JPS5896554A - グラビア製版における一液型腐食法 - Google Patents

グラビア製版における一液型腐食法

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JPS5896554A
JPS5896554A JP19535481A JP19535481A JPS5896554A JP S5896554 A JPS5896554 A JP S5896554A JP 19535481 A JP19535481 A JP 19535481A JP 19535481 A JP19535481 A JP 19535481A JP S5896554 A JPS5896554 A JP S5896554A
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JP
Japan
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corrosion
time
cylinder
data
cell
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Application number
JP19535481A
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English (en)
Inventor
Tetsuro Katsuta
勝田 哲朗
Eiichi Tachibana
立花 栄一
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/02Engraving; Heads therefor
    • B41C1/025Engraving; Heads therefor characterised by means for the liquid etching of substrates for the manufacturing of relief or intaglio printing forms, already provided with resist pattern

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  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はグ)フビア製版における新規な一沿型腐食法に
関するものである。
グラビア製版に′おいて一液型腐食法と呼ばれるものは
腐食工程管理の点から優れたものであるといわれている
。これは、一定濃度の塩化第二鉄液をVツンダ面に供給
しつつ、シリンダ(ロ)転做を変化させて所期のセル深
度カーブを得ようとするものであるが、従来1:おける
方等は腐食中最Vヤドク部と他の所望の部分との茸点の
セル深度を検出して行き、上記所望部分のセル深度が中
間設定値と一致する毎に最シャドク部の深度を測定し、
その深度が所定値よりも大きければ回転数を落し、逆に
小さければ回転数をFげて腐食量をll整するものであ
る。従って二点のセル深度しか制御し得ないので、中間
調の部分のセル深度が所期の竜ル深度カープシ:合致し
ているか否かは腐食が終了しなければ検知し得ない。
また、従来方法はフィードバック制御であるから、セル
深度測定器、演算制御装置等を要し、れたもので、各種
腐食時間及び各種シリンダ回転数の各々の組合せ感:お
ける腐食特性を予め求めておき、これと所期のセル深度
カーブとの比較から、総腐食特開及びシリンダ回転数を
検出か する熱、あるいは相関性の高い部分毎C:上記セル深賓
カーブを分断して各部分での腐食時間及び使用すべき回
転数を腐食後期より前期へと順次検出して行き、これに
基づいて実際の腐食を行なうようにしたプリセット方式
の一液型腐食法であることを特徴とする。
以下、図面に示す実施例に基づいて本発明を説明する。
最初に、検査液によりグラビア版材のレジストの浸透特
性を検査する方法について説明する。
なお、検査液は例えば多価アルコールを主成分とする導
電性溶液であり、非腐食性か又は少しばかり腐食性を有
している。
1に1図はグラビア版材のうちシリンダ状のものを表わ
し、図においてOaは版材の銅層表面に密着せしめられ
たレジストである。レジストtlGには印刷すべき画像
が現像により形成されると共C:、検査用の階調スケー
ル(例えば、申(ll 1■1−の4段階)も形成され
ている。
112図は上記レジストの特性を検査する装置を示し、
*Saは当該装置のIIl!用状態全状態ている0図で
示されるように、レジスト用電極口は抵抗R1を介して
電源+VCOに接続されると共に、レジスト用電極鱒は
抵抗R,を介して接地されている。また、レジスト用電
