JPS59134651A - 加工物表面を研磨する方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はホーニング、ボリシング、レデューシング又は
他の研磨方法に於いて、工作物の一般的な表面と特に限
られた孔、導管、空孔の様な内部の研磨に用いられる新
しい加工方法に関するものである。一般に研磨には研磨
剤或いは特殊には粘弾性研磨剤を用いる。

１実施形態に於いては、この研磨剤は粘弾性。

レオベクチック母材から成っており、パテの粘稠度を有
しく室温、無加圧状態）、微細な均等に分散した研磨粒
子を含んでいる。適切なる方法で工作物表面上の加工に
用いられると、本研磨剤により最大の研磨効果及び均等
な仕上げ面を得ることができる。本発明に関して用いら
れる「レオペクチック」とは剪断或いは急激に与えられ
た応力下で時間と共に粘性が増加する性質と定義する。

換言すればこの様な研磨剤の性質は「チキソトロビ」と
全く反対である。

本発明は又、多くの空孔を有する或いは粗面よりなる表
面及びシリコンゴムに対し強力に「付着性」のある粘弾
性物質に関する発明も含む。この粘弾性基質と研磨粒子
より成る研磨剤を使用すると、「付着性」は少なくとも
その母材部分が上記の様な表面に対する研磨粒子による
研磨に抵抗力を与える。この「付着性」は又、帯つや出
し盤、手動の研磨パッド及び工作物表面上の特定の領域
（特に特定の内孔の表面上の領域）の研磨を行なう装置
に利用することもできる。

本発明は更に流動研磨剤によって表面仕上を制御し、セ
ラミック或いはこれと同様の物質によって選択的に工作
物表面を遮蔽する方法も含む。この様な遮蔽により、工
作物表面上の特定の領域だけを制御しながら研磨し、他
の領域には通常の研磨が可能となる。

工作物の特定の表面の研磨仕上を粘弾性研磨剤の射出を
用いて行なう方法に関しては、既に米国時Ｗ　’Ｍ　３
．６３４．９７３号−Ｍｃ　Ｃａｒｔｙにより公表され
ている。この様な方法に関連して、米国特許第３．８０
２，１２８号−Ｍ　１ｎｅａｒ　　　Ｊ　ｒ、、、　　
ｅｔ　　ａｌ、、　　第３．８１９，３４３号−Ｒｈｏ
ａｄｅｓ、　第　３，５２１，４１２号−ＭＣＱ　ａｒ
ｔｙが公表されている。上記特許は本発明と関連した特
許である。

日本国実用新案第５５−５３３２０号に於いては、工作
物表面に対し間隙を於いて可撓弾性部材を取付け、その
間隙内に流動研磨剤を加圧流入して弾性部材の撓みによ
って研磨を制御する方法が公表されている。歯車のホー
ニン゛グ、或いはラッピングに関しては米国特許第３，
６１８，２７２号−Ｗｈａｌｅｎ、　　ｅｔａｌ、によ
り濃化、流動研磨剤の使用方法が公表されている。これ
らの他の公表された関連特許に於いて、−膜性のある同
様な方法を用いた特許を挙げると米国特許第３．２９３
，８０５号−〇ａｖｌｓ、第３，９５５．３２７号−Ｆ
　ｒａｎｃｏ、　　第　２，９８６，８５６号−Ｆｅｈ
ｒ。

第３，１６９，３４９号−Ｆ　１ｎｄｌｅｙがある。係
合（通常駆動）の関係が２つの表面間で必要であり、こ
れは１表面の加工か２表面かに係わらない。

米国特許第３，５９３，４１０号−丁ａｙｌｏｒでは一
般的な一対のダイス型の表面の化学処理を行なう際にダ
イス型の間に研磨砥粒或いは砥石を置き、両者に相対運
動を与えて化学処理された表面上の突起物を除去する方
法を公表した。日本国実用新案第５０−２９１９７号で
は工作物の空孔の研磨に対し、弾性可撓表面を有するマ
ンドレルをその上に装着し、弾性面上による研磨を行う
方法が公表されている。

上記以外の表面研磨の方法として知られているものには
蒸気ブラスト、サンドブラスト、ショツトブラスト及び
振動仕上がある。蒸気ブラストに於いては工作物に相対
的な高速度で研磨スラリーを噴射する。研磨粒子を表面
上に噴射することにより工作物の表面を浸蝕、或いは研
磨する。この方法は工作物内部の表面には殆ど効果を発
揮しない。サンドブラストは圧搾空気或いは機械式噴射
装置により、研磨粒子を高速で工作物表面に噴射する。

ショツトブラストは、鋳鉄、＃ｌ、或いはガラスのビー
ズをサンドブラストの様に高速で噴射する方法である。

この方法ではピーニング処理に近く、完全な表面の研磨
というより、寧ろ工作物表面上のやや大きな突起等を除
去する。振動仕上は研磨粒子１石或いは小球を低圧力で
振動させて行なう。より突起のある表面が最も効果を受
ける。

しかし、内面に対する効果は僅かか全く無い。

米国特許第２．７９９．７８９号−Ｗｏｌｆｓｋｉｌｉ
、第３，２４７．５７２号−Ｍ　ｕｎｋはピエゾ電気結
晶或いはマイクロ回路用のミニチュア磁気コアの様な小
さな物体の表面上から上述のサンドブラスト、タンプリ
ング、ショットピーニング及びそれらと同様の方法によ
る選択的研磨を行なう為の遮蔽方法に関し、やや以前に
公表された。

これらの小さな物体の表面の遮蔽にはラッカ。

ワニス、ペンキ、インキ及び同様の弾性のある物質が使
用されたが、流動、粘弾性研磨剤使用時には遮蔽効果は
疑わしい。又、この様な遮蔽物質には「コーティングさ
れた物質が除去されるように適切な表面張力・・・・・
・物体の表面上の広い領域に亘り、急激に投入し集積・
・・」されるように溶融することが要求されている。更
に、これらの特許の研磨方法では加工物内面或いは空孔
の完全な研磨を得られない。本発明は以上の点に鑑みな
されたものであって、上述した如き従来技術の欠点を解
消した加工表面の研磨方法及び装置を提供することを目
的とする。

本発明は、本質的に至る所一様に分布された研磨粒子を
含むプラスチック或いは半固型母材を有する研磨剤を用
いる。半固型母材の使用目的は加工される工作物の特定
の部分９例えば盛り上がった金属を除去し、角部の丸み
やアールをつけ、或いは一様にこれらの部分を除去した
り仕上る為に研磨粒子を分布させることにある。この外
に半固型母材の使用目的は研磨粒子を浮動させてそれら
が工作物を押えて固定し、これ以下に述べる様に加工す
る表面或いは角部全体に亘り研磨効果が最大で一様に及
ぶ様にすることである。

更に半固型母材の使用目的は加圧下に於いて研磨剤が研
磨に対して相対的に逆方向の固定を果し、工作物加工面
に対しての切削作用を増大させ、しかも、全ての加工さ
れる表面や角部に行き亘る様な十分の塑性を持たせるこ
とである。工作物の研磨は表面上に付着した研磨粒子の
みによって行なわれるものであるが、付着しない粒子及
びそれらの流動も実際に研磨する粒子と全く同様に重要
なものである。

研磨剤を搬送し、本発明で加工される様な種類の工作物
に圧送される液体スラリーを用いた場合、全ての表面に
対する一様な研磨作用は要求されない。この様なスラリ
ーは加工面に対して研磨粒子が最大に噴射される流速が
必要である。この様な条件下では研磨を要求される幾つ
かの領域では全く研磨を受けないであろう。

本発明は複雑な形状を有する鋳型の空孔で内部の周方向
の表面の半径が連続的に変化する様な場合の研磨及び仕
上社特に有効である。この様な工作物の例として受話器
のプラスチック射出成型用の型の内面が挙げられる。型
の空孔は熟練工によって通常、研磨され、１平方インチ
の表面に対し約１〜４時間が必要である。更に１個ずつ
これらの型を研磨する手作業は一定の割合で繰返すこと
は不可能であり、加工誤差による不良品を見込まなけれ
ばならない。反対に、本発明によれば時間的及び物質的
に効果のある加工方法が可能で、この様な工作物に繰返
し研磨、ホーニング或いはボリシングが無駄なく施され
る。本方法では工作物の加工面部分が可動チャンバ、或
いはディスプレーサとしても利用でき、研磨剤が流動す
ることができる。この様にして研磨剤自体が研磨−工具
の様に加工面を移動していくことが可能である。加工面
の反対側の面との間に係合の様なことは不要であり、所
謂合せも必要としないがこれらの合せを行なうことは望
ましい句は事実である。更に研磨中、或いはその以前の
工程に於いて化学的処理は不必要である。

本発明に関する記述の全てに亘り、反対側の面に対する
［相対的な運動Ｊとは流動研磨剤の正方向への移動がな
される様な、加工面、その反対側の面及び両者の面の運
動を云う。更に、この運動は螺旋状の旋回、環状軌道、
往復或いはこれらの組合せの運動であり、流動性があり
、好ましくは粘弾性の研磨剤によって行なわれる一様な
研磨が可能な加工方法で、工作物への正方向への研磨剤
の移動が行なわれる状態を保つ。

以下、添付の図面を参考に本発明の具体的実施の態様に
ついて説明する。第１図に於いて、内孔１２を有する工
作物１０はシリコンゴム或いは同様の物質により形成、
或いは被覆されている突起１４が存在する。そして特殊
な技術で如何なる方法かで正しい位置に保護、或いは保
持されており、研磨剤の流れに制限を加える為に内孔１
２の内面の選択された位置と反対に置かれている。この
制限及び本発明で用いられる粘弾性研磨剤の性質によっ
て内部表面は１６の想像線で示す様に選択的に研磨され
る。本発明で使用される幾つかの媒質の母材たるシリコ
ンゴムを付着させる性質により、１８で示す母材の表面
層１８は強力に突起１４に付着し、内孔１２に更に制限
を加える。層１８は又、シリコンゴムに研磨に対する抵
抗を付与することがわかっている。研磨剤の流れ方向の
変化はそれに連なる表面にも研磨作用を施す。突起１４
は層１８により、研磨から保護されるので研磨剤の増加
した研磨作用は突起１４０反対側にある内孔１２の内面
の部分に向かう。矢印２０は突起１４の無い場合の研磨
剤の流れを示し、想像線のついた矢印２２は突起１４に
よって変化した研磨剤の流れを示す。

