JPS5896554A - グラビア製版における一液型腐食法 - Google Patents
グラビア製版における一液型腐食法Info
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- JPS5896554A JPS5896554A JP19535481A JP19535481A JPS5896554A JP S5896554 A JPS5896554 A JP S5896554A JP 19535481 A JP19535481 A JP 19535481A JP 19535481 A JP19535481 A JP 19535481A JP S5896554 A JPS5896554 A JP S5896554A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- corrosion
- time
- cylinder
- data
- cell
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/02—Engraving; Heads therefor
- B41C1/025—Engraving; Heads therefor characterised by means for the liquid etching of substrates for the manufacturing of relief or intaglio printing forms, already provided with resist pattern
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はグ)フビア製版における新規な一沿型腐食法に
関するものである。
関するものである。
グラビア製版に′おいて一液型腐食法と呼ばれるものは
腐食工程管理の点から優れたものであるといわれている
。これは、一定濃度の塩化第二鉄液をVツンダ面に供給
しつつ、シリンダ(ロ)転做を変化させて所期のセル深
度カーブを得ようとするものであるが、従来1:おける
方等は腐食中最Vヤドク部と他の所望の部分との茸点の
セル深度を検出して行き、上記所望部分のセル深度が中
間設定値と一致する毎に最シャドク部の深度を測定し、
その深度が所定値よりも大きければ回転数を落し、逆に
小さければ回転数をFげて腐食量をll整するものであ
る。従って二点のセル深度しか制御し得ないので、中間
調の部分のセル深度が所期の竜ル深度カープシ:合致し
ているか否かは腐食が終了しなければ検知し得ない。
腐食工程管理の点から優れたものであるといわれている
。これは、一定濃度の塩化第二鉄液をVツンダ面に供給
しつつ、シリンダ(ロ)転做を変化させて所期のセル深
度カーブを得ようとするものであるが、従来1:おける
方等は腐食中最Vヤドク部と他の所望の部分との茸点の
セル深度を検出して行き、上記所望部分のセル深度が中
間設定値と一致する毎に最シャドク部の深度を測定し、
その深度が所定値よりも大きければ回転数を落し、逆に
小さければ回転数をFげて腐食量をll整するものであ
る。従って二点のセル深度しか制御し得ないので、中間
調の部分のセル深度が所期の竜ル深度カープシ:合致し
ているか否かは腐食が終了しなければ検知し得ない。
また、従来方法はフィードバック制御であるから、セル
深度測定器、演算制御装置等を要し、れたもので、各種
腐食時間及び各種シリンダ回転数の各々の組合せ感:お
ける腐食特性を予め求めておき、これと所期のセル深度
カーブとの比較から、総腐食特開及びシリンダ回転数を
検出か する熱、あるいは相関性の高い部分毎C:上記セル深賓
カーブを分断して各部分での腐食時間及び使用すべき回
転数を腐食後期より前期へと順次検出して行き、これに
基づいて実際の腐食を行なうようにしたプリセット方式
の一液型腐食法であることを特徴とする。
深度測定器、演算制御装置等を要し、れたもので、各種
腐食時間及び各種シリンダ回転数の各々の組合せ感:お
ける腐食特性を予め求めておき、これと所期のセル深度
カーブとの比較から、総腐食特開及びシリンダ回転数を
検出か する熱、あるいは相関性の高い部分毎C:上記セル深賓
カーブを分断して各部分での腐食時間及び使用すべき回
転数を腐食後期より前期へと順次検出して行き、これに
基づいて実際の腐食を行なうようにしたプリセット方式
の一液型腐食法であることを特徴とする。
以下、図面に示す実施例に基づいて本発明を説明する。
最初に、検査液によりグラビア版材のレジストの浸透特
性を検査する方法について説明する。
性を検査する方法について説明する。
なお、検査液は例えば多価アルコールを主成分とする導
電性溶液であり、非腐食性か又は少しばかり腐食性を有
している。
電性溶液であり、非腐食性か又は少しばかり腐食性を有
している。
1に1図はグラビア版材のうちシリンダ状のものを表わ
し、図においてOaは版材の銅層表面に密着せしめられ
たレジストである。レジストtlGには印刷すべき画像
が現像により形成されると共C:、検査用の階調スケー
ル(例えば、申(ll 1■1−の4段階)も形成され
ている。
し、図においてOaは版材の銅層表面に密着せしめられ
たレジストである。レジストtlGには印刷すべき画像
が現像により形成されると共C:、検査用の階調スケー
ル(例えば、申(ll 1■1−の4段階)も形成され
ている。
112図は上記レジストの特性を検査する装置を示し、
*Saは当該装置のIIl!用状態全状態ている0図で
示されるように、レジスト用電極口は抵抗R1を介して
電源+VCOに接続されると共に、レジスト用電極鱒は
抵抗R,を介して接地されている。また、レジスト用電
極鱒の電位VBはスレッショルド電位V!菫に設定され
た比較器(至)に入力され、比較器(至)の出力CM(
2値信号)はアンド回路08に入力される。アンド回路
(至)にはパルス発振4頭からの所定周波数のクロック
パルスCPが入力されており、アンド回路(至)の出力
はカウンタ(ハ)で計数され、その計数値がデコーダ(
至)を経て表示部(2)で浸透時間データとして表示さ
れるようになっている。しかして、カウンタのの計数値
はクリアボタン(至)でクリアされるようになっており
、抵抗Rsは被測定物としてのレジストOQの抵抗を表
わしている。レジスト(1(1は電極(至)によって接
地される。
*Saは当該装置のIIl!用状態全状態ている0図で
示されるように、レジスト用電極口は抵抗R1を介して
