JPS59133214A - プロトン性溶媒中でビニルホスホン酸の重合体を製造する方法 - Google Patents
プロトン性溶媒中でビニルホスホン酸の重合体を製造する方法Info
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- JPS59133214A JPS59133214A JP58245587A JP24558783A JPS59133214A JP S59133214 A JPS59133214 A JP S59133214A JP 58245587 A JP58245587 A JP 58245587A JP 24558783 A JP24558783 A JP 24558783A JP S59133214 A JPS59133214 A JP S59133214A
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F30/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
- C08F30/02—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing phosphorus
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- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ポリビニルホスホン酸は例えば防蝕、防炎加ポリビニル
ホスホン酸は従来には、ドイツ特許公報筒1.1049
63号の実施例7および8に従えば非プロトン性溶媒、
特にエチルアセテートの添加下に製造される。その際に
このものは沈殿物として生じそして例えばエチルアセテ
ートおよび不純物から分離しなければならない。
ホスホン酸は従来には、ドイツ特許公報筒1.1049
63号の実施例7および8に従えば非プロトン性溶媒、
特にエチルアセテートの添加下に製造される。その際に
このものは沈殿物として生じそして例えばエチルアセテ
ートおよび不純物から分離しなければならない。
こうして製造されるポリビニルホスホン酸は依然として
約10%の遊離とニルホスホン酸を含有している。吸引
p遇する場合には安全処置が必要であシ且り溶剤の損失
が生ずる。ビニルホスホン酸を上記特許公報の実施例1
あるいは6に従って溶■不存在下に重合した場合にも、
若干の場合に副生成物によって確に著しく汚染されてい
るポリビニルホスホン酸が生ずる。この操作の仕方では
、最初に非常に高い粘性であり、撹拌困難でちゃそして
最後にもはや撹拌もあるいは捏和もできない固体の反応
生成物がもたらされる。それ故にこれは実質的に実施不
可能である。
約10%の遊離とニルホスホン酸を含有している。吸引
p遇する場合には安全処置が必要であシ且り溶剤の損失
が生ずる。ビニルホスホン酸を上記特許公報の実施例1
あるいは6に従って溶■不存在下に重合した場合にも、
若干の場合に副生成物によって確に著しく汚染されてい
るポリビニルホスホン酸が生ずる。この操作の仕方では
、最初に非常に高い粘性であり、撹拌困難でちゃそして
最後にもはや撹拌もあるいは捏和もできない固体の反応
生成物がもたらされる。それ故にこれは実質的に実施不
可能である。
それ故に、
1 吸引濾過を省くことができ、
2、 不変的に撹拌でき、
3、 最後に僅かな残留モノマー含有量しか存在せず、
4、 反応生成物を直接的に例えば水で更に希釈するこ
とができそして 5、 水あるいは水と混和し得る他のプロトン性の希釈
剤中で処理することができる ビニルホスホン酸の製造方法が研究された。
とができそして 5、 水あるいは水と混和し得る他のプロトン性の希釈
剤中で処理することができる ビニルホスホン酸の製造方法が研究された。
ドイツ特許公報第1,106,963号の実施例3.4
および5から、ビニルホスホン酸の重合を比較的に多量
のプロトン性溶媒(50%のイングロバノールまたは1
00%の水)中で5あるいは6時間だけの比較的短い重
合時間の使用下に、初めに加えられた0、5%だけのラ
ジカル開始剤(ジ−ベンゾイルペルオキシドあるいは過
硫酸力/リウム)の存在下tζ実施することができるこ
とが明らかである。
および5から、ビニルホスホン酸の重合を比較的に多量
のプロトン性溶媒(50%のイングロバノールまたは1
00%の水)中で5あるいは6時間だけの比較的短い重
合時間の使用下に、初めに加えられた0、5%だけのラ
ジカル開始剤(ジ−ベンゾイルペルオキシドあるいは過
硫酸力/リウム)の存在下tζ実施することができるこ
とが明らかである。
この場合には、得られる反応溶液の粘度上昇が僅かなの
で、ポリビニルホスホン酸の溶液がこの条件のもとでも
生じると思われる。ポリビニルホスホン酸の収率あるい
は残留モノマー含有量についての具体的記載はない。こ
のことは。
で、ポリビニルホスホン酸の溶液がこの条件のもとでも
生じると思われる。ポリビニルホスホン酸の収率あるい
は残留モノマー含有量についての具体的記載はない。こ
のことは。
今日ではポリビニルホスホン酸の他忙未重合のモノマー
のとニルホスホン酸も明確K 測定fることを許容する
P”−NMR−分光学が当時にはまだ自由に使用できな
かったので、篤ろくべきことではない。
のとニルホスホン酸も明確K 測定fることを許容する
P”−NMR−分光学が当時にはまだ自由に使用できな
かったので、篤ろくべきことではない。
上記特許公報の実施例3.4および5の追実験および続
くその反応溶液のP −NMR−分光実験にて、これら
実施例において明らかKされている実験条件のもとての
ポリビニルホスホン酸のJ保体が実際には、 z+iい
たビニルホスホン酸に対して約35〜40%あるいは約
6〜10%だけであることが判る。この特許公報のどこ
にも、プロトン性希釈剤中でポリビニルボスホン酸ヲ高
率でもたらし得る別の重合条件につbての指示がない。
くその反応溶液のP −NMR−分光実験にて、これら
実施例において明らかKされている実験条件のもとての
ポリビニルホスホン酸のJ保体が実際には、 z+iい
たビニルホスホン酸に対して約35〜40%あるいは約
6〜10%だけであることが判る。この特許公報のどこ
にも、プロトン性希釈剤中でポリビニルボスホン酸ヲ高
率でもたらし得る別の重合条件につbての指示がない。
ドイツ特許公報第i、 106.963号の著者によっ
て書かれた刊行物(Angew、 Chemie 1p
62、第974頁)においても同様に、ビニルホスホン
酸が重合1.易い化合物であるととそして容易に重合開
始して単一重合体に成ることを無条件で一般的に言明し
ている。機業者であればこの刊行物によってビニルホス
ホン酸は非プロトン性希釈剤中においてもプロトン性希
釈剤中においても同イチに、比較的僅かなエネルギーし
か必要としない特別な条件のもとて良好な収率で重合し