極鱒の電位VBはスレッショルド電位V!菫に設定され
た比較器(至)に入力され、比較器(至)の出力CM(
2値信号)はアンド回路08に入力される。アンド回路
(至)にはパルス発振4頭からの所定周波数のクロック
パルスCPが入力されており、アンド回路(至)の出力
はカウンタ(ハ)で計数され、その計数値がデコーダ(
至)を経て表示部(2)で浸透時間データとして表示さ
れるようになっている。しかして、カウンタのの計数値
はクリアボタン(至)でクリアされるようになっており
、抵抗Rsは被測定物としてのレジストOQの抵抗を表
わしている。レジスト(1(1は電極(至)によって接
地される。
接地箇所は1j!3図の場合版材の銅層(至)である。
しかして、電源ONにより検査動作を開始するが。
この場合、レジスト用電極04は抵抗R2を介して接地
されているので、その電位VBは44図(4)の時点t
o〜t1のように0〔v〕となっており、スレッショル
ド電位(+ VTi )よりも低くなっている。したが
って、比較器(至)の出力は2値信号の“01となって
おり(第4図の)参照)、クロックパルスCPはアンド
回路(至)で阻止されるのでカウンタ@は計数を行なわ
ない。
ここにおいて、導電性の検査液SLをスポイトによって
レジス) GO上のレジスト用電極曲及び軸位置に滴下
する。しかして、かかる検査#8Lは導電性であると共
に、レジストQO及びレジスト用電極Q2S、Q4に接
触するので、この滴下暗点t1から電源(+ Vac)
からの電流が抵抗R1を経て抵抗R2及びR,に流入す
る。したがって、電位V。
は抵抗R1と、抵抗R2及びRiの合成抵抗値との分圧
値(VM )となり(@4図囚参照)、これが比較器−
に入力される。この分圧値vMはスレッショルド電位(
+ V?* )よりも大きいので、比較器(至)の出力
CMは2値信号の“11となる(114図031参照)
。これによってクロックパルスCPはアンド回路(至)
を通ってカウンタ(至)(二人力され、計数動作が開始
される。このカウンタ■の計数値はデコーダ@で時間デ
ータに換算され、計数開始時点t1からの経過時間が表
示部(2)で表示される。
しかして、レジスト輔上に検査液SLが滴下されると、
徐々に検査液8Lがレジスト質を浸透するので、その抵
抗R,は次第に小さくなる。
したがって、電位v11は114図(4)に示すように
時点t1以降徐々に低下し、遂にはスレッショルド電位
vT、よりも小さくなる(時点t2)。これにより比較
器(2)の出力CMは再び“0′となり、パルス発振器
−からのクロックパルスCPはアンド回路(至)で遮断
されカウンタ(2)の計数動作が停止する。かくして、
カウンタ@は時点t1からt2まで、つまりレジス) 
0(I上に検査液8Lを滴下してからその検査液SLが
所定深さくスレッショルド電位■THの値に対応する)
に浸透するまで、パルス発振器−からのクロックパルス
CPを計算し、これをデコーダ(至)で時間データに変
換してから浸透時間として表示部(至)に表示する。こ
れにより、レジスト■の検査液SLによる浸透時間を間
室することができる。なお、カウンタ(2)の計数値は
クリアボタン(至)を押すことによってクリアされる。
以上のような間室が上記階調スケールの4段階(1、I
、I、IV )の各部分に対して行なわれ、各浸パ透時
間が検査される。
ここに、階調スケールの各段階(一対応するセルの設定
深度は、原稿のポジ濃度と115図の如き対応関係にあ
る。この関係曲線は経験上印刷物に応じて適宜選択決定
されるものである。
また、唖ルの設定深度は上記検査液浸j!1fF間と8
6図の如き相関関係にあり、検査液浸透時間と腐食液浸
透時間とは117図の如き相関関係にある。この場合、
腐食液の濃度は一定に設定されており、濃度が異なれば
図示のカーブも相違してくる。なお、本発明者等の実験
によればこの力°−プはシリンダ回転数とほとんど無関
係に一定であることが確認されている。
さらに一定濃度の腐食液によるシリンダ表−の腐食量は
、シリンダの回転数の影響を受け、回転数が小さい時は
腐食量が少なく、逆に回転数が上がれば腐食量が多(な
り、又腐食時間によっても異なるが、回転数又は腐食時
間を一定に保持すれば検査液浸透時間とセル深度とは一
8図及び@9図の如く一定の相関関係を保つ。
しかして、前記検査装置による調定結果を1に44図の
如きレジストの浸透特性を求め、これとIJ47図、第
8図及びI!91!ilとの対比、演算処理等から総腐
食時間、使用すべき各植シリンダ回転数及びそれら各回
転数での対応腐食時間、ならびに回転数変換順序を導出
しつる。
次に、上記第8図及び第9図、のデータの求め方につい
て述べる。
まず、所定の試験用レジストに対して複数種のりリング
回転数(A、B、O・・・・・・・・)につき腐食時間