電源+VCOに接続されると共に、レジスト用電極鱒は
抵抗R,を介して接地されている。また、レジスト用電
極鱒の電位VBはスレッショルド電位V!菫に設定され
た比較器(至)に入力され、比較器(至)の出力CM(
2値信号)はアンド回路08に入力される。アンド回路
(至)にはパルス発振4頭からの所定周波数のクロック
パルスCPが入力されており、アンド回路(至)の出力
はカウンタ(ハ)で計数され、その計数値がデコーダ(
至)を経て表示部(2)で浸透時間データとして表示さ
れるようになっている。しかして、カウンタのの計数値
はクリアボタン(至)でクリアされるようになっており
、抵抗Rsは被測定物としてのレジストOQの抵抗を表
わしている。レジスト(1(1は電極(至)によって接
地される。
接地箇所は1j!3図の場合版材の銅層(至)である。
しかして、電源ONにより検査動作を開始するが。
この場合、レジスト用電極04は抵抗R2を介して接地
されているので、その電位VBは44図(4)の時点t
o〜t1のように0〔v〕となっており、スレッショル
ド電位(+ VTi )よりも低くなっている。したが
って、比較器(至)の出力は2値信号の“01となって
おり(第4図の)参照)、クロックパルスCPはアンド
回路(至)で阻止されるのでカウンタ@は計数を行なわ
ない。
されているので、その電位VBは44図(4)の時点t
o〜t1のように0〔v〕となっており、スレッショル
ド電位(+ VTi )よりも低くなっている。したが
って、比較器(至)の出力は2値信号の“01となって
おり(第4図の)参照)、クロックパルスCPはアンド
回路(至)で阻止されるのでカウンタ@は計数を行なわ
ない。
ここにおいて、導電性の検査液SLをスポイトによって
レジス) GO上のレジスト用電極曲及び軸位置に滴下
する。しかして、かかる検査#8Lは導電性であると共
に、レジストQO及びレジスト用電極Q2S、Q4に接
触するので、この滴下暗点t1から電源(+ Vac)
からの電流が抵抗R1を経て抵抗R2及びR,に流入す
る。したがって、電位V。
レジス) GO上のレジスト用電極曲及び軸位置に滴下
する。しかして、かかる検査#8Lは導電性であると共
に、レジストQO及びレジスト用電極Q2S、Q4に接
触するので、この滴下暗点t1から電源(+ Vac)
からの電流が抵抗R1を経て抵抗R2及びR,に流入す
る。したがって、電位V。
は抵抗R1と、抵抗R2及びRiの合成抵抗値との分圧
値(VM )となり(@4図囚参照)、これが比較器−
に入力される。この分圧値vMはスレッショルド電位(
+ V?* )よりも大きいので、比較器(至)の出力
CMは2値信号の“11となる(114図031参照)
。これによってクロックパルスCPはアンド回路(至)
を通ってカウンタ(至)(二人力され、計数動作が開始
される。このカウンタ■の計数値はデコーダ@で時間デ
ータに換算され、計数開始時点t1からの経過時間が表
示部(2)で表示される。
値(VM )となり(@4図囚参照)、これが比較器−
に入力される。この分圧値vMはスレッショルド電位(
+ V?* )よりも大きいので、比較器(至)の出力
CMは2値信号の“11となる(114図031参照)
。これによってクロックパルスCPはアンド回路(至)
を通ってカウンタ(至)(二人力され、計数動作が開始
される。このカウンタ■の計数値はデコーダ@で時間デ
ータに換算され、計数開始時点t1からの経過時間が表
示部(2)で表示される。
しかして、レジスト輔上に検査液SLが滴下されると、
徐々に検査液8Lがレジスト質を浸透するので、その抵
抗R,は次第に小さくなる。
徐々に検査液8Lがレジスト質を浸透するので、その抵
抗R,は次第に小さくなる。
したがって、電位v11は114図(4)に示すように
時点t1以降徐々に低下し、遂にはスレッショルド電位
vT、よりも小さくなる(時点t2)。これにより比較
器(2)の出力CMは再び“0′となり、パルス発振器
−からのクロックパルスCPはアンド回路(至)で遮断
されカウンタ(2)の計数動作が停止する。かくして、
カウンタ@は時点t1からt2まで、つまりレジス)
0(I上に検査液8Lを滴下してからその検査液SLが
所定深さくスレッショルド電位■THの値に対応する)
に浸透するまで、パルス発振器−からのクロックパルス
CPを計算し、これをデコーダ(至)で時間データに変
換してから浸透時間として表示部(至)に表示する。こ
れにより、レジスト■の検査液SLによる浸透時間を間
室することができる。なお、カウンタ(2)の計数値は
クリアボタン(至)を押すことによってクリアされる。
時点t1以降徐々に低下し、遂にはスレッショルド電位
vT、よりも小さくなる(時点t2)。これにより比較
器(2)の出力CMは再び“0′となり、パルス発振器
−からのクロックパルスCPはアンド回路(至)で遮断
されカウンタ(2)の計数動作が停止する。かくして、
カウンタ@は時点t1からt2まで、つまりレジス)
0(I上に検査液8Lを滴下してからその検査液SLが
所定深さくスレッショルド電位■THの値に対応する)
に浸透するまで、パルス発振器−からのクロックパルス
CPを計算し、これをデコーダ(至)で時間データに変
換してから浸透時間として表示部(至)に表示する。こ
れにより、レジスト■の検査液SLによる浸透時間を間
室することができる。なお、カウンタ(2)の計数値は
クリアボタン(至)を押すことによってクリアされる。
以上のような間室が上記階調スケールの4段階(1、I
、I、IV )の各部分に対して行なわれ、各浸パ透時
間が検査される。
、I、IV )の各部分に対して行なわれ、各浸パ透時
間が検査される。
ここに、階調スケールの各段階(一対応するセルの設定
深度は、原稿のポジ濃度と115図の如き対応関係にあ
る。この関係曲線は経験上印刷物に応じて適宜選択決定
されるものである。
深度は、原稿のポジ濃度と115図の如き対応関係にあ
る。この関係曲線は経験上印刷物に応じて適宜選択決定
されるものである。
また、唖ルの設定深度は上記検査液浸j!1fF間と8
6図の如き相関関係にあり、検査液浸透時間と腐食液浸
透時間とは117図の如き相関関係にある。この場合、
腐食液の濃度は一定に設定されており、濃度が異なれば
図示のカーブも相違してくる。なお、本発明者等の実験
によればこの力°−プはシリンダ回転数とほとんど無関
係に一定であることが確認されている。
6図の如き相関関係にあり、検査液浸透時間と腐食液浸
透時間とは117図の如き相関関係にある。この場合、