得るという印象を受けるはずである。
て書かれた刊行物(Angew、 Chemie 1p
62、第974頁)においても同様に、ビニルホスホン
酸が重合1.易い化合物であるととそして容易に重合開
始して単一重合体に成ることを無条件で一般的に言明し
ている。機業者であればこの刊行物によってビニルホス
ホン酸は非プロトン性希釈剤中においてもプロトン性希
釈剤中においても同イチに、比較的僅かなエネルギーし
か必要としない特別な条件のもとて良好な収率で重合し
得るという印象を受けるはずである。
本発明者は、明らかに成ったポリビニルホスホン酸の低
い収率に反しておよび存在する上記偏見に反して、モノ
マーの残留ビニルホスホン酸が35%より少ない、特に
20%よシ少ないプロトン性希釈剤中でのポリビニルホ
スホン酸の製造方法を見出した。これは、ビニルホスホ
ン酸を全部て10〜150重景%のプロトン性希釈剤中
で全部で4〜60時間40〜160℃の温度に、122
℃以下の温度のもとて1時間に半分まで分解する脂肪族
ペルオキシドエステル、ジアシルペルオキシドおよび/
または脂肪族アゾ化合物1.0〜5.5重量%の存在下
に加熱することを特徴としている。
い収率に反しておよび存在する上記偏見に反して、モノ
マーの残留ビニルホスホン酸が35%より少ない、特に
20%よシ少ないプロトン性希釈剤中でのポリビニルホ
スホン酸の製造方法を見出した。これは、ビニルホスホ
ン酸を全部て10〜150重景%のプロトン性希釈剤中
で全部で4〜60時間40〜160℃の温度に、122
℃以下の温度のもとて1時間に半分まで分解する脂肪族
ペルオキシドエステル、ジアシルペルオキシドおよび/
または脂肪族アゾ化合物1.0〜5.5重量%の存在下
に加熱することを特徴としている。
モノマーのビニルホスホン酸は今日では二りの異なった
方法で工業的規模で入手し得る。
方法で工業的規模で入手し得る。
1、(純粋のビニルホスホン酸を製造する)費用の掛る
方法。三塩化リンとエチレンオキサイドカラトリス−(
2−クロルエチレン)−ホスフィットを製造し、このも
のから殊にアルブゾ7転位tこよって2−クロルエタン
ホスホン酸−ビス(2−クロルエチル−エステル)が生
ずる。ホスゲン化および塩化水素−熱分解の後に、蒸留
精製後に水で加水分解して純粋なビニルホスホン酸と成
るビニルボスホン酸−ジクロライドが得られる。
方法。三塩化リンとエチレンオキサイドカラトリス−(
2−クロルエチレン)−ホスフィットを製造し、このも
のから殊にアルブゾ7転位tこよって2−クロルエタン
ホスホン酸−ビス(2−クロルエチル−エステル)が生
ずる。ホスゲン化および塩化水素−熱分解の後に、蒸留
精製後に水で加水分解して純粋なビニルホスホン酸と成
るビニルボスホン酸−ジクロライドが得られる。
この方法は比較的に費用が掛かシそして環境を若干害す
る。最初にポスグン化によりで塩素原子を導入しなけれ
ばならない。この塩素原子は後に塩化水素の形で再び除
がなけれはならない。
る。最初にポスグン化によりで塩素原子を導入しなけれ
ばならない。この塩素原子は後に塩化水素の形で再び除
がなけれはならない。
2、(”粗ビニルホスホン酸″あるいは゛ニスデル含有
の粗ビニルホスホン酸”を製造する為の)環境を筈ざな
いハログン不使用の方法。
の粗ビニルホスホン酸”を製造する為の)環境を筈ざな
いハログン不使用の方法。
ジメチルホスフィツトとビニルアセチ−トドを反応させ
ることによって90%以上の収率で生ずる2−アセトキ
シエタン−ホスホン酸ジメチルエステルをドイツ特許出
願公開公報第3001894号に従ってiao〜200
℃のモトて熱分解して、殊に種々のピロービニルホスホ
ン酸訪導体をもきむ未だメチル基を含有する“熱分解物
”とする。ドイツ特許出願公開公報第3110975号
によればこのものから、100℃以上の温度のもとて水
を数時間作用させることによりて、P −NMR−分光
写真によると次の様な組成の゛粗ビニルホスホ7 fp
” カi’iられる:(%はここでは全てのp31−
共鳴−シグナルの全面積に対するパーセントを意味する
)1 CH2−CH−P(−0H)270−77%1 C)130C2H4−P(OR)22− 4%H,PO
46−10% 残9のP−化合物 3−10%特に安価で
あるので、100℃以下の温度のもとて”熱分解物“に
少なくとも2%の水を加えることによって生ずる°1エ
ステル含有の粗ビニルホスホン酸”が特に実地において
興味かもだれる。
ることによって90%以上の収率で生ずる2−アセトキ
シエタン−ホスホン酸ジメチルエステルをドイツ特許出
願公開公報第3001894号に従ってiao〜200
℃のモトて熱分解して、殊に種々のピロービニルホスホ
ン酸訪導体をもきむ未だメチル基を含有する“熱分解物
”とする。ドイツ特許出願公開公報第3110975号
によればこのものから、100℃以上の温度のもとて水
を数時間作用させることによりて、P −NMR−分光
写真によると次の様な組成の゛粗ビニルホスホ7 fp
” カi’iられる:(%はここでは全てのp31−
共鳴−シグナルの全面積に対するパーセントを意味する
)1 CH2−CH−P(−0H)270−77%1 C)130C2H4−P(OR)22− 4%H,PO
46−10% 残9のP−化合物 3−10%特に安価で
あるので、100℃以下の温度のもとて”熱分解物“に
少なくとも2%の水を加えることによって生ずる°1エ
ステル含有の粗ビニルホスホン酸”が特に実地において
興味かもだれる。
このものはP ”−NMR−分光写真によると次の組成
(p−全体の内の%)を有する: (この場合、Rは水素またはメチルを意味する)1 CH2−CH−P(−0H) 22 B −40%1 CH 1 CH2−CH−P(−0CH3)22− 6%0 111 0HOH 1 CH 1 RO−P−(O町27−10% 残りのP−化合物 0−10%本発明の方
法にとっては、純粋なビニルホスホン酸並びに環境を害
さない第2番目7(2,’Th法に従って入手し得る“
粗ビニルホスホン酸″および”エステル含有の粗ビニル
ホスホン酸”も適している。最後に挙げたものを用いた
場合には、1部分はまだメチル基を有しているポリビニ
ルホスホン酸が生ずる。
(p−全体の内の%)を有する: (この場合、Rは水素またはメチルを意味する)1 CH2−CH−P(−0H) 22 B −40%1 CH 1 CH2−CH−P(−0CH3)22− 6%0 111 0HOH 1 CH 1 RO−P−(O町27−10% 残りのP−化合物 0−10%本発明の方
法にとっては、純粋なビニルホスホン酸並びに環境を害
さない第2番目7(2,’Th法に従って入手し得る“
粗ビニルホスホン酸″および”エステル含有の粗ビニル
ホスホン酸”も適している。最後に挙げたものを用いた
場合には、1部分はまだメチル基を有しているポリビニ
ルホスホン酸が生ずる。
ラジカル重合は、モノマーが純粋であればある程、一般
に良好に進行する。それ故に“粗ビニルホスホン酸”あ