、検査液浸透時間及び腐食後のセル深Vの関係を得るた
めの試験を行なう、 III 0図はそのうち回転数A
でのテスト結果を表わした表である。
試験用レジストはシリンダの端層の上に密着されており
、所望のテスト用階調スケールがハイライト部からシャ
ドウ部に向けて形成され、例えば申(ll (履;・・
・・・・・・・の如く多数区分されると共に、各階−に
ついて検査液用および腐食液用の〆−が複数個設けられ
ている。
そして、例えばすべての階調中(WI Ill・・・・
・・・・について検査液をレジストの所定の区−に滴下
してその浸透時間(xll ) (xD )−・−・・
(zlt )・・・・・・・・(XIV6 )・・・・
・・を測定し、次いで他区画に所定濃度の腐食液を供給
して腐食時間なT1、T2、Ts、・・・・・・・・・
と異ならせて腐食を行なった後、レジストを除去してそ
の下の銅層に形成された七kfJfR度を各区−につい
て(jh ) (jlz )・・・・・・・・・(jl
l)・・・・・・・・・と畦間する。かかる測定を各回
転数Aの他、B、10・・曲・・・・につぃても行な5
゜ 第8図はこの測定結果を片対数でグラフ化したもので、
腐食時間(T4)についての例示である。このグラフは
各種回転数A%B、Oに関する検査液浸透時間1zl対
セル深度+11の関係を示している。
このようなグラフが他の腐食時間(TI)(T2)・・
・・・・・・・についても描かれる(WI示せず)。
また、王妃間室結果に基づいて、II?t!4の如きグ
ラフも作成Tる。このグラフは、例えば回転倣囚につい
ての各種実腐食時間(11、I2、I「・・・・・・・
・)に関する検査液浸透時間i:対セル深度1j1の関
係を示している。このようなグラフが他の回転数(B)
 、 (CI・・・・・・・・・についても描かれる(
図示せず)。
ここで、実腐★時閏セIIは次の関係式から求められる
?:Y+# (ただし、Yは腐食液浸透時間であり、例えば腐食液付
着時から腐食液と銅とが反応してレジストが黒変するま
での時間として求められる。
テは腐食時間である。) すなわち、実腐食時間は腐食液がシリンダの銅面に達し
た後、実際に銅面を腐食している時間である。
さらに、上記検査液の浸透時間対腐食液の浸透時間の関
係を第7図の如くグラフ化する。このグラフの横軸(=
は上記レジストの各階調部分C二おける検査液の浸透時
間体)が目盛られ、縦軸には同じ各階調部分における腐
食液の浸透時間(Y)が目盛られている。
以上のようCニして検査液の浸透性とセル深度との相関
関係が求められることにより、これを基準データとして
前記版材のレジスト(至)の検査液による浸透特性の測
定結果を以下のよう5二対応せしめ、腐食前に腐食条件
を決定することができる。
なお、グラビア刷版の工程管理を厳密に行なってもレジ
ストは気温、湿度等の変動によりその時々によって性質
を興にするので、これから腐食を關始しようとする直前
に前記浸透特性を検査液を使用して測定装置で検査する
のが望ましい。そこで86図の結果を得たとする。この
グラフは 111図における各階調部分中(ll (1
111%l)が各々どれ位のセル深度を有しなければな
らないかが経験上予め求められているので、それを基に
して各階1liI1分の検査液浸透時間とセル深度との
関係を描いてなるものである。
次に、186図の浸透特性曲線(至)が!軸と交わると
考えられる点、すなわちセル深度J=Oとなる点pを推
定してその点における、検査液浸透時間(xp )を求
め、この検査液浸透時間に応じた腐食液浸透時間(Yp
)をIII図より求め、これを総腐食時間として決定す
る。もちろん、j=oとすべきレジスト部分の検査液浸
透時間を実地に求めて点pを決定してもよい。
上記Apは例えば第6図における(X肛、Allと(x
I、jl)の二点を結ぶ直線が!軸と交差Cる点として
、又は曲線(財)の(xI、 )■)における接線がX
軸と交差する点として設定することがで〜る。
このように、総腐食時間(Yp )が決定され、これが
仮にT4に等しければその時間に対応する各種シリンダ
回転数についての検査液浸透時間゛対セル深度の関係デ
ータ(8148図)を遥出し第6図の曲線(至)と比較
する。
当該レジスト叫については格6図の曲線−に沿って腐食
がなされるよう条件設定するのが緻も望ましいので、曲
線(至)に近接するデータを選出し、仮にそれがシリン
ダ回転数Bのものであれば、シリンダの使用回転数B、
総腐食時間T4として腐食工程を行なうものと決定する
しかし、回転数Bの一種類だけでは、曲線−を満足でき
ない場合も起り得る。かかる場合には腐食をN期に分断
して各々における最適腐食条件を設定するものとする。
すなわち、総腐食時間(Yp )が仮にT4に等しけれ
ばその時間に対応する第8図のデータな遥出し、!1!
