4
“−y−イソバレリルチロシン(この実施例のパー)4
で製造したもの)(51)を乾燥1.2−ジクロロエタ
ン(100mg)に溶解してトリインジルアミン(16
,8,9)および順化アセチル(3,8,9)を加えた
。そσ)混合物を還流ドに70℃で20時間加熱した。
水を加えCpHを重炭酸ツートリウムで95に調節した
8′)クロロエタン層を水で洗浄し、乾燥(MgSO4
) L、j″過して蒸発乾固させ、3.2’、 3″−
)リーq−アセチル−23−0−(tert−メチルジ
メチルシリル)−23二p−説ミジノシル−、d″、Q
−イソバレリルチロシンを得た。
8′)クロロエタン層を水で洗浄し、乾燥(MgSO4
) L、j″過して蒸発乾固させ、3.2’、 3″−
)リーq−アセチル−23−0−(tert−メチルジ
メチルシリル)−23二p−説ミジノシル−、d″、Q
−イソバレリルチロシンを得た。
3、”、ろ“−トリーO−アセチル−23−0−(te
rt−ブチルジメチルシリル)−20−○−脱ミジノシ
ルー4//−Q−イソバレリルチロシン(この実施例の
)ξ−トBで製造したもの)(3p)を80%酢酸水溶
液(50m/)に溶解して反応を実施し、生成物は実施
例5の・ξ−トDのようKして精製し、3.2’ 、
3“−トリーq−アセチルー23−0−説ミジノシル−
4“−o−インバレリルチロシンを得た。
rt−ブチルジメチルシリル)−20−○−脱ミジノシ
ルー4//−Q−イソバレリルチロシン(この実施例の
)ξ−トBで製造したもの)(3p)を80%酢酸水溶
液(50m/)に溶解して反応を実施し、生成物は実施
例5の・ξ−トDのようKして精製し、3.2’ 、
3“−トリーq−アセチルー23−0−説ミジノシル−
4“−o−インバレリルチロシンを得た。
3.2’、3“−トリーq−アセチル−2ろ−q−説ミ
シミジノシル“−O−インバレリルチロシン(この実施
例のパートCで製造したもの)(2V)をメタノール(
53m/)に溶解し、実施例5のパー)Eで述べたよう
にして反応を実施し、6.3“−ジーq−アセチルー2
3−q−説ミジノシル−4“−q−インバレリルチロシ
ンを得た。
シミジノシル“−O−インバレリルチロシン(この実施
例のパートCで製造したもの)(2V)をメタノール(
53m/)に溶解し、実施例5のパー)Eで述べたよう
にして反応を実施し、6.3“−ジーq−アセチルー2
3−q−説ミジノシル−4“−q−インバレリルチロシ
ンを得た。
ルチロシン
ろ、3″−ジーO−アセチルー23一旦−説ミジノシル
−4“−身一インバレリルチロシン(この実施例の・ξ
−トDで製造したもの)(1g)および1−N−アミノ
−4,4−ジオキソチオモルホリン(165m9)を乾
燥ジクooメタy(53m/)に溶解し、実施例5のパ
ー)Fで述べたようにして反応を実施し、6,3“−ジ
−p−アセチル−25一旦一説ミジノシルー20−デオ
キソ−20−[(4,4−ジオキソチオモルホ47ニル
)イミノ〕−4“−〇−イソバレリルチロシンを得た。
−4“−身一インバレリルチロシン(この実施例の・ξ
−トDで製造したもの)(1g)および1−N−アミノ
−4,4−ジオキソチオモルホリン(165m9)を乾
燥ジクooメタy(53m/)に溶解し、実施例5のパ
ー)Fで述べたようにして反応を実施し、6,3“−ジ
−p−アセチル−25一旦一説ミジノシルー20−デオ
キソ−20−[(4,4−ジオキソチオモルホ47ニル
)イミノ〕−4“−〇−イソバレリルチロシンを得た。
3.2’、4“−トリー−q−アセチル−23−0−脱
ミジノシルー20−デオキン−20−〔(4,4−ジオ
キソチオモルホリニル)イミノ〕−チロシン(実施例7
で製造したもの)(1,9)およびジシクロへキシルカ
ルボジイミ)” (619mQ>を乾燥ジメチルスルホ
キシド(3mjりと乾燥ばンゼン(20mg)の混合溶
媒に溶解した。ピリジン(79tW )およびトリフル
オロ酢酸(57Tnq)を加えてその混合物を25℃で
5時間攪拌した1、ベンゼンを真空中で蒸発させ、残渣
はジクロロメタンに取り上げて水で洗浄(〜た。ジクロ
ロメタン層は乾燥(MgSO4)t、、j=T過して蒸
発乾固させた。その残渣(±シリカゲルカートリッジお
よび溶離剤として25%アセトン−ヘキサン溶液を使用
する分取HPLC装置でのクロマトグラフtてかけて表
題化合物を得た。
ミジノシルー20−デオキン−20−〔(4,4−ジオ
キソチオモルホリニル)イミノ〕−チロシン(実施例7
で製造したもの)(1,9)およびジシクロへキシルカ
ルボジイミ)” (619mQ>を乾燥ジメチルスルホ
キシド(3mjりと乾燥ばンゼン(20mg)の混合溶
媒に溶解した。ピリジン(79tW )およびトリフル
オロ酢酸(57Tnq)を加えてその混合物を25℃で
5時間攪拌した1、ベンゼンを真空中で蒸発させ、残渣
はジクロロメタンに取り上げて水で洗浄(〜た。ジクロ
ロメタン層は乾燥(MgSO4)t、、j=T過して蒸
発乾固させた。その残渣(±シリカゲルカートリッジお
よび溶離剤として25%アセトン−ヘキサン溶液を使用
する分取HPLC装置でのクロマトグラフtてかけて表
題化合物を得た。
実施例10の化合*(2,9)をメタ/−ル(50mg
)に溶解し、実施例9の・ξ−トEで述べたように反
応を実施して表題化合物を得た。
)に溶解し、実施例9の・ξ−トEで述べたように反
応を実施して表題化合物を得た。
6.4“−ジーO−アセチルー26−説(ミシノシルオ
ギブーロシン ′火施例11の化合物(1!J)および1−N−アミノ
−4,4−ジオキソチオモルホリン(168〜)を乾燥
ジクロロメタン(50mg、)に溶解して反応を実施し
、生成物は実質的に実施例5のパートFで述べたように
して単離して表題化合物を得た。
ギブーロシン ′火施例11の化合物(1!J)および1−N−アミノ
−4,4−ジオキソチオモルホリン(168〜)を乾燥
ジクロロメタン(50mg、)に溶解して反応を実施し
、生成物は実質的に実施例5のパートFで述べたように
して単離して表題化合物を得た。
ロジン
23−0− 脱ミシノシルチロシン(実施例4の)ξ−
トDで製造したもの)(1,EM)およびトリフェニル
ジフルオロホスホラン(979m’2 ’) ヲ乾燥ア
セトニトリル(20?ψに溶解し、その混合物を密封ボ
ンば中で150℃に10時間加熱した。
トDで製造したもの)(1,EM)およびトリフェニル
ジフルオロホスホラン(979m’2 ’) ヲ乾燥ア
セトニトリル(20?ψに溶解し、その混合物を密封ボ
ンば中で150℃に10時間加熱した。
冷却後、その溶液をジクロロメタンで希釈して、泌初に
重炭酸ナトリウム飽和水溶液で次に水で洗浄し、乾燥(
MgSO4) L、濾過して蒸発乾固させた。
重炭酸ナトリウム飽和水溶液で次に水で洗浄し、乾燥(
MgSO4) L、濾過して蒸発乾固させた。
WeNは溶離剤として3%メタノール−クロロホルム溶
液を使用1〜でシリカゲルカラム(11(3X2、5
cm )のクロマドグラフトζかけて23−フルオロ−