るいは”エステル含有の粗ビニルホスホン酸”も、既に
ビニル基不合のP−含有酸の形の20〜30%の不純物
を含有しているにもか\わらず、本発明の条件のもとて
重合できることは特に驚ろくべきことであった。
に良好に進行する。それ故に“粗ビニルホスホン酸”あ
るいは”エステル含有の粗ビニルホスホン酸”も、既に
ビニル基不合のP−含有酸の形の20〜30%の不純物
を含有しているにもか\わらず、本発明の条件のもとて
重合できることは特に驚ろくべきことであった。
遊離の酸基を持つ酸性化合物の他に、ナトリウ〜ムー、
カリウム−、アンモニウム−およびアミン塩も用いるこ
とができる。
カリウム−、アンモニウム−およびアミン塩も用いるこ
とができる。
プロトン性希釈剤は、反応混合物が撹拌可能で且つ加工
可能のままである為に必要である。
可能のままである為に必要である。
プロ(・ン性希釈剤としては以下のものが適する:水、
1〜8個、殊に1〜4個の炭素原子を有する1価の脂肪
族アルコール並びに1価アルコールあるいは−それ自体
の第三アミンが存在する限り一第ニアミンの水希釈可能
な液状オキシエチラート。
1〜8個、殊に1〜4個の炭素原子を有する1価の脂肪
族アルコール並びに1価アルコールあるいは−それ自体
の第三アミンが存在する限り一第ニアミンの水希釈可能
な液状オキシエチラート。
価格が安く且つ有利に取扱えることから多くの場合に特
に好ましい希釈剤は水である。特に適する希釈剤として
は、ビニルホスホン酸の為の環境を害さない第2番目の
製造方法に従って必然的に生じ且つ”粗とニルホスホン
酸”あるイハ”エステル含有の粗ビニルホスホン酸”の
形で存在するビニル基不含のリン含有酸性物質も考慮さ
れ得る。これらは例えば水の如き他のリンネ含の希釈剤
に部分的にあるいは完全に代えることができる。一般に
色々な適当な希釈剤の混合物、特に水との混合物も使用
できる。
に好ましい希釈剤は水である。特に適する希釈剤として
は、ビニルホスホン酸の為の環境を害さない第2番目の
製造方法に従って必然的に生じ且つ”粗とニルホスホン
酸”あるイハ”エステル含有の粗ビニルホスホン酸”の
形で存在するビニル基不含のリン含有酸性物質も考慮さ
れ得る。これらは例えば水の如き他のリンネ含の希釈剤
に部分的にあるいは完全に代えることができる。一般に
色々な適当な希釈剤の混合物、特に水との混合物も使用
できる。
重合間の希釈剤の全体量は、重合可能なビニルホスホン
酸誘導体の全体量に対して10〜150%、特に20〜
80%である。
酸誘導体の全体量に対して10〜150%、特に20〜
80%である。
希釈剤が殊に既に開始前に、多量に存在すればする程に
、増々多量の触媒および長い反応時間が必要とされる。
、増々多量の触媒および長い反応時間が必要とされる。
重合を実施した後に例えば。
一定の粘度に調整する為に更に任意の別の量の希釈剤を
添加してもよい。
添加してもよい。
既に重合の初めに、反応混合物が少なくとも高い反応温
度のもとて重合の終シでおっても且つたとえその際に必
要とされる大量の触媒が含まれていてもまだ撹拌可能の
ままである程に希釈剤を添加することも可能である。
度のもとて重合の終シでおっても且つたとえその際に必
要とされる大量の触媒が含まれていてもまだ撹拌可能の
ままである程に希釈剤を添加することも可能である。
出来るだけ僅かの触媒にて有利に間に合わせようとする
場合には、初めに希釈剤を全くまたは5〜30%だけし
か加えずそして全部で更に5〜145%、特に15〜7
5%を、重合を進行させそして高か過ぎる粘度がこの操
作を必要とする程度に連続的にまたは同じ配分で加える
のが有利である。
場合には、初めに希釈剤を全くまたは5〜30%だけし
か加えずそして全部で更に5〜145%、特に15〜7
5%を、重合を進行させそして高か過ぎる粘度がこの操
作を必要とする程度に連続的にまたは同じ配分で加える
のが有利である。
ドイツ特許公報第1,106,965号の実施例3.4
および5の記載と反対に、プロトン性希釈剤を用いる場
合には反応混合物を不活性ガス層で覆うのが有利である
。不活性ガス層で覆うことを省いた場合忙も確に重合体
が生ずる。しかしながらその際に比較的に多少多い含有
量でモノマーが残留しそしてこれが変色を生せしめる。
および5の記載と反対に、プロトン性希釈剤を用いる場
合には反応混合物を不活性ガス層で覆うのが有利である
。不活性ガス層で覆うことを省いた場合忙も確に重合体
が生ずる。しかしながらその際に比較的に多少多い含有
量でモノマーが残留しそしてこれが変色を生せしめる。
ドイツ特許公報第1,104966号の記載に反して、
遊離ラジカルとして作用する触媒は、1、 既に122
℃以下で1時間で半分まで分解しそして 2 脂肪族ペルオキシエステル、脂肪族ジアシルペルオ
キシドまたは脂肪族アゾ化合物の化合物群に属する ものが適している。
遊離ラジカルとして作用する触媒は、1、 既に122
℃以下で1時間で半分まで分解しそして 2 脂肪族ペルオキシエステル、脂肪族ジアシルペルオ
キシドまたは脂肪族アゾ化合物の化合物群に属する ものが適している。
他の公知のラジカル開始剤は、例えばジー第3−ブチル
ペルオキシド、第5−ブチル−ペルオキシ−ベンゾエー
トの如く不活発にしか作用しないか、例えば過硫酸カリ
ウムまたはジベンゾイルペルオキシド等の如く変色およ
び/または煩わしい臭いおよび/または20%より遥か
に多い残留モノマー高含有量をもたらすので篤ろくこと
に適していない。適するペルオキシ化合物の内、実際的
理由から、既に約80℃以下で1時間に半分分解するも
のはあまシ適していない。これらは、熱に敏感である為
に例えば既に製造後に脂肪族化合物で希釈しそして0℃
以下の温度のもとで運搬しあるいは貯蔵しなければなら
ないという欠点を有している。かかるペルオキシ化合物
の内では以下のものが適する:ジミリスチルーベルオキ
シージカルボナート、ジイソブロビルーベルオキシージ
カルボナート、第3−ブチル−ペルオキシネオデカノエ
ート、第3−アミル−ペルオキシネオデカノエート。
ペルオキシド、第5−ブチル−ペルオキシ−ベンゾエー
トの如く不活発にしか作用しないか、例えば過硫酸カリ
ウムまたはジベンゾイルペルオキシド等の如く変色およ
び/または煩わしい臭いおよび/または20%より遥か
に多い残留モノマー高含有量をもたらすので篤ろくこと
に適していない。適するペルオキシ化合物の内、実際的
理由から、既に約80℃以下で1時間に半分分解するも
のはあまシ適していない。これらは、熱に敏感である為
に例えば既に製造後に脂肪族化合物で希釈しそして0℃
以下の温度のもとで運搬しあるいは貯蔵しなければなら
ないという欠点を有している。かかるペルオキシ化合物
の内では以下のものが適する:ジミリスチルーベルオキ
シージカルボナート、ジイソブロビルーベルオキシージ
カルボナート、第3−ブチル−ペルオキシネオデカノエ
ート、第3−アミル−ペルオキシネオデカノエート。
第3−ブチルベルビバレート、ビス−(3,5,5−ト
