JPS59112088A - 蒸気釜の液位レベル制御装置 - Google Patents
蒸気釜の液位レベル制御装置Info
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- JPS59112088A JPS59112088A JP13274983A JP13274983A JPS59112088A JP S59112088 A JPS59112088 A JP S59112088A JP 13274983 A JP13274983 A JP 13274983A JP 13274983 A JP13274983 A JP 13274983A JP S59112088 A JPS59112088 A JP S59112088A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、連続蒸解釜のトップレベルおよびパルプ濃度
制御装置（こ関する。チップからパルプが出来るまでの
プロセスの概略を第１図に示す、従来の蒸解釜を用いて
説明する。スチーミングベッセル（図示せず）において
蒸気で加熱され、有機ガスや空気を取除いた後のチップ
１０１は、ポンプ（図示せず）にて蒸解釜の頂部に送ら
れる。蒸解釜頂部に送られたチップ１０１は、トップス
クリー−１０２によって浸透部１０３に落される。
制御装置（こ関する。チップからパルプが出来るまでの
プロセスの概略を第１図に示す、従来の蒸解釜を用いて
説明する。スチーミングベッセル（図示せず）において
蒸気で加熱され、有機ガスや空気を取除いた後のチップ
１０１は、ポンプ（図示せず）にて蒸解釜の頂部に送ら
れる。蒸解釜頂部に送られたチップ１０１は、トップス
クリー−１０２によって浸透部１０３に落される。
蒸解薬液】０４は、蒸解白液と蒸解黒液を混合したもの
であり、この浸透部１０３に送られる。次に、チップは
加熱部１０５に送られ、ここで蒸解温度Ｔ１． Ｔ２に
達する。加熱部１０５では、上部加熱器１０６と下部加
熱器１０７でチップを循環しつつ加熱して、蒸解の均一
化とチップのノ・ンギング現象の減少を図っている。蒸
解温度Ｔ２は、下部加熱器１０７によって決定される。
であり、この浸透部１０３に送られる。次に、チップは
加熱部１０５に送られ、ここで蒸解温度Ｔ１． Ｔ２に
達する。加熱部１０５では、上部加熱器１０６と下部加
熱器１０７でチップを循環しつつ加熱して、蒸解の均一
化とチップのノ・ンギング現象の減少を図っている。蒸
解温度Ｔ２は、下部加熱器１０７によって決定される。
次に、加熱されたチップは蒸解部１０８を下降する間に
蒸解を終え、洗浄・冷却部１０９に送られる。洗浄・冷
却部１０９では、まずその上部から高温で濃度の高い抽
出黒液１１０が抜かれる。
蒸解を終え、洗浄・冷却部１０９に送られる。洗浄・冷
却部１０９では、まずその上部から高温で濃度の高い抽
出黒液１１０が抜かれる。
次に、蒸解釜下部より送入された洗浄黒液１１３によっ
て置換洗浄が行われる。洗浄を終ったパルプはボトムス
クレーパ１１２により攪拌された後、プロ装置１１４％
通ってパルプ１１１として射出される。
て置換洗浄が行われる。洗浄を終ったパルプはボトムス
クレーパ１１２により攪拌された後、プロ装置１１４％
通ってパルプ１１１として射出される。
次に、蒸解釜の制御について述べる。制御は大きく分け
て質と量の制御となり、それぞれ次の制御を行う。
て質と量の制御となり、それぞれ次の制御を行う。
最大制御）
従来のこれらの制御は操作者の判断に委ねられていた。
蒸解釜の反応条件が変化するような外乱が発生した場合
、従来の制御では迅速にこの反応条件の変化に追従でき
ない。このため品質のわるいパルプそ生産することが間
々あった。本発明は。
