JPS5898913A - 半導体集積回路装置 - Google Patents
半導体集積回路装置Info
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- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、半導体ウェハ上に多数の集積回路(IC)チ
ップを一括形成した半導体IC装置に関する。
ップを一括形成した半導体IC装置に関する。
半導体ICE)@造は、一般に、第1図に示すように、
シリコンなどの半導体のウェハl上に多数のICテップ
2を一括して形成したのち、分断線3で個々のICチッ
プ2を切り離すという方法で行なわれる。そして、雄体
のICチップ20単位でテストを行い、良品のICチッ
プ2を第2図(a)または(b)のようにして組立てI
Cを作る。
シリコンなどの半導体のウェハl上に多数のICテップ
2を一括して形成したのち、分断線3で個々のICチッ
プ2を切り離すという方法で行なわれる。そして、雄体
のICチップ20単位でテストを行い、良品のICチッ
プ2を第2図(a)または(b)のようにして組立てI
Cを作る。
第2図(a)の場合は、セラミックパッケージの台5a
の上にICチップ2を取付ff、ICチップ2上のポン
ディングパッド8とICリード7との間をボンディング
ワイヤ6で接続し、ICチップ2の信号ビン、電源ピン
をICリード7より取出す。
の上にICチップ2を取付ff、ICチップ2上のポン
ディングパッド8とICリード7との間をボンディング
ワイヤ6で接続し、ICチップ2の信号ビン、電源ピン
をICリード7より取出す。
この後、セラミックパッケージの上カバー5bを載せて
封止する。
封止する。
第2図(b)の場合は、ICチップ2のポンディングパ
ッド9をセラミック基板lO上の接続用パッドに直接重
ねて取付け、セラミック基板lOの接続パターン11で
ICチップ2相互を接続し回路を構成する。外部への信
号収出しは、セラミック基板lO上のパターン11でI
Cリード12に接続する。またICチップ2の上方は封
止カバー13にて櫃う。
ッド9をセラミック基板lO上の接続用パッドに直接重
ねて取付け、セラミック基板lOの接続パターン11で
ICチップ2相互を接続し回路を構成する。外部への信
号収出しは、セラミック基板lO上のパターン11でI
Cリード12に接続する。またICチップ2の上方は封
止カバー13にて櫃う。
こうして完成したICは、機能テストとエージングを行
い、良品ICだけを製品として使用する。
い、良品ICだけを製品として使用する。
従来は以上に述べたように、ICチップをICパッケー
ジまたはセラミック基板に組込んだ後エージングを実施
するため、エージングによる初期不良が発生したときは
、そのICをパッケージごと捨てたり、セラしツク基板
上でのICチップの交換が必要となる。このため、IC
パッケージへの組立て、あるいはセラミック基板上での
ICチップの交換、テスト工数に無駄を生じ、歩留りに
よっては、相当の原価上昇となる。
ジまたはセラミック基板に組込んだ後エージングを実施
するため、エージングによる初期不良が発生したときは
、そのICをパッケージごと捨てたり、セラしツク基板
上でのICチップの交換が必要となる。このため、IC
パッケージへの組立て、あるいはセラミック基板上での
ICチップの交換、テスト工数に無駄を生じ、歩留りに
よっては、相当の原価上昇となる。
これは、多数のICチップ2を実装する大形のハイブリ
ッドICでは特に歩留り低下の原因となる。また、不良
ICチップの交換作業も容易ではなく、うまくできても
作業不良による信頼度低下を起こし易い。
ッドICでは特に歩留り低下の原因となる。また、不良
ICチップの交換作業も容易ではなく、うまくできても
作業不良による信頼度低下を起こし易い。
本発明は上述のような間魂点を改善することを目的とす
るもので、その特徴は、半導体ウニ/1上の全ICチッ
プに共通の給電用パターンをICチップ群の表面保護膜
(パッシベーション膜)上に形成し、各ICチップを切
り離さない状態でエージングを可能とした構成に、Iる
。
るもので、その特徴は、半導体ウニ/1上の全ICチッ
プに共通の給電用パターンをICチップ群の表面保護膜
(パッシベーション膜)上に形成し、各ICチップを切
り離さない状態でエージングを可能とした構成に、Iる
。
以下、第3図および第4図によって本発明の一実施例を
説明する。なお、第1図と同様部分には同符号を付しで
ある。
説明する。なお、第1図と同様部分には同符号を付しで
ある。
第3図において、シリコンウェハl上に多数のICチッ