リメチルヘキサノイル)−ペルオキシド、更に脂肪族ア
ゾ化合物例えばアゾ−ビス−(イソブチ四ニトリル)等
はあまシ好ましくない。
リメチルヘキサノイル)−ペルオキシド、更に脂肪族ア
ゾ化合物例えばアゾ−ビス−(イソブチ四ニトリル)等
はあまシ好ましくない。
これに対して容易に取り扱うことができそして80〜1
22℃にて1時間に最高半分分解する脂肪族のジアシル
ペルオキシドまたはペルオキシエステル、例えばジデカ
ノイルベルオキシド、ジラウロイルペルオキシド、第3
−プチルベルオキシインブチラート、第6−プチルベル
オキシー5.5.5− )リメチルーヘキサノエート、
第3−ブチル−ペルオキシアセテート等が適シている。
22℃にて1時間に最高半分分解する脂肪族のジアシル
ペルオキシドまたはペルオキシエステル、例えばジデカ
ノイルベルオキシド、ジラウロイルペルオキシド、第3
−プチルベルオキシインブチラート、第6−プチルベル
オキシー5.5.5− )リメチルーヘキサノエート、
第3−ブチル−ペルオキシアセテート等が適シている。
92℃のもとて1時間に半分分解するg 5− ブチル
−ペルオキシ−2−エチル−ヘキサノエートが特に有利
である。これら触媒の混合物も用いることができる。
−ペルオキシ−2−エチル−ヘキサノエートが特に有利
である。これら触媒の混合物も用いることができる。
必要とされる触媒全体量は1〜5.5%、殊に1.5〜
4%であ夛そしてそれ故にドイツ特許公報第1.106
.965号の実施例3,4および5に記載されているの
よシも著しく多い。1.0%より少なく触媒を用いた場
合には、若干の場合に35%より遥かに多い残留モノマ
ー含有量ト成る。必要とされる触媒量は、僅かの希釈剤
しか加えなければ加えない程に、増々僅かである。
4%であ夛そしてそれ故にドイツ特許公報第1.106
.965号の実施例3,4および5に記載されているの
よシも著しく多い。1.0%より少なく触媒を用いた場
合には、若干の場合に35%より遥かに多い残留モノマ
ー含有量ト成る。必要とされる触媒量は、僅かの希釈剤
しか加えなければ加えない程に、増々僅かである。
ドイツ特許公報第1.10へ963号からは、重合の初
めに常に触媒全量を添加しなければならないことが判る
。この処置は本発明の方法の場合には有利ではない4、
必要とされる高いモノマー濃度の場合に、初めに著しい
発熱反応がそして全体に亘って比較的に高い残留モノマ
ー含有量がもたらされる。勿論、遊離ラジカル供与分子
の濃度を数時間に亘って出来るだけ均一のままに維持す
ることは有利である。これは例えば、反応温度に達して
いる場合には、重合の初めに最初に0.1〜1%、特に
0.6〜0.8%だけの触媒を添加しそして反応の間に
残シの全部、0.9〜5.4%、特に1.2〜3.9%
の触媒を連続的にまたは同じ時間間隔で1〜24、特に
2〜12の等しい配分で回分的に添加することによって
行なう。触媒添加終了後に更に1〜1o、殊に2〜6時
間、高温のもとで、好ましくは反応温度のもとて後撹拌
しなければならない。
めに常に触媒全量を添加しなければならないことが判る
。この処置は本発明の方法の場合には有利ではない4、
必要とされる高いモノマー濃度の場合に、初めに著しい
発熱反応がそして全体に亘って比較的に高い残留モノマ
ー含有量がもたらされる。勿論、遊離ラジカル供与分子
の濃度を数時間に亘って出来るだけ均一のままに維持す
ることは有利である。これは例えば、反応温度に達して
いる場合には、重合の初めに最初に0.1〜1%、特に
0.6〜0.8%だけの触媒を添加しそして反応の間に
残シの全部、0.9〜5.4%、特に1.2〜3.9%
の触媒を連続的にまたは同じ時間間隔で1〜24、特に
2〜12の等しい配分で回分的に添加することによって
行なう。触媒添加終了後に更に1〜1o、殊に2〜6時
間、高温のもとで、好ましくは反応温度のもとて後撹拌
しなければならない。
反応温度は40℃〜130℃、特t/C60〜110℃
であってもよい。これは、用いる触媒の半分分解時間に
依存している。特に適するのは、用いる触媒の半分分解
時間が1時間である温度の上方あるいは下方の最高的±
25℃、特に好ましくは±0℃〜10℃にある反応温度
である。
であってもよい。これは、用いる触媒の半分分解時間に
依存している。特に適するのは、用いる触媒の半分分解
時間が1時間である温度の上方あるいは下方の最高的±
25℃、特に好ましくは±0℃〜10℃にある反応温度
である。
適スる反応時間は、モノマーのビニルホスホン酸の濃度
、触媒の濃度および用いる触媒にとって特定の反応温度
に殆んど反比例している。
、触媒の濃度および用いる触媒にとって特定の反応温度
に殆んど反比例している。
これは全部で一後撹拌時間も含めて一4〜60時間、特
に10〜30時間である。
に10〜30時間である。
最終生成物中のポリビニルホスホン酸あるいは残留ビニ
ルホスホン酸の含有量はP”−NMR−分光器によって
精確に測定できる。沃素側測定も残留モノマー含有量を
明らかにする。得られる反応生成物の粘度は純粋のビニ
ルホスホン酸を用いた場合には70%濃度の水溶液の状
態で約50.000〜100.000 mPa、sであ
る。純粋なビニルホスホン酸を用いた場合には、実質的
に純粋な固体状ポリとニルホスホン酸が希釈剤の減圧下
でのストリンピンク除去によって非常に簡単に得ること
ができる。原則として、必要な場合には、′粗ビニルホ
スホン酸”あるいは”エステル含有の粗ビニルホスホン
酸”カラ出発してプロトン性希釈剤中で得られるポリビ
ニルホスホン酸を重合体成分の沈殿処理によりて更に純
粋にすることも可能である。
ルホスホン酸の含有量はP”−NMR−分光器によって
精確に測定できる。沃素側測定も残留モノマー含有量を
明らかにする。得られる反応生成物の粘度は純粋のビニ
ルホスホン酸を用いた場合には70%濃度の水溶液の状
態で約50.000〜100.000 mPa、sであ
る。純粋なビニルホスホン酸を用いた場合には、実質的
に純粋な固体状ポリとニルホスホン酸が希釈剤の減圧下
でのストリンピンク除去によって非常に簡単に得ること
ができる。原則として、必要な場合には、′粗ビニルホ
スホン酸”あるいは”エステル含有の粗ビニルホスホン
酸”カラ出発してプロトン性希釈剤中で得られるポリビ
ニルホスホン酸を重合体成分の沈殿処理によりて更に純
粋にすることも可能である。
得られるポリビニルホスホン酸溶液は直接的に、このも
のから得られる固体は間接的に一プロトン性溶媒、特に
好ましくは例えば水に溶解した後に−例えば防蝕、繊維
材料の防炎、版面の製造および洗浄剤の改善等、多方面
で使用できる。
のから得られる固体は間接的に一プロトン性溶媒、特に
好ましくは例えば水に溶解した後に−例えば防蝕、繊維
材料の防炎、版面の製造および洗浄剤の改善等、多方面
で使用できる。
本発明とドイツ特許公報第1.106.965号が教え
る全てとの間の本質的相違を、次の実施例および比較例