腐食液の濃度は一定に設定されており、濃度が異なれば
図示のカーブも相違してくる。なお、本発明者等の実験
によればこの力°−プはシリンダ回転数とほとんど無関
係に一定であることが確認されている。
さらに一定濃度の腐食液によるシリンダ表−の腐食量は
、シリンダの回転数の影響を受け、回転数が小さい時は
腐食量が少なく、逆に回転数が上がれば腐食量が多(な
り、又腐食時間によっても異なるが、回転数又は腐食時
間を一定に保持すれば検査液浸透時間とセル深度とは一
8図及び@9図の如く一定の相関関係を保つ。
、シリンダの回転数の影響を受け、回転数が小さい時は
腐食量が少なく、逆に回転数が上がれば腐食量が多(な
り、又腐食時間によっても異なるが、回転数又は腐食時
間を一定に保持すれば検査液浸透時間とセル深度とは一
8図及び@9図の如く一定の相関関係を保つ。
しかして、前記検査装置による調定結果を1に44図の
如きレジストの浸透特性を求め、これとIJ47図、第
8図及びI!91!ilとの対比、演算処理等から総腐
食時間、使用すべき各植シリンダ回転数及びそれら各回
転数での対応腐食時間、ならびに回転数変換順序を導出
しつる。
如きレジストの浸透特性を求め、これとIJ47図、第
8図及びI!91!ilとの対比、演算処理等から総腐
食時間、使用すべき各植シリンダ回転数及びそれら各回
転数での対応腐食時間、ならびに回転数変換順序を導出
しつる。
次に、上記第8図及び第9図、のデータの求め方につい
て述べる。
て述べる。
まず、所定の試験用レジストに対して複数種のりリング
回転数(A、B、O・・・・・・・・)につき腐食時間
、検査液浸透時間及び腐食後のセル深Vの関係を得るた
めの試験を行なう、 III 0図はそのうち回転数A
でのテスト結果を表わした表である。
回転数(A、B、O・・・・・・・・)につき腐食時間
、検査液浸透時間及び腐食後のセル深Vの関係を得るた
めの試験を行なう、 III 0図はそのうち回転数A
でのテスト結果を表わした表である。
試験用レジストはシリンダの端層の上に密着されており
、所望のテスト用階調スケールがハイライト部からシャ
ドウ部に向けて形成され、例えば申(ll (履;・・
・・・・・・・の如く多数区分されると共に、各階−に
ついて検査液用および腐食液用の〆−が複数個設けられ
ている。
、所望のテスト用階調スケールがハイライト部からシャ
ドウ部に向けて形成され、例えば申(ll (履;・・
・・・・・・・の如く多数区分されると共に、各階−に
ついて検査液用および腐食液用の〆−が複数個設けられ
ている。
そして、例えばすべての階調中(WI Ill・・・・
・・・・について検査液をレジストの所定の区−に滴下
してその浸透時間(xll ) (xD )−・−・・
(zlt )・・・・・・・・(XIV6 )・・・・
・・を測定し、次いで他区画に所定濃度の腐食液を供給
して腐食時間なT1、T2、Ts、・・・・・・・・・
と異ならせて腐食を行なった後、レジストを除去してそ
の下の銅層に形成された七kfJfR度を各区−につい
て(jh ) (jlz )・・・・・・・・・(jl
l)・・・・・・・・・と畦間する。かかる測定を各回
転数Aの他、B、10・・曲・・・・につぃても行な5
゜ 第8図はこの測定結果を片対数でグラフ化したもので、
腐食時間(T4)についての例示である。このグラフは
各種回転数A%B、Oに関する検査液浸透時間1zl対
セル深度+11の関係を示している。
・・・・について検査液をレジストの所定の区−に滴下
してその浸透時間(xll ) (xD )−・−・・
(zlt )・・・・・・・・(XIV6 )・・・・
・・を測定し、次いで他区画に所定濃度の腐食液を供給
して腐食時間なT1、T2、Ts、・・・・・・・・・
と異ならせて腐食を行なった後、レジストを除去してそ
の下の銅層に形成された七kfJfR度を各区−につい
て(jh ) (jlz )・・・・・・・・・(jl
l)・・・・・・・・・と畦間する。かかる測定を各回
転数Aの他、B、10・・曲・・・・につぃても行な5
゜ 第8図はこの測定結果を片対数でグラフ化したもので、
腐食時間(T4)についての例示である。このグラフは
各種回転数A%B、Oに関する検査液浸透時間1zl対
セル深度+11の関係を示している。
このようなグラフが他の腐食時間(TI)(T2)・・
・・・・・・・についても描かれる(WI示せず)。
・・・・・・・についても描かれる(WI示せず)。
また、王妃間室結果に基づいて、II?t!4の如きグ
ラフも作成Tる。このグラフは、例えば回転倣囚につい
ての各種実腐食時間(11、I2、I「・・・・・・・
・)に関する検査液浸透時間i:対セル深度1j1の関
係を示している。このようなグラフが他の回転数(B)
、 (CI・・・・・・・・・についても描かれる(
図示せず)。
ラフも作成Tる。このグラフは、例えば回転倣囚につい
ての各種実腐食時間(11、I2、I「・・・・・・・
・)に関する検査液浸透時間i:対セル深度1j1の関
係を示している。このようなグラフが他の回転数(B)
、 (CI・・・・・・・・・についても描かれる(
図示せず)。
ここで、実腐★時閏セIIは次の関係式から求められる
。
。
?:Y+#
(ただし、Yは腐食液浸透時間であり、例えば腐食液付
着時から腐食液と銅とが反応してレジストが黒変するま
での時間として求められる。
着時から腐食液と銅とが反応してレジストが黒変するま
での時間として求められる。
テは腐食時間である。)
すなわち、実腐食時間は腐食液がシリンダの銅面に達し
た後、実際に銅面を腐食している時間である。
た後、実際に銅面を腐食している時間である。
さらに、上記検査液の浸透時間対腐食液の浸透時間の関
係を第7図の如くグラフ化する。このグラフの横軸(=
は上記レジストの各階調部分C二おける検査液の浸透時
間体)が目盛られ、縦軸には同じ各階調部分における腐
食液の浸透時間(Y)が目盛られている。
係を第7図の如くグラフ化する。このグラフの横軸(=
は上記レジストの各階調部分C二おける検査液の浸透時
間体)が目盛られ、縦軸には同じ各階調部分における腐
食液の浸透時間(Y)が目盛られている。
以上のようCニして検査液の浸透性とセル深度との相関
関係が求められることにより、これを基準データとして
前記版材のレジスト(至)の検査液による浸透特性の測
定結果を以下のよう5二対応せしめ、腐食前に腐食条件
を決定することができる。
関係が求められることにより、これを基準データとして
前記版材のレジスト(至)の検査液による浸透特性の測