23−脱(ミシノシルオギシ)チロシンを得た。
液を使用1〜でシリカゲルカラム(11(3X2、5
cm )のクロマドグラフトζかけて23−フルオロ−
23−脱(ミシノシルオギシ)チロシンを得た。
B、23−フルオロ−23−脱(ミシノシル“)チロシ
ン(この実施例のパー)Aで製造したもの)を使用し、
実質的に実施例1のパートB−Eで詳述1.た方法を繰
り返すことによt)2’−0−アセチル−20−デオキ
ソ−20−[(4,A−ジオキソチオモルホリニル)イ
ミノ〕−4“−q−イソバレリル−23−脱(ミシノシ
ルオキシ)−23−フルオロチロシンヲ得た、。
ン(この実施例のパー)Aで製造したもの)を使用し、
実質的に実施例1のパートB−Eで詳述1.た方法を繰
り返すことによt)2’−0−アセチル−20−デオキ
ソ−20−[(4,A−ジオキソチオモルホリニル)イ
ミノ〕−4“−q−イソバレリル−23−脱(ミシノシ
ルオキシ)−23−フルオロチロシンヲ得た、。
実施例14
A、23−クロロ−23−脱(ミシノシルオギシ)チロ
シン 23− o; 脱ミシノシルチロシン(実施例4のパー
トDで製造し五−もの’)(1,!M)す6よび四塩化
炭素(623mz)を乾燥ジメチルホルムアミド(10
0mg)に溶解した。乾燥ジメチルホルムアミl−’
(25ml )に溶解したトリス−〔ジメチルアミノ)
−燐アミ)″(527〜)を−45℃でその攪拌・溶液
に加え、攪拌を1時間続けた。その溶液を25℃まで暖
めて、その後還流下に80℃で20時間加熱した。混合
物を蒸発乾固させ、残渣はクロロホルムに取り上げて水
で洗浄し、乾燥(MgSO4) I、、濾過して蒸発乾
固させた。その残渣を溶離剤として6%メタノール−ク
ロロホルム溶液を使用してシリカゲルカラム(110x
2.5crrL)のクロマトグラフにかけ、23−ク
ロロ−26−脱(ミシノシルオギシ)チロシンを得た。
シン 23− o; 脱ミシノシルチロシン(実施例4のパー
トDで製造し五−もの’)(1,!M)す6よび四塩化
炭素(623mz)を乾燥ジメチルホルムアミド(10
0mg)に溶解した。乾燥ジメチルホルムアミl−’
(25ml )に溶解したトリス−〔ジメチルアミノ)
−燐アミ)″(527〜)を−45℃でその攪拌・溶液
に加え、攪拌を1時間続けた。その溶液を25℃まで暖
めて、その後還流下に80℃で20時間加熱した。混合
物を蒸発乾固させ、残渣はクロロホルムに取り上げて水
で洗浄し、乾燥(MgSO4) I、、濾過して蒸発乾
固させた。その残渣を溶離剤として6%メタノール−ク
ロロホルム溶液を使用してシリカゲルカラム(110x
2.5crrL)のクロマトグラフにかけ、23−ク
ロロ−26−脱(ミシノシルオギシ)チロシンを得た。
、B、:?3−クロロー23− 脱(ミシノシルオキシ
)チロシン(この実施例のパー)Aで製造したモノ)を
使用し、実質的に実施例1のノξ−トB−Eで詳述した
方法、を繰り返すことにより2′−且一アセチルー20
−デオキソ−20−〔(4,4−ジオキソチオモルホリ
ニル〕イミノ〕−4“−〇−イソバレリルー26−クロ
ロー23− 脱(ミシノシルオキシ)チロシンを得た。
)チロシン(この実施例のパー)Aで製造したモノ)を
使用し、実質的に実施例1のノξ−トB−Eで詳述した
方法、を繰り返すことにより2′−且一アセチルー20
−デオキソ−20−〔(4,4−ジオキソチオモルホリ
ニル〕イミノ〕−4“−〇−イソバレリルー26−クロ
ロー23− 脱(ミシノシルオキシ)チロシンを得た。
A、+23−;’コモ−23−脱(ミシノシルオキシ)
千ローイ/− 23−0−脱ミシノシルチロシン(実施例4のパートD
で製造したもの)、(1,Fl)および四臭化炭素(1
,34,li’)を乾燥ジメチルアミl、ア・ミド(’
100m1)[溶!した。乾燥ジメチルポルムアミド(
25m/)中のトリス−(ジメチルアミ゛))−燐アミ
ド(527mg)を−45℃でそ゛の攪拌溶液に添加し
、攪拌を1′時間続けた。その溶液を25℃まで暖め、
その後還流下に80℃で2“0時間加熱した。溶液を蒸
発乾固させ、残渣はクロロホルムに嘔り上げて水で洗浄
し、乾燥(MgSO4) L濾過して蒸発乾固させた。
千ローイ/− 23−0−脱ミシノシルチロシン(実施例4のパートD
で製造したもの)、(1,Fl)および四臭化炭素(1
,34,li’)を乾燥ジメチルアミl、ア・ミド(’
100m1)[溶!した。乾燥ジメチルポルムアミド(
25m/)中のトリス−(ジメチルアミ゛))−燐アミ
ド(527mg)を−45℃でそ゛の攪拌溶液に添加し
、攪拌を1′時間続けた。その溶液を25℃まで暖め、
その後還流下に80℃で2“0時間加熱した。溶液を蒸
発乾固させ、残渣はクロロホルムに嘔り上げて水で洗浄
し、乾燥(MgSO4) L濾過して蒸発乾固させた。
その残渣を溶離剤とし “て3%メタノール−ク
ロロホルム溶液を使用してシリカゲルカラム(110x
2,5crIl)のクロマトグラフにかけ、26−ブ
ロモ−23−説(ミシノシルオキシ)チロシンヲ得た。
ロロホルム溶液を使用してシリカゲルカラム(110x
2,5crIl)のクロマトグラフにかけ、26−ブ
ロモ−23−説(ミシノシルオキシ)チロシンヲ得た。
B、実施例14のパー1−Bに従って20−チオキン−
20−イミノ誘導体を製造した。
20−イミノ誘導体を製造した。
A、23−脱(ミシノシルオキシ)チロシン23−脱(
ミシノシルオキシ)−23−ヨードチロシン(実施例4
で製造したもの)(1g)を乾燥テトラヒト90フラン
(150m/りに1fJ4L、その混合物をアルゴン下
に維持した。新たに蒸留した水素化トリーn−ブチル錫
(10d)を加えて60°Cで70時間攪拌した。その
溶液を蒸発乾固させ、残渣は溶離剤と1−て2%メクノ
ールークロロホルム溶液を使用してシリカゲルカラム(
30X5(−m、)のクロマトグラフにかけ、表題生・
放物として26−説(ミシノシルオキシ)チロシンを得
た、 B。23− 脱(ミシノシルオキシ)チロシン(この実
施例のパートAで製造したもの)を使用し、実質的に実
施例1のパートB−Eで詳述した方法を繰り返すことに
より2/、−Q−アセチル−20−デオキソ−2’0
〔、(4,4−ジオキソチオモルポリニル)イミノ)−
a″−o−イソバレリル−25−脱(ミシノシルオキシ
)−チロシンヲ得り。
ミシノシルオキシ)−23−ヨードチロシン(実施例4
で製造したもの)(1g)を乾燥テトラヒト90フラン
(150m/りに1fJ4L、その混合物をアルゴン下
に維持した。新たに蒸留した水素化トリーn−ブチル錫
(10d)を加えて60°Cで70時間攪拌した。その
溶液を蒸発乾固させ、残渣は溶離剤と1−て2%メクノ
ールークロロホルム溶液を使用してシリカゲルカラム(
30X5(−m、)のクロマトグラフにかけ、表題生・
放物として26−説(ミシノシルオキシ)チロシンを得
た、 B。23− 脱(ミシノシルオキシ)チロシン(この実
施例のパートAで製造したもの)を使用し、実質的に実