によって更に詳細に説明する。
る全てとの間の本質的相違を、次の実施例および比較例
によって更に詳細に説明する。
比較例および実施例において重合するビニルホスホン酸
の品質はP31−NMR−分光分析によると後記の組成
を有している。%表示はリン全体の内の問題と成るリン
の%に関する。これは、存在する個々のリン化合物のそ
れぞれの分子量が互に比較的僅かしか相違していないの
で、通常の重量%に殆んど一致する。
の品質はP31−NMR−分光分析によると後記の組成
を有している。%表示はリン全体の内の問題と成るリン
の%に関する。これは、存在する個々のリン化合物のそ
れぞれの分子量が互に比較的僅かしか相違していないの
で、通常の重量%に殆んど一致する。
後記の式中において、Rは酸A 2 、3.4の場合に
Hを意味し、エステル5の場合にはHまたはCR2を、
塩6の場合にはHまたはNaをそしてXはHまたはCH
3を意味する。
Hを意味し、エステル5の場合にはHまたはCR2を、
塩6の場合にはHまたはNaをそしてXはHまたはCH
3を意味する。
1比較例
これらには不適当な反応条件、例えば殊に不適当な触媒
、過少の触媒量および/または過多の希釈剤が記しであ
る。
、過少の触媒量および/または過多の希釈剤が記しであ
る。
較例
イー壓男づ(ドイツ特許公報第1,106,963号の
実施例3に相当する)= 50gの純粋なビニルホスホン酸を50gのインプロパ
ツールに溶解しそして0.259の、水で湿った75%
純度のジ−ベンゾイルペルオキシド(=100%純度の
物質0.68%)と−緒に5時間85〜90”Cに加熱
する。P51− NMR−スペクトルによるとビニルホ
スホン酸として未だ62.9%のリンおよびポリビニル
ホスホン酸として、35.9%だけのリンが存在してい
る溶液が得られる。
実施例3に相当する)= 50gの純粋なビニルホスホン酸を50gのインプロパ
ツールに溶解しそして0.259の、水で湿った75%
純度のジ−ベンゾイルペルオキシド(=100%純度の
物質0.68%)と−緒に5時間85〜90”Cに加熱
する。P51− NMR−スペクトルによるとビニルホ
スホン酸として未だ62.9%のリンおよびポリビニル
ホスホン酸として、35.9%だけのリンが存在してい
る溶液が得られる。
比較例2:
比較例1の場合と同様に、但し窒素での連続的被覆下に
実施すると、最終生成物中にビニルホスホン酸として未
だ77.6%のリンが存在しそしてポリビニルホスホン
酸として20.6%だけのリンが存在している。
実施すると、最終生成物中にビニルホスホン酸として未
だ77.6%のリンが存在しそしてポリビニルホスホン
酸として20.6%だけのリンが存在している。
比較例3:(ドイツ特許公報第1,106,963号の
実施例4に相当する) 50gの純粋なビニルホスホン酸を25gの水に溶解し
そしてO−25g(=0.5%)の過硫酸カリウムと一
緒に6時間90℃に維持する。P” −NMR−スペク
トルによると、ビニルホスホン酸として未り93.8%
のリンが存在しそしてポリビニルホスホン酸としては6
.0%のリンしか存在していない溶液が生ずる。
実施例4に相当する) 50gの純粋なビニルホスホン酸を25gの水に溶解し
そしてO−25g(=0.5%)の過硫酸カリウムと一
緒に6時間90℃に維持する。P” −NMR−スペク
トルによると、ビニルホスホン酸として未り93.8%
のリンが存在しそしてポリビニルホスホン酸としては6
.0%のリンしか存在していない溶液が生ずる。
比較例4:
比較例3と同様に、但し窒素雰囲気下で実施する。この
場合には2.4%のリンだけがポリビニルホスホン酸に
転化する。
場合には2.4%のリンだけがポリビニルホスホン酸に
転化する。
比較例5:
100gの純粋ビニルホスホン酸と5mlの水を、窒素
雰囲気下に80℃に加熱しそして0.39の過硫酸アン
モニウムを加える。
雰囲気下に80℃に加熱しそして0.39の過硫酸アン
モニウムを加える。
次にいずれの場合にも、6時間の間隔で更に各0.5.
ji+の過硫酸アンモニウムを4回添加する。要するに
、全部で1.5%である。
ji+の過硫酸アンモニウムを4回添加する。要するに
、全部で1.5%である。
更に12時間80℃のもとて後撹拌する。
P” −NMR−スヘp )ルカ、ビニルホスホン酸と
して未だ84.5%のリンがそしてポリビニルホスホン
酸として15.5%だけのリンが存在していることを示
す。
して未だ84.5%のリンがそしてポリビニルホスホン
酸として15.5%だけのリンが存在していることを示
す。
比較例6:(ドイツ特許公報第1.106.963号の
実施例5に相当する): ”+2.59のビニルホスホン酸−ナトリウムを32.
5 gの水に溶解し、5時間に亘って85℃のもとて0
.17J9(=0.5%)の過酸カリウムと一緒に加熱
する。P” −NMR−スペクトルによって10%よシ
少ないリンが重合体ナトリウム塩の形で存在している溶
液が生ずる。
実施例5に相当する): ”+2.59のビニルホスホン酸−ナトリウムを32.
5 gの水に溶解し、5時間に亘って85℃のもとて0
.17J9(=0.5%)の過酸カリウムと一緒に加熱
する。P” −NMR−スペクトルによって10%よシ
少ないリンが重合体ナトリウム塩の形で存在している溶
液が生ずる。
同じ結果が、反応混合物を不変的に窒素で覆った場合に
得られる。
得られる。
比較例7:
100gの純粋ビニルホスホン酸および5mlの水を窒
素雰囲気下に110℃に加熱しそして50分後に0.4
mの第6−ブチル−ペルオキシ−ベンゾニー)(20℃
での密度= 1.05’(9/mL ) )を加える。
素雰囲気下に110℃に加熱しそして50分後に0.4
mの第6−ブチル−ペルオキシ−ベンゾニー)(20℃
での密度= 1.05’(9/mL ) )を加える。
次に16回、各2時間の間隔で再び各0.27の触媒を
加える。要するに全部で3.1%用いる。4時間の後撹
拌の後に201fLの水を加える。P−NMR−スペク
トルによると未だ44.5%のビニルホスホン酸ト55
.0%だけのポリビニルホスホン酸が存在している褐色
の粘性溶液124.5 gが生ずる。
加える。要するに全部で3.1%用いる。4時間の後撹
拌の後に201fLの水を加える。P−NMR−スペク
トルによると未だ44.5%のビニルホスホン酸ト55
.0%だけのポリビニルホスホン酸が存在している褐色
の粘性溶液124.5 gが生ずる。
比較例8:
比較例7と同様に実施する。但し全部で3yt(D第3
−ブチル−ペルオキシ−ベンゾエートの代シに6gの7
5%純度のジベンゾイルペルオキシド5g(−=2..
25%)を用いそしてたソの80℃に加熱する。リン全
体の67.9%が未だビニルホスホン酸として存在しそ
して口1.9%だけがポリビニルホスホン酸として存在
している暗褐色の溶液が得られる。
−ブチル−ペルオキシ−ベンゾエートの代シに6gの7
5%純度のジベンゾイルペルオキシド5g(−=2..