定結果を以下のよう5二対応せしめ、腐食前に腐食条件
を決定することができる。
なお、グラビア刷版の工程管理を厳密に行なってもレジ
ストは気温、湿度等の変動によりその時々によって性質
を興にするので、これから腐食を關始しようとする直前
に前記浸透特性を検査液を使用して測定装置で検査する
のが望ましい。そこで86図の結果を得たとする。この
グラフは 111図における各階調部分中(ll (1
111%l)が各々どれ位のセル深度を有しなければな
らないかが経験上予め求められているので、それを基に
して各階1liI1分の検査液浸透時間とセル深度との
関係を描いてなるものである。
ストは気温、湿度等の変動によりその時々によって性質
を興にするので、これから腐食を關始しようとする直前
に前記浸透特性を検査液を使用して測定装置で検査する
のが望ましい。そこで86図の結果を得たとする。この
グラフは 111図における各階調部分中(ll (1
111%l)が各々どれ位のセル深度を有しなければな
らないかが経験上予め求められているので、それを基に
して各階1liI1分の検査液浸透時間とセル深度との
関係を描いてなるものである。
次に、186図の浸透特性曲線(至)が!軸と交わると
考えられる点、すなわちセル深度J=Oとなる点pを推
定してその点における、検査液浸透時間(xp )を求
め、この検査液浸透時間に応じた腐食液浸透時間(Yp
)をIII図より求め、これを総腐食時間として決定す
る。もちろん、j=oとすべきレジスト部分の検査液浸
透時間を実地に求めて点pを決定してもよい。
考えられる点、すなわちセル深度J=Oとなる点pを推
定してその点における、検査液浸透時間(xp )を求
め、この検査液浸透時間に応じた腐食液浸透時間(Yp
)をIII図より求め、これを総腐食時間として決定す
る。もちろん、j=oとすべきレジスト部分の検査液浸
透時間を実地に求めて点pを決定してもよい。
上記Apは例えば第6図における(X肛、Allと(x
I、jl)の二点を結ぶ直線が!軸と交差Cる点として
、又は曲線(財)の(xI、 )■)における接線がX
軸と交差する点として設定することがで〜る。
I、jl)の二点を結ぶ直線が!軸と交差Cる点として
、又は曲線(財)の(xI、 )■)における接線がX
軸と交差する点として設定することがで〜る。
このように、総腐食時間(Yp )が決定され、これが
仮にT4に等しければその時間に対応する各種シリンダ
回転数についての検査液浸透時間゛対セル深度の関係デ
ータ(8148図)を遥出し第6図の曲線(至)と比較
する。
仮にT4に等しければその時間に対応する各種シリンダ
回転数についての検査液浸透時間゛対セル深度の関係デ
ータ(8148図)を遥出し第6図の曲線(至)と比較
する。
当該レジスト叫については格6図の曲線−に沿って腐食
がなされるよう条件設定するのが緻も望ましいので、曲
線(至)に近接するデータを選出し、仮にそれがシリン
ダ回転数Bのものであれば、シリンダの使用回転数B、
総腐食時間T4として腐食工程を行なうものと決定する
。
がなされるよう条件設定するのが緻も望ましいので、曲
線(至)に近接するデータを選出し、仮にそれがシリン
ダ回転数Bのものであれば、シリンダの使用回転数B、
総腐食時間T4として腐食工程を行なうものと決定する
。
しかし、回転数Bの一種類だけでは、曲線−を満足でき
ない場合も起り得る。かかる場合には腐食をN期に分断
して各々における最適腐食条件を設定するものとする。
ない場合も起り得る。かかる場合には腐食をN期に分断
して各々における最適腐食条件を設定するものとする。
すなわち、総腐食時間(Yp )が仮にT4に等しけれ
ばその時間に対応する第8図のデータな遥出し、!1!
11図の如く比較する。当該レジストすなわち、検査液
浸透時間が大なる方から比較してIIB図の中から選択
する。すなわち、腐食量後期たる@N期(ただし、N=
2.3.4.5・・・・・・・・・)の腐食条件から設
定を始める。
ばその時間に対応する第8図のデータな遥出し、!1!
11図の如く比較する。当該レジストすなわち、検査液
浸透時間が大なる方から比較してIIB図の中から選択
する。すなわち、腐食量後期たる@N期(ただし、N=
2.3.4.5・・・・・・・・・)の腐食条件から設
定を始める。
この場合、点QN−1を境として、右部分が曲線(至)
と近接している、従って、検査液浸透時間がxM−1か
らxIまでの特性を有するレジスト部分については回転
数人の影響を受けさせることにより、1116図の曲線
(至)における点Qヨー、以降の曲線部分に沿った腐食
が可能となる。
と近接している、従って、検査液浸透時間がxM−1か
らxIまでの特性を有するレジスト部分については回転
数人の影響を受けさせることにより、1116図の曲線
(至)における点Qヨー、以降の曲線部分に沿った腐食
が可能となる。
よって、腐食NJ9](二部用する回転数を人と決定す
る。
る。
また、この決定した回転数Aの使用時間は、点Qヨー、
における検査液の浸j11111間”M−1に対応する
レジスト部分を当該腐食液が浸透しきるまでの時間を上
記決定した総腐食時間T4から差し引と いた時閲宜なる。
における検査液の浸j11111間”M−1に対応する
レジスト部分を当該腐食液が浸透しきるまでの時間を上
記決定した総腐食時間T4から差し引と いた時閲宜なる。
しかして、回転数人の使用時間は、117図のグラフよ
り、検査液の浸透時間x1〜.に相当する腐食液の浸透
時間YM−1を総腐食時間〒4から差し引いた時間(’
r4−Ym−1)として求められる。
り、検査液の浸透時間x1〜.に相当する腐食液の浸透
時間YM−1を総腐食時間〒4から差し引いた時間(’
r4−Ym−1)として求められる。
次に、腐食率M−1期以前に使用する回転数とその使用
時間を求める操作について述べる。
時間を求める操作について述べる。
ここで仮に、腐食を第1期と第2期の二つに分けた場合
(N−2)l二おけるセルの腐食量の割合を第12図で
模式的6:表わす。図において、−虐(至)の破線部分
は腐食第1期の腐食量、実線部分は腐食!1!2期の腐
食量を夫々表わしている。
(N−2)l二おけるセルの腐食量の割合を第12図で
模式的6:表わす。図において、−虐(至)の破線部分
は腐食第1期の腐食量、実線部分は腐食!1!2期の腐
食量を夫々表わしている。
すなわち、図で示されるようd二、鋼層の腐食は傭食第
1期と腐食第2期の両者により段階的4:なされるが、
各々の腐食するセル深度は各々の回転数と相関性を何し