11図の如く比較する。当該レジストすなわち、検査液
浸透時間が大なる方から比較してIIB図の中から選択
する。すなわち、腐食量後期たる@N期(ただし、N=
2.3.4.5・・・・・・・・・)の腐食条件から設
定を始める。
この場合、点QN−1を境として、右部分が曲線(至)
と近接している、従って、検査液浸透時間がxM−1か
らxIまでの特性を有するレジスト部分については回転
数人の影響を受けさせることにより、1116図の曲線
(至)における点Qヨー、以降の曲線部分に沿った腐食
が可能となる。
よって、腐食NJ9](二部用する回転数を人と決定す
る。
また、この決定した回転数Aの使用時間は、点Qヨー、
における検査液の浸j11111間”M−1に対応する
レジスト部分を当該腐食液が浸透しきるまでの時間を上
記決定した総腐食時間T4から差し引と いた時閲宜なる。
しかして、回転数人の使用時間は、117図のグラフよ
り、検査液の浸透時間x1〜.に相当する腐食液の浸透
時間YM−1を総腐食時間〒4から差し引いた時間(’
r4−Ym−1)として求められる。
次に、腐食率M−1期以前に使用する回転数とその使用
時間を求める操作について述べる。
ここで仮に、腐食を第1期と第2期の二つに分けた場合
(N−2)l二おけるセルの腐食量の割合を第12図で
模式的6:表わす。図において、−虐(至)の破線部分
は腐食第1期の腐食量、実線部分は腐食!1!2期の腐
食量を夫々表わしている。
すなわち、図で示されるようd二、鋼層の腐食は傭食第
1期と腐食第2期の両者により段階的4:なされるが、
各々の腐食するセル深度は各々の回転数と相関性を何し
ている。また、各々の腐食によるセル深度は実腐食時間
とも相関性を有している。
従って、図示の如く腐食の第1期と第2期の[l」転数
の変化による境界線(鎖線)を生ずる。
そして、境界線よりも左方の検査液浸透時間が大きいレ
ジスト部では腐食第2期の回転数だけの影會を受け、境
界線よりも右方の検査液浸透時間が小さいレジスト部で
は腐食第1期の回転数と第2期の回転数の両方の影響を
受ける。しかも、腐食@1期の回転数は上記の境界線よ
り左方のレジスト部での腐食882期の回転数によるセ
ル深度(実線部)を差し引いたセル深度(破線部)に影
響を及ぼす。
このことから、一般にN期からなる腐食の場合は、tl
A6tllJの浸透特性曲線(至)より腐食@ILQの
回転数の影響分を差し引いた新たな曲線がどの回転数に
影響されているかを検出すれば、腐食llN−1期以前
に使用すべき回転数及び時間を求めることができる。
しかして、Ill 1図のごとく分岐点q、−1におけ
るセル深度J1−1を求め、そのセル#度が得られるた
めの回転数Aにおける。実腐食時間−2を第9図より求
める。そして11115図の如く浸透特性−線−から実
腐食峙閲#マ1回転数Aの曲線−を差し引き、新たな曲
IIa144)を得る。
この−線−は腐食llN−1期以前の腐食条件ヲ表わし
ている。従って、この曲II−が横軸と交差する点が腐
食@N−1期以前に要する腐食時間を間接的に示してい
る。すなわち、この腐食時間は検査液浸透時間XI1.