突起１４は第１図に示す様に全体的にシリコンゴム様の
物質から成っているかもしれないＱ１或いはシリコンゴ
ム様の層で被覆されている。第２図は溶融シリコンゴム
のプラグ３０を示し、それは研磨する領域の反対側にあ
る。プラグ３０は内孔１２の内部へ突き出しているが、
内孔１２の内部表面と同一平面上か僅かに突き出してお
り、内孔１２の制限を与える様にプラグには強力に母材
の表面層１８が存在する。この点については、本発明は
空孔或いは外表面上の選択された部分の様な内孔と異な
る表面の増加した或いは方向付けられた研磨にも適用可
能であることも付言する。

更に、第３図の４２に一般的に示す様に通路の制限をす
る物質はＩＩｉ維ファイバ、或いは多くの空孔を有する
面、酸化鉄或いは鋼の様な任意の多くの空孔を有する物
質４０であり、本発明の母材の幾つかはこの様な表面に
強力に付着することがわかっている。第４図は１３で周
方向に内孔１２の仕上、或いはアンダカットに対する制
限子５０を示す。第５図及び第６図は研磨剤を付着させ
た、一般に６０で示される研磨パッド或いはブロックの
様な手工具を図解している。第５図中、母材６２は粘弾
性母材６６が付着しているシリコンゴム補槽６４で与え
られる。又、母材６２は全体にシリコンゴムであり、被
覆６４はなくても良い。第６図で多くの空孔のある母材
６８は浸漬により、母材６６で覆われている。数多くの
使用された母材は使用目的によって可変の剛性或いは柔
軟性を有する。

第７図は携帯帯つや出し盤に用いる多くの空孔のある、
或いはシリコンゴム、或いはシリコンゴムで覆われたベ
ルト７２を図解する。供給リザーバ７４はベルト７２の
位置の工作物に粘弾性研磨剤を周期的或いは連続的に再
供給するのに用いる。

この様な構造によって研磨器としてのベルト７２の寿命
は無期限でなければ延ばされる。

第８図はタービン８０の一枚の羽根８２を示す。

その表面は冶具８４のガイド及び羽根８２の間を流動研
磨剤を射出、或いは通過させることによって要求された
公差内に仕上なければならない。本発明に先立ち、ガイ
ド８４は射出工程に先立ち研磨され、ガイド８４と羽根
８２の間の間隙を連続的に拡張し、この拡張された間隙
の為にその次に加工する羽根８２の研磨が軽減される。

これは羽根８２の様な工作物の仕、上にコスト上の問題
を起こした。しかしながら、シリコンゴム様の物質８６
のガイド８４を鋳造、或いはシリコンゴムでガイド８４
の部分８８を被覆し、粘弾性母材と研磨砥粒の混合物で
ある研磨剤を使用することにより、母材のフィルムはシ
リコンゴムに付着して同じ治具を使用している間、信頼
性があり、繰返し可能な羽根を多数仕上られる。シリコ
ンゴム様の物質からガイド８４を鋳造するのに相対的に
安価である為、実際に要求された公差外に研磨された場
合には容易に交換可能である。

工作物表面とその反対面間の間隙（第１図の突起１４或
いは第８図のガイド８４）は次の様なパラメータで選択
できる：母材の粘性、砥粒寸法。

要求される工作物表面仕上、投入エネルギ、反対面に垂
直な相対的な変位量。この間隙は一般的に変形しない工
作物表面を使用する時には最大の砥粒直径より少なくと
も大きくなければならない。

モして砥粒直径の少なくとも４倍の間隙が好ましい。必
要条件ではないが、反対面の形状は本質的に形状が合っ
ていても良い。

第９図乃至第１５図は工作物の内面及び外面の研磨、ポ
リシングに対する具体化の例である。他の例と同様に砥
粒或いは砥石が浸み亘った粘弾性基質から成る研磨剤が
使用される。本発明に使用する好ましい研磨剤は粘弾性
、砥粒が散在するシリコン−ボロシロキサンパテ（ｂｏ
ｒｏｓｉ　１ｏｘａｎｅ）のレオペクチック母材を有す
るものである。

第９図の実施例では、研磨剤は鋳型の空孔より小さい形
状のマンドレル１４を用いた鋳型１０の内面１２を加工
する為に用いられる。マンドレル１４の外面１６は鋳型
１０の内面１２から鋳型１０とマンドレル１４間の相対
的な移動によって矢印２４の一般的な方向に正方向に研
磨剤が移動する様に間隙２２が定まる様にスペースを置
いて配置される。この相対的な移動は鋳型１０．マンド
レル１４の片方か両方の運動が往復、振動９回転。

環状軌道、或いはこれらの組合せ運動で行なわれる。こ
の特殊な具体化によってマンドレル１４は矢印２０で示
される空孔内に研磨剤を送る通路１８を含む。十分な量
の研磨剤が鋳型の空孔内に終られて後、通路１８は鋳型
１０とマンドレル１４間の相対的な移動を行なう前にシ
ールすることもできる。第９図中、マンドレル１４はポ
リウレタンの様な耐摩耗物質で成型、或いは被覆された
ディスプレーサとして示される。一方、粘弾性母材を有
する研磨剤を使用する場合には、加工表面はシリコンゴ
ム様の物質より成り立っているか或いは被覆されており
、或いは加工表面は粗くされているか又は有孔性であっ
て、粘弾性母材の１部がそこに粘着乃至は゛′結合′°
シてこの研磨抵抗を提供している。第９図は外面１６を
加圧する表面として内面１２を工作物の表面として図解
しているが、これらの役割は面１２と１６の片方か或い
は両方が研磨剤から受ける加工を交換しても理解でき得
る。第１０図では通路１８は除去されており、取り去る
ことの可能な空孔をシールする部材３０が加えられた。

シール３０及び（又は）マンドレル１４は空孔内に研磨
剤（一般的に４０で示す）を注入することができる様に
上昇させるか、又は除去ができる。第１０図及び第１１
図より分る様に（第１１図は第１０図の矢印１１−１１
の方向め断面である）、矢印３２はマンドレル１４と鋳
型１０の間の相対的に往復２回転、振動、環状軌道、或
いはそれらの組合せを示す。

第１２図乃至第１４図は発明を実用化するのに適用する
工作物表面１２とそれを交錯する面１２の多くの形状を
断面で示している。第１３図では外面は工作物表面であ
り、内面１６は工作を付与する面である。

第１５図は本発明の別の構造的実施例を示し、スクリュ
ーコンベア５０は長軸５２に対し回転。

及び〈又は）往復するコンベア５０の周囲はその外周を
同軸円筒６０で囲まれている。コンベア５０の羽根５４
の外周縁は同軸円筒６０と間隔を有するか、接触する。

本発明の他の実施例の様に内面と外面の片方、或いは両
方は加工面となり、全ての或いは特定の加工面の部分は
本発明で知られる様に研磨に対する抵抗力を与えること
ができる。

更に、コンベア５０と同軸円筒内面の片方、或いは両方
は研磨剤がボリシング、ホーニング、或いは同様の加工
に用いた場合には傾斜を有し、或いは変化する半径を有
することもでき、本発明で取り扱うものとする。

第９図乃至第１４図の実施例に於いて、相対する２つの
面の間の間隙は最大の砥粒が同時に両面に接触しないよ
うに十分取られることが一般的に好ましく、本発明で用
いる粘弾性母材の場合には間隙を縮小する必要はない。

しかしながら、第１１図で示した様に加工を付与する面
１６は砥粒によって一時的に変形することができ、加工
面と加工を付与する面の間の間隔は使用する最大の砥粒
より小さくても良い。この様な変形する加工を付与する
面によって、必要とする加工の仕上に応じて流動研磨剤
を使用することができる。

本発明は更に第１６図及び第１７図の様に具体化するこ
とができる。工作物９０は本発明による研磨剤を用いて
ボリシング、ホーニング、或いは同様な加工を施す空孔
９２を有している。この具体化の例では複数個の管９４
は互いに空孔９２の形に合せる様に保持され、空孔９２
に管端の位置が垂直方向に変化することも考慮されてい
る。管端が空孔９２の面に合わされるとその一般的形状
を保ったまま空孔９２から取り外される様に金属ストラ
ップ９６及び調整ネジ９６によってしっかりと保持され
るか、或いはクランプされる。第１７図では管９４は連
続的に直径が変化する形状を含むが、全てが同一直径で
あっても良い。この実施例に於いて互いにクランプされ
た管は再び空孔９２の内部に僅かな間隔を有する様に置
かれ、工作物は一般的には管９４の垂直軸に直角方向に
工作物９０がのせられている工作台か、それと同様なも
のに対して環状軌道、往復２回転、或いはこれらの組合
せ移動をする様に運動させられる。工作物９０と互いに
クランプされた管の両方がこの様に運動させることもで
きる。管９４の目的は本発明の研磨剤に対する流路を与
えることである。

研磨剤は管９４の下端と空孔９２の間隙へ管９４を通し
て加圧することにより流れ込む。管９４は円型断面を有
する様図解されているが、長方形。

三角形等の他の形状の断面でも良い。更に、クランプさ
れた管９４と工作物９０の間に相対的に往復動を与える
こともできる。第１６図では管９４は空孔９２の内面を
部分的に覆う様に図解されているが、数多くの管９４を
使用して全面を覆うこともできる。第１６図の実施例は
一般的な凹面。