施例1のパートB−Eで詳述した方法を繰り返すことに
より2/、−Q−アセチル−20−デオキソ−2’0
〔、(4,4−ジオキソチオモルポリニル)イミノ)−
a″−o−イソバレリル−25−脱(ミシノシルオキシ
)−チロシンヲ得り。
23−0− 脱ミシノシルチロシン(実施例4の)e−
トDで製造したもの)(10g)およ°び無水酢酸(2
,El、)を乾燥ピリジン(IQ[1mJ)に溶解し、
その溶液を25℃で20時間そのままに維持した。この
反応を実質的に実施例1のハートBに述べたようにして
仕上げて2’、23−:)−0−アセチル−23−0−
脱ミジノシルチロシンを得た。
トDで製造したもの)(10g)およ°び無水酢酸(2
,El、)を乾燥ピリジン(IQ[1mJ)に溶解し、
その溶液を25℃で20時間そのままに維持した。この
反応を実質的に実施例1のハートBに述べたようにして
仕上げて2’、23−:)−0−アセチル−23−0−
脱ミジノシルチロシンを得た。
B−2’、23−ジー9− アセチル−23−0−説ミ
ジノシルチロシン(この実施例のパートAで製造したも
の)を使用して実施例1のパー)B−Fに詳述した方法
を繰り返すことにより、2’、23−ジ一旦−アセチル
ー20−デオギン−20−[(4,4−ジオキソチオモ
ルポリニル)イミノ〕−4“−隻一インバレリルー23
−説ミジノシルチロシンを得た。
ジノシルチロシン(この実施例のパートAで製造したも
の)を使用して実施例1のパー)B−Fに詳述した方法
を繰り返すことにより、2’、23−ジ一旦−アセチル
ー20−デオギン−20−[(4,4−ジオキソチオモ
ルポリニル)イミノ〕−4“−隻一インバレリルー23
−説ミジノシルチロシンを得た。
実施例18
A、’3−0−説ミシ/シルー 20−fオキ7−20
−チrJシン 23−0− 脱ミシノシルチロシン(実施例4のパート
Dで製造したもの)(ICI、F)および1−N−アミ
ノ−4,4−ジオキソチオモルホリン(20,&)をメ
タノール(I FJ QmA )に的解し、その反応を
実施例5の・ン〜トFで述べたように実殉して26−o
−刀兄ミジノシル−20−デオキソ、20−[(4,4
−ジオキソチオモルホリニル)イミノクーチロシンを得
た。こオr42.5+ンbメタノール/クロロホルム混
液によリシリカゲルでクロマトグラフすることによって
精製した。
−チrJシン 23−0− 脱ミシノシルチロシン(実施例4のパート
Dで製造したもの)(ICI、F)および1−N−アミ
ノ−4,4−ジオキソチオモルホリン(20,&)をメ
タノール(I FJ QmA )に的解し、その反応を
実施例5の・ン〜トFで述べたように実殉して26−o
−刀兄ミジノシル−20−デオキソ、20−[(4,4
−ジオキソチオモルホリニル)イミノクーチロシンを得
た。こオr42.5+ンbメタノール/クロロホルム混
液によリシリカゲルでクロマトグラフすることによって
精製した。
〔α〕26−66.7°(c[lC7,) ; UV
:λInaX]、) (CF3CH20[() 24Qnm’(C6,99
ろ)および283 n m (520,562);
iR:1)max(CDCJa)3675.3590.
2965.2925゜1720.1675.1588.
1305,1180゜1120、1045cIn″″’
; NMll: (5■I(CI)C13)1.82
(3T(、d、 Jl、221.5Hz、 22−C
I5)、2.51 (6)4. S、 3’−N(CH
3) 2 )、 4.28(1ト1. d、
J II、 2I 711z、 HH・
)、 5.94(IH,d(1,J、 1
.5ET、zJ 10 T−1y、。
:λInaX]、) (CF3CH20[() 24Qnm’(C6,99
ろ)および283 n m (520,562);
iR:1)max(CDCJa)3675.3590.
2965.2925゜1720.1675.1588.
1305,1180゜1120、1045cIn″″’
; NMll: (5■I(CI)C13)1.82
(3T(、d、 Jl、221.5Hz、 22−C
I5)、2.51 (6)4. S、 3’−N(CH
3) 2 )、 4.28(1ト1. d、
J II、 2I 711z、 HH・
)、 5.94(IH,d(1,J、 1
.5ET、zJ 10 T−1y、。
13+22 1 13.14T−1)、6.
30(ILl、、d、J 151−1z、H,。
30(ILl、、d、J 151−1z、H,。
)。
13 10、
II7.40 (1)1. d d、 J
−−、) 4Tlz。
II7.40 (1)1. d d、 J
−−、) 4Tlz。
1 9、 20 19’、 20I(2o)およ
び7.67 (1H9(1,J + 6y I 、
15Hz。
び7.67 (1H9(1,J + 6y I 、
15Hz。
H,、)。
実施例4に記載したように23−〇−説ミジノシルー2
0−デオキソ−20−〔(4,4−ジオキソチオモルホ
リニル)イミノクーチロシン(こ、の実施例のパー)A
で製造したもの)を乾燥ジメチルホルムアミド(500
ml)中σ)ヨウ化メチルトリフエノキシホスホニウム
(5,2,lと反応させて、23−ヨーI−″−26−
脱(ミシノシルオキシ)−20−デオキソ−20−[(
4J−:)オギソチオモルホリニル)イミノ]〜チロシ
ンを得り。
0−デオキソ−20−〔(4,4−ジオキソチオモルホ
リニル)イミノクーチロシン(こ、の実施例のパー)A
で製造したもの)を乾燥ジメチルホルムアミド(500
ml)中σ)ヨウ化メチルトリフエノキシホスホニウム
(5,2,lと反応させて、23−ヨーI−″−26−
脱(ミシノシルオキシ)−20−デオキソ−20−[(
4J−:)オギソチオモルホリニル)イミノ]〜チロシ
ンを得り。
26−ヨー)−23−+IQ(ミシノシルオキシ)−2
0−デオキソ−20−CC4,11−ジオキソチオモル
ホリニル)イミノクーチロシン(この実施例のパートB
で製造したもの)(2g)およびジエチルアミン(2゜
8g)を乾燥アセ、トニ) IIル(40+al)に溶
解し、その混合物を密封管中でso’cVci時間加熱
した。溶液を蒸発乾固させ、残漬は溶離剤として30%
アセトンーヘギザン溶液を使用してシリカゲルカラム(
11(]X2.5cwL’)のクロマトグラフにかけて
表題化合物を得た。
0−デオキソ−20−CC4,11−ジオキソチオモル
ホリニル)イミノクーチロシン(この実施例のパートB
で製造したもの)(2g)およびジエチルアミン(2゜
8g)を乾燥アセ、トニ) IIル(40+al)に溶
解し、その混合物を密封管中でso’cVci時間加熱
した。溶液を蒸発乾固させ、残漬は溶離剤として30%
アセトンーヘギザン溶液を使用してシリカゲルカラム(
11(]X2.5cwL’)のクロマトグラフにかけて
表題化合物を得た。
D、この実施例のパー)Cの化合物を使用して実質的に
実施例1のパー)B−Eを繰り返すことにより、2′−
q−アセチル−23’ −(N、 N−ジエチルアミノ
