JPS59121330A - フエノ−ル系シアンカプラ−の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ■　発明の背景 技術分野 本発明は写真用に供されるフェノール系シアンカプラー
の製造法に関し、更に詳しくは２−ウレイド−５−アミ
ノフェノールとカルボン酸塩化物との反応により２−ウ
レイド−５−アシルアミノフェノール系シアンカグシー
ヲ製造する方法に関する。

アミノ化合物をアシル化する方法としては、アミン化合
物と、カルボン酸塩化物とを反応させる方法、アミノ化
合物とカルボン酸をＮＸＮ／−ジシクロへキシルカルボ
ジイミド（Ｄ、　Ｃ，Ｃ１）等の存在下で縮合させる方
法、アミン化合物と酸無水物とを反応させる方法、アミ
ン化合物とカルボン酸エステルとを縮合させる方法など
がある。

これらのアシル化反応のうち、ハロゲン化銀カラー写真
感光材、Ｈ等の写真用のシアンカプラ〜として用いられ
るアシルアミノフェノール系シアンカプラーを製造する
場会、アミノンエノールとカルボン酸塩化物との反応を
利用するのが一般的であり、例えば特開昭５６−６５１
３４号公報等に２−フェニルウレイド−５−アミンフェ
ノールとカルボン酸塩化物との反応による２−ウレイド
−５−アシルアミノフェノール系シアンカプラーの製造
法が記載されている。ところが前記特開昭５６−６５１
３４号公報に記載された製造法は２−ウレイド−５−ア
シルアミノフェノール系シアンカプラーの一般的かつ大
量生産に適した製造法としては不適切である。というの
は、２位のウレイド基に導入されるフェニル基の置換基
によっては、有機溶媒に難溶性であり、ジメチルホルム
アミド（ＤＭＦ）やジメチルスルホオキシド（ＤＭＳＯ
）といった溶媒にのみ可溶であるため、通常の溶媒を用
いて反応させるとフェノール性水酸基もアシル化された
化Ａ生成してしまう。これは、溶媒に一部溶解したアミ
ン体に対してカルボン酸塩化物や、アシル化反応によっ
て副生ずる塩化水素を除去するために加えられる塩基が
大過剰となるためと考えられる。このため溶媒を大量に
用いたり、ＤＭＦやＤＭＳＯの様な溶解能の強い溶媒を
用いることも考えられるが、溶媒を大ｉＫ用いると、大
型の反応装置が必要となり、またＤＭＦやＤＭＳＯを用
いると、これらの溶媒が生体に対して有害であることか
ら作業環境や廃水処理上に問題があるので、何れも好ま
しいものとはいえない。

また副生ずる塩化水素を除去するだめに塩基を用いると
、アミン体が更に酸化されて、目的とするアシル化合物
の収率が低下し、酸化防止のだめに反応液中に窒素；ガ
スを導入するなど煩雑な操作が必要となる。

■　発明の目的 本発明の目的は、２−ウレイド−５−アミンフェノール
とカルボン酸塩化物との反応によシ２−ウレイドー５−
アシルアミノフェノール系シアンカプラーを筒収率で得
ることのできる２−ウレイド−５−アシルアミノフェノ
ール系シアンカブ２−の一般的でかつ大量生産に適した
製造法を提供することにある。

本発明者等は、下記一般式［ＩＩＩ　）で示されるフェ
ノール系シアンカプラーを製造するに際し、下記一般式
ＣＩ）で示される化合物と下記一般式〇〇で示される化
合物をアセトニトリル中で煮沸還流して反応させること
により、上記目的が達成されることを見出し、本発明を
完成するに至った。

λ 一般式〔１■〕 ｏｃｌ （一般式ＣＩ）、一般式〔■〕、および一般式（Ｉｌｌ
）において、Ａｒはアリール基を表わす。−Ｒは一般式
〔川〕で示されるフェノール系シアンカプラーに耐拡散
性を付与する基を表わす。Ｘは水素原子または芳香族第
１級アミン系発色現像主薬の酸化生成物と一般式〔１１
〕で示されるフェノール系シアンカプラーとのカップリ
ング反応により離脱可能な基を表わす。） １１１　　発明の詳細な説明 本発明において一般式〔■〕で示される化合物と一般式
［ＩＩ）で示される化合物をアセトニトリル中で煮沸還
流して反応させるには、従来公知の方法に従えば良く、
一般式〔Ｉ）の化合物および一般式（ｎ）の化合物をア
セトニトリル中で完全に溶解した状態、一部分溶解した
状態、あるいは大部分が懸濁した状態の何れの状態にお
いても煮沸還流して反応させることができる。また、一
般式ＣＩ）の化合物と一般式〔」Ｉ〕の化合物との下記
反応式における反応によシ副生ずる塩化水素を除去する
ために通常加えられる塩基（例えばビリジン、キ７′リ
ン、トリエチルアミン等）を加えない状態においても、
本発明においては、一般式［１）と一般式〔１１〕との
反応は十分に進行する。