、従来の制御では迅速にこの反応条件の変化に追従でき
ない。このため品質のわるいパルプそ生産することが間
々あった。本発明は。
このような問題点をなくすための制御装置、とくに射出
パルプの品質を一定にするために釜内のトップレベルを
一定にするための制御装置を提供することを目的とする
。
パルプの品質を一定にするために釜内のトップレベルを
一定にするための制御装置を提供することを目的とする
。
本発明による蒸解釜制御のブロック図を第２図に示す。
パルプの需給状況から生産計画装置２０１にて、日々の
時間当りの生産計画を立案する。生産計画は、生産量の
計画値２０２０とに価の計画値２０３０に分けて目標値
を決定する。Ｋ価制御を行うために、生産量変更制御前
処理装置（以下。
時間当りの生産計画を立案する。生産計画は、生産量の
計画値２０２０とに価の計画値２０３０に分けて目標値
を決定する。Ｋ価制御を行うために、生産量変更制御前
処理装置（以下。
ＰＰＯと略す）２０４０とに価変更制御前処理装置（以
下、ＰＫＯと略す）２０５０をに価制御のパラメータ決
定用として具備する。
下、ＰＫＯと略す）２０５０をに価制御のパラメータ決
定用として具備する。
Ｋ価は次の要因から決定される。
（１）液比・・・・・・チップの絶乾重量に対する蒸解
液量（薬品）の比。
液量（薬品）の比。
（２）Ｈファクタ・・・・・・パルプ化の際の蒸解度表
示で、１００°ＣでＩＨ蒸解したときのパルプ化効率を
１とし、蒸解曲線と相対反応速度（１００℃の反応速度
を１とする）との曲線によって囲まれる面積をもって表
わす。
示で、１００°ＣでＩＨ蒸解したときのパルプ化効率を
１とし、蒸解曲線と相対反応速度（１００℃の反応速度
を１とする）との曲線によって囲まれる面積をもって表
わす。
ＰＫＯ２０５にて、目標に価を実現するための液比Ａｒ
とＨ７アクタＨの値を決定し、ＰＰ０２０４にて、目標
生産量をパルプ化するために必要な他のパラメータ値を
決定する。Ｋ価制御は、に価制御装置（以下、ＫＯ）２
０６０にて、ａ比Ａが一定になるように、蒸解白液流量
Ｆｗ、 蒸解黒液量ＦＫ、加熱部上部循環温度Ｔ□、
加熱部下部循環温度Ｔ２を決定する。この他の制御には
、洗浄効果制御装置（以下、ＷＥＯ）２０７と釜頂部レ
ベル制御装置（以下、ＴＬＯ）２０８がある。
とＨ７アクタＨの値を決定し、ＰＰ０２０４にて、目標
生産量をパルプ化するために必要な他のパラメータ値を
決定する。Ｋ価制御は、に価制御装置（以下、ＫＯ）２
０６０にて、ａ比Ａが一定になるように、蒸解白液流量
Ｆｗ、 蒸解黒液量ＦＫ、加熱部上部循環温度Ｔ□、
加熱部下部循環温度Ｔ２を決定する。この他の制御には
、洗浄効果制御装置（以下、ＷＥＯ）２０７と釜頂部レ
ベル制御装置（以下、ＴＬＯ）２０８がある。
本発明はとくに、ＴＬＯ２０８に関連する。ＫＯ２０６
０、ＷＥＯ２０７については、別途特許出願した「蒸解
釜のに価制御方式」および実用登録出願した「蒸解釜の
洗浄制御装置」に記載されており、ここではその説明を
省略する。
０、ＷＥＯ２０７については、別途特許出願した「蒸解
釜のに価制御方式」および実用登録出願した「蒸解釜の
洗浄制御装置」に記載されており、ここではその説明を
省略する。
ＴＬＯ２０８は蒸解釜浸透部１０３内の液面のレベルＬ
Ｔヲ目標値に保つための制御であるが、レベルＬＴヲ一
定に保つことにより、パルプの量と質を安定化するもの
である。レベルＬＴを一定に保つためには、抽出黒液１
１０を制御するか、射出パルプ１１１の量ＦＰヲ制御す
るかである。実験的には、パルプのに価を保つためには
抽出黒液量Ｆｘヲあまり変動しない方が追い。この理由
から射出パルプ１１１の射出量ＦＰを制御することが望
ましい。
Ｔヲ目標値に保つための制御であるが、レベルＬＴヲ一
定に保つことにより、パルプの量と質を安定化するもの