或いは外方へ隆起した形状に対して行なわれる様に示さ
れているが、工作物表面も同様な考え方で加工可能であ
る。更に、同一の３次元形状を形作る１つ以上の空孔の
研磨、ポリシング、ホーニング或いは同様の加工に於い
て、管９４の配置はろう付け、接着或いは同様の方法で
永久的に行える。

第１８図は粘弾性で好ましくはレオペクチツクな研磨剤
を用いて相対的に少なくとも一方だけが移動する２面間
の運動を与えるのに適した機械を示す。本機械は２つの
垂直方向に相対する２面１０２．１０４よりなっており
、片方の面、或いは両方の面が一般に水平方向に環状軌
道、旋回、振動、往復或いはこれらの様な運動、垂直方
向に往復運動を行なう。工作台１０４には工作物１０６
が据え付けられ、工作物１０６は工作面１０６を有する
。工作台１０２には供試モデル１０３が装着され、本モ
デルは一般的に工作面１０５の鏡像の型よりなる。工作
台１０２及び１０４に直接に相対的な運動を与えるより
、工作台１０２及び１０４には供試モデル１０３と工作
物間に相対運動を与え、且つ支持する適当な装置が装着
されている。２面間に相対的に運動を与える装置は一般
に技術的に新しいものではなく、本質的には発明ではな
い。粘弾性研磨剤は供給タンク１０８から供給バイブ１
１０を通り、面１０３及び１０５間に供給される。工作
を付与する面１０３は研磨剤が２面問へ送られる複数の
管或いは予めドリルで孔開けしたものからなっている。

操作中、上方工作台１０２を下方工作台１０４に加工目
的に従って接する様に低下させる。２つの面、１０２及
び１０４は工作物１０５が加工されるに従って互いにゆ
っくりと相対的に移動する。この操作中に研磨剤はりフ
ィード（再供給）ピストン１１２を前進させて交換可能
で、使用済の研磨剤は単に工作面１０５より工作台１０
４に押し出され、集められる。

相対する１０３及び１０５の面は図に示す様に完全な供
試モデルである必要はない。粘弾性、レオベクチック研
磨剤使用時には単なる工作面の粗い近似的な面で良い。

この様な機械によって完全に３次元的な粘弾性研磨剤を
用いる軌道運動による研磨加工を行なうことができる。

従来、相対する２面間の相対運動を接して行なわせる基
本的な技術は加工を付与する面が研磨剤により研磨、ボ
リシング或いは工作面の何等かの方法による加工を行な
う様に設置することによっている。粘弾性研磨剤を用い
て機械加工する方法は前述の様に加工物表面上に研磨剤
を水力学的に加圧供給することにより、研磨を行なうも
のである。反対に前述の第１８図に示す装置及び方法は
旋回、環状軌道、往復或いはこれらの組合せ運動で２面
間に相対的に運動を与えながら粘弾性研磨剤を用いて工
作物の滑かで一様な研磨を行なうものである。

成る場合には、工作物は研磨、或いは機械加工を行なう
領域を含み、且つ、その他の領域はクリティカルな公差
で研磨剤で加工させる必要があるであろう。

本発明の別の実施例に先立って工作物に対して、特別に
設計される固定器具及びマンドレルによって工作物のあ
る領域を保護することが必要である。

こ固定器具及びマンドレルは実際の流動研磨加工のコス
トに加えて、時間的及びコスト的に工具費用を必要とす
る。更に、この様な流動研磨加工方法では工作物の特定
表面だけを保護することは可能であるとしても大変困難
である。この困難さを克服する為に、本発明には以下に
説明する様にこれらの工作物の特定の領域を選択的に保
護する為に遮蔽し、多くの部分的な研磨を行なう遮蔽方
法を含んでいる。

第１９図に関し説明すると、研磨砥粒１２０が半固型の
母材の中に運ばれ（不図示）、工作物１２２を横断して
流されている。例として、母材に含まれている特別な砥
粒１２０が、研磨材が一般的な矢印の方向１２４に流さ
れたとき、小さいがしかし予測しうる工作物の表面の部
分を取除く為に工作物１２２を切り込み、あるいは研磨
している。これら幾つもの粒子１２０が工作物の表面を
平らに研磨するために共に動いている。この点において
、矢印１３０は、流れの方向１２４の一般に平行な砥粒
の力を示している。矢印１３２は、工作物に砥粒１２１
の切断の深さを決める傾いた力を示している。傾いた力
１３２は工作物を通しての通路の制限と砥粒が強制的に
流される圧力とによって決まる。第２０図に示した如く
、砥粒は通路の表面１２６を一様に研磨するために、平
行な線１２８で示されている流れの平らさと共に通路を
貫通して平らに流されるべきである。しかし、１３４に
おけるように、通路に対し入口の半径をつけるときには
、端におけるより通路の中心を通って砥粒の流れは早く
すべきである。それから、曲がった流れの線１２９で示
されているように、通路における端１３４のところでは
、入口は通路の表面１２６より多くすりへらされている
。

しかし、工作物の特別な端や表面が研磨され或いは機械
工作される例もある。他方、その上に直接当接して（横
たわって）いる表面は、臨界的な限界のために機械工作
されるべきでない。第２１図を適用してみると、これは
、端又は角１３４が半径をつけられるべきところの状態
である。しかし、隣接した面１２６との間の距離は一定
に保たれるべきである。従って、表面１２６は、砥粒の
流れの方向にあるけれども、研磨されるべきでない。こ
の発明の実施例において、第２１図の表面１２６のよう
にセラミックのマスクが保護されるべき面におかれマス
クを硬化した後、工作物は流動性のある研磨剤によって
、機械加工されている。

研磨を条件として、マスクは面１２６を保護するために
、相対的にそのまま損じないで残っている。

他方、面１３４は規則的に機械加工されるようになって
いる。そうした選択的な工作が伴うのは、第２２図及び
第２３図をみると、一層良く理解される。第２２図では
、１個の工作物１４０が、半径をつけられるべき、或い
は研磨されるべき通路に対する入口における端、ＯＲ角
角樽４２一緒に第２０図に示されている通路に似たもの
を持っている。他方、通路の面１４８は研磨されないで
残されていなければならない。従って、セラミックのマ
スク１４６が面１４８に適用されており、且つ研磨流れ
の当然の特性に基づくか又はその他の事によって、研磨
処理が行なわれ、角部１４２において表面１４８の残部
におけるよりも一層大きな件の作用が与えられる。セラ
ミックのマスク１４６はこの研磨の過程によって工作物
の加工の間、研磨に抵抗する。マスク１４６の幾つかは
、第２２図の１４４で想像線で示されている様に、角１
４２は丸みがつけられるようにすりむいて除かれる。従
って、半径１４４と研磨されていない面１４８との間に
は第２３図に示したように滑らかな混合がある。機械加
工の後に、マスク１４６は、セラミックのコーティング
の除去に適した洗剤の中で工作物を浸すことによって除
かれる。

第２４図に示されているように、角と通路の内壁（１５
２として示されている）が機械加工されるべき他の例も
ある。他方、流動性のある砥粒剤の研磨動作を間接的に
条件としている他の面１５０は加工されるべきでない。

面１５０は時として、不可能でなければ、そのような研
磨から防ぐために大変困難である。本発明では、面１５
０に対してセラミックのマスク１４６を必要な保護を施
すために適用するだけでよい。

本発明の実施例の他の様とは、特別の仕上げを施して表
面の研磨防止があり、又、研磨剤が工作物に化粧的に容
認できないマークをつける様な場合の研磨の防止がある
。上述の説明から理解できるように、マスクは直接的に
も間接的にも流れの加工を条件としている工作物の領域
の保護を提供している。この保護用マスクは振動性のス
ピンドル、タブ、銃身又はジャイロの仕上げ工程に於い
ても使用可能であり、このどの場合においても、研磨媒
体を使用して工作物を仕上でいる。マスクはセラミック
、シリコン或いは同様なもので構成することが可能であ
り、それを塗布したりディップさせたりして保護し、一
方加工物の他の部分は通常の研磨が行なわれる様にする
ことが可能である。第９図乃至第１４図及び第１８図の
実施例に対する典型的なパラメータは、６ミクロンから
１６メツシユの砥粒の寸法、０．００２〜０．５００イ
ンチの間隙距離、５〜６０分の加工時間、１分間当り２
０〜２０００回の振動、０．０２５〜０．５００インチ
の振幅である。特に、間隙をレオペクチックな研磨剤で
満たした後に第９図のマンドレルは５分間０．０５イン
チの振幅で１分間５００回の振動で操作され０．００５
インチの間隙が１０ミクロンの砥粒に対して十分である
。

塑性単体母材が適当な圧力及び定速度下で砥粒を工作物
に充分な力で押しつけ、要求される仕上面を得るのに好
ましい。本発明で成功裏に使用されたのはＭ　Ｖ　７０
　Ｅ　ｘｔｒｕｄｅ　−Ｈｏｎｅ研磨剤で容積で５０％
のシリコンカーバイト砥粒と５０％のボｏ　シロキサン
パテ（ｂｏｒｏｓｉ　１ｏｘａｎｅ）単体母材で重量比
では約２：１である。

定義上、ホ０　”７０キサンバーｒ　（ｂｏｒｏｓｉｌ
ｏｘａｎｅ）は流体の多くの性質を有する。急激な圧力
の印加の下では流動しにくくなり、固体の様になる。こ
の性質により、このパテはその周囲の形状に適合し、複
雑で細かな形状の研磨に役立つ。ボロシロキサンパテは
本発明では相対する２面間が相対的に運動しているよう
な間隙に押し込まれた時のように急激な剪断力が加わっ
た時に堅くなり、特に有用である。この増加した堅さが
砥粒をしっかりとその場所に保持し、加工部材の力を工
作物表面上の砥粒に伝え、研磨の効果を高める。