−4に相当するレジスト部において腐食液が浸透完了す
る時間YN−4である。これは総腐食時間T4から回転
数人の使用時間(T、 −Y、 、 )を差し引いた時
間(T4−(T4−YN−+))と等しい・ そして、曲線(441と第14図の如きYl−1を腐食
時間とした各槽目転数に関する検査液l浸透時間対セル
深度のデータとを第15図の如く比較し、相互に最も近
似した曲線を11!14図から選択する。この場合曲線
−(914図)と近接している。
これにより、腐食llN−1期に使用する回転数は回転
数Cと決定する。そしてこの場合N=2となり、腐食を
第1期と第2期とに分けるものと決定する。
なお、上記差し引いて求めた新たな曲線−が、@14図
の各曲線と良好に近接しない場合は、1述の操作を繰り
返すものとする、 すなわち、1816図の如く新たな曲線に)が位置する
ものとすれば、分岐点Qウー2を決定し、これに基づい
て!J13図、i@14図及び第15図において述べた
と同様な操作を行なって、腐食@N−1期及び腐食量N
−2期の腐食時間及び使用回転数を決定する。しかして
、この場合は腐食が111期、第2期、183期に分け
られることとなる。王妃新たな曲線−がさらに@N−5
分岐点(図示せず)を有しておれば上記操作がさらに繰
り返される。
かくして、上記第15% 14.15図の結果が得られ
た場合には、腐食第1期をシツンダ同転数0、時間YI
I−4J腐食第2期を回転数A、待時間Ta−Yw−4
)の夫々の条件下において行なえば、1116図の曲線
(至)に沿った良好な腐食を達成し得、所期のセル深度
を有する刷版を得ることができるものである。
なお1本発明において一般に分岐点が(N−1)個見出
された場合、腐食はN個の期に分けて1.2.3・・・
・・・・・Nの順に各々の設定回転数及びその使用時間
でなされることになる。
なお、検査液による検査によりレジスト特性が望ましく
ないものであることがわかったならば、検査液が腐食性
のないものである場合にはレジストのみを再度作り直せ
ばよく、また検査液が少しばかり腐食性を有する場合に
は版材を+ントペーパー等で軽く研摩するだけでその上
にレジストを再開形成すればよい。通常、腐食液は導電
性を有しており、腐食液を使用して前記検査を行なった
場合は版材自体も作り直す必要がある。
上記実施例において腐食量をセル深度として表わしたが
セル深度とセル体積との相関性を予め求めておけば、セ
ル体積として表わしても上記と同様な結果を得ることが
できる。
また、上記腐食条件を設定するに際し、予め求めた第1
0図の如き基準データをコンピュータに記憶させておき
、これと第6図のデータを比較するなどの演算処理をコ
ンピュータにさせることにより条件を設定することもで
きる。
本発明は以上のような構成及び作用を有するから、次の
ような効果を奏する。
■腐食の前にレジストの浸透特性を把握し、しかもその
浸透特性にあった腐食条件を設定し、像の階調に応じた
再現性に優れたセル深度が得られ、熟練を要さずして品
質の安定した刷版を作製できる。
■品質の安定した刷版の作製が可能なため、後工程にお
ける版修正の負担が大幅C二軽減される。
■腐食条件の設定をグラフより判断することも可能であ
り、また1410図の如き試験結果な予めコンピュータ
に記憶させることによI)コンピューターの演算処理に
より判断することも可能である。しかも演算処理でもと
めた条件で腐食機を制御しかつ版材を腐食することが可
能である。
■腐食前に決定した回転数及び時間ぺ;従ってシリンダ
を回転させれば良く、しかも腐食液は一液のみで足るか
ら腐食工程の操作及び設備の簡素化を図り、安価な腐食
機にてより高精度な腐食作業を行なうことが可能である