である。レベルＬＴを一定に保つためには、抽出黒液１
１０を制御するか、射出パルプ１１１の量ＦＰヲ制御す
るかである。実験的には、パルプのに価を保つためには
抽出黒液量Ｆｘヲあまり変動しない方が追い。この理由
から射出パルプ１１１の射出量ＦＰを制御することが望
ましい。
所が、射出パルプ１１１の量ＦＰヲ変動させると、射出
パルプ１１１の濃度ＢＰが変動する。濃度ＢＰを一定に
するにはボトムスクレーパ１１２の回転数Ｎ２ヲ制御す
る必要がある。回転数Ｎ２を増加させることにより、パ
ルプ濃度Ｂ、はうすくする事ができる。以上のことから
、レベルＬＴの制御は射出パルプ濃度Ｂ、の制御とも密
接な関係にあるため、この両者を切離して考えることは
できない。
パルプ１１１の濃度ＢＰが変動する。濃度ＢＰを一定に
するにはボトムスクレーパ１１２の回転数Ｎ２ヲ制御す
る必要がある。回転数Ｎ２を増加させることにより、パ
ルプ濃度Ｂ、はうすくする事ができる。以上のことから
、レベルＬＴの制御は射出パルプ濃度Ｂ、の制御とも密
接な関係にあるため、この両者を切離して考えることは
できない。
第３図に示すごと＜、 ＴＬＯ２０８は、レベル制御装
置３０１とパルプ濃度制御装置３０２から構成される。
置３０１とパルプ濃度制御装置３０２から構成される。
レベル制御装置３０１は、線３０３を介して生産計画装
置２０１から入力される射出パルプｌｌｌの目標量ＦＰ
。に基づいて、目標レベルＬＴ。を決め、線３０５上の
実測レベルＬＴ と比較して目標レベルに合うように射
出パルプ量Ｆ、ヲ決定し、線３０８上に出力し、決定さ
れた射出パルプ量ＦＰになるようにブロー装置１１４（
第１図）を制御する０バルブ濃度制御装置３０２は。
置２０１から入力される射出パルプｌｌｌの目標量ＦＰ
。に基づいて、目標レベルＬＴ。を決め、線３０５上の
実測レベルＬＴ と比較して目標レベルに合うように射
出パルプ量Ｆ、ヲ決定し、線３０８上に出力し、決定さ
れた射出パルプ量ＦＰになるようにブロー装置１１４（
第１図）を制御する０バルブ濃度制御装置３０２は。
線３０６を介して入力される目標に価Ｋ。と射出パルプ
目標量ＦＰ。から、射出パルプの目標濃度ＢＰ。を決め
る。実際の射出パルプ濃度Ｂ、は、線３１１を介して入
力される実際の射出バルブ量ＦＰ、線３０９，３１０か
ら大刀されるボトムスクレーパ１１２の回転数Ｎ２１回
転負荷Ａ、ｎ１がら求める。射出パルプ濃度制御は実際
の濃度ＢＰが目標濃度ＢＰ。に等しくなるように、ボト
ムクレーパ１１２の回転数Ｎ２ヲ決定し、これそ線３１
２上に出力し、このＮ２によりボトムスクレーパ１１２
を制御する。
目標量ＦＰ。から、射出パルプの目標濃度ＢＰ。を決め
る。実際の射出パルプ濃度Ｂ、は、線３１１を介して入
力される実際の射出バルブ量ＦＰ、線３０９，３１０か
ら大刀されるボトムスクレーパ１１２の回転数Ｎ２１回
転負荷Ａ、ｎ１がら求める。射出パルプ濃度制御は実際
の濃度ＢＰが目標濃度ＢＰ。に等しくなるように、ボト
ムクレーパ１１２の回転数Ｎ２ヲ決定し、これそ線３１
２上に出力し、このＮ２によりボトムスクレーパ１１２
を制御する。
第４図にＴＬｏ ２０８におけるトップレベルおよびパ
ルプ濃度制御の詳細プロ、り図を示す。まず。
ルプ濃度制御の詳細プロ、り図を示す。まず。
射出ハルフッ目標量ＦＰ。をもとに目標レベルＬＴ。
そＬＴ。計算装置４０２で計算する。
ＬＴ。＝ｆ（ＦＰ。） ・・・・・・（１）
次に、実測レベルＬＴ と目標レベルＬＴ。の差である
レベル偏差ΔＬ ΔＬ工Ｌ ＴＬＴＯ・・・・・・（２）と求める。
次に、実測レベルＬＴ と目標レベルＬＴ。の差である
レベル偏差ΔＬ ΔＬ工Ｌ ＴＬＴＯ・・・・・・（２）と求める。
このΔＬ６もとに、蒸解釜内のチップ量の変化分ΔＱを
、ΔＱ計算装置４０６で推定する。