反応式 ％式％（） （反応式中、Ｒ，ＡｒおよびＸは前述の意味を有する。

） これは、煮沸趙流下で副生ずる塩化水素（ＨＣｌ）ガス
のアセトニトリル（ＣＨｓ　ＣＮ）への溶解度が低いこ
とによるものであり、この様な反応により一般式ＣＩＩ
Ｉ　）の化合物においてフェノール性水酸基のアシル化
といつた不都合も起こらず、一般式０旧の化合物を高収
率で得ることができる。

また、本発明においては、前記反応式によるアシル化が
十分に達成された状態で、反応液を濃縮し、放冷するこ
とにより、一般式ＣＤＩ）の化合物を容易に再結晶させ
ることができ、これらの結晶を１取することにより、一
般式［１１１）のフェノール系シアンカプラーを高純度
の状態で得ることができる。

本発明において、一般式〔Ｉ〕の化合物と一般式（ｎ）
の化合物とはいかなる比率でも反応させることができる
が、一般式（Ｉ）の化合物１モルに対して、一般式［Ｉ
Ｉ）の化合物を０．９〜１．５モル、更には１．０〜１
．２モルの割合で配合して反応させるのが好ましい。使
用するアセトニトリルの量は、−身鉛式（Ｉ）の化合物
１００重量部に対して、通常は、５００〜１０，０００
！Ｊ１部、好ましくは５００〜１，０００重量部である
。

本発明において、前記一般式（Ｉ）およびａ１１〕のＡ
ｒで表わされるアリール基は、例えばフェニル基、ナフ
チル基等であシ、好ましくはフェニル基である。これら
のアリール基が置換基を有する場合、この置換基として
好ましくは、ハロゲン原子（例えば、塩素、フッ素、臭
素等）、ニトロ基、シアノ基、アルキル基（例えばメチ
ル基、トリフルオロメチル基、エチル基、龜−プロビル
基、ｔ−フチル基、ルーペンチルＬ　　ｔ−ペンチル基
、オクチル基、ドデシル基、オクタデシル基、ベンジル
基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ
基、ブトキシ基等）、ヒドロキシカルボニル基、アルキ
ルカルボニル基（例えばメチルカルボニル基、エチルカ
ルボニル基１．７！ｊ−＃カルボニル基（例えばフェニ
ルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、トリルカルボ
ニル基等）、アルキルオキシカルボニル基（例えばエト
キシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニルＩｋ　等）
　、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカ
ルボニル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、トリ
フルオロメナルスルホニル基、メチルスルホニル基、プ
ロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ベンジルス
ルホニル基、フェネチルスルホニルＳ’Ｊ）、アリール
スルホニル基（例えばフェニルスルホニル基、ナフチル
スルホニル基、トリルスルホニル基等）　、アルキルカ
ルノ（・モイル基（例えばＮ−メチルカルバモイル基、
Ｎ−エチルカルバモイル基等）、アリールカルノくモイ
ル基（例えばＮ−フェニルカルバモイル基等）などであ
る０これらの置換基は、１つまたは２つ以上がアＩＪ　
−ル基に導入される。例えばフェニル基に導入される置
換基の数は１〜５個であり、好ましくは１〜３飼である
。また、同一のアリール基に異種の置換基が導入されて
いても良い。

本発明において、一般式（ｌＩ）および［ＩＩＩ　］の
Ｒで表わされる、一般式（１，ＩＩ　：］で示されるフ
ェノール系シアンカプラーに耐拡散性を何与する基（以
下、耐拡散性基という）として好ましくは、炭素原子数
４〜３０個の直鎖まだは分岐のアルキル基（例えばｔ−
ブチル基、ルーオクチル基、ｔ−オクチル基、ルードデ
シル基、ルーオクチルオキシエチル基、ルードデシルオ
キシメチル基、ベンジル基等）、アルケニル基（例えば
ルードデセニル基、ルーオクタデセニル基、フェニルプ
ロペニル基等）、アリール基（フェニル基、トリル基等
）、シクロアルキル基（例えばシクロヘキシル基等）、
および５員もしくは６員の複素環基等が挙げられる。