ている。また、各々の腐食によるセル深度は実腐食時間
とも相関性を有している。
1期と腐食第2期の両者により段階的4:なされるが、
各々の腐食するセル深度は各々の回転数と相関性を何し
ている。また、各々の腐食によるセル深度は実腐食時間
とも相関性を有している。
従って、図示の如く腐食の第1期と第2期の[l」転数
の変化による境界線(鎖線)を生ずる。
の変化による境界線(鎖線)を生ずる。
そして、境界線よりも左方の検査液浸透時間が大きいレ
ジスト部では腐食第2期の回転数だけの影會を受け、境
界線よりも右方の検査液浸透時間が小さいレジスト部で
は腐食第1期の回転数と第2期の回転数の両方の影響を
受ける。しかも、腐食@1期の回転数は上記の境界線よ
り左方のレジスト部での腐食882期の回転数によるセ
ル深度(実線部)を差し引いたセル深度(破線部)に影
響を及ぼす。
ジスト部では腐食第2期の回転数だけの影會を受け、境
界線よりも右方の検査液浸透時間が小さいレジスト部で
は腐食第1期の回転数と第2期の回転数の両方の影響を
受ける。しかも、腐食@1期の回転数は上記の境界線よ
り左方のレジスト部での腐食882期の回転数によるセ
ル深度(実線部)を差し引いたセル深度(破線部)に影
響を及ぼす。
このことから、一般にN期からなる腐食の場合は、tl
A6tllJの浸透特性曲線(至)より腐食@ILQの
回転数の影響分を差し引いた新たな曲線がどの回転数に
影響されているかを検出すれば、腐食llN−1期以前
に使用すべき回転数及び時間を求めることができる。
A6tllJの浸透特性曲線(至)より腐食@ILQの
回転数の影響分を差し引いた新たな曲線がどの回転数に
影響されているかを検出すれば、腐食llN−1期以前
に使用すべき回転数及び時間を求めることができる。
しかして、Ill 1図のごとく分岐点q、−1におけ
るセル深度J1−1を求め、そのセル#度が得られるた
めの回転数Aにおける。実腐食時間−2を第9図より求
める。そして11115図の如く浸透特性−線−から実
腐食峙閲#マ1回転数Aの曲線−を差し引き、新たな曲
IIa144)を得る。
るセル深度J1−1を求め、そのセル#度が得られるた
めの回転数Aにおける。実腐食時間−2を第9図より求
める。そして11115図の如く浸透特性−線−から実
腐食峙閲#マ1回転数Aの曲線−を差し引き、新たな曲
IIa144)を得る。
この−線−は腐食llN−1期以前の腐食条件ヲ表わし
ている。従って、この曲II−が横軸と交差する点が腐
食@N−1期以前に要する腐食時間を間接的に示してい
る。すなわち、この腐食時間は検査液浸透時間XI1.
−4に相当するレジスト部において腐食液が浸透完了す
る時間YN−4である。これは総腐食時間T4から回転
数人の使用時間(T、 −Y、 、 )を差し引いた時
間(T4−(T4−YN−+))と等しい・ そして、曲線(441と第14図の如きYl−1を腐食
時間とした各槽目転数に関する検査液l浸透時間対セル
深度のデータとを第15図の如く比較し、相互に最も近
似した曲線を11!14図から選択する。この場合曲線
−(914図)と近接している。
ている。従って、この曲II−が横軸と交差する点が腐
食@N−1期以前に要する腐食時間を間接的に示してい
る。すなわち、この腐食時間は検査液浸透時間XI1.
−4に相当するレジスト部において腐食液が浸透完了す
る時間YN−4である。これは総腐食時間T4から回転
数人の使用時間(T、 −Y、 、 )を差し引いた時
間(T4−(T4−YN−+))と等しい・ そして、曲線(441と第14図の如きYl−1を腐食
時間とした各槽目転数に関する検査液l浸透時間対セル
深度のデータとを第15図の如く比較し、相互に最も近
似した曲線を11!14図から選択する。この場合曲線
−(914図)と近接している。
これにより、腐食llN−1期に使用する回転数は回転
数Cと決定する。そしてこの場合N=2となり、腐食を
第1期と第2期とに分けるものと決定する。
数Cと決定する。そしてこの場合N=2となり、腐食を
第1期と第2期とに分けるものと決定する。
なお、上記差し引いて求めた新たな曲線−が、@14図
の各曲線と良好に近接しない場合は、1述の操作を繰り
返すものとする、 すなわち、1816図の如く新たな曲線に)が位置する
ものとすれば、分岐点Qウー2を決定し、これに基づい
て!J13図、i@14図及び第15図において述べた
と同様な操作を行なって、腐食@N−1期及び腐食量N
−2期の腐食時間及び使用回転数を決定する。しかして
、この場合は腐食が111期、第2期、183期に分け
られることとなる。王妃新たな曲線−がさらに@N−5
分岐点(図示せず)を有しておれば上記操作がさらに繰
り返される。
の各曲線と良好に近接しない場合は、1述の操作を繰り
返すものとする、 すなわち、1816図の如く新たな曲線に)が位置する
ものとすれば、分岐点Qウー2を決定し、これに基づい
て!J13図、i@14図及び第15図において述べた
と同様な操作を行なって、腐食@N−1期及び腐食量N
−2期の腐食時間及び使用回転数を決定する。しかして
、この場合は腐食が111期、第2期、183期に分け
られることとなる。王妃新たな曲線−がさらに@N−5
分岐点(図示せず)を有しておれば上記操作がさらに繰
り返される。
かくして、上記第15% 14.15図の結果が得られ
た場合には、腐食第1期をシツンダ同転数0、時間YI
I−4J腐食第2期を回転数A、待時間Ta−Yw−4
)の夫々の条件下において行なえば、1116図の曲線
(至)に沿った良好な腐食を達成し得、所期のセル深度
を有する刷版を得ることができるものである。
た場合には、腐食第1期をシツンダ同転数0、時間YI
I−4J腐食第2期を回転数A、待時間Ta−Yw−4
)の夫々の条件下において行なえば、1116図の曲線
(至)に沿った良好な腐食を達成し得、所期のセル深度
を有する刷版を得ることができるものである。
なお1本発明において一般に分岐点が(N−1)個見出
された場合、腐食はN個の期に分けて1.2.3・・・
・・・・・Nの順に各々の設定回転数及びその使用時間
でなされることになる。
された場合、腐食はN個の期に分けて1.2.3・・・
・・・・・Nの順に各々の設定回転数及びその使用時間
でなされることになる。
なお、検査液による検査によりレジスト特性が望ましく
ないものであることがわかったならば、検査液が腐食性
のないものである場合にはレジストのみを再度作り直せ
ばよく、また検査液が少しばかり腐食性を有する場合に