)−23−脱(ミシノシルオギシ)−20−ジオキソ−
20−C(4,11−ジオキソチオモルホリニル)イミ
ノ1−a”−o−インバレリルチロシンを得た、 4″−9−(tert、−ブチルジメチルシリル)−2
0−チオギソー20−[(41,d−ジオキソチオそル
ホリニル)イミノクーチロシン(実施例2のパートBで
製造したもの(IJlg)を乾燥アセ)ン(3Q+++
e)K溶解して無水酢酸CD、5m’e)を加えムコ。
実施例1のパー)B−Eを繰り返すことにより、2′−
q−アセチル−23’ −(N、 N−ジエチルアミノ
)−23−脱(ミシノシルオギシ)−20−ジオキソ−
20−C(4,11−ジオキソチオモルホリニル)イミ
ノ1−a”−o−インバレリルチロシンを得た、 4″−9−(tert、−ブチルジメチルシリル)−2
0−チオギソー20−[(41,d−ジオキソチオそル
ホリニル)イミノクーチロシン(実施例2のパートBで
製造したもの(IJlg)を乾燥アセ)ン(3Q+++
e)K溶解して無水酢酸CD、5m’e)を加えムコ。
この混合物は25°Cで40時間そのままに維持した。
溶液を蒸発乾固させて残漬はトルエンと共沸させた。そ
の残漬をジクロロメタン−水の混合溶媒に取り上げ、そ
のpHを希水酸化ナトリウム水溶液で95に調節したー
ジクロロメタン層は水で洗浄し、乾燥(MgSO4)L
、濾過し、蒸発乾固させて無色の非晶出固体として2′
−p−アセチル−A” −0−’ (tert−ブチル
ジメチルシリル)−20−デオギソー2O−CC4,A
−ジオキソチオモルホリニル)イミノ〕−チロシンを得
た、分析用試料(200mL?)を溶離剤として30%
アセトン−ヘキサン溶液を使用してシリカゲルカラム(
60X 2 ryn)のクロミドグラフにかけて精製し
、これは次のような特性を有1−7−いスー。
の残漬をジクロロメタン−水の混合溶媒に取り上げ、そ
のpHを希水酸化ナトリウム水溶液で95に調節したー
ジクロロメタン層は水で洗浄し、乾燥(MgSO4)L
、濾過し、蒸発乾固させて無色の非晶出固体として2′
−p−アセチル−A” −0−’ (tert−ブチル
ジメチルシリル)−20−デオギソー2O−CC4,A
−ジオキソチオモルホリニル)イミノ〕−チロシンを得
た、分析用試料(200mL?)を溶離剤として30%
アセトン−ヘキサン溶液を使用してシリカゲルカラム(
60X 2 ryn)のクロミドグラフにかけて精製し
、これは次のような特性を有1−7−いスー。
旋光度:〔σ1..−52.’;)0<CHG13);
UV:λ1naX(CF 30H20H)2 ’!=
4n m (86,369)、286nm(ε22,4
41); IR:l/m、、 (CD(+3)350
0゜2975.2950,2900,1750,171
5.1680゜1598.131B、1240,113
0,1055.m 。
UV:λ1naX(CF 30H20H)2 ’!=
4n m (86,369)、286nm(ε22,4
41); IR:l/m、、 (CD(+3)350
0゜2975.2950,2900,1750,171
5.1680゜1598.131B、1240,113
0,1055.m 。
NMFt:a、 (CI)C13) 0.09(3H
,S、A”−8]GCCrH3)30.12 (3)(
、8,4” −S j、OH3)、Q、92 (9H,
S、f// −8jC(CH))、1.77 (3H,
d、J 1.51−17..3 3
13.2222− (/H,3
)、2.07 (3H−s、2′−〇C0CH5)、2
.A 0(6H,s、3’−N(OH3)2>、3..
19(3H1阻2“′−(X;H3)、3.61 (3
H,s、5”−0GtH3’)、4.′!、/1(IH
18Hz、Hll、/)、5.96(IH,d、g −
+13,22 ”5H2、+13.1410”Iz、H
+3)、6.31 (IH,d、Jlo、。
,S、A”−8]GCCrH3)30.12 (3)(
、8,4” −S j、OH3)、Q、92 (9H,
S、f// −8jC(CH))、1.77 (3H,
d、J 1.51−17..3 3
13.2222− (/H,3
)、2.07 (3H−s、2′−〇C0CH5)、2
.A 0(6H,s、3’−N(OH3)2>、3..
19(3H1阻2“′−(X;H3)、3.61 (3
H,s、5”−0GtH3’)、4.′!、/1(IH
18Hz、Hll、/)、5.96(IH,d、g −
+13,22 ”5H2、+13.1410”Iz、H
+3)、6.31 (IH,d、Jlo、。
15H7、Hlo)、4.99 (IH,t、、 +1
9.285Hz、 H2o)および738(IH,d、
J 15Hz、E(H)。
9.285Hz、 H2o)および738(IH,d、
J 15Hz、E(H)。
10.11
2′−仝−アセデルー4″−主−(tρr’h−ブチル
ジメチルシリル)−20−デオキソ−70−C(4、a
−ジオ右−ソチオモルホリニル)イミノ]−チロシン〔
この実施<5(lのパー)Aで製造したもの)(1,2
19乾燥ジクoロメタy(5QmU1ty溶角TILし
てN、 N’−カルボニルジイミダゾール(1]8■)
を加えた。この混合物は25℃で20時間慝拝上た。溶
液な蒸発乾固させ残渣は溶離剤とI〜て15%アセトン
−ジクロロメタン溶液を使用してシリカゲルカラム(2
00,7’)σ)クロマトグラフにかけ、無色の非晶質
固体どして2’−o〜ルアセチル4“’ −0−(tn
rt−ブチルジメチルシリル)−6“、4“−9−カル
ボニル−20−デオキソ−20−CC4,4−ジオキソ
チオモルホリニル)イミノ〕−チロシンを得た。こtl
、は次の特性な有していた。
ジメチルシリル)−20−デオキソ−70−C(4、a
−ジオ右−ソチオモルホリニル)イミノ]−チロシン〔
この実施<5(lのパー)Aで製造したもの)(1,2
19乾燥ジクoロメタy(5QmU1ty溶角TILし
てN、 N’−カルボニルジイミダゾール(1]8■)
を加えた。この混合物は25℃で20時間慝拝上た。溶
液な蒸発乾固させ残渣は溶離剤とI〜て15%アセトン
−ジクロロメタン溶液を使用してシリカゲルカラム(2
00,7’)σ)クロマトグラフにかけ、無色の非晶質
固体どして2’−o〜ルアセチル4“’ −0−(tn
rt−ブチルジメチルシリル)−6“、4“−9−カル
ボニル−20−デオキソ−20−CC4,4−ジオキソ
チオモルホリニル)イミノ〕−チロシンを得た。こtl
、は次の特性な有していた。
旋光度:〔α]D−46.3°G (GHGi! 3)
: U V :λT11a、X(CH30H)283n
m (ε 20,9(30): NMB:δ1□IG
DG /I 3)o、10 (3H2S、4.”−3I
C’t” 3)、D、14(3)(、S、4 ”−S
]、 G)(3)、0.93 (911、S、4“′−
8]C(G)(3)3)、1.52 (3H,,1B、
3″ −GH3)、 1.77 (3i−I、 d、
、丁、3.2゜1.5H7,,22−CH5)、2.