更に好ましい耐拡散性基としては下記一般式〔ＩＶ〕で
示される基である。

一般式（１，Ｖ　） 式中Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリ
ール基、複素環基、アルコキシ基、了り−ルオキシ基、
ヒドロキシ基、アシルオキシ基、カルボキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、メル
カプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキル
スルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アシ
ルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイルＭｉｋｕ
スルファモイル基を表わし、ｍが２以上の整数を表わす
場合は、Ｒ２は同一であっても異っていてもよい。

Ｒｏは直鎖または分岐、あるいはアリール基等が導入さ
れたアルキレン基を表わす。Ｊは酸素原子、イオウ原子
まだはスルホニル基を表わし、ｔ＋−ａ：Ｏまたは１、
ｍは１〜４のそれぞれの整数を表わす。

一般式［：ＩＶ］においてＲ１が表わすハロゲン原子は
好ましくは塩素、臭素であシ、アルキル基は好ましくは
直鎖まだは分岐の炭素原子数１〜２０個のアルキル基、
特に好ましくはメチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル
基、ルーオクチル基、ドデシル、ペンタデシル等の各基
であり、アリール基は好ましくはフェニル基であり、複
素環基は好ましくは含窒素複素環基である。またＲ２が
表わすアルコキシ基は好ましくは直鎖または分岐の炭素
原子数１〜２０個のアルキルオキシ基、特に好ましくは
メトキシ基、エトキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、オクチ
ルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基の各基
であり、アリールオキシ基は好甘しくはフェノキシ基で
あり、アシルオキシ基は好ましくはアルキルカルボニル
オキシ基、アｊＪ　−ルカルボニルオキシ基、特に好ま
しくはアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基の各基であり
、アルコキシカルボニル基は好ましくは炭素原子数１〜
２゜個の直鎖または分岐のアルキルオキシカルボニル基
であり、アリールオキシカルボニル基は好ましくはフェ
ノキシカルボニル基である。更には前記Ｒ２が表わすア
ルキルチオ基は好ましくは炭素原子数１〜２０個の直鎖
まだは分岐のアルキルチオ基であり、アシル基は好まし
くは炭素原子数１〜２０個の直鎖または分岐のアルキル
カルボニル基であり、アシルアミノ基は好ましくは炭素
原子数１〜２０個の直鎖または分岐のアルキルカルボア
ミド基、ベンゼンカルボアミド基の各基であり、スルホ
ンアミド基は好ましくは炭素原子数１〜２０個の直鎖ま
だは分岐のアルキルスルホンアミド基、ベンゼンスルポ
ンアミド基でアリ、マだカルバモイル基は好ましくは炭
素原子数１〜２０個の直鎖または分岐のアルキルアミノ
カルボニル基、フェニルアミノカルボニル基の各基であ
り、スルファモイル基は好ましくは炭素原子数１〜２０
個の直鎖または分岐のアルキルアミンスルホニル基、フ
ェニルアミノスルホニル基の各基であり、これらの基は
それぞれ置換基を有してもよい。

次に前記一般式［ｒＶ）においてＲ１が表わす直鎖また
は分岐のアルキレン基は好ましくは炭素原子数１〜２０
個のアルキレン基である。

まだ前記一般式ＣＩ）および一般式〔１■〕においてＸ
が表わすカップリング反応により離脱可能な基は、例え
ばハロゲン原子（具体的には塩素、臭素、フッ素等の各
原子）、酸素原子または窒素原子が直接カプリング位に
結合している了り−ルオキシ基、カルバモイルオキシ基
、カルバモイルメトキシ基、アシルオキシ基、スルホン
アミド基、コハク酸イミド基等を挙げることができる。

更にこれらの基の具体的な例としては、例えば米国特許
第３，４７６，５６３号明細書、特開昭４７−３７４２
５号、特公昭４８−３６８９４号、特開昭５０−１０１
３５号、同５０−１１７４２２号、同５Ｏ−１３０４４
Ｌ号、同５１−１０８８４１号、同５〇−１２０３３４
号、同５２−１８３１５号、同５３−５２４２３号、同
５３−１０５２２６号、同５４−１４７３６号、同５４
−４８２３７号、同５５−３２０７１号、同５５−６５
９５７号、同５６一１９３８号、同５６−１２６４３号
、同５６−２７１４７号等の各公報に記載されている。