レオペクチックでない使用できる研磨剤は米国特許第３
，８１９，３４３号−Ｒｈｏａｄ’ｅｓによって公表さ
れている。

本発明は機械加工、ダイキャスト、鍛造、砂型鋳造、イ
ンへストメント鋳造、射出成形型部品のホーニング或い
は研磨にも利用できる。又、鋼。

アルミ、真ちゅう、青銅、プラスチック、ガラス及びそ
の他の合金、混合物などに対しても適用できる。

明らかにキャリア基質内の砥粒は加工に適するように考
えられる。鋼の研磨にはほう素カーバイト（ＢＣ）が適
しており、標準寸法の砥粒はＮｏｒｔｏｎ社で既に得る
ことができる。別の砥粒で応用範囲が広いものには酸化
アルミがある。これらの他の砥粒には、ダイヤモンドダ
スト、シリコンカーバイト、ベンガラ、コランダム、ガ
ーネット。

アランダム、ガラスがあり、一般的でない加工に対して
はファイバーとか殻物質のような軟かい材質がある。通
常、研磨剤は１ポンドの母材当り、２〜４ボンドの砥粒
を含む。上述の粘弾性ホーニング研磨剤は表面の研磨工
具として作用し、砥粒が塑性母材内でばらばらな位置を
取っていけるように考えられる点が斬新である。本発明
の工程に用いられる砥粒は従来の砥石及びラップが砥粒
を固定して含み、研削効果が低下した場合にドレッシン
グをしなければならないのに対して、その全ての位置及
び角部が使用されるまで鋭く保つことができる。

最も早い切削効果は最も一様な仕上が可能で、研磨剤が
オイル状の付着せずに工作物表面に接触する事により行
なわれる。この様な条件下では研磨剤は一定のペースで
断面内を通過しやすい。この性質は流体の流れが間隙の
中央で最大流速を取り、壁面で流速ゼロであるのと較べ
、反対である。

本発明はここに述べられた実施例のみにとどまらず、数
多くの構造、配置、使用方法及び操作方法１部分的修正
が本発明の範囲内で可能である。

従って、本発明はすべてのこれらの修正を含んでおり、
特許請求の範囲に含まれるものである。

本発明は実施工種ダの構成を取り得るものであるが、特
に以下の如き構成を取り得るものである。

１、形状を持った加工物表面を研磨処理する方法に於い
て、前記加工物表面と略同−の形状を持った対向表面を
形成し、前記対向表面を耐研磨物質でコーティングし、
前記対向表面を前記加工物表面と対向させ且つ離隔させ
て配置させその間に間隙を形成し、前記間隙内に圧力下
に於いて粘弾性研磨媒体を導入させ且つ前記加工物表面
に沿って前記媒体を案内すると共に前記加工物表面を研
磨するものであって、前記媒体が粘弾性レオペクチック
母材と研磨粒子との混合物を有することを特徴とする方
法。

２、形状を持った加工物表面を研磨処理する方法に於い
て、耐研磨物質を成形して少くともその一部が前記加工
物表面の形状と略同−の形状を持った対向表面を構成し
、前記対向表面を前記加工物表面と対向させ且つ離隔さ
せて配置しその間に間隙を形成し、前記間隙内に圧力下
に於いて粘弾性研磨媒体倹導入し、前記媒体の一部を前
記物質へ付着させると共に前記対向表面の研磨を減少さ
せ、前記処理期間中前記対向表面及び付着した媒体と共
に前記対向表面へ付着しなかった前記媒体の少くとも一
部を前記加工物表面に沿って案内することを特徴とする
方法。

３、上記Ｍ１項に於いて、前記耐研磨物質がポリウレタ
ンであることを特徴とする方法。

４、上記第３項に於いて、前記母材がボロシロキサンパ
テであることを特徴とする方法。

５、上記第２項に於いて、前記媒体が粘弾性レオペクチ
ック研磨媒体であることを特徴とする方法。

６、流動性粘弾性研磨媒体によって加工物表面を研磨す
る際に前記媒体によって露呈される摩耗表面を保護する
方法に於いて、前記摩耗表面上にシリコンゴム状物質を
付与し、前記加工物表面を前記研磨媒体で研磨する際に
前記媒体の一部を前記物質へ接着させることを特徴とす
る方法。

１、上記第６項に於いて、前記媒体が粘弾性レオペクチ
ック研磨媒体であることを特徴とする方法。

８、流動性粘弾性研磨媒体によって加工物表面を研磨す
る際に前記媒体によって研磨される摩耗表面を保護する
方法に於いて、前記摩耗表面へ有孔性物質を付与し、且
つ前記加工物表面を前記研磨媒体で研磨する際に前記媒
体の一部を前記有孔性物質へ接着させる事を特徴とする
方法。

９、上記第８項に於いて、前記媒体が粘弾性レオベクチ
ック研磨媒体である事を特徴とする方法。

１０、粘弾性研磨媒体を対向部材へ付着させる方法に於
いて、前記対向部材の少くとも外側表面部分にシリコン
ゴム状物質を供給し、且つ前記媒体を前記シリコンゴム
状物質へ付与し、その際に前記媒体を前記シリコンゴム
状物質へ接着させる事を特徴とする方法。

１１、上記第１０項に於いて、前記媒体が粘弾性レオペ
クチック研磨媒体であることを特徴とする方法。

１２、粘弾性研磨媒体を対向部材へ付着させる方法に於
いて、前記対向部材の少くとも〆側表面部分に有孔性物
質を供給し、且つ前記媒体が前記有孔性物質へ接着され
るように前記媒体を前記有孔性物質へ付与することを特
徴とする方法。

１３、上記８７２項に於いて、前記媒体が粘弾性レオペ
クチック研磨媒体である事を特徴とする方法。

１４、研磨パッドを製造する方法に於いて、有孔性基板
を設け、前記有孔性基板へ粘弾性レオベクチック研磨媒
体を付与して前記媒体を前記基板へ接着させることを特
徴とする方法。

１５、上記第１４項に於いて、前記媒体が粘弾性レオベ
クチック研磨媒体であることを特徴とする方法。

１６、研磨パッドを製造する方法に於いて、基板をシリ
コンゴム状物質でコーティングし、且つ粘弾性研磨媒体
を前記物質へ付与して前記媒体を前記基板へ接着させる
ことを特徴とする方法。

１７、上記第１６項に於いて、前記媒体が粘弾性レオペ
クチック研磨媒体である事を特徴とする方法。

１８、内部表面を有する通路を流れる粘弾性研磨媒体の
流れを制限する方法に於いて、前記内部表面の少くとも
一部にシリコンゴム状物質を設け、且つ前記媒体を前記
部分に対し且つ横切って供給し、その際に前記媒体の一
部を前記物質へ接着させると共に前記通路内に制限部を
形成する事を特徴とする方法。

１９、上記第１８項に於いて、前記媒体が粘弾性レオペ
クチック研磨媒体である事を特徴とする方法。

２０、上記第１８項に於いて、前記物質が設けられてお
らず且つ前記物質に対向する前記内部表面の一部が加工
物表面であり、前記制限部によって前記媒体を前記加工
物表面に対して指向させ・且つ前記加工物表面を前記媒
体で処理することを特徴とする方法。

２１、上記第２０項に於いて、更に、前記加工物表面内
に空孔を形成するのに十分な時間前記処理を継続する事
を特徴とする方法。

２２、通路の内部表面の選択した大略窪んだ部分を粘弾
性研磨媒体で処理する方法に於いて、前記選択した部分
に対向して前記流路内にシリコンゴム状物質を供給し、
前記研磨媒体を前記通路内及び前記物質に対向すると共
に横断して供給し、前記媒体の一部を前記物質へ接着さ
せ、前記接着した媒体で前記物質における前記流路を制
限し、前記物質へ接着されておらず且つ前記制限部を介
して供給された前記媒体の一部で前記選択した部分を研
磨することを特徴とする方法。

２３、上記第２２項に於いて、前記媒体が粘弾性レオペ
クチック研磨媒体である事を特徴とする方法。

２４、通路の内部表面の選択した部分を減少させる方法
に於いて、前記選択した部分から離隔すると共に前記選
択した部分に対向して前記通路内に耐研磨部分を設けて
前記選択した部分に対向する前記通路の制限部を形成し
、流動性研磨媒体゛を前記通路内に供給すると共に前記
制限部を通過して供給し、前記制限部によって前記選択
した部分に於ける前記研磨媒体の作用を増加させ、前記
増加した作用によって前記選択した部分を減少させる事
を特徴とする方法。

２５、上記第２４項に於いて、前記媒体が粘弾性研磨媒
体であることを特徴とする方法。

２６、上記第２５項に於いて、前記媒体が粘弾性レオベ
クチック研磨媒体である事を特徴とする方法。

２７、加工物表面を研磨する装置に於いて、前記加工物
表面に対して前記媒体を流動させる際に前記加工物表面
を研磨する為の流動性研磨媒体と、前記加工物表面から
離隔すると共に対向し且つ研磨工程中前記媒体を前記加
工物表面に対して案内する為に前記媒体が係合可能な部
分を具備した案内手段と、前記案内手段の前記媒体によ
る研磨を阻止する保護手段とを有する装置。