は版材を+ントペーパー等で軽く研摩するだけでその上
にレジストを再開形成すればよい。通常、腐食液は導電
性を有しており、腐食液を使用して前記検査を行なった
場合は版材自体も作り直す必要がある。
ないものであることがわかったならば、検査液が腐食性
のないものである場合にはレジストのみを再度作り直せ
ばよく、また検査液が少しばかり腐食性を有する場合に
は版材を+ントペーパー等で軽く研摩するだけでその上
にレジストを再開形成すればよい。通常、腐食液は導電
性を有しており、腐食液を使用して前記検査を行なった
場合は版材自体も作り直す必要がある。
上記実施例において腐食量をセル深度として表わしたが
セル深度とセル体積との相関性を予め求めておけば、セ
ル体積として表わしても上記と同様な結果を得ることが
できる。
セル深度とセル体積との相関性を予め求めておけば、セ
ル体積として表わしても上記と同様な結果を得ることが
できる。
また、上記腐食条件を設定するに際し、予め求めた第1
0図の如き基準データをコンピュータに記憶させておき
、これと第6図のデータを比較するなどの演算処理をコ
ンピュータにさせることにより条件を設定することもで
きる。
0図の如き基準データをコンピュータに記憶させておき
、これと第6図のデータを比較するなどの演算処理をコ
ンピュータにさせることにより条件を設定することもで
きる。
本発明は以上のような構成及び作用を有するから、次の
ような効果を奏する。
ような効果を奏する。
■腐食の前にレジストの浸透特性を把握し、しかもその
浸透特性にあった腐食条件を設定し、像の階調に応じた
再現性に優れたセル深度が得られ、熟練を要さずして品
質の安定した刷版を作製できる。
浸透特性にあった腐食条件を設定し、像の階調に応じた
再現性に優れたセル深度が得られ、熟練を要さずして品
質の安定した刷版を作製できる。
■品質の安定した刷版の作製が可能なため、後工程にお
ける版修正の負担が大幅C二軽減される。
ける版修正の負担が大幅C二軽減される。
■腐食条件の設定をグラフより判断することも可能であ
り、また1410図の如き試験結果な予めコンピュータ
に記憶させることによI)コンピューターの演算処理に
より判断することも可能である。しかも演算処理でもと
めた条件で腐食機を制御しかつ版材を腐食することが可
能である。
り、また1410図の如き試験結果な予めコンピュータ
に記憶させることによI)コンピューターの演算処理に
より判断することも可能である。しかも演算処理でもと
めた条件で腐食機を制御しかつ版材を腐食することが可
能である。
■腐食前に決定した回転数及び時間ぺ;従ってシリンダ
を回転させれば良く、しかも腐食液は一液のみで足るか
ら腐食工程の操作及び設備の簡素化を図り、安価な腐食
機にてより高精度な腐食作業を行なうことが可能である
。
を回転させれば良く、しかも腐食液は一液のみで足るか
ら腐食工程の操作及び設備の簡素化を図り、安価な腐食
機にてより高精度な腐食作業を行なうことが可能である
。
〔実施例1〕
腐食しようとするグラビア版材のレジスト(二t7、t
2.0.8%0.4)につき検査液の浸透時間を測定し
たところ、2.0〔飲〕、63〔軟〕。
2.0.8%0.4)につき検査液の浸透時間を測定し
たところ、2.0〔飲〕、63〔軟〕。
I Zn rssc) 、 49.口〔飲〕であった。
そしてこの階調スケールに応じたセル設定深度を55〔
μm〕、20〔踊〕、10〔μm〕、2〔μm〕として
「検査液浸透時間J対「セル設定深度」のグラフを作成
した。次にこのグラフの浸透特性曲線がセル深度:0と
なる点での検査液浸透時間64Cm3を求め、「検査液
浸透時間」対「腐食液浸透時間」のグラフで換算して、
総腐食時間を660(see) (11(分〕)と決定
した。そして各種回転数で各々11分間腐食した時の「
検査液浸透時間1対「セル深度」のグラフと比較して、
当該腐食に使用する回転数30(rpm)を得た。かく
して、このレジストにおいて設定セル深度を得るために
は、一種類の濃度の腐食液(この場合は39°Be腐食
液使用)の使用6:より、総腐食時間11分間、回転数
50(rpm)で行なえばよいことがわかり、この条件
通りにタッチローラ方式で腐食した。その結果、各スケ
ールの深度は36(Jim)、21〔μm〕、10〔μ
m)、2(μm)となり、最初設定したセル深度にほぼ
一致した。
μm〕、20〔踊〕、10〔μm〕、2〔μm〕として
「検査液浸透時間J対「セル設定深度」のグラフを作成
した。次にこのグラフの浸透特性曲線がセル深度:0と
なる点での検査液浸透時間64Cm3を求め、「検査液
浸透時間」対「腐食液浸透時間」のグラフで換算して、
総腐食時間を660(see) (11(分〕)と決定
した。そして各種回転数で各々11分間腐食した時の「
検査液浸透時間1対「セル深度」のグラフと比較して、
当該腐食に使用する回転数30(rpm)を得た。かく
して、このレジストにおいて設定セル深度を得るために
は、一種類の濃度の腐食液(この場合は39°Be腐食
液使用)の使用6:より、総腐食時間11分間、回転数
50(rpm)で行なえばよいことがわかり、この条件
通りにタッチローラ方式で腐食した。その結果、各スケ
ールの深度は36(Jim)、21〔μm〕、10〔μ
m)、2(μm)となり、最初設定したセル深度にほぼ
一致した。
〔実施例2〕
腐食しようとするグラビア版材のレジストに設けである
wtilllスケール4段階(ポジ濃度で、t7、t2
、α8、a4)につき検査液の浸透時間を調定したとこ
ろ、t6〔細) 、 t 7 (m)。
wtilllスケール4段階(ポジ濃度で、t7、t2
、α8、a4)につき検査液の浸透時間を調定したとこ
ろ、t6〔細) 、 t 7 (m)。
14 G (ml)、47.5(alt)であった。そ
してこの階調スケールに応じたセル設定深度を35Cμ
m)、20(#a)、10(Jam)、2〔μm〕とし
て「検査液浸透時間」対「セル設定深度」のグラフを作
成した。次にこのグラフの浸透特性曲線がセル深度;0
となるムでの検査液浸透時間64〔(資)〕を求め、「
検査液浸透時間」対「腐食液浸透時間」のグラフで換算
して総腐食時間を660〔謝3(11(分〕)と決定し
た。モして各檀回転做で各々11分間腐食した時の[検
査液浸透時間」対「セル深度」のグラフと比較して、腐
食llN期に使用する回転数20[rpm]を得た。ま
た同時にllN−1分岐点を求めてその分岐点に相当す
る検査液浸透時間45(m)を「検査液浸透時間」対1
