JPS59107348A - パタ−ン形成材料 - Google Patents
パタ−ン形成材料Info
- Publication number
- JPS59107348A JPS59107348A JP21900482A JP21900482A JPS59107348A JP S59107348 A JPS59107348 A JP S59107348A JP 21900482 A JP21900482 A JP 21900482A JP 21900482 A JP21900482 A JP 21900482A JP S59107348 A JPS59107348 A JP S59107348A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- resist
- forming material
- electron beam
- pattern forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａ） 発明の技術分野
本＠ψノは電子線に感曳をイｙするネガ型パターン形成
材料の改良に関する。
材料の改良に関する。
（ｂ） 技術の背景
最近ＩＯ，ＬＳＩ等の半導体装置Ｉｉ！ｌｉ造において
該装置を高密度に形成する必要力）ら、該装置を形成す
る工程において、レジスト族を露光する際、波長の短い
電子線が用いられている。
該装置を高密度に形成する必要力）ら、該装置を形成す
る工程において、レジスト族を露光する際、波長の短い
電子線が用いられている。
（ｃ） 従来技術と同融点
このような′亀を梅に対して１麟度を有するネガ型のパ
ターン形成材料の一つとしてポリスチレンが考えられる
。
ターン形成材料の一つとしてポリスチレンが考えられる
。
ところでこのようなポリスチレンは、該ポリスチレンを
例えばベンゼンあるいはメチルセロソルブアセテートの
ような浴剤に漕力）シた後、スピンコード法を用いてＳ
ｉ基板とに塗布仮、乾燥したのち電子線を用いて所定の
パターンを描画した際該レジスト材を形成するポリスチ
レン膜に［４が蓄積され、そのためパターンに位置ずれ
を生じる欠点がある。
例えばベンゼンあるいはメチルセロソルブアセテートの
ような浴剤に漕力）シた後、スピンコード法を用いてＳ
ｉ基板とに塗布仮、乾燥したのち電子線を用いて所定の
パターンを描画した際該レジスト材を形成するポリスチ
レン膜に［４が蓄積され、そのためパターンに位置ずれ
を生じる欠点がある。
また上述したポリスチレンの他ヅ例えばポリアセチレン
のような材料に臭素（Ｂｒ２）や、沃素（１）等のハロ
ゲン元素、あるいは五弗化砒素（ＡｓＦｓ）のようなハ
ロゲン元素の化合物等を混合する七ポリスチレン等のネ
ガ型パターン形成材料の導伝性が良くなることが報告さ
れている。
のような材料に臭素（Ｂｒ２）や、沃素（１）等のハロ
ゲン元素、あるいは五弗化砒素（ＡｓＦｓ）のようなハ
ロゲン元素の化合物等を混合する七ポリスチレン等のネ
ガ型パターン形成材料の導伝性が良くなることが報告さ
れている。
（ｄ） 発明の目的
本発明は上述した点に齢みてなされたもので前述した導
伝性を良好にするハロゲン元素や、ハロゲン元素の化合
物をレジスト形成材料に添加し、該レジスト形成材料に
電子線を照射して所定のパターンを描画した際、該レジ
スト材料中に電荷が蓄積されないようにし、もってパタ
ーンの位置ずれを生しないようにしたパターン形成材料
の提供を１」的とするものである。
伝性を良好にするハロゲン元素や、ハロゲン元素の化合
物をレジスト形成材料に添加し、該レジスト形成材料に
電子線を照射して所定のパターンを描画した際、該レジ
スト材料中に電荷が蓄積されないようにし、もってパタ
ーンの位置ずれを生しないようにしたパターン形成材料
の提供を１」的とするものである。
（ｅ） 発明の構成
かかる目的を達成するための本発明のパターン形成材料
は電子機レジストにハロゲン元素、またはハロゲン化合
゛勿を混合したことを特徴とするものである。
は電子機レジストにハロゲン元素、またはハロゲン化合
゛勿を混合したことを特徴とするものである。
（ｆ） 発明の史〃ｉｌ＋１列
以Ｔ：本つ６明のＩ施例につき叶細に説明する。
′醒ｆ線にｒｉｃ！！度を・１１シ、ネガ型のパターン
Ｊし紗、拐料となるポリスチレンをメチルセロソルブア
セテートのような＋Ｆｊ斉１■こｔｄ解したのち、［ノ
リ、；己ホリスチレンに対して２〜３１１（ル％の芙禦
（Ｂｒ２）を゛＾イ温にて混合、ｆｗ、拌する。
Ｊし紗、拐料となるポリスチレンをメチルセロソルブア
セテートのような＋Ｆｊ斉１■こｔｄ解したのち、［ノ
リ、；己ホリスチレンに対して２〜３１１（ル％の芙禦
（Ｂｒ２）を゛＾イ温にて混合、ｆｗ、拌する。
その優このようにしてＪｌ＞成したレジス）４Ｎ料を８
１ ウェハー上に２．０μｍの＝ａでスピンコード１人
を用いて蓋イＨシたイ〆、ベーキングしその仮刀Ｉｎ屯
圧２０ＫＶのは子ビーム露光装置を用いてレジスト朕り
にパターンを１．ＯＸ １０ クーロン／ ｃＡの
露光域で描画する。この遊子ビームでパターンを描画す
る方法について述べると、第１図（Ａ）の丸印Ａを拡大
した沿１図（１３）のパターンのうち中央の・１μｍｘ
４１ｉｙｎの方形のパターン１を所定のピンチで露光す
る８次に方形のパターンの周囲の４μｎｔ ｘ伎ｌｉ
ｍ （Ｊ）長方形のパターン２を描画した区、第１図（
４）に示す５００μｙｚＸ５００μｍの方形のパターン
３を第２図に示す１２卿ＸＰ２Ｊ！ａの方形の領域４内
に形成するＯ ここで第２図の丸印Ｂを拡大したパターンが第１図（Ａ
）のパターン８である。このようにしてパターンをル成
した伐、光学顕微鏡を用いて第１図（Ｂ）の中央の方形
のパターンｌを検査すると、従来のパターレｌ１多成材
料でパターンをＪし成した際の位置すれか、縦、横の方