、ΔＱ計算装置４０６で推定する。
、ＪＱ＝＝ｆ（ΔＬ） ・・・・・・（３
）このΔＱ’ｉ−Ｔ時間でＯにするため、単位時間当り
に修正すべきパルプ量Δｑを、Δｑ計算装置４０８にて
計算する。
）このΔＱ’ｉ−Ｔ時間でＯにするため、単位時間当り
に修正すべきパルプ量Δｑを、Δｑ計算装置４０８にて
計算する。
このΔｑと目標パルプ量Ｂ、ｏから、新目標射出パルプ
量ＦＰ′を計算する。
量ＦＰ′を計算する。
ＦＰ′＝Ｆ、。＋Δｑ ・・・・・・（５）こ
の新目標射出パルプ量ＦＰ′と線３１１上の実際のパル
プ量ＦＰの差 ΔＱ′二ＦＰ′−ＦＦ ・・・・・・（６）
をもとにＰＩ（比例十積分）制御装置４１３そ用いてブ
ロー装置１１４を操作するための、パルプ量ＦＰヲ決定
し、線３０８上に送出する。このようにＥＰ７．−動か
すことによりトップレベルＬＴソ一定に保つようにする
。
の新目標射出パルプ量ＦＰ′と線３１１上の実際のパル
プ量ＦＰの差 ΔＱ′二ＦＰ′−ＦＦ ・・・・・・（６）
をもとにＰＩ（比例十積分）制御装置４１３そ用いてブ
ロー装置１１４を操作するための、パルプ量ＦＰヲ決定
し、線３０８上に送出する。このようにＥＰ７．−動か
すことによりトップレベルＬＴソ一定に保つようにする
。
次に、射出パルプ濃度ＢＰの制御について説明するＯＢ
、は直接計測できるが精度があまり良くないため、ＢＰ
計算装置４１５にて、ボトムスクレーパ１１２の回転数
Ｎ２１回転負荷Ａ、、、１および射出パルプ量Ｆ、から
、ＢＰヲ推定する。
、は直接計測できるが精度があまり良くないため、ＢＰ
計算装置４１５にて、ボトムスクレーパ１１２の回転数
Ｎ２１回転負荷Ａ、、、１および射出パルプ量Ｆ、から
、ＢＰヲ推定する。
ＢＰ＝ｆ８ｏ（Ｎ２．、Ａｏｌ、ＥＰ）・・・・−（７
）目標パルプ濃度Ｂ、Ｏは ＢＰＯ計算装置４１９にて
。
）目標パルプ濃度Ｂ、Ｏは ＢＰＯ計算装置４１９にて
。
目標パルス量ＦＰ。および目標に価Ｋ。から求める。
Ｂｐ。＝ ｆｓｏ （”ｐ。ｌ ＫＯ） −
・＝（８）射出パルプ濃度ＢＰの、目標値ＢＰ。からの
偏差ΔＢＦ ΔＢＰ： ＢＰ−ＢＰ’ ・・・・・・（９）
を０にするため、ボトムスクレーパ１１２の回転数をΔ
Ｎ２だけ増加する必要がある。ΔＮ２ 計算装置４２２
にて、 ΔＮ２ ＝ ｆ、ｏ（ΔＢＰ ） −−−−・−
（１０）の計算を行い求める。目標回転数Ｎ２゜は、Ｎ
２゜計算装置４２３にて求める。
・＝（８）射出パルプ濃度ＢＰの、目標値ＢＰ。からの
偏差ΔＢＦ ΔＢＰ： ＢＰ−ＢＰ’ ・・・・・・（９）
を０にするため、ボトムスクレーパ１１２の回転数をΔ
Ｎ２だけ増加する必要がある。ΔＮ２ 計算装置４２２
にて、 ΔＮ２ ＝ ｆ、ｏ（ΔＢＰ ） −−−−・−
（１０）の計算を行い求める。目標回転数Ｎ２゜は、Ｎ
２゜計算装置４２３にて求める。
Ｎ２’ ＝ｆ７０（ＢＰ。） −■−（１
１）射出パルプ濃度Ｂｐ ｆＢ、。に近づけるための新
目標回転数 Ｎ′＝Ｎ０＋ΔＮ２ ”’ ”’ （１２）
２ と実際の回転数Ｎ２との差 ΔＮ２′＝Ｎ２′−Ｎ２ ・・・・・・（１
３）をもとに、ＰＩ制御装置４２７にて、ボトムスクレ
ーパＧ２（Ｓ）１１２を操作し、回転数Ｎ２を制御する
。このＮ２ソ動かすことにより射出パルプ濃度ＢＰを目
標濃度ＢＰ。に保っようにする。
１）射出パルプ濃度Ｂｐ ｆＢ、。に近づけるための新
目標回転数 Ｎ′＝Ｎ０＋ΔＮ２ ”’ ”’ （１２）
２ と実際の回転数Ｎ２との差 ΔＮ２′＝Ｎ２′−Ｎ２ ・・・・・・（１
３）をもとに、ＰＩ制御装置４２７にて、ボトムスクレ
ーパＧ２（Ｓ）１１２を操作し、回転数Ｎ２を制御する
。このＮ２ソ動かすことにより射出パルプ濃度ＢＰを目
標濃度ＢＰ。に保っようにする。
なお図中、４３０および４３１上のｄは外乱を表わず。