イ食液浸透時間」のグラフで換算して腐食液の浸透時間
90(m)を得た。そしてこれを総腐食時間660(m
e)から差し引いた値5701”5ee) (9,5分
)を腐食剤N期の時間と決定する。
してこの階調スケールに応じたセル設定深度を35Cμ
m)、20(#a)、10(Jam)、2〔μm〕とし
て「検査液浸透時間」対「セル設定深度」のグラフを作
成した。次にこのグラフの浸透特性曲線がセル深度;0
となるムでの検査液浸透時間64〔(資)〕を求め、「
検査液浸透時間」対「腐食液浸透時間」のグラフで換算
して総腐食時間を660〔謝3(11(分〕)と決定し
た。モして各檀回転做で各々11分間腐食した時の[検
査液浸透時間」対「セル深度」のグラフと比較して、腐
食llN期に使用する回転数20[rpm]を得た。ま
た同時にllN−1分岐点を求めてその分岐点に相当す
る検査液浸透時間45(m)を「検査液浸透時間」対1
イ食液浸透時間」のグラフで換算して腐食液の浸透時間
90(m)を得た。そしてこれを総腐食時間660(m
e)から差し引いた値5701”5ee) (9,5分
)を腐食剤N期の時間と決定する。
次に、上記II(N−1)分岐点でのセル深度215(
師)を求め、そのセル深度が得られるための上記回転数
20 (rpm )における実腐食時間95〔分〕を求
め、この実腐食時間95c分〕、回転数20 (rpm
)の「検査液浸透時間」対「セル深度Jグラフの曲線
を上記浸透特性曲線から差し引いて新たな曲線を求める
と共に腐食時間tsr分)を得た。モしてt5〔分〕を
腐食時間とする各種回転数に関する「検査液浸透時間」
対「セル深度」のグラフと王妃新たな曲線とを比較し、
回転数40(rpm)の曲線とよく近接するので、N=
2と決定すると共に腐食111期に使用する回転数を4
0 (rpm )と決定し、またそのrf用時間も15
〔分〕と決定した。
師)を求め、そのセル深度が得られるための上記回転数
20 (rpm )における実腐食時間95〔分〕を求
め、この実腐食時間95c分〕、回転数20 (rpm
)の「検査液浸透時間」対「セル深度Jグラフの曲線
を上記浸透特性曲線から差し引いて新たな曲線を求める
と共に腐食時間tsr分)を得た。モしてt5〔分〕を
腐食時間とする各種回転数に関する「検査液浸透時間」
対「セル深度」のグラフと王妃新たな曲線とを比較し、
回転数40(rpm)の曲線とよく近接するので、N=
2と決定すると共に腐食111期に使用する回転数を4
0 (rpm )と決定し、またそのrf用時間も15
〔分〕と決定した。
かくして、このレジストにおいて設定セル深度を得るた
めには、一種類の濃度の腐食液(この場合は39°Be
腐食液使用)の使用により、腐食111期を時間15分
間、回転数40 (rpm )で行ない、腐食第2期を
時間95分間、回転数20 r rpm )で行なえば
よいことがわかり、この条件通りにタッチローラ方式で
腐食した。その結果各スケールのセル深度は、36 (
am )。
めには、一種類の濃度の腐食液(この場合は39°Be
腐食液使用)の使用により、腐食111期を時間15分
間、回転数40 (rpm )で行ない、腐食第2期を
時間95分間、回転数20 r rpm )で行なえば
よいことがわかり、この条件通りにタッチローラ方式で
腐食した。その結果各スケールのセル深度は、36 (
am )。
20(Am)、10〔−〕、2〔−〕となり、最初設定
したセル深度にほぼ一致した。
したセル深度にほぼ一致した。
181図はグラビアシリンダの斜視図である。
j2図はレジスト検査装置の測定回路の一例を示す回路
図、第3図はレジスト検査装置とシリンダとの関係を示
す説明図、184図は上記間室回路における一部波形図
である。 1g5図は、ポジ濃度対セル設定深度のグラフ、第6図
は、検査液の浸透時間対セルの設定探度の横動対数グラ
フ、@7図は検査液浸透時間対腐食液浸透時間の関係グ
ラフ、@8図、第14図は、回転数を変化させた場合の
検査液浸透時間対セル深度の横軸対数グラフ、189図
は、実腐食時間を変化させた場合の検査液浸透時間対セ
ル探度の横軸対数グラフ、@10図は試験用″C/シス
トに対する試験結果の表の一例、II!11図は、第6
図と嘱8図のグラフを比較した検査液浸透時間対セル深
度の横軸対数グラフである。 第12図はシリンダのレジスト及び銅層の模式垂直断面
図である、 @13図は116図と49tgとン比較した検査液浸透
時間対セル深度の横軸対数グラフである。 第15図は弗13図と第14図とを比較した検査液浸透
時間対セル深反の横軸対数グラフである。 416図はレジストの浸透特性カーブが第14図のグラ
フと全体的に一致しない場合の第15図と同様な対比グ
ラフである。 10・・・・・・・・レジスト 32・・・・・・・・・銅層 54・・・・・・・・レジスト浸透特性曲線特許出願人
大日本印刷株式会社 代理人 弁理士 小 西 淳 債 才2図 才8図 才4図 to t、 t2 を牙
6図 牙6図 X、X、 X、Xl Xp @Miq随塀?4 X
)オフ図 XN−1xp M液の浸透時間[X1才 11 図 〜−t XI xp 検査液の浸透時間(X+ト濡
N← 才8図 牙9図 検査液の浸透時間(Xl 才10図 回転数A 才 12 閃 牙 13 図 牙 14 図 Xs−′ 検査液浸透時間(X1才 15
図 検査液浸透時間(Xl 牙 16 図
図、第3図はレジスト検査装置とシリンダとの関係を示
す説明図、184図は上記間室回路における一部波形図
である。 1g5図は、ポジ濃度対セル設定深度のグラフ、第6図
は、検査液の浸透時間対セルの設定探度の横動対数グラ
フ、@7図は検査液浸透時間対腐食液浸透時間の関係グ
ラフ、@8図、第14図は、回転数を変化させた場合の
検査液浸透時間対セル深度の横軸対数グラフ、189図
は、実腐食時間を変化させた場合の検査液浸透時間対セ
ル探度の横軸対数グラフ、@10図は試験用″C/シス
トに対する試験結果の表の一例、II!11図は、第6
図と嘱8図のグラフを比較した検査液浸透時間対セル深
度の横軸対数グラフである。 第12図はシリンダのレジスト及び銅層の模式垂直断面
図である、 @13図は116図と49tgとン比較した検査液浸透
時間対セル深度の横軸対数グラフである。 第15図は弗13図と第14図とを比較した検査液浸透
時間対セル深反の横軸対数グラフである。 416図はレジストの浸透特性カーブが第14図のグラ
フと全体的に一致しない場合の第15図と同様な対比グ
ラフである。 10・・・・・・・・レジスト 32・・・・・・・・・銅層 54・・・・・・・・レジスト浸透特性曲線特許出願人
