JPS5899196A - 単結晶育成装置の直径自動制御機構 - Google Patents

単結晶育成装置の直径自動制御機構

Info

Publication number
JPS5899196A
JPS5899196A JP19558381A JP19558381A JPS5899196A JP S5899196 A JPS5899196 A JP S5899196A JP 19558381 A JP19558381 A JP 19558381A JP 19558381 A JP19558381 A JP 19558381A JP S5899196 A JPS5899196 A JP S5899196A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
single crystal
diameter
melt
rotating speed
torque
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP19558381A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuyuki Sakiyama
崎山 和之
Fumio Okazaki
岡崎 文夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP19558381A priority Critical patent/JPS5899196A/ja
Publication of JPS5899196A publication Critical patent/JPS5899196A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/20Controlling or regulating
    • C30B15/22Stabilisation or shape controlling of the molten zone near the pulled crystal; Controlling the section of the crystal

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本殉明は、チョクラルスキー法により育成中の単結晶の
直径をリアルタイムで検出し、直径の自動制御が正確に
行なえるようにした単結晶育成装置に関する。
単結晶材料を得るためには、従来から予習クラルスキー
法が広く採用されているが、この方法で得られる単結晶
材料は一般に丸棒状のインゴットとなっている。
そのため、こうした方法で1jl成された単結晶材料と
しては、可及的大きな直径のものが望ましいのけ勿論と
して、その直径が可能なかぎり一様なものが望ましいっ しかしながら、チョクラルスキー法で育成される単結晶
の直径は、育成条件の僅かの違いによって大きく変化す
るため、単にチョクラルスキー法で単結晶を育成したの
では一様な直径の単結晶材料を得るのは極めて困難で、
一般にはその長手方向に沿って直径が変化した材料しか
得られない。
そこで、育成中の単結晶の直径を検出し、それが所定値
になるように、融液の温度などを自動的に制御するよう
にした単結晶直径自動制御装置が使用されており、その
−例を1lA1図について説明する。
この装置は重量検知方式などと呼ばれているもので、餉
1図において、1は重量検出器、2は育成されつつある
単結晶、3はるつぼ、4は単結晶化されるべき原料の融
液、5は表示装蓋、6は直径制御器、7は時間対重量プ
ログラム設定器、8は高−波誘導加熱用の発振器である
重量検出1f!1は単結晶2を引上げるための引上機構
全体の重量を濶定し、単結晶2の成長に伴なう重量変化
を電気的な信号として制御器6に供給する働きをするも
ので、ロードセルなどと呼ばれる検出機構が用いられて
いる。
直径制御器6は富緻検出器1からの信号を取り入れ、設
定117から与えられている時間対重量プログラムに応
じて発振器8の出力を制御する。
そして、Iik置装出器1により検出された育成中の単
結晶の重量と、発振器8の出力はそれぞれ表示BSによ
って常時表示され、モニターがfiJ能にしである そこで、直径側#W6は車量検出器1から与えられる単
結82の重置を設定器7から与えられるデータと比較し
、成る時間における単結晶2の重量がIvr宙値となる
ように発振器8の出力を変化させ、融液4の温度を、単
結晶材料の溶融点より僅かに高い点で所定の範囲にわた
って精密に制御し、単結晶2の育成速度を変えてやり、
それによりその直径が所定の一宇値となるように4−る
従って、この第1図に示した装置によれば、はぼ一定の
直径を有する単結晶の育成が可能になり、単結晶の利用
効率を改善することができる。
しかしながら、上記した従来技術においては、■ 引上
機構を含む単結晶の僅かな重量変化を検出しなければな
らないため、重量検出器lとして極めて敏感なものが必
要になり、そのため、単結晶の着脱に細心の注意が必要
で取扱いが困鍍であり、かつ充分に注意して取扱っても
誤動作を生じ易い。
■ 単結晶の重量変化により間接的に直径変化を検出し
、それによる制御なので応答遅れがあり、育成された単
結晶に微細な直径変化が洩ってその表面が平滑にならな
い。
という欠点があった。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点を除き、取扱
いが簡単で、しかも直径が一様で表面に凹凸のない良好
な状態の単結晶が容易に得られるようにした暎結晶1を
成装置のm径自動制御wA樽を提供するにある。
この目的を達成するため、本発明は、単結晶引上機構に
与えられている能率と、その結果生じる一転達度から育
成中の単結晶の直径を直接検出して制御を行なうように
した点を特徴とする。
以下、本発明による単結晶肯成装蓋の直径自動制御機構
の実施例を図面について説明する。
#12図は本発明の一実施例で、育成中の単結晶2、る
つば3、融液4、発揚W8に@1図の従来例と同じであ
り、9はモータ、10は回転i!!!度検、重器、11
はトルク設定器、12は時間対直径プログラム設定器、
13は熱電対などの温度検出器、14は直径111J 
11器である。
モータ9はトルク!12宇器11から供給される電力に
より所定のトルクを発生し、それを単結晶2の引上機構