プ2が形成されている。これら各ICチップ2は、最終
的には分断線3で切ね離され、パッケージングされるこ
とは従来と同様である。従来と違う点は、シリコンウェ
ハl上の各ICチップ2の上面を覆うパッシベーション
膜(第4図参照)上に、全ICチップ2に共通の給電用
パターン14a、14bが設けられている点である。1
8g。
プ2が形成されている。これら各ICチップ2は、最終
的には分断線3で切ね離され、パッケージングされるこ
とは従来と同様である。従来と違う点は、シリコンウェ
ハl上の各ICチップ2の上面を覆うパッシベーション
膜(第4図参照)上に、全ICチップ2に共通の給電用
パターン14a、14bが設けられている点である。1
8g。
18bは給電用パターン14a、14bに外部より給電
するための電源供給パッドである。
するための電源供給パッドである。
ここでICチップ2は、例えば第4図の断面図に示すよ
うに、多数のトランジスタ、ダイオード、抵抗より回路
を構成しており、各回路素子の表面は絶縁膜(8io、
等)17で絶縁し、各回路素子間はアルミニウム等の1
路間接続線19を蒸着して接続する。また各ICチップ
2には外部との接続用の信号または電源パッド15を持
っており、ボンディング線等により外部に接続する。さ
らに1各ICチツプ2の表面には、表面保護のためパッ
シベーション膜16が形成される。
うに、多数のトランジスタ、ダイオード、抵抗より回路
を構成しており、各回路素子の表面は絶縁膜(8io、
等)17で絶縁し、各回路素子間はアルミニウム等の1
路間接続線19を蒸着して接続する。また各ICチップ
2には外部との接続用の信号または電源パッド15を持
っており、ボンディング線等により外部に接続する。さ
らに1各ICチツプ2の表面には、表面保護のためパッ
シベーション膜16が形成される。
本発明の特徴である給電用パターン14a、14bは、
図示のように、上記のパッシベーション膜16上にアル
ミニウム等の金属を蒸着する郷の方法で形成される。勿
論給電用パターン14a、14bは各ICチップ2の電
源供給用パッド15に接続される。
図示のように、上記のパッシベーション膜16上にアル
ミニウム等の金属を蒸着する郷の方法で形成される。勿
論給電用パターン14a、14bは各ICチップ2の電
源供給用パッド15に接続される。
しかして、電源供給パッド18a、18bに電源を接続
すれば、給電用パターン14a、14bを通じてシリコ
ンウェハl上の全ICチップ2に同時に電源を供給する
ことができる。したがって、シリコンウェハlから切り
離す以前の状態において、全ICチップ2を一勢に容易
にエージングすることができる。
すれば、給電用パターン14a、14bを通じてシリコ
ンウェハl上の全ICチップ2に同時に電源を供給する
ことができる。したがって、シリコンウェハlから切り
離す以前の状態において、全ICチップ2を一勢に容易
にエージングすることができる。
なお、各ICチップの使用電源が2種類以上の場合は、
それに応じた本数の給電用パターンが必要である。その
場合は、パッシベーション膜上に酸化膜を用いて給電用
パターンを多層配線すればよい。
それに応じた本数の給電用パターンが必要である。その
場合は、パッシベーション膜上に酸化膜を用いて給電用
パターンを多層配線すればよい。
本発明は以上に評述したように、半導体ウエノ・上の全
ICチップに共通の給電線をパックベーション上に形成
するので、ウニ・・整位で効率良くICチップのエージ
ングを行なうことができる。このようなウエノ1単位で
エージングを実施し初期不良品を除くことにより、IC
の後工程後の歩留りが上昇し原価低減が期待できる。杓
に、大規模で多数のチップを一つの基板上に組立てる大
形のノ・イブリッドICでは、その効果が大きく、また
チップ交換等による信頼度低下の防止も期待できる。
ICチップに共通の給電線をパックベーション上に形成
するので、ウニ・・整位で効率良くICチップのエージ
ングを行なうことができる。このようなウエノ1単位で
エージングを実施し初期不良品を除くことにより、IC
の後工程後の歩留りが上昇し原価低減が期待できる。杓
に、大規模で多数のチップを一つの基板上に組立てる大
形のノ・イブリッドICでは、その効果が大きく、また
チップ交換等による信頼度低下の防止も期待できる。
このように、本発明によれば多くの効果が得られる。
第1図は従来技術を説明するための、ICチップを切り
離す以前のシリコンウエノ・の概略的な部分拡大平面図
、第2図(a)および申)はICチップの実装構造を説
明する断面図、第3図ふ・よび第4図は本発明の一実施