0 [) (3H1S、2’ −0COCHい、2.4
0 (6H−S、ろ/−N(OH3)2)、3.48
(3)(−S、2m−0c)(3)、3.61 (3H
,s、乙/// ++0GI(−1”r、4.60<1
H1d、、 J、、tt 2/I 8H7,Hltt
)、5.91 (I Hldg −+13,2□1.5
H7,、’13.1410Hz、H,3)624(1)
(、(]、J10,1115H7,Hlo)、/)、9
4 (I H−t、”19,205Hz−H2o)およ
び7.32(1H,d、 Jl、1□15HzH1、) 2’−o−アセチル−4″一旦−(tert、−ブチル
ジメチルシリル)−6“ 4tt + Q −、、)、
ルボニルー20−デオキソ−20−〔(4,,4−ジオ
キソチオモルホリニル)イミノ〕−チロシン〔この実施
例のパートBで製造したもσ))(1゜05 、q)を
無水テトラヒビロフランC25m1)に溶解してフッ化
テトラ−n−メチルアンモニウムろ水和物(062、+
7)を加えた。この沼5合物は25°Cで5時間攪拌し
た。溶液を蒸発乾固させて残清げジクロロメタン−水の
混合溶媒に取り上げた。ジクロロメタン層を水で洗浄し
、乾燥(MgSO4)L、、r過して蒸発乾固させた。
: U V :λT11a、X(CH30H)283n
m (ε 20,9(30): NMB:δ1□IG
DG /I 3)o、10 (3H2S、4.”−3I
C’t” 3)、D、14(3)(、S、4 ”−S
]、 G)(3)、0.93 (911、S、4“′−
8]C(G)(3)3)、1.52 (3H,,1B、
3″ −GH3)、 1.77 (3i−I、 d、
、丁、3.2゜1.5H7,,22−CH5)、2.
0 [) (3H1S、2’ −0COCHい、2.4
0 (6H−S、ろ/−N(OH3)2)、3.48
(3)(−S、2m−0c)(3)、3.61 (3H
,s、乙/// ++0GI(−1”r、4.60<1
H1d、、 J、、tt 2/I 8H7,Hltt
)、5.91 (I Hldg −+13,2□1.5
H7,、’13.1410Hz、H,3)624(1)
(、(]、J10,1115H7,Hlo)、/)、9
4 (I H−t、”19,205Hz−H2o)およ
び7.32(1H,d、 Jl、1□15HzH1、) 2’−o−アセチル−4″一旦−(tert、−ブチル
ジメチルシリル)−6“ 4tt + Q −、、)、
ルボニルー20−デオキソ−20−〔(4,,4−ジオ
キソチオモルホリニル)イミノ〕−チロシン〔この実施
例のパートBで製造したもσ))(1゜05 、q)を
無水テトラヒビロフランC25m1)に溶解してフッ化
テトラ−n−メチルアンモニウムろ水和物(062、+
7)を加えた。この沼5合物は25°Cで5時間攪拌し
た。溶液を蒸発乾固させて残清げジクロロメタン−水の
混合溶媒に取り上げた。ジクロロメタン層を水で洗浄し
、乾燥(MgSO4)L、、r過して蒸発乾固させた。
その残漬を溶離剤として75%アセトン−ジクロロメタ
ン溶液を使用してシリカゲルカラム(100,9)のク
ロマトグラフにかけ、無色の非晶質固体として2′一旦
−アセデル−ろ〃。
ン溶液を使用してシリカゲルカラム(100,9)のク
ロマトグラフにかけ、無色の非晶質固体として2′一旦
−アセデル−ろ〃。
−チロシンを得た。こね、は次の特性を有しでいた。
旋光度:[α]D−54.7°<CHC:1g3);
UV :λma、X(GH30H) 280 n m
’ C11,1Do ) ;NMR二δ1□(CD
3GOCD3)、 1.56 (3H−s、 ろ〃
−CH5)、 fB6(3H,d、 J、、2□1.5
Hz、22−0H3’)、2.011H5S、2/−0
COC:H3)、2.44(6H,S、 3’ −N(
CH3)、、)、3.47 (31(、S、 2”’−
ocH3)、ろ5ろ(3H,s、31〃−0CH3)、
5+、90 ’ 1H,6g 、J+ 3.zz 1・
5Hz−J13,1410Hz、 H,3)、6.54
(IH,d= Jlo、、115Hz。
UV :λma、X(GH30H) 280 n m
’ C11,1Do ) ;NMR二δ1□(CD
3GOCD3)、 1.56 (3H−s、 ろ〃
−CH5)、 fB6(3H,d、 J、、2□1.5
Hz、22−0H3’)、2.011H5S、2/−0
COC:H3)、2.44(6H,S、 3’ −N(
CH3)、、)、3.47 (31(、S、 2”’−
ocH3)、ろ5ろ(3H,s、31〃−0CH3)、
5+、90 ’ 1H,6g 、J+ 3.zz 1・
5Hz−J13,1410Hz、 H,3)、6.54
(IH,d= Jlo、、115Hz。
H3゜)、7.04(1H,t、 J+0.zo !5
Hz、 H2o)および7.25(1H,d、 J
15Hz、 H,1)10.11 乾燥DMSO(ジメチルスルホギシド)C2mlおよび
乾燥ベンゼン(4mg)中7l−Q−アセチル−ろ“、
4″−o−カルボニル−20−デオキソ−20−4(4
,4−ジオキンチオモルホ11ニル)イミノ]−チロシ
ン(558m9’)含有溶液を無水ピリジン(0,04
d)、新たに蒸留したトリフルオo 酢e (0,02
ml )およびジシクロへギシルカルポジイミ)”(3
1(lEFiと室温で処理しjm。その混合物はIり2
下に4時間攪拌し、固形分をP堝により除き、さらにベ
ンゼンで洗った。有機r液は蒸留水で6回(ろ×5me
)、飽和ブラインで1回洗浄して乾燥(MgS04)シ
た。溶媒を除去して表題化合物を得、これはこれ以」二
相製することなしに次の工程に使用された。
Hz、 H2o)および7.25(1H,d、 J
15Hz、 H,1)10.11 乾燥DMSO(ジメチルスルホギシド)C2mlおよび
乾燥ベンゼン(4mg)中7l−Q−アセチル−ろ“、
4″−o−カルボニル−20−デオキソ−20−4(4
,4−ジオキンチオモルホ11ニル)イミノ]−チロシ
ン(558m9’)含有溶液を無水ピリジン(0,04
d)、新たに蒸留したトリフルオo 酢e (0,02
ml )およびジシクロへギシルカルポジイミ)”(3
1(lEFiと室温で処理しjm。その混合物はIり2
下に4時間攪拌し、固形分をP堝により除き、さらにベ
ンゼンで洗った。有機r液は蒸留水で6回(ろ×5me
)、飽和ブラインで1回洗浄して乾燥(MgS04)シ
た。溶媒を除去して表題化合物を得、これはこれ以」二
相製することなしに次の工程に使用された。
E、23−説ミジノシル−6“、4“−9ニブ4−冬共
パート1〕で得られた酸イし生成物をメタノール(10
mε)に溶Yイレ(、S a)溶液をシリカゲル(5g
)で処理し7た。混合物は室温で41d間攪拌した。
パート1〕で得られた酸イし生成物をメタノール(10
mε)に溶Yイレ(、S a)溶液をシリカゲル(5g
)で処理し7た。混合物は室温で41d間攪拌した。
シリカゲルをij’〕q’1〜て除き、5%メタノール
−CI(l’la 浴融で充分に洗い、合わけたl’
液を蒸発乾固させて残渣はシリカゲル−)ノラム(10
[1,V)で精製した。5%メタノール−CIIC13
浴液で溶離して2ろ一説ミジノシルー311,411−
〇−カルボニル−20−デオキソ−20−[(4,,4