に与えて育成中の単結晶2を回転させる。そして、この
ときの回転速度が検出器10で検出されて直径制御器1
4に入力される。
時間対直径プログラム設定器12には育成中の単結晶2
の直径に対する目標値を時間の経過について任意に設定
したデータがプログラムされ、それが時間の函数として
直径制御器14に人力される。
温度検出器13は融液4の温度を検出し、それを直径制
御器14に入力する0 直径制御器14は回転速度検出器10から与えられる育
成中の単結晶2の回転速度を表わすデータΩと、トルク
設定器11から与えられるモータ9で発生しているトル
クを表わすデータMと、温良検出器13から与えられる
融液4の温度を表わすデータを入力とし、まず、融液4
の温度から≠−1ル検索などで融液4のその温度におけ
る密度ρと動粘性係数iとを求め、ついでこれら回転速
度g1トルクM1密度ρ、動粘性係数iから育成中の単
結晶20半径&を算出し、これを時間対直径プログラム
設定器12から与えられている直径D(t)と比較する
。そして、下記の(1)式が満足されるように発振器8
の出力を変化させてやる。
D(i)−2R−0−・・・・・・・・・−7(11即
ち、(1)式が正となったとき、つまり単結晶2の直径
が設定値より大きくなったときに−Iま発振器$の出力
を増加させ、融液4の温度を僅かに上昇させて単結晶の
育成速度を下げ、(1)式カ;負となったらIja伽磐
8の出力を減少させ、−液4の温度を儀かに下降させて
単結晶の育成速度を上げるようにするのである。
なお、このときの融液4の温度変化範囲は、単結晶の生
長が可能な範囲に限宇されるのはいうまでもない。
この結果、上記第2図に示した実施例によれば、育成中
の単結晶2の直径の検出がほとんど1ノアルタイムでし
かも充分な精度を保って行なわれるため、所定の正しい
直径寸法を有し、かつ円柱状インゴツシの表釦にほとん
ど凹凸のない良好な状態の単結晶を得ることができる、
次に、上記実施例において、Iば径制御器14における
単結晶の直径算出動作につし、・て説明する。
育成中の単結晶2はモータ9によって回転させられてい
るが、このとき単結晶2を同転させるのている部分で生
じる融液4の動粘性による抵抗で決まる。そして、この
ときの抵抗は、融液4の密度pと動粘性係数?、単結晶
2の融液4に接している部分の半径凡とその回転速度Ω
によって決まるから、結局、次の(2)式が成立するこ
とfJ″−知られている。
9こで、R;単結晶が融液に接する部分の半径〔σ〕 M:モータから与えられるトルク(能 率)(N−淋〕 I:融液の密度(f/i) *:s液の動粘性係数(i/旗〕 Ω:モータの回転速度(Rev/就〕 なお、この(2)式が成立することは、例えば、197
2年5月15日、東京大学出版会発行、東京大学基礎工
学l「応用物理学実験」の52〜55頁などにより一知
である。
そして、融液4の密度pと動粘性係数ンとは、融[4の
組成が判っている以tはその温度から一義的に与えられ
るものであり、しかも、融液4の温度は温度検出111
3に:よりリアルタイムで簡単に、しかも正確に求める
ことができるから、これらのデータル1ンも単結晶育成
中にリアルタイムで正確に得られる上、単結晶20回転
速度gは回転速度検出11toで、そしてモータ9のト
ルクMは設定器11でそれぞれいずれもリアルタイムで
正確に得られるから、結局、この実施例においては、単
結晶育成中連続的にほとんど遅れを生じることなく単結
晶2の直径が検出できることになり、WIi径のIII
IJ mを正−に、しかも連続して行なうことができ、
その結果、tI囲が平滑な単結晶が得られるのである。
また、この実施例では、単結晶2の引上+IA榊に必安
な検出器が回転速度検出器lOだけであり、このような
回転速度検出器は高精度で、しかもその1g1転達度を
人力する部分の構造が畦純で機械的に極めて丈夫なもの
が@易に得られるため1単結晶2の取付け、取外し時な
どに加えられる外力によって破指したり、誤差を生じた
りする虞れを全く生じないようにでき、取扱いが極めて
容易な単結晶育成装置を得ることができる。
なお、以上の実施例では特に説明しなかったが、このよ
うな単結晶育成装置の単結晶育成時における回転速度は
、一般に数〜数1 ORPM程麿に保たれ、このときの
単結晶の引出速度は数〜lO数鰭位が一般的である。
以上説明したように、本発明によれば、高精度のもので
は構造が脆弱でかつ誤差を生じ糾い重絃検出器が不要で
、しかも育成中の単結晶の直径がりアルタイムで連続的
に高精度で検出できるから、従来技術の欠点を除き、比
較的荒い取扱いによっても誤差を生じる虞れがなくて取
扱いが容易になり、直径の制御が正確に遅れなく行なえ
て表面が滑かな単結晶が容易に得られる単結晶育成装置
の直径自動制御機構を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
tIs1図は直径自動制御機構を備えた単結晶育成装置
の従来例を示す模式ブロック図、1111図は本発明に
よる直径自動制御+N榊の一実施例を備えた単結晶育成
装置の一例を示す模式プaツク図・2・・・・・・育成
中の単結晶、3・・・・・・るつぼ、4・・・・・・融
液、8・・・・・・高−波騎導加熱用発振器、9・・・
・・・モー#、10・・・・・・回転速度検出器、11
・・・・・・トルク設定器、12・・・・・・時間対l
径プログラム設定器、13・・・・・・温度検出器、1
4・・・・・・直径制御器。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. チョクラルスキー法により育成中の単結晶の直径を検出
    し、所定値の1&径を有する単結晶が得られ本ようにし
    た単結晶育成装置において、単結晶育成中の結晶引上機
    構に与えられている能率と、それによる単結晶引上装置
    の同転速度によって育成中の単結晶の直径を検出するよ
    うに構成したことを特徴とする単結晶育成装置の直径自
    勉制御機構。
JP19558381A 1981-12-07 1981-12-07 単結晶育成装置の直径自動制御機構 Pending JPS5899196A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19558381A JPS5899196A (ja) 1981-12-07 1981-12-07 単結晶育成装置の直径自動制御機構