25%)を用いそしてたソの80℃に加熱する。リン全
体の67.9%が未だビニルホスホン酸として存在しそ
して口1.9%だけがポリビニルホスホン酸として存在
している暗褐色の溶液が得られる。
比較例9:
50gの純粋ビニルホスホン酸および5域の水を窒素雰
囲気下に90℃に加熱する。
囲気下に90℃に加熱する。
60分後に0.1mlの第6−ブチル−ペルオキシー2
−エチル−ヘキサノエート(2゜℃での密度にo、5q
jj/m)をそして2時間の間隔で4回、各0.1ml
の触媒を加え一全部で0.5m(二〇、9%)−一そし
て更に10時間、後撹拌する。
−エチル−ヘキサノエート(2゜℃での密度にo、5q
jj/m)をそして2時間の間隔で4回、各0.1ml
の触媒を加え一全部で0.5m(二〇、9%)−一そし
て更に10時間、後撹拌する。
P” −NMR−スペクトルによると、リン全体の未だ
40.2%がビニルホスホン酸としてそして59.8%
だけがポリビニルホスホン酸として存在する。
40.2%がビニルホスホン酸としてそして59.8%
だけがポリビニルホスホン酸として存在する。
比較例10゜
100gの純粋なビニルホスホン酸および50艷の水を
窒素雰囲気下に90℃に加熱しそして初めだけi、i
、2 (= i、oに)の第3−ブチル−2−エチル−
ヘキサノエートを加える。90℃で7時間、後撹拌した
後にまだ83.6%のとニル−リンが反応していない。
窒素雰囲気下に90℃に加熱しそして初めだけi、i
、2 (= i、oに)の第3−ブチル−2−エチル−
ヘキサノエートを加える。90℃で7時間、後撹拌した
後にまだ83.6%のとニル−リンが反応していない。
1.2.@ビニルホスホン酸(耳べゑ共−を−瑯比較例
11: 40gの粗ビニルホスホン酸■および5mlの水を窒素
雰囲気下に130℃に加熱しそして0.3mlの第3−
ブチルペルオキシド(20℃での密度’ 0.79 g
/mj、、 )を加える。次に145℃に加熱する。2
時間の間隔で更に各0.2mlの触媒を4回、後から加
わえる。触媒全体量=2.2%。145℃で4時間の後
撹拌の後に90℃のもとて15m1の水で希釈する。P
31− NMR−スペクトルによると58.1%のビニ
ル−リンだけがポリビニルホスホン酸として存在してい
る。
11: 40gの粗ビニルホスホン酸■および5mlの水を窒素
雰囲気下に130℃に加熱しそして0.3mlの第3−
ブチルペルオキシド(20℃での密度’ 0.79 g
/mj、、 )を加える。次に145℃に加熱する。2
時間の間隔で更に各0.2mlの触媒を4回、後から加
わえる。触媒全体量=2.2%。145℃で4時間の後
撹拌の後に90℃のもとて15m1の水で希釈する。P
31− NMR−スペクトルによると58.1%のビニ
ル−リンだけがポリビニルホスホン酸として存在してい
る。
比較例12:
比較例11における如〈実施する。但し全部で1.1初
2.(=2.8%)の第3−ブチル−ペルオキシ−ベン
ゾエートを触媒として用いそして160℃だけのもとで
実施する。
2.(=2.8%)の第3−ブチル−ペルオキシ−ベン
ゾエートを触媒として用いそして160℃だけのもとで
実施する。
49.0%のビニル−リンだけがポリビニルホスホン酸
として存在する生成物が得られる。
として存在する生成物が得られる。
比較例5および8の反応条件を引継ぎ、しかし純粋のビ
ニルホスホン酸の代シに粗ビニルホスホン酸■を用いて
実施した場合には、未反応ビニル−リンの割合は89.
8%あるいは85.2%と成る。
ニルホスホン酸の代シに粗ビニルホスホン酸■を用いて
実施した場合には、未反応ビニル−リンの割合は89.
8%あるいは85.2%と成る。
1.3エステル含有の粗ビニルホスホン酸を用いる比較
例 比較例16: 40gのエステル含有の粗ビニルホスホン酸および5m
lの水を窒素雰囲気下に100℃に加熱しそして0.3
域の第5−プチルーペルオキシーベンゾエートヲ加える
。130℃に加熱し、6時間後に0.3mlの触媒を後
添加しそして更に6時間後に再度0,3mlを加える(
触媒全体量−2,3%)。130℃で3時間、後撹拌し
そして100℃のもとて12m1の水を添加する。反応
溶液は褐色に着色している。このものは59.8%の重
合体成分を含有しており且つ未だ40.2%の未反応ビ
ニル−リンを含有している。
例 比較例16: 40gのエステル含有の粗ビニルホスホン酸および5m
lの水を窒素雰囲気下に100℃に加熱しそして0.3
域の第5−プチルーペルオキシーベンゾエートヲ加える
。130℃に加熱し、6時間後に0.3mlの触媒を後
添加しそして更に6時間後に再度0,3mlを加える(
触媒全体量−2,3%)。130℃で3時間、後撹拌し
そして100℃のもとて12m1の水を添加する。反応
溶液は褐色に着色している。このものは59.8%の重
合体成分を含有しており且つ未だ40.2%の未反応ビ
ニル−リンを含有している。
比較例17:
比較例16の場合の如く行なう。但し、全部で1.5m
lのジー第6−ブチルペルオキシド(: 3.0%)を
用いそして反応温度を145℃に維持する。最終生成物
中には未だ56.0%のビニル−リンが未反応状態で存
在する。
lのジー第6−ブチルペルオキシド(: 3.0%)を
用いそして反応温度を145℃に維持する。最終生成物
中には未だ56.0%のビニル−リンが未反応状態で存
在する。
比較例18:
比較例5を繰シ返えしそしてこの場合には純粋なビニル
ホスホン酸の代シにエステル含有の粗ビニルホスホン酸
を用いる。
ホスホン酸の代シにエステル含有の粗ビニルホスホン酸
を用いる。
この場合には、未だ80.9%のビニル−リンが未反応
のま\である。
のま\である。
比較例19゜
40gのエステル含有の粗とニルホスホン酸を窒素雰囲
気下に120℃に加熱しそして0.3 r7 (= o
、7に)の第6−ブチル−ペルオキシー5.5.5−
) IJメチル−ヘキサノエートを加える。
気下に120℃に加熱しそして0.3 r7 (= o
、7に)の第6−ブチル−ペルオキシー5.5.5−
) IJメチル−ヘキサノエートを加える。
40分後に撹拌機を粘度上昇の為に止めなければならな
い。反応混合物を更に3時間無撹拌下に120℃に維持
する。撹拌機を徐々に低速にした後に15m1の水を9
0℃のもとで混入する。
い。反応混合物を更に3時間無撹拌下に120℃に維持
する。撹拌機を徐々に低速にした後に15m1の水を9
0℃のもとで混入する。
得られる溶液は未だ56,2%の未反応ビニル−リンを
含有している。
含有している。
比較例20:
比較例19を二倍量の触媒(=L4%)を用いて繰り返
えした場合には、未だ44.8%のビニル−リンが未反
応のま\残る。同様に混合の問題が生ずる。
えした場合には、未だ44.8%のビニル−リンが未反
応のま\残る。同様に混合の問題が生ずる。
実施例
これらには適する本発明に従う反応条件が記しである。
る実施例
一般に触媒として第3−ブチル−ペルオキシ−2−二チ
ルーヘキサノニー)(密[= o、s q 9 /rt
tfl )および希釈剤として水を用いる。
ルーヘキサノニー)(密[= o、s q 9 /rt
tfl )および希釈剤として水を用いる。
実施例13〜19:
これらの実施例で用いる触媒:
20℃での密度(f、4 )
L−第6−ブチル−ペルオキシ−
3,5,5−)リメチルーヘキサ