−ジオキソチ第4.ルホリニル)イミノ]−チロンンを
得た。
−CI(l’la 浴融で充分に洗い、合わけたl’
液を蒸発乾固させて残渣はシリカゲル−)ノラム(10
[1,V)で精製した。5%メタノール−CIIC13
浴液で溶離して2ろ一説ミジノシルー311,411−
〇−カルボニル−20−デオキソ−20−[(4,,4
−ジオキソチ第4.ルホリニル)イミノ]−チロンンを
得た。
FAs原子衝突質量スはクトル:M/′Z900(Mト
分子式C4’3目6qN3SO+r+にメ1」応−Yる
もの)乾燥堪仕、メチレン(5rne)中6 −
m−/ / /−−一 シボニル−23〜脱ミシノシル−20−ジオキソ−20
−r(4,4−ジオキンチオモルホ11ニル)イミノ〕
−チロシンC100m9’)および無水酢酸含有溶液を
室温で夜通し攪拌した。反応混?−物をばンゼンと共沸
蒸留して2′−9−アセチル−ろ“、4“−0−カルボ
ニル−26−脱ミシノシルー20−デオギソ−20−4
(4,4−ジオキソチオモルホリニル)イミノ〕−チロ
シンを得た。
分子式C4’3目6qN3SO+r+にメ1」応−Yる
もの)乾燥堪仕、メチレン(5rne)中6 −
m−/ / /−−一 シボニル−23〜脱ミシノシル−20−ジオキソ−20
−r(4,4−ジオキンチオモルホ11ニル)イミノ〕
−チロシンC100m9’)および無水酢酸含有溶液を
室温で夜通し攪拌した。反応混?−物をばンゼンと共沸
蒸留して2′−9−アセチル−ろ“、4“−0−カルボ
ニル−26−脱ミシノシルー20−デオギソ−20−4
(4,4−ジオキソチオモルホリニル)イミノ〕−チロ
シンを得た。
ろ、4“−カルボニル−20−ジオキソ−20−4(4
,4−ジオキソチオモルホリニル)イミノ〕−21−脱
ミジノシルチロシンC”JJfi例190ノξ−)E″
′C−製造したもの)を使用して、実質的に実施例1の
パー)Aて詳述した方法を繰り返すことにより表題化合
物を得た。
,4−ジオキソチオモルホリニル)イミノ〕−21−脱
ミジノシルチロシンC”JJfi例190ノξ−)E″
′C−製造したもの)を使用して、実質的に実施例1の
パー)Aて詳述した方法を繰り返すことにより表題化合
物を得た。
8.23−〇−(tert−ブーf−ルジメチルシII
/l/ )−6“、4“−カルボニル−2′、ろ−ジ
アセチルー乾燥塩化メチレン(2Qrp/)中の23−
α−(tert−ブチルジメチルシリル)−6“、4“
−カルボニル−20−ジオキソ−20−[(4,4−:
)オキソチオモルホリニル)イミノ〕−23−月9.
Sジノシルチロシン(1g)、無水酢H(1rtte
)、トリエチルアミンC1me)および4−ジメチルア
ミノピリジン(1,22g)を25℃で20時間そのま
まに維持しt−0溶媒を除去I2て残渣はシリカゲルカ
ラム(100,17)で糖製した。1%メタノール−C
HCl3溶液で溶離して表題化合物を得た。
/l/ )−6“、4“−カルボニル−2′、ろ−ジ
アセチルー乾燥塩化メチレン(2Qrp/)中の23−
α−(tert−ブチルジメチルシリル)−6“、4“
−カルボニル−20−ジオキソ−20−[(4,4−:
)オキソチオモルホリニル)イミノ〕−23−月9.
Sジノシルチロシン(1g)、無水酢H(1rtte
)、トリエチルアミンC1me)および4−ジメチルア
ミノピリジン(1,22g)を25℃で20時間そのま
まに維持しt−0溶媒を除去I2て残渣はシリカゲルカ
ラム(100,17)で糖製した。1%メタノール−C
HCl3溶液で溶離して表題化合物を得た。
実施例1のパー)Dの方法に従って23−0゜(ter
t、−ブチルジメチルシリル)−6“、4“−カルボニ
ル−2’、3−ジアセチル−20−デオキソ−20−[
(4,4−:)オキソチオモルホリニル)イミノ)−2
3−説ミジノシルチロシンを所望化合物の6″、4“−
カルボニル−2′、6−ジアセチル−20−デオキソ−
204(4,4−ジオキソチオモルホリニル)イミノ]
−26−脱ミシノシルチロシンに転化した。
t、−ブチルジメチルシリル)−6“、4“−カルボニ
ル−2’、3−ジアセチル−20−デオキソ−20−[
(4,4−:)オキソチオモルホリニル)イミノ)−2
3−説ミジノシルチロシンを所望化合物の6″、4“−
カルボニル−2′、6−ジアセチル−20−デオキソ−
204(4,4−ジオキソチオモルホリニル)イミノ]
−26−脱ミシノシルチロシンに転化した。
乾燥DMSO(2ml )オdよび乾燥ベンゼアC11
m1)中2′−7セチルー6“、4“−9−カルボニル
−26−説ミシノシルー20−デオキソ−20−[(4
,4−ジオキソチオモルホリニル)イミノ1−チロシン
(実施例19の)ξ−トF″′C製造したもの)(49
0mg)含有溶液を無水ピリジン([1,04mA ’
) 、新たに蒸留したトリフルオロ酢酸(0,02−)
およびジシクロへキシルカルボジイミドゝ(310■)
と室温で処理した。この混合物はN2下に4時間攪拌し
て固形分をr過により除きばンゼンで充分に洗った。有
機p液は蒸留水で6回(3x5mJ)、飽和ブラインで
1回洗浄して乾燥(MgS04)シた。溶媒を除去して
反応混合管を得た。10%メタノール−〇HGII3溶
液で溶離するシリカゲルカラム(50,i7)での精製
により表題化合物を得た。
m1)中2′−7セチルー6“、4“−9−カルボニル
−26−説ミシノシルー20−デオキソ−20−[(4
,4−ジオキソチオモルホリニル)イミノ1−チロシン
(実施例19の)ξ−トF″′C製造したもの)(49
0mg)含有溶液を無水ピリジン([1,04mA ’
) 、新たに蒸留したトリフルオロ酢酸(0,02−)
およびジシクロへキシルカルボジイミドゝ(310■)
と室温で処理した。この混合物はN2下に4時間攪拌し
て固形分をr過により除きばンゼンで充分に洗った。有
機p液は蒸留水で6回(3x5mJ)、飽和ブラインで
1回洗浄して乾燥(MgS04)シた。溶媒を除去して
反応混合管を得た。10%メタノール−〇HGII3溶
液で溶離するシリカゲルカラム(50,i7)での精製
により表題化合物を得た。
パートへの化合物(100miおよヒ1−N −アミノ
−4,4−:)オキソチオモルホリン(16■の混合物
を乾燥塩化メチレン中室温で5時間攪、拌した。溶媒を
蒸発させて表題化合物を得た。
−4,4−:)オキソチオモルホリン(16■の混合物
を乾燥塩化メチレン中室温で5時間攪、拌した。溶媒を
蒸発させて表題化合物を得た。
メタノール中パー)Bの化合物(80鞭)含有溶液を室
温で24時間そのままに維持した。溶媒を蒸発乾固させ
て表題化合物を得た。
温で24時間そのままに維持した。溶媒を蒸発乾固させ
て表題化合物を得た。
実施例22
前述の実施例および明、l!tl′ltの本文に詳述し
た方法を適当な反応剤を使用して繰り返すことにより次
の本発明化合物を得た。
た方法を適当な反応剤を使用して繰り返すことにより次
の本発明化合物を得た。
チロシン
アセチルチロシン
一デオキソー4“−〇−アセチルチロシンノー4″−0