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19558381A JPS5899196A (ja) 1981-12-07 1981-12-07 単結晶育成装置の直径自動制御機構

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5899196A true JPS5899196A (ja) 1983-06-13

Family

ID=16343546

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19558381A Pending JPS5899196A (ja) 1981-12-07 1981-12-07 単結晶育成装置の直径自動制御機構

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5899196A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0293757A2 (de) * 1987-05-30 1988-12-07 Forschungszentrum Jülich Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Ermittlung einer Bestimmungsgrösse für den Übergangsbereich zwischen Schmelze und Kristall
EP0619387A1 (en) * 1993-03-29 1994-10-12 Research Development Corporation of Japan Pull method for growth of single crystal using density detector and apparatus therefor

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4965388A (ja) * 1972-10-27 1974-06-25

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4965388A (ja) * 1972-10-27 1974-06-25

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0293757A2 (de) * 1987-05-30 1988-12-07 Forschungszentrum Jülich Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Ermittlung einer Bestimmungsgrösse für den Übergangsbereich zwischen Schmelze und Kristall
EP0619387A1 (en) * 1993-03-29 1994-10-12 Research Development Corporation of Japan Pull method for growth of single crystal using density detector and apparatus therefor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6241818B1 (en) Method and system of controlling taper growth in a semiconductor crystal growth process
WO2010048790A1 (zh) 提拉法晶体生长的控制方法
JPS63242991A (ja) 結晶径制御方法
JPH04149092A (ja) コーン部育成制御方法及び装置
US6203611B1 (en) Method of controlling growth of a semiconductor crystal to automatically transition from taper growth to target diameter growth
JPH0777995B2 (ja) 単結晶の比抵抗コントロール方法
JPS59102896A (ja) 単結晶の形状制御方法
KR950004788B1 (ko) 관상결정체 성장장치의 제어시스템
JPS5899196A (ja) 単結晶育成装置の直径自動制御機構
RU2423559C2 (ru) Способ выращивания монокристалла сапфира на затравочном кристалле, остающемся в расплаве, в автоматическом режиме
O'Kane et al. Infrared TV system of computer controlled Czochralski crystal growth
US6030451A (en) Two camera diameter control system with diameter tracking for silicon ingot growth
JPS6337078B2 (ja)
JPH09118585A (ja) 単結晶引上装置および単結晶の引上方法
JPS6283395A (ja) 単結晶引上装置の直径制御方法
JPH01212291A (ja) 結晶育成方法および育成装置
JP2579761B2 (ja) 単結晶直径の制御方法
JPH052636B2 (ja)
US20050211157A1 (en) Process control system for controlling a crystal-growing apparatus
JPH0755878B2 (ja) 半導体単結晶の直径制御方法
JPS6283394A (ja) 単結晶引上装置の直径制御方法
JPS6321280A (ja) 単結晶テール部の直径制御方法
JP2004035353A (ja) シリコン単結晶の製造方法
JP2811826B2 (ja) 単結晶育成装置および単結晶育成方法
JPS5935876B2 (ja) 単結晶自動径制御方法