ノエート0.89
■=第5−ブチルーペルオキシー
■=第ろ−ブチル−ペルオキシ−
■−ジーイソプロピルーペルオキ
■=ラウロイルペルオキシド −■=ア
ゾ−ビス−(イソブチロニ トリル) −これらの
実施例はいずれの場合にも水中で実施しそして窒素の層
で覆う。
ゾ−ビス−(イソブチロニ トリル) −これらの
実施例はいずれの場合にも水中で実施しそして窒素の層
で覆う。
実施例20゛
32.59 (0,25モル)のビニルホスホン酸−ナ
トリウム塩および、15m1の水を窒素雰囲気下に90
℃に加熱しそして0.2−の第6−ブチル−ペルオキシ
ー2−エチル−ヘキサノエートを加える。2時間の間隔
で6回、各0.2mlづつ更に加える。触媒全体量=1
.6yn!(==4.4%)。触媒添加開始10時間後
に10mの水で希釈する。5時間90℃で後撹拌しそし
て再度10dの水を加える。リン全体の10.1%だけ
が未だビニルホスホン酸−ナトリウムとして存在してい
る66gの溶液が得られる。
トリウム塩および、15m1の水を窒素雰囲気下に90
℃に加熱しそして0.2−の第6−ブチル−ペルオキシ
ー2−エチル−ヘキサノエートを加える。2時間の間隔
で6回、各0.2mlづつ更に加える。触媒全体量=1
.6yn!(==4.4%)。触媒添加開始10時間後
に10mの水で希釈する。5時間90℃で後撹拌しそし
て再度10dの水を加える。リン全体の10.1%だけ
が未だビニルホスホン酸−ナトリウムとして存在してい
る66gの溶液が得られる。
実施例21:
100gのビニルホスホン酸および50gのメタノール
を窒素雰囲気下に60℃に加熱する。初めに1mlのジ
イソプロピルーベルオキシージカルボナートのフタソー
140%濃度溶液を加えそして2時間の間隔で更に13
回、各0.5−の触媒を加える。
を窒素雰囲気下に60℃に加熱する。初めに1mlのジ
イソプロピルーベルオキシージカルボナートのフタソー
140%濃度溶液を加えそして2時間の間隔で更に13
回、各0.5−の触媒を加える。
触媒全体量=3.2%。
次に3時間0℃にて後撹拌しそして20yのメタノール
で希釈する。リン全体の未だ11.3%だけがビニルホ
スホン酸として存在する溶液168.49が得られる。
で希釈する。リン全体の未だ11.3%だけがビニルホ
スホン酸として存在する溶液168.49が得られる。
実施例22:
50gの純粋ビニルホスホン酸および10gのイソプロ
パツールを窒素雰囲気下で80〜85℃に加熱しそして
0.2mlの第6−ブチル−ペルオキシー2−エチル−
ヘキサノエートを加える。2時間の間隔で更に7回、各
0.2mlの触媒を加える。触媒全体量:1.6m1(
= 2.8%)。中間の時間に、各10gのインプロパ
ツールにて更に3回希釈する。
パツールを窒素雰囲気下で80〜85℃に加熱しそして
0.2mlの第6−ブチル−ペルオキシー2−エチル−
ヘキサノエートを加える。2時間の間隔で更に7回、各
0.2mlの触媒を加える。触媒全体量:1.6m1(
= 2.8%)。中間の時間に、各10gのインプロパ
ツールにて更に3回希釈する。
80〜85℃のもとて4時間、後加熱する。次に再度、
30gのインプロパツールで希釈する。リン全体のまだ
5.0%だけがビニルホスホン酸としてそして94.7
%がポリとニルホスホン酸として存在する118Iの溶
液が得られる。
30gのインプロパツールで希釈する。リン全体のまだ
5.0%だけがビニルホスホン酸としてそして94.7
%がポリとニルホスホン酸として存在する118Iの溶
液が得られる。
実施例23゜
5%の水を含有する10051の粗ビニルホスホン酸I
を窒素雰囲気下i90’cに加熱しそして0.4mlの
第3−ブチル−2−エチル−ヘキサノエートを加える。
を窒素雰囲気下i90’cに加熱しそして0.4mlの
第3−ブチル−2−エチル−ヘキサノエートを加える。
2時間の間隔で更に各0.2mlを加える。
触媒全体量: 5rnfJ、 (= 2.7%)。途中
で各10m1の水にて2回希釈しなければならない。P
” −NMR−スペクトルによれハ更に1.8%だけの
ビニル−リンが未反応の状態で存在している126gの
溶液が得られる。
で各10m1の水にて2回希釈しなければならない。P
” −NMR−スペクトルによれハ更に1.8%だけの
ビニル−リンが未反応の状態で存在している126gの
溶液が得られる。
実施例24:
実施例23における如〈実施するが、途中で水でなく各
10gのメタルールで2回希釈しそして80℃のもとて
更に撹拌すると、未だ9.6%だけのビニル−リンが反
応していない118gの溶液が得られる。
10gのメタルールで2回希釈しそして80℃のもとて
更に撹拌すると、未だ9.6%だけのビニル−リンが反
応していない118gの溶液が得られる。
実施例25:
5%の水を含有する4 009の粗ビニルホスホン酸■
および40m1の水を窒素雰囲気下に90℃に加熱しそ
して最初に1−だけの第3−ブチル−ペルオキシ−2−
エチルヘキサノエートを添加する。2時間の間隔で11
回、各1mlの触媒を加える。触媒全体量=12域(:
2.7%)。途中に2回、20m1の水で希釈しなけ
ればならない。
および40m1の水を窒素雰囲気下に90℃に加熱しそ
して最初に1−だけの第3−ブチル−ペルオキシ−2−
エチルヘキサノエートを添加する。2時間の間隔で11
回、各1mlの触媒を加える。触媒全体量=12域(:
2.7%)。途中に2回、20m1の水で希釈しなけ
ればならない。
収率481.4g。未だ2.9%だけのビニル−リンが
反応してしない。
反応してしない。
実施例26:
100gの脱水した粗ビニルホスホン酸Iおよび20g
のイソブタノールを窒素雰囲気下で90℃に加熱する。
のイソブタノールを窒素雰囲気下で90℃に加熱する。
初めに0.4mlタケの第3−ブチル−ペルオキシ−2
−エチルヘキサノエートを加えそして2時間の間隔で各
0.3 rttl、の触媒を12回後添加する。
−エチルヘキサノエートを加えそして2時間の間隔で各
0.3 rttl、の触媒を12回後添加する。
(全体量:4m1=3.6%)。途中で2回、各10g
のインブタノールで希釈しなければならない。2時間、
90℃のもとて後撹拌しそして冷却前に再度15gのイ
ンプタノールで希釈する。収量:未だ10.3%だけの
ビニル−リンが未重合のま\残っている152gの溶液
。
のインブタノールで希釈しなければならない。2時間、
90℃のもとて後撹拌しそして冷却前に再度15gのイ
ンプタノールで希釈する。収量:未だ10.3%だけの
ビニル−リンが未重合のま\残っている152gの溶液
。
2.3エステル含有の粗ビニルホスホン酸から出発する
実施例 実施例27: 100gのエステル含有、の粗ビニルホスホン酸および
7mlの水を窒素雰囲気下に90℃に加熱しそして0.
5mlの第6−ブチル−ベル71−?シー2−エチルー
ヘキサノエートを添加する。2時間の間隔で各0.25
m1の触媒を10回更に添加する。全体量:5娯(:
2.7%)。途中で1回、10mの水で希釈しなければ
ならない。4時間、90℃のもとて後撹拌しそして冷却
前に更に15m1の水で希釈する。収率:未だ5.5%
だけのビニル−リンが未重合である130gの溶液。
実施例 実施例27: 100gのエステル含有、の粗ビニルホスホン酸および
7mlの水を窒素雰囲気下に90℃に加熱しそして0.