−アセチルチロシン 一アセチルチロシン 一アセチルチロシン アセチルチロシン 一アセチルチロシン シン チロ−ノン ロシン チロシン− アセチルチロシン ギン−4//−Q−アセチルチロシン アセチルチロシン アセチルチロシン −4“−リーアセチルチロシン −4“−〇−−アセチルチロシン ソー4″−0−アセチルチロシン ソー4″−リーアセチルチロシン 一〇−プロピオニルチロシン −〇−プチリルチロシン 次の処方例は本発明化合物を含む薬学的製剤を説明する
ものである。これらにおいて、23−説ミジノシルー2
0−デオキソ−20−〔(4,4−ジオギソチオモルポ
リニル)イミノ1− 、i −。
−アセチルチロシン 一アセチルチロシン 一アセチルチロシン アセチルチロシン 一アセチルチロシン シン チロ−ノン ロシン チロシン− アセチルチロシン ギン−4//−Q−アセチルチロシン アセチルチロシン アセチルチロシン −4“−リーアセチルチロシン −4“−〇−−アセチルチロシン ソー4″−0−アセチルチロシン ソー4″−リーアセチルチロシン 一〇−プロピオニルチロシン −〇−プチリルチロシン 次の処方例は本発明化合物を含む薬学的製剤を説明する
ものである。これらにおいて、23−説ミジノシルー2
0−デオキソ−20−〔(4,4−ジオギソチオモルポ
リニル)イミノ1− 、i −。
−イソバレリルチロシンは等量の他の本発明化合物と置
き換えることが出来る。
き換えることが出来る。
処方例1
カプセル剤
乳糖 248.75mg
ステアリΔ俊マグネシウム
1.25mq500.00ダ 活性成分と乳糖を混合I〜だ。ステアリン酸マグネシウ
ムを加えて混合し、カプセルbて充填した。
1.25mq500.00ダ 活性成分と乳糖を混合I〜だ。ステアリン酸マグネシウ
ムを加えて混合し、カプセルbて充填した。
処方例2
経口懸濁剤t 125+qQ/ 5!の用量を与える)
ケイ酸マグネシウムアルミニウム
950gフレーバー 十分量
着色剤 十分量 メチルパラベンIJ−3−P−0,90,9プロピルパ
ラはンU、5−P−0,20,’7ポリソルば一ト80
U−3−P−1,00,9ツルベート液 U−8,
P−500,00,?水、 十分g
1ooo、oomll、 水200m1を沸11R
させ、この中にパラベン類の半量を溶解した。約70
”Cに冷却してこね、をポリツルは一ト80に混ぜた。
ケイ酸マグネシウムアルミニウム
950gフレーバー 十分量
着色剤 十分量 メチルパラベンIJ−3−P−0,90,9プロピルパ
ラはンU、5−P−0,20,’7ポリソルば一ト80
U−3−P−1,00,9ツルベート液 U−8,
P−500,00,?水、 十分g
1ooo、oomll、 水200m1を沸11R
させ、この中にパラベン類の半量を溶解した。約70
”Cに冷却してこね、をポリツルは一ト80に混ぜた。
泊質で滑らかな懸濁液が生ずるまで攪拌しながらケイ醒
垣にふりかけた。
垣にふりかけた。
2、 さらに水200m1を沸騰させ、この中に99つ
のノミライン類を溶解した。滑らかなゲルが生ずるまで
この中にC,MGを分配した。ソルビトール液にこれな
混ぜて、その後クエン酸ナトリウムを溶解させた0 6、工程1の、混合物に工程2のそれを絶えず攪拌しな
がらゆっくり添加した。その混合物を25℃に冷却した
。十分に混合しながら活性成分、フレーバーおよび着色
剤を加えた。十分量の水を加えて全容量を10100O
とした。
のノミライン類を溶解した。滑らかなゲルが生ずるまで
この中にC,MGを分配した。ソルビトール液にこれな
混ぜて、その後クエン酸ナトリウムを溶解させた0 6、工程1の、混合物に工程2のそれを絶えず攪拌しな
がらゆっくり添加した。その混合物を25℃に冷却した
。十分に混合しながら活性成分、フレーバーおよび着色
剤を加えた。十分量の水を加えて全容量を10100O
とした。
処方例3
外用軟膏剤
はトロラタム 990910
00、? はトロラタムを融解した。−!トロラタムの約10%で
上記抗生柳質をスラリー化し、コロイドミルに通した。
00、? はトロラタムを融解した。−!トロラタムの約10%で
上記抗生柳質をスラリー化し、コロイドミルに通した。
このミル通過スラリーを残りの融解はトロラタムと混ぜ
て放冷した。
て放冷した。
処方例4
ステアリン酸 200gソルビタ
ン モノステアレート104.illlシンタン モノ
オレエー) 205’ポ
リオキシエチレン ソルビタン モノラウレート56j
j水、 十分量 100mlステアリン酸
200gソルビタン モノス
テアレート 104gソルビタル
モノオレエート 20g
ポIポリオキシエチレンルビタン モノラウレー)
56j;/水 十分量 1oom、g
l、 ステア11ンや、ソルビタン モノステアレート
、ツル)−クン モノオレエートおよびポリオキシエチ
レン ソルビタン モノステレートヲ65℃に加熱した
。
ン モノステアレート104.illlシンタン モノ
オレエー) 205’ポ
リオキシエチレン ソルビタン モノラウレート56j
j水、 十分量 100mlステアリン酸
200gソルビタン モノス
テアレート 104gソルビタル
モノオレエート 20g
ポIポリオキシエチレンルビタン モノラウレー)
56j;/水 十分量 1oom、g
l、 ステア11ンや、ソルビタン モノステアレート
、ツル)−クン モノオレエートおよびポリオキシエチ
レン ソルビタン モノステレートヲ65℃に加熱した
。
2、水の約90%な70℃に加熱した。
6 工程1の混合物に工程2の水を1ハ1えて混合し、
クリーム基剤を製造した。
クリーム基剤を製造した。
4、活性成分を残りの水でスラリー化し、コロイド9ミ
ルに通した、 5、融解したクリーム基剤にそのミル通過スラリーを加
えて混合し、放冷した。
ルに通した、 5、融解したクリーム基剤にそのミル通過スラリーを加
えて混合し、放冷した。
%’ff 出H人 シエリング・コーポレーション(
外4名)
外4名)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)次式で示される化合物およびその医薬として適当
な塩。 〔式中、 R1は水素またはアシルであり; RはアシルでありJ R3は水素またはアシルであり;またR2とR3は一緒
になって317および4“−ヒドロキシル基を結合する
カルボニル基であり; R4は水素またはアシルであり; R6はメチル、ヒト80キンメチル、フルオロメチル、
クロロメチル、ブロモメチル、ヨードメチル、シー(C
□−C6)アルキルアミノメチル、アシルオキシメチル
、GHQまたは式CH=R5(R5は下記定義通りであ
る)の基であり;そして Zはイミノ基R5であるかまたは、 R1が水素fたはアシルでアリ; R2がアシルであり; R3カ水素またはアシルであり; R4が水素またはアシルであり:そしてR6カフルオロ
メチル、クロロメチル、ブロモメチル、ヨード9メチル
、アシルオキシメチル、CHO。 ジー(C1−C6)アルギルアミノメチルである時、2
はオキソであることもできる; イミノ基R5はN−NH−アラルキル、N−NH−C−
NH2または 1 であり、ここで nはゼロ、1またば2であり、 QはOH2,GHR7,GR7R8,NH、NR7’
、 O、S 。 SO2,GHOH、GHOH7,0R70H、0R70
R89CHGONH2またはCHCNR7,R8であり