２８、上記第２７項に於いて、前記保護手段が耐摩耗性
ポリウレタン物質を有しており、且つ前記案内手段の少
くとも一部が前記ポリウレタン物質で形成されている装
置。

２９、上記第２７項に於いて、前記保護手段が前記媒体
によって係合可能な前記案内手段の前記部分の上に設け
られた耐摩耗性コーティングを有する装置。

３０、上記第２９項に於いて、更に、前記耐摩耗性コー
ティングを前記案内手段へ連続的に供給する手段を有す
る装置。

３１、上記第２９項に於いて、更に、前記耐摩耗性コー
ティングを前記案内手段へ周期的に供給する手段を有す
る装置。

３２、上記第２７項に於いて、前記研磨媒体が粘弾性母
材と研磨粒子との混合物を有する装置。

３３、上記第３２項に於いて、前記母材が粘弾性レオペ
クチック母材である装置。

３４、上記第３２項に於いて、少くとも前記媒体に係合
する部分を具備した前記案内手段が前記母材の一部をそ
こへ接着させる手段を有する装置。

３５、上記第３４項に於いて、前記接着手段がシリコン
ゴム状物質を有する装置。

３６、上記第３４項に於いて、前記接着手段が有孔性表
面を有する装置。

３７、加工物表面を研磨する装置に於いて、接着領域を
持った基板と、前記接着領域に於いて前記基板へ接着さ
れた粘弾性研磨媒体とを有する装置。

３８、上記第３７項に於いて、前記媒体が粘弾性レオペ
クチック研磨媒体である装置。

３９、上記第３７項に於いて、前記基板が前記接着領域
の少くとも一部に亘って有孔性である装置。

４０、上記第３７項に於いて、前記接着領域の少くとも
一部がシリコンゴム状物質である装置。

４１、流動性研磨媒体を内部表面の選択した部分に対し
て流動させる事によって前記選択した部分を研磨処理す
る装置に於いて、前記媒体が前記選択した部分に於いて
前記内部表面を減少させるように前記選択した部分に於
いて前記媒体の作用を増加させる手段を有する装置。

４２、上記第４１項に於いて、前記作用を増加させる手
段が前記選択した部分を通過して流れる前記媒体の流れ
を制限する手段を有する装置。

４３、上記第４２項に於いて、前記媒体が粘弾性母材と
研磨粒子との混合物を有しており、且つ前記媒体の流れ
を制限する手段が、前記選択した部分から離隔すると共
にそれと対向して設けられ前記媒体の流れと係合する蓄
積手段を有しており、前記母材の一部が前記蓄積手段へ
接着して前記選択した部分を通って流れる前記媒体の流
れを制限する装置。

４４、上記第４３項に於いて、前記蓄積手段が有孔性物
質を有する装置。

４５、上記第４３項に於いて、前記蓄積手段がシリコン
ゴム状コーティングを有する装置。

４６、上記第４３項に於いて、前記蓄積手段が成形した
シリコンゴム状プラグを有する装置。

４７、上記第４３項に於いて、前記母材が粘弾性レオペ
クチック母材を有する装置。

４８、加工物を処理してその表面又はエツジを研磨する
方法に於いて、少くとも一方が処理されるべき加工物表
面から成る対向表面を互いに対向し且つ離隔して設けて
その間に間隙を構成し、前記間隙内に粘弾性研磨媒体を
導入し、前記対向表面間に相対運動を与えると共に前記
媒体を積極的に前記対向表面に対して作用させ且つ少く
とも前記加工物表面を研磨する方法。

４９、上記第４８項に於いて、更に、前記対向表面間に
相対的な軌道運動を与えて前記媒体を前記加工物表面に
対して積極的に作用させる方法。

５０、上記第４８項に於いて、更に、往復運動線に沿っ
て前記対向表面間に相対的な往復運動を与えて前記媒体
を前記加工物表面に対して積極的に作用させる方法。

５１、上記第５０項に於いて、更に、前記加工物表面上
の瞬間的な点と相対的な前記往復運動線の角度を変化さ
せて前記媒体の積極的な作用を変化させる方法。

５２、上記第４８項に於いて、更に、前記対向表面間に
相対的な回転運動を与えて前記媒体を前記加工物表面に
対して積極的に作用させる方法。

５３、上記第４８項に於いて、更に、前記対向表面の両
方を研磨する方法。

５４、上記第４８項に於いて、更に、前記研磨工程中前
記媒体を前記間隙内に閉じ込めさせる方法。

５５、上記第４８項に於いて、更に、前記媒体を前記間
隙内に追加させて前記処理期間中前記間隙から排出した
媒体を補填させる方法。

５６、上記第４８項に於いて、前記媒体が粘弾性レオペ
クチック研磨媒体である方法。

５７、上記第４８項に於いて、前記対向表面の少くとも
一方が前記研磨媒体によって処理すべきではない加工表
面を有しており、前記加工表面の少くとも一部に耐研磨
手段を設ける方法。

５８．上記第５７項に於いて、前記耐摩耗手段が前記加
工表面部分をポリウレタンでコーティングする方法。

５９、上記第５７項に於いて、前記耐研磨手段が前記加
工表面部分をポリウレタンで成形する方法。

６０、上記第５７項に於いて、前記耐摩耗手段が前記研
磨媒体の一部を有しており、且つ前記加工表面部分を粗
くさせ、前記加工表面部分を前記研磨媒体と接触させ、
前記接触の際に前記研磨媒体部分を前記粗くした部分へ
接着させる方法。

６１、上記第５７項に於いて、前記耐研磨手段が前記研
磨媒体の一部を有しており、且つ前記加工表面部分へ有
孔性物質を供給し、前記加工表面部分を前記研磨媒体部
分へ接触させ、前記接触の際に前記研磨媒体部分を前記
有孔性物質へ接着させる方法。

６２、上記第５７項に於いて、前記耐研磨手段が前記研
磨媒体の一部を有しており、且つ前記加工表面部分をシ
リコンゴム状物質でコーティングし、前記シリコンゴム
状物質を前記研磨媒体部分と接触させ、前記接触の際に
前記研磨媒体部分を前記シリコンゴム状物質へ接着させ
る方法。

６３、上記第５７項に於いて、前記耐研磨手段が前記研
磨媒体の一部を有しており、且つ前記加工表面部分をシ
リコンゴム状物質から成形し、前記シリコンゴム状物質
を前記研磨媒体部分へ接触させ、前記接触の際に前記研
磨媒体部分を前記シリコンゴム状物質へ接着させる方法
。

６４、加工物表面を研磨処理する装置に於いて、前記加
工物表面に対して積極的に移動された場合に前記加工物
表面を研磨する手段を設けてあり、前記研磨手段は研磨
砥粒を分散させた粘弾性母材を有しており、前記研磨手
段を受は入れる為に離隔されてその間に間隙を画定する
対向表面を設けてあり、前記対向表面の少くとも一方の
少くとも一部は前記処理されるべき加工物表面を有して
おり、且つ前記間隙は前記研磨手段に対する移動至を画
定しており、前記研磨手段を前記間隙内に導入する手段
を設けてあり、前記対向表面間に相対的運動を与えると
共に前記研磨手段を前記加工物表面に対して積極的に作
用させて研磨させる手段を設けた装置。

６５、上記第６４項に於いて、前記母材が、更に、粘弾
性レオペクチック物質を有する装置。

６６、上記第６４項に於いて、前記対向表面の両方が前
記研磨手段によって処理されるべき加工物表面を有する
装置。

６７、上記第６４項に於いて、前記対向表面の一方の少
なくとも１部が加工表面を有すると共に前記砥粒が最大
砥粒寸法を有しており、且つ前記間隙が前記最大砥粒寸
法よりも大きく、前記加工表面が前記砥粒を前記母材を
介して間接的に前記加工物表面と係合させる装置。

６８、上記第６４項に於いて、前記対向表面の一方の少
なくとも１部が加工表面を有すると共に前記砥粒が最大
砥粒寸法を有しており、又前記間隙が少なくとも前記最
大砥粒寸法と同程度に小さく従って前記加工表面が前記
砥粒を直接的に前記加工物表面へ係合させる装置。

６９、上記第６８項に於いて、前記加工表面が、更に、
一時的に変形可能な耐研磨エラストマで構成された研磨
手段係合表面を有する装置。

１０、上記第６９項に於いて、前記エラストマがポリウ
レタンを有する装置。

１１、上記第６４項に於いて、前記加工物表面でない前
記表面がディスプレーサの加工表面を有しており、且つ
前記加工表面が耐研磨手段を有する装置。

７２、上記第７１項に於いて、前記耐研磨手段が耐研磨
ポリウレタンを有する装置。

１３、上記第７２項に於いて、前記ディスプレーサが前
記ポリウレタンから構成される装置。

７４、上記第７２項に於いて、前記加工表面が前記ディ
スプレーサ上の前記ポリウレタンコーティングを有する
装置。

−７５，上記第７１項に於いて、前記耐摩耗手段が前記
母材の１部を前記ディスプレーサへ接着させ且つ前記砥
粒による前記加工表面の研磨を阻止する手段を有する装
置。

１６．上記第７５項に於いて、前記接着手段が粗くした
加工表面を有する装置。

１７、上記第７５項に於いて、前記接着手段が有孔性加
工表面を有する装置。

７８、上記第７５項に於いて、前記接着手段がシリコン
ゴム状加工表面を有する装置。

７９、上記第７８項に於いて、前記ディスプレーサがシ
リコンゴム状物質から形成されている装置。

８０、加工物表面を研磨処理する装置に於いて、マンド
レルと大略螺旋形状をした羽根とを具備し外部表面を持
った媒体移動体を設けてあり、前記媒体移動体の長手軸
に沿い前記媒体移動体の少なくとも１部を囲繞すると共
に同軸である閉込め体を設けてあり、前記外部表面及び
内部表面の少なくとも一方は前記処理されるべき加工物
表面を構成しており、研磨砥粒を分散させた粘弾性母材
物質からなる研磨媒体を設けてあり、前記内部表面と外
部表面との間に前記媒体を導入する手段を設けてあり、
前記媒体移動体と前記閉込め体との間に相対運動を付与
し前記媒体を前記加工物表面に対して積極的に作用させ
て研磨する手段を設けた装置。

８１、上記第８０項に於いて、前記母材が粘弾性レオペ
クチック物質を有する装置。

８２、上記第８０項に於いて、前記加工物表面でない前
記表面が耐研磨物質からなる加工表面を有する装置。

８３、上記第８２項に於いて、前記耐研磨物質がポリウ
レタンである装置。

８４、流動性研磨媒体で３次元加工物表面を研磨する方
法に於いて、前記媒体を前記加工物表面へ指向させる為
の複数個の管を設け、前記管を緩く一体的に集合させる
と共に前記管の各々の一端を前記加工物表面へ係合させ
て前記集合体の底部が前記加工物表′面の形状と略一致
する様にさせ、前記集合体を固定させると共に前記管の
各々を互いに固着させ、前記底部を前記加工物表面から
離隔させて間隙を構成し、前記媒体を前記管を介して前
記間隙内へ導入させ、前記集合体と前記加工物表面との
間に相対的運動を与えて前記媒体が前記加工物表面に対
して作用させる方法。