5mlの第6−ブチル−ベル71−?シー2−エチルー
ヘキサノエートを添加する。2時間の間隔で各0.25
m1の触媒を10回更に添加する。全体量:5娯(:
2.7%)。途中で1回、10mの水で希釈しなければ
ならない。4時間、90℃のもとて後撹拌しそして冷却
前に更に15m1の水で希釈する。収率:未だ5.5%
だけのビニル−リンが未重合である130gの溶液。
実施例2B=
1009のエステル含有の粗ビニルホスホン酸および2
0.9のインブタノールを窒素雰囲気下に90℃に加熱
する。初めにり、4憾タケの第5−ブチル−ペルオキシ
−2−エチル−ヘキサノエートを添加し、次に2時間の
間隔で10回、各0.5mj、そして最後に更に2時間
後に0.6艷の触媒を後から加える。全触媒量: 4m
9. (= 5.6%)。撹拌性を保証する為に、途中
で2回、各10gのイソブタノールで希釈するべきであ
る。
0.9のインブタノールを窒素雰囲気下に90℃に加熱
する。初めにり、4憾タケの第5−ブチル−ペルオキシ
−2−エチル−ヘキサノエートを添加し、次に2時間の
間隔で10回、各0.5mj、そして最後に更に2時間
後に0.6艷の触媒を後から加える。全触媒量: 4m
9. (= 5.6%)。撹拌性を保証する為に、途中
で2回、各10gのイソブタノールで希釈するべきであ
る。
触媒添加後に更に90分90℃のもとで撹拌する。冷却
前に259のイソブタノールで再度希釈する。未だ12
.0%だけのビニル−リンが未重合である158gの溶
液が得られる。
前に259のイソブタノールで再度希釈する。未だ12
.0%だけのビニル−リンが未重合である158gの溶
液が得られる。
実施例29:
100gのエステル含有粗ビニルホスホン酸を窒素雰囲
気下に90℃に加熱する。
気下に90℃に加熱する。
最初に0.4−の第6−ブチル−ペルオキシー2−エチ
ル−ヘキサノエートをそして2時間の間隔で10回、各
0.26ynLを加える。
ル−ヘキサノエートをそして2時間の間隔で10回、各
0.26ynLを加える。
全体量=6憾(= 2.7%)。途中で6回、各10g
のメタノールで希釈する。3時間90℃での後撹拌の後
に再度10gのメタノールを加える。収量:135,9
.溶液中には未だ16.8%だけの未反応ビニルーリン
が存在している。
のメタノールで希釈する。3時間90℃での後撹拌の後
に再度10gのメタノールを加える。収量:135,9
.溶液中には未だ16.8%だけの未反応ビニルーリン
が存在している。
代理人江崎光好
代理人江崎光史
ト
ドイツ連邦共和国フランクフル
ト・アム・マイン61ヒユンフエ
ルデル・ストラーセ20
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (リ ビニルホスホン酸を全部で10〜150i量%
のプロトン性希釈剤中で全部で4〜60時間40〜13
0℃の温度K、122℃以下の温度のもとて1時間に半
分まで分解する脂肪族ペルオキシドエステル、ジアシル
ペルオキシドおよび/または脂肪族アゾ化合物1.0〜
5.5重量%の存在下に加熱することを特徴とする、プ
ロトン性溶媒中でビニルホスホン酸の重合体を製造する
方法。 (2)反応開始までに0.1〜1重量%の触媒全量を加
えそして反応過程で更に0.9〜5.4重量%の触媒を
一様に添加する特許請求の範囲第1項記載の方法。 (3)80〜121℃のもとて1時間に半分まで分解す
る脂肪族ペルオキシドエステルまたはジアシルペルオキ
シドの存在下に実施する特許請求の範囲第1項記載の方
法。 (4)30重量%までのホスホン酸およびリン酸あるい
はこれらの酸のモノメチルエステルを含有するビニルホ
スホン酸を重合する特許請求の範囲第1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19823248491 DE3248491A1 (de) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | Verfahren zur herstellung von polymerisaten der vinylphosphonsaeure in protischen loesungsmitteln |
DE32484917 | 1982-12-29 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59133214A true JPS59133214A (ja) | 1984-07-31 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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---|---|
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EP (1) | EP0114394B1 (ja) |
JP (1) | JPS59133214A (ja) |
BR (1) | BR8307230A (ja) |
CA (1) | CA1241143A (ja) |
DE (2) | DE3248491A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9855162B2 (en) | 2012-10-01 | 2018-01-02 | Kawamura Gishi Co., Ltd. | Spinal orthosis |
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---|---|---|---|---|
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US4822861A (en) * | 1988-03-15 | 1989-04-18 | Polychrome Corporation | Method for the preparation of polyvinyl phosphonic acid |
GB9102501D0 (en) * | 1991-02-06 | 1991-03-27 | Nat Res Dev | Synthesis of poly(vinyl phosphonic acid) |
DE4337783A1 (de) * | 1993-11-05 | 1995-05-11 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Polymerisaten von Vinylphosphonsäureestern |
FR2896505B1 (fr) * | 2006-01-26 | 2008-03-07 | Rhodia Recherches & Tech | Procede de preparation par polymerisation par transfert d'iode d'un copolymere a architecture controlee de type telomere ou de copolymere a bloc issu de monomeres vinyl phosphonate |
WO2008090153A2 (de) * | 2007-01-22 | 2008-07-31 | Basf Se | Verfahren zur herstellung von homo- und copolymeren der vinylphosphonsäure |
WO2008090152A1 (de) * | 2007-01-22 | 2008-07-31 | Basf Se | Verfahren zur herstellung von copolymeren der vinylphosphonsäure |
US11046817B2 (en) * | 2017-12-11 | 2021-06-29 | The Procter & Gamble Company | Compositions comprising multi-valent cations and phosphono-phosphate containing polymers |
MX2020005972A (es) | 2017-12-11 | 2022-03-07 | Procter & Gamble | Composiciones para el cuidado bucal que comprenden polimeros que contienen grupos fosfonato y anionicos. |
US11008411B2 (en) | 2017-12-11 | 2021-05-18 | The Procter & Gamble Company | Phosphono-phosphate and anionic group containing polymers |
CN111372657A (zh) * | 2017-12-11 | 2020-07-03 | 宝洁公司 | 含有膦酰基-磷酸根的化合物和聚合物 |
CN111447974A (zh) | 2017-12-11 | 2020-07-24 | 宝洁公司 | 包括含有膦酰基-磷酸根基团和阴离子基团的聚合物的口腔护理组合物 |
US11827729B2 (en) | 2018-12-17 | 2023-11-28 | Maruzen Petrochemical Co., Ltd. | Method for producing polyvinylphosphonic acid copolymer |
CN110157133B (zh) * | 2019-06-17 | 2021-05-25 | 华北理工大学 | 一种含磷丙烯酸酯弹性体阻燃剂及其制备方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2950953A (en) * | 1958-05-05 | 1960-08-30 | Morton Chemical Co | Process for producing anhydrous hydrogen chloride |
DE1106963B (de) * | 1959-11-11 | 1961-05-18 | Hoechst Ag | Verfahren zur Herstellung von Polyvinylphosphonsaeure |
US3264564A (en) * | 1963-02-07 | 1966-08-02 | Rca Corp | Variable impedance device for transistor automatic gain control |
US4033983A (en) * | 1975-12-17 | 1977-07-05 | Continental Oil Company | Nonflammable coating material |
US4342857A (en) * | 1980-12-31 | 1982-08-03 | Colgate-Palmolive Company | Antigingivitis composition comprising vinyl phosphonic acid/vinyl phosphonyl fluoride copolymer |
-
1982
- 1982-12-29 DE DE19823248491 patent/DE3248491A1/de not_active Withdrawn
-
1983
- 1983-12-23 DE DE8383113059T patent/DE3379049D1/de not_active Expired
- 1983-12-23 EP EP83113059A patent/EP0114394B1/de not_active Expired
- 1983-12-27 US US06/565,862 patent/US4696987A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-12-28 JP JP58245587A patent/JPS59133214A/ja active Pending
- 1983-12-28 BR BR8307230A patent/BR8307230A/pt unknown
- 1983-12-28 CA CA000444345A patent/CA1241143A/en not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9855162B2 (en) | 2012-10-01 | 2018-01-02 | Kawamura Gishi Co., Ltd. | Spinal orthosis |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0114394B1 (de) | 1989-01-25 |
US4696987A (en) | 1987-09-29 |
DE3248491A1 (de) | 1984-07-05 |
CA1241143A (en) | 1988-08-23 |
EP0114394A3 (en) | 1985-12-04 |
EP0114394A2 (de) | 1984-08-01 |
DE3379049D1 (en) | 1989-03-02 |
BR8307230A (pt) | 1984-08-07 |
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