例を説明するための図であり、第3図はICチップを切
り離す以前のシリコンウェハの概略的な部分拡大平面図
、第4図は同上シリコンウェハの概略的な部分拡大断面
図である。 l・・・シリコンウエノ〜、2・・・ICチップ、3・
・・分WrMa、14 a 、 14 b・・・給電用
ノくターン、16・・・ノシツシヘーショy膜、18
a 、 18 b・・・電源供給ハツト。 ”(=1図 第2図 (a) (b)
離す以前のシリコンウエノ・の概略的な部分拡大平面図
、第2図(a)および申)はICチップの実装構造を説
明する断面図、第3図ふ・よび第4図は本発明の一実施
例を説明するための図であり、第3図はICチップを切
り離す以前のシリコンウェハの概略的な部分拡大平面図
、第4図は同上シリコンウェハの概略的な部分拡大断面
図である。 l・・・シリコンウエノ〜、2・・・ICチップ、3・
・・分WrMa、14 a 、 14 b・・・給電用
ノくターン、16・・・ノシツシヘーショy膜、18
a 、 18 b・・・電源供給ハツト。 ”(=1図 第2図 (a) (b)
Claims (1)
- 1、半導体ウェハ上に多数の集積−路チップを一括して
形成した半導体集積回路装置において、核半導体ウェハ
上のすべての集積−路チップに共通の給電用パターンを
該集積(ロ)路チップ群の表面像@喚上に形成し九こと
を特徴とする半導体集積し路装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56196791A JPS5898913A (ja) | 1981-12-09 | 1981-12-09 | 半導体集積回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56196791A JPS5898913A (ja) | 1981-12-09 | 1981-12-09 | 半導体集積回路装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5898913A true JPS5898913A (ja) | 1983-06-13 |
Family
ID=16363700
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56196791A Pending JPS5898913A (ja) | 1981-12-09 | 1981-12-09 | 半導体集積回路装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5898913A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5087239A (en) * | 1982-12-23 | 1992-02-11 | Tampax Limited | Tampon applicator |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51101473A (ja) * | 1975-03-04 | 1976-09-07 | Suwa Seikosha Kk | Handotaisochi |
JPS5380161A (en) * | 1976-12-24 | 1978-07-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Electrode formation of semiconductor |
-
1981
- 1981-12-09 JP JP56196791A patent/JPS5898913A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51101473A (ja) * | 1975-03-04 | 1976-09-07 | Suwa Seikosha Kk | Handotaisochi |
JPS5380161A (en) * | 1976-12-24 | 1978-07-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Electrode formation of semiconductor |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5087239A (en) * | 1982-12-23 | 1992-02-11 | Tampax Limited | Tampon applicator |
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