Ｘの好ましくは水素原子またはハロゲン原子（塩素原子
等）である。

以下に一般式ＣＩＩＩ　）で表わされる、本発明に係る
フェノール系シアンカプラーの具体的化合物を挙げるが
、これらに限定されない。

（ＩＩＩ−１） （ｍ−２） ０Ｍ （Ｉｌｌ−８） ｉｌｌ−９） （ＩＪＩ−、ｉｔ） Ｃ，２Ｈ２゜ （ＩＩＩ−２０） （ＩＩＩ−２１） （ＩＩＩ−２２） （ＩＩＩ−２３＞ ０４Ｈ。

（Ｉｌｌ−２７） （ＩＩＩ−２８） Ｃ１２Ｈ！１ （Ｉｌｌ−３３） Ｃ２ＨＩ ２Ｈ６ Ｃ４Ｈ。

（ＩＩＩ−４１） （Ｉｌｌ−４２） し４に１９ Ｃ，２Ｈ２８ ■　発明の具体的利用 本発明のフェノール系シアンカプラーの製造法によす製
造されるフェノール系シアンカプラーには、通常のシア
ン色素形成カプラーにおいて用いられる方法および技術
が同様に適用できる。典型的にはシアンカプラーをハロ
ゲン化銀乳剤に配合し、この乳剤を支持体上に塗布して
ハロゲン化銀写真感光材料を形成する。ハロゲン化銀写
真感光拐料は単色用１だは多色用のハロゲン化銀写真感
光材料であることができ、多色用のハロゲン化銀写真感
光材料において本発明に係るフェノール系シアンカプラ
ーは、通常赤感光性ハロゲン化銀乳剤層に含有させるが
、非増感乳剤層に含有させても良く、寸だ多色用ハロゲ
ン化銀写真感光材料は、スペクトルの三原色領域のそれ
ぞれに感光性を有する、例えば少なくとも１つのシアン
色素形成カプラーを含有する赤感光性ハロゲン化銀乳剤
層（シアン色素形成カプラーの少なくとも１つは本発明
に係るフェノール系シアンカプラーでアル）、少なくと
も１つのマゼンタ色素形成カプラを含有する緑感光性ハ
ロゲン化銀乳剤層および少なくとも１つのイエロー色素
形成カプラーを含有する青感光性ハロゲン化銀乳剤層の
それぞれ単一層もしくは複数層を糾合せた多層ハロゲン
化銀カラー写真感光利料であることができる。

本発明に係るシアンカプラーを乳剤に含有せしめるには
、従来公知の方法に従えばよい。例えばトリクレジルホ
スフェート、ジブチルフタレート等の沸点が１７５℃以
上の高沸点有機溶媒まだは酢酸ブチル、プロピオン酸ブ
チル等の低沸点溶媒のそれぞれ単独にまたは必要に応じ
てそれらの混合液に本発明に係るシアンカプラーを単独
でまだは併用して溶解した後、界面活性剤を含むゼラチ
ン水溶液と混合し、次に高速度回転ミキサーまたはコロ
イドミルで乳化した後、ハロゲン化銀に添加して本発明
に使用するハロゲン化銀乳剤を調製することが出来る。

そして本発明に係るシアンカプラーを本発明に使用する
ハロゲン化銀乳剤中に添加する場合、通常、ハロゲン化
銀１モル当り０．０７〜０．７モル、好ましくは０１モ
ル〜０４モルの量で添加される。

■　発明の具体的効果 本発明のフェノール系シアンカプラーの製造法によれば
、一般式［Ｉ）で示される化合物と一般式〔■〕で示さ
れる化合物をアセトニトリル中で煮沸還流して反応させ
ることにより、該反応により副生ずる塩化水素を容易に
反応系外に除去することが可能となり、塩基等を用いる
ことなく一般式（１１１）で示されるフェノール系シア
ンカプラーを高収率で得ることができる。しかも反応生
成物である一般式（１１１）の化合物は、反応液を濃縮
して放冷するだけで容易に再結晶することができるので
、簡便にかつ高純度の状態で分離することができる。