向に対して１μ〃ｌの値であったものか、４ζ光明のパ
ターン形成材料を用いＪしは０．５μ〃ｌ以内の範囲内
に収まるようになった。
１ ウェハー上に２．０μｍの＝ａでスピンコード１人
を用いて蓋イＨシたイ〆、ベーキングしその仮刀Ｉｎ屯
圧２０ＫＶのは子ビーム露光装置を用いてレジスト朕り
にパターンを１．ＯＸ １０ クーロン／ ｃＡの
露光域で描画する。この遊子ビームでパターンを描画す
る方法について述べると、第１図（Ａ）の丸印Ａを拡大
した沿１図（１３）のパターンのうち中央の・１μｍｘ
４１ｉｙｎの方形のパターン１を所定のピンチで露光す
る８次に方形のパターンの周囲の４μｎｔ ｘ伎ｌｉ
ｍ （Ｊ）長方形のパターン２を描画した区、第１図（
４）に示す５００μｙｚＸ５００μｍの方形のパターン
３を第２図に示す１２卿ＸＰ２Ｊ！ａの方形の領域４内
に形成するＯ ここで第２図の丸印Ｂを拡大したパターンが第１図（Ａ
）のパターン８である。このようにしてパターンをル成
した伐、光学顕微鏡を用いて第１図（Ｂ）の中央の方形
のパターンｌを検査すると、従来のパターレｌ１多成材
料でパターンをＪし成した際の位置すれか、縦、横の方
向に対して１μ〃ｌの値であったものか、４ζ光明のパ
ターン形成材料を用いＪしは０．５μ〃ｌ以内の範囲内
に収まるようになった。
すなわち＃獣性を増大せしめるようなハロゲン元素また
は該ハロゲン元素の化合物をネガ型のポリスチレンより
なるポリマーに混合することで、ポリスチレン〃・電子
機に照射されて露光する際に該ポリスチレン１戻に′磁
性がＭ相される現象かなく１ｆす、そのためｌＩｈ＋中
１されたパターンのイメｆ反力１同トしこのようなパタ
ーン形成材ｆ！トを用いることで牛専体装置！製造の歩
留か向上する利点を生しる〇（ｇ） ヴ６明の効果 以上述べたように仝発明のパターン形成材料によれば、
電子酬をＩ幀射されたレジスト材料に磁動が４槓される
ような火点が除去でき、ル我されるパターンのｍ反か同
りする利点を生じる。
は該ハロゲン元素の化合物をネガ型のポリスチレンより
なるポリマーに混合することで、ポリスチレン〃・電子
機に照射されて露光する際に該ポリスチレン１戻に′磁
性がＭ相される現象かなく１ｆす、そのためｌＩｈ＋中
１されたパターンのイメｆ反力１同トしこのようなパタ
ーン形成材ｆ！トを用いることで牛専体装置！製造の歩
留か向上する利点を生しる〇（ｇ） ヴ６明の効果 以上述べたように仝発明のパターン形成材料によれば、
電子酬をＩ幀射されたレジスト材料に磁動が４槓される
ような火点が除去でき、ル我されるパターンのｍ反か同
りする利点を生じる。
１０１図（Ａ）、・１）１図（Ｂ）、第２図は本発明の
パターン形成拐科を用いて描画したパターン図である。
パターン形成拐科を用いて描画したパターン図である。
Claims (1)
- 電子線レジストにハロゲン元素またはハロゲン化合物を
混合したことを特徴とするパターン形成材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21900482A JPS59107348A (ja) | 1982-12-13 | 1982-12-13 | パタ−ン形成材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21900482A JPS59107348A (ja) | 1982-12-13 | 1982-12-13 | パタ−ン形成材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59107348A true JPS59107348A (ja) | 1984-06-21 |
Family
ID=16728751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21900482A Pending JPS59107348A (ja) | 1982-12-13 | 1982-12-13 | パタ−ン形成材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59107348A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62140425A (ja) * | 1985-12-16 | 1987-06-24 | Hitachi Ltd | エツチング方法 |
| JPS63183437A (ja) * | 1987-01-27 | 1988-07-28 | Fujitsu Ltd | 二層構造電子線レジスト |
| DE102013109370A1 (de) | 2013-03-29 | 2014-10-02 | Showa Corporation | Hydraulikstoßdämpfungsvorrichtung |
-
1982
- 1982-12-13 JP JP21900482A patent/JPS59107348A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62140425A (ja) * | 1985-12-16 | 1987-06-24 | Hitachi Ltd | エツチング方法 |
| JPS63183437A (ja) * | 1987-01-27 | 1988-07-28 | Fujitsu Ltd | 二層構造電子線レジスト |
| DE102013109370A1 (de) | 2013-03-29 | 2014-10-02 | Showa Corporation | Hydraulikstoßdämpfungsvorrichtung |
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