以上において関数ｆ４０１ ｆ５０１ ｆ６０１ ｆ７
０１ ｆＢ０１ｆ９ｏはあらかじめ実験によりきめられ
る関数である０ 以上の液面のレベルの検出は第５図のようにして検出可
能である。
０１ ｆＢ０１ｆ９ｏはあらかじめ実験によりきめられ
る関数である０ 以上の液面のレベルの検出は第５図のようにして検出可
能である。
蒸解釜の浸透部１０３に透明耐熱強化ガラス２０３の洗
浄装置２ｏ２．耐熱強化ガラス２ｏ３゜レーザーや発光
ダイオード等の光源を複数個有する発光装置２０４．複
数個の検知器を有する光の透過度分析装置２０５を取付
ける。液面レベルは。
浄装置２ｏ２．耐熱強化ガラス２ｏ３゜レーザーや発光
ダイオード等の光源を複数個有する発光装置２０４．複
数個の検知器を有する光の透過度分析装置２０５を取付
ける。液面レベルは。
平行光束を発する発光装置２０４から放たれた光の透過
度を装置２０５により一定時間測定し、その平均値があ
る定められた値以下になる個所とする。一定時間測定し
、その平原値を用いるのは。
度を装置２０５により一定時間測定し、その平均値があ
る定められた値以下になる個所とする。一定時間測定し
、その平原値を用いるのは。
盛小時間での変動をならすためである。液面レベル表示
のためには、まず、装置２０５で得た透過度から、演算
装置２０６により第６図に示すような、高さと光の透過
度との関係を求める。次に。
のためには、まず、装置２０５で得た透過度から、演算
装置２０６により第６図に示すような、高さと光の透過
度との関係を求める。次に。
非線形フィルタリングを行い、第７図に示すようにノイ
ズ成分を除去する。光の透過度が設定量となる高さを液
面レベルとする。
ズ成分を除去する。光の透過度が設定量となる高さを液
面レベルとする。
蒸解釜では、チップと蒸解液との化学反応により、釜内
壁がよごれる。このよごれにより、透過度は次第に低下
する。従って、透明耐熱強化ガラス２０３を洗浄するこ
とが必要になる。本発明では、洗浄を経済的に行える様
に、釜内へ注入される白液２０９の化学反応（洗浄効果
）；ｆ利用する。
壁がよごれる。このよごれにより、透過度は次第に低下
する。従って、透明耐熱強化ガラス２０３を洗浄するこ
とが必要になる。本発明では、洗浄を経済的に行える様
に、釜内へ注入される白液２０９の化学反応（洗浄効果
）；ｆ利用する。
洗浄装置２０２は、耐熱強化ガラスのよごれを洗浄する
ために、注入部に注入される白液をふきつける装置であ
る。ポンプ２１０と２１１は白液をふきつけるためのも
ので、２０８は釜内の木片である。
ために、注入部に注入される白液をふきつける装置であ
る。ポンプ２１０と２１１は白液をふきつけるためのも
ので、２０８は釜内の木片である。
本装置により、精度の高い液面レベル測定値を得ること
ができ１紙を均質化する制御を容易にすることができる
。
ができ１紙を均質化する制御を容易にすることができる
。
実施例中の平均値は累積値に置換えることも可能である
。
。
第１図はパルプ生産プロセスの概略図、第２図は蒸解釜
制御のブロック図、釜頂部レベル制御装置の構成図、第
４図は釜頂部レベルとバルブ濃度制御の詳細ブロック図
、第５図は液面レベル検出装置の概略図、第６図は液面
の高さと光の透過度との関係を示す図、第７図は第６図
の関係に非線形フィルタリング処理をおこなった結果を
示す図である。 １０９：洗浄、冷却部 第 １ 図 第 Ｚ’［Ｕ Ｆｗ ７’ＨＴ、 １乙Ｆ、 ＡＩし％
３ 図 第 ５ 図 力 乙 図 第７図 股（蔭 事件の表示 昭和５８ 年特許願第］３２７４９ 号発明の名称 蒸気釜の液位レベル制御装置 補正をする者 Ｉｆｌ’ｌめ誰 特許出願人 と１ トド ゛５１Ｑ１１．：ｉ式会Ｊ 日
立 製 作 所代 理 人 明細舎の「歯面の簡単な説明」の欄
制御のブロック図、釜頂部レベル制御装置の構成図、第