この様に、本発明のフェノール系シアンカプラーの製造
法は、フェノール系シアンカプラーの一般的でかつ大量
生産に適した製造法といえる。

■１　　昇り）」の具体的実施例 以下に具体的実施例を示して、本発明を更に詳しく説明
するが、本発明の実施の態様がこれらの実施例により限
定されるものではない。

２−（ｍ−）！Ｊフルオロメチルフェニル）ウレイド−
５−アミノフェノール（Ｉ）３１１ｒをアセトニトリル
１．５ｔに溶解し、２−（２，４−ジ−ｔ−ペンチルフ
ェノキシ）ブタノイルクロリド（Ｕ）３７３２を添加し
た後、５時間煮沸還流した。次いで溶媒のアセトニトリ
ルを約１を留去し、冷蔵庫中で一夜放置した後、析出し
た固体を吸引ｉ５過でｆ取し、アセトニトリルで洗浄し
て、目的化合物（ＩＩＩ）の無色固体５２２２を得だ。

収率８５チ。

融点１８８．０〜１８９℃。

２−（４−シアノフェニル）ウレイド−５−アミンフェ
ノール（Ｉ）２６８Ｆをアセトニトリル２．５ｔに溶解
し、２−２．４−ジ−ｔ−ペンチルフェノキシヘキサノ
イルクロリド（：１Ｉ）４０４Ｆを添加した後、５時間
煮沸還流した。次いで溶媒のアセトニトリルを約２を留
去し、冷蔵庫中で−夜放＋ｉ＃ｔ、だ後、析出した固体
を吸引ｅ過で沢取し、アセトニトリルで洗浄して、目的
化合物（ＩＩＩ　）の無色固体４７９２を得た。収率８
０チ。融点１７９〜１８１℃。

２＝（４−ブタンスルホニルフェニル）ウレイド−５−
アミノフェノール［１３６３りをアセトニトリル１．５
ｔＫ溶解し、２−（２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェノキ
シ）ブタノイルクロリド［ＩＩ　、１１３７３　Ｆを添
加した後、５時間煮沸還流した。次いで溶媒のアセトニ
トリルを約１を留去し、冷蔵庫中で一夜放１？【シだ後
、析出した固体を吸引δｊ過で１取し、アセトニトリル
で洗浄して、目的化合物ＣＩｌｉ　）の無色固体５６５
Ｆを得た。収率８５チ。融点１３１〜１３３℃。

この様に、本発明のフェノール系シアンカプラーの製造
法によれば、煩雑な操作を必要としないで、目的とする
フェノール系シアンカプラーを高収率で得ることができ
る。

なお、実施例１〜３で得られた各フェノール系シアンカ
プラーの構造は、それぞれ、工Ｒスペクトル、ＮＭＲス
ペクトル、およびＦＩ）−ＭＡＳＳスペクトルにより確
認された。

〔比較〕

２−（４−メチルスルホニルフェニル）ウレイド−５−
アミノフェノール、３２１りをテトラヒドロ７ラン３０
ｄＫ懸濁した混合液に、キノリン１．４２Ｆを加えた。

窒素ガスを導入しながら、２（２，４９ｔ−ペンチルフ
ェノキシ）ヘキサノイルクロリド４０４Ｆを３０分かけ
て滴下した。その後室温で２時間攪拌した。不溶物を？
ｌ：Ｉ過で除去した。これは原料のアミノ化合物（１，
００ｆ）であった。ｅ液を水で希釈した塩酸にあけ、析
出した油状物を酢酸エチルで抽出しだ。酢酸エチル層は
水洗後ＭｆＳ０４で乾燥した。酢酸エチルを留去後、残
渣にトルエンを加え、処置すると固体が析出した。〔固
体Ａ１無色固体収量１．５０ｆ、収率２３ｑ６、融点２
２０〜２２２℃〕。この濾過液を減圧乾固し、残渣をア
セトニトリルから結晶化させ、吸引ｉ４過でカ」城しだ
。

〔固体Ｂ１無色固体収量３．８３Ｆ、収率３９％。

融点２５０℃以上）□ＦＤ−Ｍａｓｓ及びＮＭＲスペク
トルよりＡの化合物は目的化合物ｃ　Ｉｌｌ　）であり
、Ｂの化合物は下記の構造の化合物であった。

このように、従来の方法では、難溶なアミノ化合物［Ｉ
）の場合、フェノ・−ル性水酸基もアシル化された化合
物が主生成物として得られた。

〔本発明〕

２−（４−メチルスルホニルフェニルウレ（）”）−５
−アミンフェノール（Ｉ）３２１４をアセトニトリル１
．５ｔに懸濁し、２−（２，４−ジーを一ペンチルフェ
ノキシ）ヘキサノイルクロＩＪ　）’（■〕４０４ｖを
添加した後、５時間煮沸還流した。次いで溶媒のアセト
ニトリルを約１を留去し、冷蔵庫中で一夜放置した後、
析出した固体を吸弓Ｉ濾過で１取しアセトニトリルで洗
浄して、目的化合物ＣＩＩＩ　〕の無色固体５２８ｆを
得だ。収率８１％。