８５、流動性研磨媒体で３次元加工物表面を研磨する装
置に於いて、前記媒体を前記加工物表面へ指向させる複
数個の管と、前記管を緩く一体的に集合させると共に前
記加工物表面を前記管の各々の一端と係合させて前記集
合体の底部が前記加工物表面の形状と略一致させる様に
する手段と、前記集合体を固定すると共に前記管の各々
を互いに固着させる手段と、前記底部を前記加工物表面
から離隔させて間隙を構成する手段と、前記媒体を前記
管を介して前記間隙内へ導入させる手段と、前記媒体が
前記加工物表面と係合すると共に前記加工物表面に対し
て作用する様に前記集合体と前記加工物表面との間に相
対的運動を付与する手段とを有する装置。

８６、加工物を選択的に研磨する方法に於いて、前記加
工物上にセラミック物質を選択的に付与し、前記セラミ
ック物質を固化させ、前記加工物の第１部分を前記セラ
ミック物質でマスクして前記第１部分の研磨を防止し、
前記加工物の第２部分を前記セラミック物質でマスクし
て前記第２部分の研磨を減少させ、前記加工物に対して
粘弾性レオベクチック研Ｍ媒体を流動甘せ、前記加工物
の第３部分を研磨すると共に前記第２部分をマスクする
前記セラミック物質を研磨して前記第２部分と第３部分
との間に滑かな遷移部を設け、前記加工物から残存する
全てのセラミック物質を除去する方法。

８７、加工物の選択した部分を研磨すると共に保護す−
る方法に於いて、前記加工物の第１部分へセラミック物
質を選択的に付与し、前記セラミック物質を固化させる
と共に前記第１部分をマスクして研磨処理による前記第
１部分の研磨を減少させ、前記加工物を前記研磨処理さ
せると共に前記加工物の第２部分を研磨し、前記第１部
分を前記第２部分が受ける研磨の程度よりも少なくさせ
た方法。

８８、加工物の選択し・た部分を研磨すると共に保護す
る方法に於いて、前記加工物の、第１部分へ選択的にセ
ラミック物質を付与し、前記セラミック物質を固化する
と共に研磨処理による前記第１部分の研磨を防止し、前
記加工物を前記研磨処理させて第２部分を研磨すると共
に前記第１部分の研磨を防止する方法。

８９、上記第８７項に於いて、前記研磨処理が粘弾性研
磨媒体を前記加工物に対して強制流動させる方法。

９０、上記第８９項に於いて、前記媒体が粘弾性レオペ
クチック研磨媒体である方法。

９１、加工物の選択した部分を研磨すると共に保護する
方法に於いて、前記加工物の第１部分へ耐研磨物質を付
与し、前記耐研磨物質を固化して前記物質を前記第１部
分へ接着させ、前記加工物を粘弾性情！ＩＩ媒体で研磨
処理させて前記加工物の第２部分を研磨すると共に前記
第１部分を前記媒体による研磨から保護する方法。

９２、上記第９１項に於いて、更に、前記第２部分が研
磨されるよりも一層少ない程度に前記第１部分のエツジ
を研磨して前記第１部分と前記第２部分との間に滑かな
遷移部を与える方法。