４図は釜頂部レベルとバルブ濃度制御の詳細ブロック図
、第５図は液面レベル検出装置の概略図、第６図は液面
の高さと光の透過度との関係を示す図、第７図は第６図
の関係に非線形フィルタリング処理をおこなった結果を
示す図である。 １０９：洗浄、冷却部 第 １ 図 第 Ｚ’［Ｕ Ｆｗ ７’ＨＴ、 １乙Ｆ、 ＡＩし％
３ 図 第 ５ 図 力 乙 図 第７図 股（蔭 事件の表示 昭和５８ 年特許願第］３２７４９ 号発明の名称 蒸気釜の液位レベル制御装置 補正をする者 Ｉｆｌ’ｌめ誰 特許出願人 と１ トド ゛５１Ｑ１１．：ｉ式会Ｊ 日
立 製 作 所代 理 人 明細舎の「歯面の簡単な説明」の欄
Claims (1)
- 木材チップからパルプそ生産する蒸解釜のための釜内の
液位レベル制御装置であって、釜内のパルプ濃度を一定
に保持した状態で、目標射出パルプ量ＦＰ。から目標液
位レベルＬＴ。ヲ求め、実レベルＬＴがこの目標値ＬＴ
。に近づくように射出パルプ量ＦＰソ制御するように構
成したことを特徴とする解釜の液位レベル制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13274983A JPS59112088A (ja) | 1983-07-22 | 1983-07-22 | 蒸気釜の液位レベル制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13274983A JPS59112088A (ja) | 1983-07-22 | 1983-07-22 | 蒸気釜の液位レベル制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59112088A true JPS59112088A (ja) | 1984-06-28 |
Family
ID=15088675
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13274983A Pending JPS59112088A (ja) | 1983-07-22 | 1983-07-22 | 蒸気釜の液位レベル制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59112088A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62156377A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-11 | 三菱製紙株式会社 | 連続蒸解釜における蒸解度制御方法 |
| JP2008542639A (ja) * | 2005-05-27 | 2008-11-27 | エアバス・ドイチュラント・ゲーエムベーハー | 第１のパイプラインと第２のパイプラインを関節で接続するためのコネクタ |
-
1983
- 1983-07-22 JP JP13274983A patent/JPS59112088A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62156377A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-11 | 三菱製紙株式会社 | 連続蒸解釜における蒸解度制御方法 |
| JP2008542639A (ja) * | 2005-05-27 | 2008-11-27 | エアバス・ドイチュラント・ゲーエムベーハー | 第１のパイプラインと第２のパイプラインを関節で接続するためのコネクタ |
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