融点２２０〜２２２℃。

このように本発明の方法に従えば、目ａ９化合９勿（Ｉ
ＩＪ、　）を高収率で得ることができる。

２−（３−クロルフェニル）ウレイ）’−５−アミンフ
ェノール〔■〕２７７ノをア七トニト１ノル１．５ｔに
懸濁し、２−（２，４−ジー、ｔ−ペンチルフェノキシ
）フェニルアセチルクロリド〔■〕４２６２を添加した
後、５時間煮沸還流した。次いで、実施例１と同様に処
理し、目的化合物（ＩＩＩ）の無色固体５１５りを得た
。収率８２％、融点１１８〜１２０℃。

２−（２，４，６−ドリクロロフエニル）ウレイド−４
−クロロ−５−アミンフェノール［Ｉ）４２１？をアセ
トニトリル２ｔに懸濁し、２−（４−ＮＮジメチルスル
ファモイルアミノフェノキシ）テトラデカノイルクロリ
ド５０７ｆを添加した後、６時間煮沸還流した。次いで
溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィ（シリカ
ゲル）にて精製し目的化合物（ＩＩＩ　］のカラメル６
７６１を得た。収率８０％。

手　統　神　正　１１（（自発） 特許庁長官若杉和夫ｊｊ投 ］　重性の表示 昭和５７年　特　許　願第２３０７５１　　号２、発明
の名称　　　　フェノール系シアンカプラーの製造法３
、補正をする者 事件との関係　　特許出願人 住　所　　　東京都新宿区西新宿１丁目２６番２号氏　
名（名称）（１２７）　　小西六写真工業株式会社代表
取締役　　　川　　本　　信　　彦８　補正の内容 別紙の通り ８、補正の内容 （１）明細書第１４頁７〜８行目の「・・・酸素原子ま
たは窒素原子・・・」を「・・・酸素原子、イオウ原子
または窒素原子・・・」とする。

（２）明細書第１４頁１１行目の「コノ−り酸イミド基
」のあとに「、テトラゾリルチオ基、トリアゾリルチオ
基」を加入する。

（３）明細書記１５頁３〜４行目の［Ｘの好ましくは水
素原子またはハロゲン原子（塩素原子等）である。」を
削除する。

（４）明細書第２１頁３〜４行目の ｒ（ｍ−２４） （５）明細書第２６頁５〜６行目の ｒ（ｍ−４５） Ｈ °・Ｈｏ　　　　　　　　　　　　　Ｊのあとに 」 を加入する。

（６）　　明細書第２９頁１８行目の［ル）ウレイド°
−５−［］二」笥−（二２・・・」を［ル）ウレイド−
ＬＴ　［２−仁ち一士ユジ・・・」とする。

（力　明細真勇３５頁７〜１０行目のに」し二■−も一
土。

乞工刀玄４フェノ＝−北・・・」とする。

（８）明細書第３５頁１５〜・１７行目の「・・・２−
（４−ＮＮジメチルスルファモイルアミノフェノキシ）
テトラデカノイルクロリド・・・」を１・・・２−（４
−Ｎ、Ｎ−ジメチルスルファモイルアミノフェノキシ）
テトラデカノイルクロリド・・・」とする。

以上

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 下記一般式（ＩＩＩ　）で示されるフェノール系シアン
   カプラーを製造するに際し、下記一般式ＣＩ］で示され
   る化合物と下記一般式（ＴＩ　）で示される化合物をア
   セトニトリル中で煮沸還流して反応させることを特徴と
   するフェノール系シアンカプラーのＭψ造法。 一般式（１） 一般式〔１１〕 ＣＯＣｌ （一般式［Ｉ）、一般式（ＩＩ）、および一般式ＣＩＩ
   Ｔ　）において、Ａｒはアリール基を表わす。Ｒは一般
   式〔ＩＩＩ〕で示されるフェノール系シアンカプラーに
   耐拡散性を付与する基を表わす。Ｘは水素原子または芳
   香族第１級アミン系発色現像主薬の緻化生成物と一般式
   ＣＪＩＩ　）で示されるフェノール系シアンカプラーと
   のカップリング反応により離脱可能な基を表わす。）