９３、上記第９１項に於いて、前記媒体が粘弾性レオベ
クチック研磨媒体である方法。

９４、加工物を研磨すると共に保護する方法に於いて、
研磨すると共に保護すべき加工物の表面上に耐研磨物質
を付与し、前記加工物を研磨処理して角部の様な選択し
た部分に於いて一層大きな研磨作用をおこさせると共に
その隣接領域及びその他の領域に於いては一層小さな研
磨作用を起こさせ、選択した領域に於いて付与した耐研
磨物質が研磨除去されると共に加工物それ自身の領域が
研磨されて角部等が丸められるまで前記研磨処理を継続
するが、前記加工物のその他の選択した領域は前記付与
した耐摩耗物質が完全に除去するのに十分な研磨作用が
施されておらず従って前記加工物のこれらの領域は全く
研磨がされておらずこれらの領域の間に滑か且つ一様な
遷移部を設け、次いでその他の手段によって前記加工物
上に残存する前記付与した耐摩耗物質を除去する方法。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第４図は本発明の１実施例を実施する為の穆
々の手段を示した加工物の内部通路内を示した各部分断
面図、第５図及び第６図は本発明の別の実施例を示した
各一部切欠斜視図、第７図は本発明の別の特徴を具体化
したベルト状研磨機を示した概略図、第８図は本発明の
更に別の実施例を示した一部切矢部分斜視図、第９図は
鋳型孔内の往復動可能なマンドレルを図示した本発明の
別の実施例の側部断面図、第１０図は第９図の変形実施
例を示した側部断面図、第１１図はＮ１゜図の１１−１
１線に沿って取った平断面図、第１２図乃至第１４図は
種々の対向した表面の形状及び配列状態を示した各説明
図、第１５図は本発明の別の実施例を示した説明図、第
１６図は本発明の更に別の実施例を示した部分断面平面
図、第１７図は第１６図の１７−１７線方向に取った概
略断面図、第１８図は本発明に於いて使用するのに適し
た装置の正面図、第１９図乃至第２１図は加工物を貫通
する粘弾性砥粒媒体の流れを示した各概略断面図、第２
２図及び第２３図は加工物の隣接部分を処理する際に直
接研磨される加工物の１表面をマスクし選択的に保護す
る状態を示した加工物の各部分概略断面図、第２４図は
加工物の隣接部分を処理する際に間接的に研磨される表
面をマスクし且つ保護する状態を示した加工物の概略断
面図、である。 （符号の説明） １０：　加工物 １２：　内部ボア １４：　突起 １８：　母材表面層 特許出願人　　　　エクスツルード　ホーン。 リミテッド 図面の浄書（内容に変更なし） 手続補正書防幻 昭和５９年　３月　直 特許庁長官　　若　杉　和　夫　　殿 １、事件の表示　　　昭和５８年　特　許　願　第　１
６４２６５　　号２、発明の名称　　　加工物表面を研
磨する方法及び装置３、補正をする者 事件との関係　　　特許出願人 ４、代理人 ５、補正命令の日付　　　昭和５９年１月１１日（５９
年１月３１日発達７、補正の対象 日 ８、補正の内容　　　　　別紙の通り １）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、形状を持った加工物表面を研磨処理する方法に於い
   て、前記加工物表面と略同−の形状を持った対向表面を
   形成し、前記対向表面を耐研磨物質でコーティングし、
   前記対向表面を前記加工物表面と対向させ且つ離隔ぎせ
   て配置させその間に間隙を形成し、前記間隙内に圧力下
   に於０て粘弾性研磨媒体を導入させ且つ前記加工物表面
   に沿って前記媒体を案内すると共に前記加工物表面を研
   磨するものであって、前記媒体が粘弾性レオペクチック
   母材と研磨粒子との混合物を有することを特徴とする方
   法。 ２、形状を持った加工物表面を研磨処理する方法に於い
   て、耐研磨物質を成形して少くと・もその一部が前記加
   工物表面の形状と略同−の形状を持った対向表面を構成
   し、前記対向表面を一前記加工物表面と対向させ且つ離
   隔させて配置しその間に間隙を形成し、前記間隙内に圧
   力下に於いて粘弾性研磨媒体を導入し、前記媒体の一部
   を前記物質へ付着させると共に前記対向表面の研磨を減
   少させ、前記処理期間中前記対向表面及び付着した媒体
   と共に前記対向表面へ付着しなかった前記媒体の少くと
   も一部を前記加工物表面に沿って案内することを特徴と
   する方法。 ３、上記第１項に於いて、前記耐研磨物質がポリウレタ
   ンであることを特徴とする方法。 ４、上記第３項に於いて、前記母材がボロシロキサンパ
   テであることを特徴とする方法。 ５、上記第２項に於いて、前記媒体が粘弾性レオペクチ
   ック研磨媒体であることを特徴とする方法。 ６、流動性粘弾性研磨媒体によって加工物表面を研磨す
   る際に前記媒体によって露呈される摩耗表面を保護する
   方法゛に於いて、前記摩耗表面上にシリコンゴム状゛物
   質を付与し、前記加工物表面を前記研磨媒体で研磨する
   際に前記媒体の一部を前記物質へ接着させることを特徴
   とする特許７、上記第６項に於いて、前記媒体が粘弾性
   レオベクチック研磨媒体であることを特徴とする方法。 ８、流動性粘弾性研磨媒体によって加工物表面を研磨す
   る際に前記媒体によって研磨される摩耗表面を保護する
   方法に於いて、前記摩耗表面へ有孔性物質を付与し、且
   つ前記加工物表面を前記研磨媒体で研磨する際に前記媒
   体の一部を前記有孔性物質へ接着させる事を特徴とする
   方法。 ９、上記第８項に於いて、前記媒体が粘弾性レオベクチ
   ック研磨媒体である事を特徴とする方法。 １０、粘弾性研磨媒体を対向部材へ付着させる方法に於
   いて、前記対向部材の少くとも外側表面部分にシリコン
   ゴム状物質を供給し、且つ前記媒体を前記シリコンゴム
   状物質へ付与し、その際に前記媒体を前記シリコンゴム
   状物質へ接着させる事を特徴とする方法。 １１、上記第１０項に於いて、前記媒体が粘弾性レオペ
   クチック研磨媒体であることを特徴とする方法。 １２、粘弾性研磨媒体を対向部材へ付着させる方法に於
   いて、前記対向部材の少くとも外側表面部分に有孔性物
   質を供給し、且つ前記媒体が前記有孔性物質へ接着され
   るように前記媒体を前記有孔性物質へ付与することを特
   徴とする方法。 １３、上記第１２項に於いて、前記媒体が粘弾性レオベ
   クチック研磨媒体である事を特徴とする方法。 １４、研磨パッドを製造する方法に於いて、有・孔性基
   板を設け、前記有孔性基板へ粘弾性レオペクチック研磨
   媒体を付与して前記媒体を前記基板へ接着させることを
   特徴とする方法。 １５、上記第１４項に於いて、前記媒体が粘弾性レオベ
   クチック研磨媒体であることを特徴とする方法。 １６、研磨パッドを製造する方法に於いて、基板をシリ
   コンゴム状物質でコーティングし、且つ粘弾性研磨媒体
   を前記物質へ付与して前記媒体を前記基板へ接着させる
   ことを特徴とする方法。 １７、上記第１６項に於いて、前記媒体が粘弾性レオベ
   クチック研磨媒体である事を特徴とする方法。 １８、内部表面を有する通路を流れる粘弾性研磨媒体の
   流れを制限する方法に於いて、前記内部表面の少くとも
   一部にシリコンゴム状物質を設け、且つ前記媒体を前記
   部分に対し且つ横切って供給し、その際に前記媒体の一
   部を前記物質へ接着させると共に前記通路内に制限部を
   形成する事を特徴とする方法。 １９、上記第１８項に於いて、前記媒体が粘弾性レオペ
   クチック研磨媒体である事を特徴とする方法。 ２０、上記第１８項に於いて、前記物質が設けられてお
   らず且つ前記物質に対向する前記内部表面の一部が加工
   物表面であり、前記制限部によって前記媒体を前記加工
   物表面に対して指向させ、且つ前記加工物表面を前記媒
   体で処理することを特徴とする方法。 ２１、上記第２０項に於いて、更に、前記加工物表面内
   に空孔を形成するのに十分な時間前記処理を継続する事
   を特徴とする方法。 ２２、通路の内部表面の選択した大略窪んだ部分を粘弾
   性研磨媒体で処理する方法に於いて、前記選択した部分
   に対向して前記流路内にシリコンゴム状物質を供給し、
   前記研磨媒体を前記通路内及び前記物質に対向すると共
   に横断して供給し、前記媒体の一部を前記物質へ接着さ
   せ、前記接着した媒体で前記物質における前記流路を制
   限し、前記物質へ接着されておらず且つ前記制限部を介
   して供給された前記媒体の一部で前記選択した部分を研
   磨することを特徴とする方法。 ２３、上記第２２項に於いて、前記媒体が粘弾性レオベ
   クチック研磨媒体である事を特徴とする方法。 ２４、通路の内部表面の選択した部分を減少させる方法
   に於いて、前記選択した部分から離隔すると共に前記選
   択した部分に対向して前記通路内に耐研磨部分を設けて
   前記選択した部分に対向する前記通路の、制限部を形成
   し、流動性研磨媒体を前記通路内に供給すると共に前記
   制限部を通過して供給し、前記制限部によって前記選択
   した部分に於ける前記研磨媒体の作用を増加させ、前記
   増加した作用によって前記選択した部分を減少させる事
   を特徴とする方法。 ２５、上記第２４項に於いて、前記媒体が粘弾性研磨媒
   体であることを特徴とする方法。 ２６、上記第２５項に於いて、前記媒体が粘弾性レオベ
   クチック研磨媒体である事を特徴とする方法。 ２７、加工物表面を研磨する装置に於いて、前記加工物
   表面に対して前記媒体を流動させる際に前記加工物表面
   を研磨する為の流動性研磨媒体と、前記加工物表面から
   離隔すると共に対向し且つ研磨工程中前記媒体を前記加
   工物表面に対して案内する為に前記媒体が係合可能な部
   分を具備した案内手段と、前記案内手段の前記媒体によ
   る研磨を阻止する保護手段とを有する装置。 ２８、上記第２７項に於いて、前記保護手段が耐摩耗性
   ポリウレタン物質を有しており、且つ前記案内手段の少
   くとも一部が前記ポリウレタン物質で形成されている装
   置。 ２９、上記第２７項に於いて、前記保護手段が前記媒体
   によって係合可能な前記案内手段の前記部分の上に設け
   られた耐摩耗性コーティングを有する装置。 ３０、上記第２９項に於いて、更に、前記耐摩耗性コー
   ティングを前記案内手段へ連続的に供給する手段を有す
   るＨ置。 ３１、上記第２９項に於いて、更に、前記耐摩耗性コー
   ティングを前記案内手段へ周期的に供給する手段を有す
   る装置。 ３２、上記第２７項に於いて、前記研磨媒体が粘弾性母
   材と研磨粒子との混合物を有する装置。 ３３、上記第３２項に於いて、前記母材が粘弾性レオベ
   クチック母材である装置。 ３４、上記第３２項に於いて、少くとも前記媒体に係合
   する部分を具備した前記案内手段が前記母材の一部をそ
   こへ接着させる手段を有する装置。 ３５、上記第３４項に於いて、前記接着手段がシリコン
   ゴム状物質を有する装置。 ３６、上記第３４項に於いて、前記接着手段が有孔性表
   面を有する装置。 ３７、加工物表面を研磨する装置に於いて、接着領域を
   持った基板と、前記接着領域に於いて前記基板へ接着さ
   れた粘弾性研磨媒体とを有する装置。 ３８、上記第３７項に於いて、前記媒体が粘弾性レオペ
   クチック研磨媒体である装置。 ３９、上記第３７項に於いて、前記基板が前記接着領域
   の少くとも一部に亘って有孔性である装置。 ４０、上記第３７項に於いて、前記接着領域の少くとも
   一部がシリコンゴム状物質である装置。 ４１、流動性研磨媒体を内部表面の選択した部分に対し
   て流動させる事によって前記選択した部分を研磨処理す
   る装置に於いて、前記媒体が前記選択した部分に於いて
   前記内部表面を減少させるように前記選択した部分に於
   いて前記媒体の作用を増加させる手段を有する装置。 ４２、上記第４１項に於いて、前記作用を増加させる手
   段が前記選択した部分を通過して流れる前記媒体の流れ
   を制限する手段を有する装置。 ４３、上記第４２項に於いて、前記媒体が粘弾性母材と
   研磨粒子との混合物を有しており、且つ前記媒体の流れ
   を制限する手段が、前記選択した部分から離隔すると共
   にそれと対向して設けられ前記媒体の流れと係合する蓄
   積手段を有しており、前記母材の一部が前記蓄積手段へ
   接着して前記選択した部分を通って流れる前記媒体の流
   れを制限する装置。 ４４、上記第４３項に於いて、前記蓄積手段が有孔性物