大日本印刷株式会社 代理人 弁理士 小 西 淳 債 才2図 才8図 才4図 to t、 t2 を牙
6図 牙6図 X、X、 X、Xl Xp @Miq随塀?4 X
)オフ図 XN−1xp M液の浸透時間[X1才 11 図 〜−t XI xp 検査液の浸透時間(X+ト濡
N← 才8図 牙9図 検査液の浸透時間(Xl 才10図 回転数A 才 12 閃 牙 13 図 牙 14 図 Xs−′ 検査液浸透時間(X1才 15
図 検査液浸透時間(Xl 牙 16 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (11所定濃度の腐食液をグクビアシリンダ表面S二供
給してシリンダ表面にグラビアセルを鳥食形成する際、
シリンダの回転数を変化させてセルの腐食量を調整する
一腋型腐食法Cおいて、kシストの多数のテスト用階調
スケールの各段階における検査液浸透時間対腐食液浸透
時間の関係データ並びに各種腐食時間及び各櫂i?ン!
回転数の各々の組合わせにおける検査液浸透時間対セル
腐食量の関係データからなる基準データに、印刷に供す
べきシリンダのレジストの検査液浸透時間対セルの設定
腐食量の関係データを対比させて腐食液を供給する前に
総腐食時間及びシリンダ回転数を予め求め、しかる後当
該求められた総腐食時間及びシリンダ回転1Ikt−従
ってシリンダを腐食することを特徴とする一液型腐食法
。 (2)所定濃度の腐食液をグラビアシリンダ表面に供給
してV5ンダ衰11kHニグフピ1セに4I:員禽形成
する際、v5ンダの回転数を変化させてセルの腐食量を
調整する一液型腐食法において、 a、レジストの多数のテスト用階調スケールの各段階に
おける検査液浸透時間と腐食液浸透時間との関係、 b、各槓腐食時間及び各種シリンダ回転数の各々の組合
せにおける検査液浸透時間とセル腐食量との関係、 O0各種実腐食時間及び上記各種v99ンダ転数の各々
の組合せl:おける上記すと同様な関係、 の三通りのデータを予め求め、腐食液を供給する前に d、印刷に供するグラビアシリンダのレジストの階調ス
ケールの各段階鑑:おける検査液浸透時間とセルの設定
腐食量との関係の検出、・、上記aのデー!と上記dの
データからの総腐食lIIMlの検出、 f、上記・で検出した総腐食時間に対応する上記すのデ
ータと上記dのデータとの比較による腐食第N期に使用
すべきシリンダ回転数及び第(M−1)分岐点の検出、 g、上記aのデータと上記fのデータからの腐食第y期
の腐食時間の検出、 h、上期gで検出した腐食第N期のりリング回転数での
上記第(M−1)分岐点における実腐食時間の上記Cか
らの検出、 1゜上記りで検出した実腐食時間及び上記fで検出した
りリング回転数に対応する上記Cの関係を上記覆の関係
から差し引く処理と、その処理による上記第(M−1)
分岐点以前の腐食期における検査液浸透時間とセルの腐
食量との関係の検出、 j、上記aのデータと上記1のデータによる腐食第(M
−1)期以前の腐食時間の検出に、上記jで検出した腐
食時間に対応する上記すのデータと上記1のデータとの
比較C:よる当該腐食第(M−1)期以前の腐食におい
て使用すべきシリンダ回転数の検出、1、上記Nが3以
上の場合に必要に応じて上記に以降においてなされる上
記fと同様な第(M−2)〜第1分岐点の検出と、上記
g、h、i、j、にと同様な操作の繰返し6二よる腐食
第(1!−2)期〜第1期C:使用すべきV9ンダ回転
数及び腐食時間の検出、を行なった後、v9ンダに腐食
液を供給しつつ各腐食期の腐食を第1.2.5、・・・
・・・・・・yの順C:各々の回転数及び腐食時間で行
なうことを特徴とする一液型腐食法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19535481A JPS5896554A (ja) | 1981-12-04 | 1981-12-04 | グラビア製版における一液型腐食法 |
US06/444,517 US4420363A (en) | 1981-12-04 | 1982-11-26 | One-bath etching method for processing gravure plate, and etching condition calculating device |
CH7040/82A CH650197A5 (fr) | 1981-12-04 | 1982-12-03 | Procede d'attaque chimique, utilisant un seul bain, pour la preparation d'une forme imprimante d'heliogravure, et dispositif pour le calcul des conditions d'attaque. |
DE19823244870 DE3244870A1 (de) | 1981-12-04 | 1982-12-03 | Einbad-aetzverfahren zur bearbeitung einer tiefdruckplatte und aetzbedingung-errechnungsvorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19535481A JPS5896554A (ja) | 1981-12-04 | 1981-12-04 | グラビア製版における一液型腐食法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5896554A true JPS5896554A (ja) | 1983-06-08 |
Family
ID=16339769
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19535481A Pending JPS5896554A (ja) | 1981-12-04 | 1981-12-04 | グラビア製版における一液型腐食法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5896554A (ja) |
-
1981
- 1981-12-04 JP JP19535481A patent/JPS5896554A/ja active Pending
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