、ここでR7オヨヒR8ハ独立シテ(C1−C6)アル
キル、(C7−C1o)アラルキル、X−置換−(C7
−C1o)アラルキル、(C6−C1o)アリールまた
はX−置換−(C6−Ci o )アリールであり、こ
こでXはハロゲン、トリフルオロメチルs (C1”
−06)アルボキシまたは(C1−C6)アルキルカル
ボニルである。〕(〕)Zはイミノ基R5であり、好ま
しくはR5h′−であり、特に基R5において口が1で
ある、特許請求の範囲卯、1項に記載の化合物。 (3)基R5においてQIJ″−CH2,GHR7,N
H。 特許請求の範囲第2項に記載の化合物。 (4)基R9においてnが1でありかっQがS02であ
る、特許請求の範囲第2項または第6項に記載の化合物
。 (5)R6′はメチル、ヒドロキシメチルまたはジー(
C1またけC2)アルギルアミツメデルであり、好まし
くはメチルまたはヒドロ・Vジメチルである特許請求の
範囲第1項〜第4項のいずれかに記載の化合物。 (6) R1,R3およびR4は水素でありかっR2
はアセチル、プロピオニル、11−ブチリルまたはイソ
バレリルである、または R□はアセチルであり、R3およびR4は水素でありか
つR2はアセチル、プロピオニル、ゎ−ブチリルまたは
イソバレリルである、またはR3およびR3は水素であ
り、かつR2およびR4はU、に独立17てアセグル、
プロピオニル、n−ブチリルまたはイソバレリルでル)
る、またはR1および194は水素でk)りかつR2お
よびR3は互に独立してアセチル、プロピオニル、n−
ブチリルまたはイソバレリルである、または Rは水素でありかつR2,R3オ6よびR4は互に独立
してアセデル、プロピオニル、η−ブチリルまたはイソ
バレリルである、または RおよびR3は一緒になって橋架はカルボニル基である
、〃冷゛F請求の範囲第1項〜第5項のいずれか1て記
載の化合物。 (7)化合物は 23−説ミジノシルー20−デーAキソ−20−C(4
,4−ジオキソチオモルホリニル)イミノ゛〕−4“−
隻一イソバレリルチロシン。 4、”−0−アセチル−23−説ミジノシルー20−デ
オキソ−20−11:(4,4−ジオキソチオモルホリ
ニル)イミノ〕チロシン。 2′、4“−ジーq−アセデル−2ろ一説ミジノシルー
20−デオキソー20−C(4,4−uオキソチオモル
ホリニル)イミノ〕チロジン。 2′−〇−アセチルー23− 脱ミシノシルー20−デ
オキソ−20−[(4,4−ジオキソチオモルホリニル
)イミノ〕−4“−〇−イタバレリルチロシン。 4“−〇−n−ブチリルー26−脱ミシノンル−20−
デオキソ−20−[(4,4−ジオキソチオモルホリニ
ル)イミノ−3−3“−〇−プロヒ0オニルチロシン。 2′−〇−アセチルー4″−0−n−ブチリル−26−
脱ミシノシルー20−ヅオキソ−20−C4,d−ジオ
キソチオモルホリニル)イミノ]−3”−0−プロピオ
ニルチロシン。 ろ“−〇−アセチルー2ろ一説ミジノシルー20−デオ
キソー2o−〔(4,4−vオキソチオモルホリニル)
イミノ)−47−Q−イソバレリルチロシン。 2′、ろ“−)−0−アセチル−23−脱ミシノシルー
20−デオキソ−20,−[(4,4−ジオキソチオモ
ルホリニル)イミノ]−4“−〇−イソバレリルチロシ
ン。 3”、4“−〇−カルボニル−2′、6−ジアセチルー
式Iの化合物を製造するために、対応するヒドロキシメ
チル仕合物を適当なハロゲン化反応に供する; d、、R6がメチルである(他の置換基は式Iに間開し
て定義した通りである)式Iの化合物を製造するために
、R6がEl −)゛ステルである式■の対応化合物を
水素化) リ−n−ブチル錫のような脱ヨウ素化試薬と
反応さぜる;8、Rカシ−(C1−C6)アルキルアミ
ノメチルである(他の置換基υま式Iに関して定ガl)
、−通りである)式Iの化合物をI+!!造するために
、R6がハロメチルである式■の対応化合物を式〔(C
1−C6)アルキル’]2NHのアルギルアミンと反応
メせる; f、R6がCHOである(他の置換基は式lに関して定
義した通りである)式Iの化合管を製造するために、R
6がヒドロキシメチルである式Iの対応化合物をフイッ
ッナーーモファット酸化に供する: g、Zがオキソでありかつ/またR6がCHoである(
他の置換基は式rに関して定義した通りである)式lの
化4・物ろ・製造するためにZがR5でありかつ/また
R6がCH=R5である式Iの対応化合物を室温()上
で触媒としてシリカゲルを使用して゛アセトンと反応さ
せる;続いて保護基を除去し、必要かつ所望ならば、そ
のようにして得られた式■の化合物をそのエステルに転
化し、かつ/またそのnステル形から式Iの化合物を遊
離させ、かつ/またそれをその墳形に変換することから
なる方法。 (9)特;+f、41求の範囲第1項〜第7項のいずれ
かに定義したかまたは!r!1.ilP’F g’J求
の範囲第8頃の方法に従って得られた一般式lの化合物
またはその医薬として適当な塩を含み、所望ならば一定
形状の剤形をしている医薬組成物。 (10) i膜¥r請求の範囲第1項〜第7項のいず
れかに定義したかまたは特許請求の範囲第8項の方法に
従って得られた一般式■の化合物またはその医薬として
適当な塩を治療上の投与に適する剤形に成形することか
らなる医薬組成物の7211造方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/393,901 US4436729A (en) | 1982-06-30 | 1982-06-30 | 23-Demycinosyltylosin compounds, pharmaceutical compositions and method of use |
US393901 | 1982-06-30 |
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JPS5913798A true JPS5913798A (ja) | 1984-01-24 |
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JP58116819A Pending JPS5913798A (ja) | 1982-06-30 | 1983-06-28 | チロシン誘導体、それらの製造方法およびそれらを含有する医薬組成物 |
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DE (1) | DE3369142D1 (ja) |
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US4604380A (en) * | 1985-01-18 | 1986-08-05 | Eli Lilly And Company | C-23-substituted mycaminosyltylonolide compounds, pharmaceutical compositions and methods of use |
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