   質を有する装置。 ４５、上記第４３項に於いて、前記蓄積手段がシリコン
   ゴム状コーティングを有する装置。 ４６、上記第４３項に於いて、前記蓄積手段が成形した
   シリコンゴム状プラグを有する装置。 ４１、上記第４３項に於いて、前記母材が粘弾性レオベ
   クチック母材を有する装置。 ４８、加工物を処理してその表面又はエツジを研磨する
   方法に於いて、少くとも一方が処理されるべき加工物表
   面から成る対向表面を互いに対向し且つ離隔して設けて
   その間に間隙を構成し、前記間隙内に粘弾性研磨媒体を
   導入し、前記対向表面間に相対運動を与えると共に前記
   媒体を積極的に前記対向表面に対して作用させ且つ少く
   とも前記加工物表面を研磨する方法。 ４９、上記第４８項に於いて、更に、前記対向表面間に
   相対的な軌道運動を与えて前記媒体牽前記加工物表面に
   対して積極的に作用させる方法。 ５０、上記第４８項に於いて、更に、往復運動線に沿っ
   て前記対向表面間に相対的な往復運動を与えて前記媒体
   を前記加工物表面に対して積極的に作用させる方法。 ５１、上記第５０項に於いて、更に、前記加工物表面上
   の瞬間的な点と相対的な前記往復運動線の角度を変化さ
   せて前記媒体の積極的な作用を変化させる方法。 ５２、上記第４８項に於いて、更に、前記対向表面間に
   相対的な回転運動を与えて前記媒体を前記加工物表面に
   対して積極的に作用させる方法。 ５３、上記第４８項に於いて、更に、前記対向表面の両
   方を研磨する方法。 ５４、上記第４８項に於いて、更に、前記研磨工程中前
   記媒体を前記間隙内に閉じ込めさせる方法。 ５５、上記第４８項に於いて、更に、前記媒体を前記間
   隙内に追加させて前記処理期間中前記間隙から排出した
   媒体を補填させる方法。 ５６、上記第４８項に於いて、前記媒体が粘弾性レオペ
   クチック研Ｍｇｊ１体である方法。 ５７、上記第４８項に於いて、前記対向表面の少くとも
   一方が前記研磨媒体によって処理すべきではない加工表
   面を有しており、前記加工表面の少くとも一部に耐研磨
   手段を設ける方法。 ５８、上記第５７項に於いて、前記耐摩耗手段が前記加
   工表面部分をポリウレタンでコーティングする方法。 ５９、上記第５７項に於いて、前記耐研磨手段が前記加
   工表面部分゛をポリウレタンで成形する方法。 ６０、上記第５７項に於いて、前記耐摩耗手段が前記研
   磨媒体の一部を有しており、且つ前記加工表面部分を粗
   くさせ、前記加工表面部分を前記研磨媒体と接触させ、
   前記接触の際に前記研磨媒体部分を前記粗くした部分へ
   接着させる方法。 ６１、上記第５７項に於いて、前記耐研磨手段が前記研
   磨媒体の一部を有しており、且つ前記加工表面部分へ有
   孔性物質を供給し、前記加工表面部分を前記研磨媒体部
   分へ接触させ、前記接触の際に前記研磨媒体部分を前記
   有孔性物質へ接着させる方法。 ６２、上記第５７項に於いて、前記耐研磨手段が前記研
   磨媒体の一部を有しており、且つ前記加工表面部分をシ
   リコンゴム状物質でコーティングし、前記シリコンゴム
   状物質を前記研磨媒体部分と接触させ、前記接触の際に
   前記研磨媒体部分を前記シリコンゴム状物質へ接着させ
   る方法。 ６３、上記第５７項に於いて、前記耐研磨手段が前記研
   磨媒体の一部を有しており、且つ前記加工表面部分をシ
   リコンゴム状物質から成形し、前記シリコンゴム状物質
   を前記研磨媒体部分へ接触させ、前記接触の際に前記研
   磨媒体部分を前記シリコンゴム状物質へ接着させる方法
   。 ６４、加工物表面を研磨処理する装置に於いて、前記加
   工物表面に対して積極的に移動された場合に前記加工物
   表面を研磨する手段を設けてあり、前記研磨手段は研磨
   砥粒を分散させた粘弾性母材を有しており、前記研磨手
   段を受は入れる為に離隔されてその間に間隙を画定する
   対向表面を設けてあり、前記対向表面の少くとも一方の
   少くとも一部は前記処理されるべき加工物表面を有して
   おり、且つ前記間隙は前記研磨手段に対する移動室を画
   定しており、前記研磨手段を前記間隙内に導入する手段
   を設けてあり、前記対向表面間に相対的運動を与えると
   共に前記研磨手段を前記加工物表面に対してＩ補的に作
   用させて研磨させる手段を設けた装置。 ６５、上記第６４項に於いて、前記母材が、更に、粘弾
   性レオペクチック物質を有する装置。 ６６、上記第６４項に於いて、前記対向表面の両方が前
   記研磨手段によって処理されるべき加工物表面を有する
   装置。 ６７、上記第６４項に於いて、前記対向表面の一方の少
   なくとも１部が加工表面を有すると共に前記砥粒が最大
   砥粒寸法を有しており、且つ前記間隙が前記最大砥粒寸
   法よりも大きく、前記加工表面が前記砥粒を前記母材を
   介して間接的に前記加工物表面と係合させる装置。 ６８、上記第６４項に於いて、前記対向表面の一方の少
   な（とも１部が加工表面を有すると共に前記砥粒が最大
   砥粒寸法を有しており、又前記間隙が少なくとも前記最
   大砥粒寸法と同程度に小さく従って前記加工表面が前記
   砥粒を直接的に前記加工物表面へ係合させる装置。 ６９、上記第６８項に於いて、前記加工表面が、更に、
   一時的に変形可能な耐研磨エラストマで構成された研磨
   手段係合表面を有する装置。 ７０、上記第６９項に於いて、前記エラストマがポリウ
   レタンを有する装置。 ７１、上記第６４項に於いて、前記加工物表面でない前
   記表面がディスプレーサの加工表面を有しており、且つ
   前記加工表面が耐研磨手段を有する装置。 ７２、上記第７１項に於いて、前記耐研磨手段が耐研磨
   ポリウレタンを有する装置。 ７３、上記第７２項に於いて、前記ディスプレーサが前
   記ポリウレタンから構成される装置。 ７４、上記第７２項に於いて、前記加工表面が前記ディ
   スプレーサ上の前記ポリウレタンコーティングを有する
   装置。 ７５、上記第７１項に於いて、前記耐摩耗手段が前記母
   材の１部を前記ディスプレーサへ接着させ且つ前記砥粒
   による前記加工表面の研磨を阻止する手段を有する装置
   。 ７６、上記第７５項に於いて、前記接着手段が粗くした
   加工表面を有する装置。 ７７、上記第７５項に於いて、前記接着手段が有孔性加
   工表面を有する装置。 ７８、上記第７５項に於いて、前記接着手段がシリコン
   ゴム状加工表面を有する装置。　　”７９、上記第７８
   項に於いて、前記ディスプレーサがシリコンゴム状物質
   から形成されている装置。 ８０、加工物表面を研磨処理する装置に於いて、マンド
   レルと大略螺旋形状をした羽根とを具備し外部表面を持
   った媒体移動体を設けてあり、前記媒体移動体の長手軸
   に沿い前記媒体移動体の少なくとも１部を囲繞すると共
   に同軸である閉込め体を設けてあり、前記外部表面及び
   内部表面の少なくとも一方は前記処理されるべき加工物
   表面を構成しており、研磨砥粒を分散させた粘弾性母材
   物質からなる研磨媒体を設けてあり、前記内部表面と外
   部表面との間に前記媒体を導入する手段を設けてあり、
   前記媒体移動体と前記閉込め体との間に相対運動を付与
   し、前記媒体を前記加工物表面に対して積極的に作用さ
   せて研磨する手段を設けた装置。 ８１、上記第８０項に於いて、前記母材が粘弾性レオペ
   クチック物質を有する装置。 ′８２．上記第８０項に於いて、前記加工物表面でない
   前記表面が耐研磨物質からなる加工表面を有する装置。 ８３、上記第８２項に於いて、前記耐研磨物質がポリウ
   レタンである装置。 ８４、流動性研磨媒体で３次元加工物表面を研磨する方
   法に於いて、前記媒体を前記加工物表面へ指向させる為
   の複数個の管を設【プ、前記管を緩く一体的に集合させ
   ると共に前記管の各々の一端を前記加工物表面へ係合己
   せて前記集合体の底部が前記加工物表面の形状と略一致
   する様にさせ、前記集合体を固定さぜると共に前記管の
   各々を互いに固着させ、前記底部を前記加工物表面から
   離隔させて間隙を構成し、前記媒体を前記管を介して前
   記間隙内ｌ＼導入させ、前記集合体と前記加工物表面と
   の間に相対的運動を与えて前記媒体が前記加工物表面に
   対して作用させる方法。 ８５、流動性研磨媒体で３次元加工物表面を研磨する装
   置に於いて、前記媒体を前記加工物表面へ指向させる複
   数個の管と、前記管を緩く一体的に集合させると共に前
   記加工物表面を前記管の各々の一端と係合させて前記集
   合体の底部が前記加工物表面の形状と略一致させる様に
   する手段と、前記集合体を固定すると共に前記管の各々
   を互いに固着させる手段と、前記底部を前記加工物表面
   から離隔させて間隙を構成する手段と、前記媒体を前記
   管を介して前記間隙内へ導入させる手段と、前記媒体が
   前記加工物表面と係合すると共に前記加工物表面に対し
   て作用する様に前記集合体と前記加工物表面との間に相
   対的運動を付与する手段とを有する装置。 ８６６加工物を選択的に研磨する方法に於いて、前記加
   工物上にセラミック物質を選択的に付与し、前記セラミ
   ック物質を固化させ、前記加工物の第１部分を前記セラ
   ミック物質でマスクして前記第１部分の研磨を防止し、
   前記加工物の第２部分を前記セラミック物質でマスクし
   て前記第２部分の研磨を減少させ、前記加工物に対して
   粘弾性レオベクチック研磨媒体を流動させ、前記加工物
   の第３部分を研磨すると共に前記第２部分をマスクする
   前記セラミック物質を研磨して前記第２部分と第３部分
   との間に滑かな遷移部を設け、前記加工物から残存する
   全てのセラミック物質を除去する方法。 ８７、加工物の選択した部分を研磨すると共に保護する
   方法に於いて、前記加工物の第１部分へセラミック物質
   を選択的に付与し、前記セラミック物質を固化させると
   共に前記第１部分をマスクして研磨処理による前記第１
   部分の研磨を減少させ、前記加工物を前記研磨処理させ
   ると共に前記加工物の第２部分を研磨し、前記第１部分
   を前記第２部分が受ける研磨の程度よりも少なくさせた
   方法。 ８８、加工物の選択した部分を研磨すると共に保護する
   方法に於いて、前記加工物の第１部分へ選択的にセラミ
   ック物質を付与し、前記セラミック物質を固化すると共
   に研磨処理による前記第１部分の研磨を防止し、前記加
   工物を前記研磨処理させて第２部分を研磨すると共に前
   記第１部分の研磨を防止する方法。 ８９、上記第８７項に於いて、前記研磨処理が粘弾性研
   磨媒体を前記加工物に対して強制流動させる方法。 ９０、上記第８９項に於いて、前記媒体が粘弾性レオベ
   クチック研磨媒体である方法。 ９１、加工物の選択した部分を研磨すると共に保護する
   方法に於いて、前記加工物の第１部分へ耐研磨物質を付
   与し、前記耐研磨物質を固化して前記物質を前記第１部
   分へ接着させ、前−記加工物を粘弾性研磨媒体で研磨処
   理させて前記加工物の第２部分を研磨すると共に前記第
   １部分を前記媒体による研磨から保護する方法。 ９２、上記第９１項に於いて、更に、前記第２部分が研
   磨されるよりも一層少ない程度に前記第１部分のエツジ
   を研磨して前記第１部分と前記第２部分左の間に滑かな
   遷移部を与える方法。 ９３、上記第９１項に於いて、前記媒体が粘弾性レオペ
   クチック研磨媒体である方法。 ９４、加工物を研磨すると共に保護する方法に於いて、
   研磨すると共に保護すべき加工物の表面上に耐研磨物質
   を付与し、前記加工物を研磨処理して角部の様、な選択
   した部分に於いて一層大きな研磨作用をおこさせると共
   にその隣接領域及びその他の領域に於いては一層小さな
   研磨作用を起こさせ、選択した領域に於いて付与した耐
   研磨物質が研磨除去されると共に加工物それ自身の領域
   が研磨されて角部等が丸められるまで前記研磨処理を継
   続するが、前記加工物のその他の選択した領域は前記付
   与した耐摩耗物質が完全に除去するのに十分な研磨作用
   が施されておらず従って前記加工物のこれらの領域は全
   く研磨がされておらずこれらの領域の間に滑か且つ一様
   な遷移部を設け、次いでその他の手段によって前記加工
   物上に残存する前記付与した耐摩耗物質を除去する方法
   。