〔実施例1〕 腐食しようとするグラビア版材のレジスト(二t7、t
2.0.8%0.4)につき検査液の浸透時間を測定し
たところ、2.0〔飲〕、63〔軟〕。
I Zn rssc) 、 49.口〔飲〕であった。
そしてこの階調スケールに応じたセル設定深度を55〔
μm〕、20〔踊〕、10〔μm〕、2〔μm〕として
「検査液浸透時間J対「セル設定深度」のグラフを作成
した。次にこのグラフの浸透特性曲線がセル深度:0と
なる点での検査液浸透時間64Cm3を求め、「検査液
浸透時間」対「腐食液浸透時間」のグラフで換算して、
総腐食時間を660(see) (11(分〕)と決定
した。そして各種回転数で各々11分間腐食した時の「
検査液浸透時間1対「セル深度」のグラフと比較して、
当該腐食に使用する回転数30(rpm)を得た。かく
して、このレジストにおいて設定セル深度を得るために
は、一種類の濃度の腐食液(この場合は39°Be腐食
液使用)の使用6:より、総腐食時間11分間、回転数
50(rpm)で行なえばよいことがわかり、この条件
通りにタッチローラ方式で腐食した。その結果、各スケ
ールの深度は36(Jim)、21〔μm〕、10〔μ
m)、2(μm)となり、最初設定したセル深度にほぼ
一致した。
〔実施例2〕 腐食しようとするグラビア版材のレジストに設けである
wtilllスケール4段階(ポジ濃度で、t7、t2
、α8、a4)につき検査液の浸透時間を調定したとこ
ろ、t6〔細) 、 t 7 (m)。
14 G (ml)、47.5(alt)であった。そ
してこの階調スケールに応じたセル設定深度を35Cμ
m)、20(#a)、10(Jam)、2〔μm〕とし
て「検査液浸透時間」対「セル設定深度」のグラフを作
成した。次にこのグラフの浸透特性曲線がセル深度;0
となるムでの検査液浸透時間64〔(資)〕を求め、「
検査液浸透時間」対「腐食液浸透時間」のグラフで換算
して総腐食時間を660〔謝3(11(分〕)と決定し
た。モして各檀回転做で各々11分間腐食した時の[検
査液浸透時間」対「セル深度」のグラフと比較して、腐
食llN期に使用する回転数20[rpm]を得た。ま
た同時にllN−1分岐点を求めてその分岐点に相当す
る検査液浸透時間45(m)を「検査液浸透時間」対1
イ食液浸透時間」のグラフで換算して腐食液の浸透時間
90(m)を得た。そしてこれを総腐食時間660(m
e)から差し引いた値5701”5ee) (9,5分
)を腐食剤N期の時間と決定する。
次に、上記II(N−1)分岐点でのセル深度215(
師)を求め、そのセル深度が得られるための上記回転数
20 (rpm )における実腐食時間95〔分〕を求
め、この実腐食時間95c分〕、回転数20 (rpm
 )の「検査液浸透時間」対「セル深度Jグラフの曲線
を上記浸透特性曲線から差し引いて新たな曲線を求める
と共に腐食時間tsr分)を得た。モしてt5〔分〕を
腐食時間とする各種回転数に関する「検査液浸透時間」
対「セル深度」のグラフと王妃新たな曲線とを比較し、
回転数40(rpm)の曲線とよく近接するので、N=
2と決定すると共に腐食111期に使用する回転数を4
0 (rpm )と決定し、またそのrf用時間も15
〔分〕と決定した。
かくして、このレジストにおいて設定セル深度を得るた
めには、一種類の濃度の腐食液(この場合は39°Be
腐食液使用)の使用により、腐食111期を時間15分
間、回転数40 (rpm )で行ない、腐食第2期を
時間95分間、回転数20 r rpm )で行なえば
よいことがわかり、この条件通りにタッチローラ方式で
腐食した。その結果各スケールのセル深度は、36 (
am )。
20(Am)、10〔−〕、2〔−〕となり、最初設定
したセル深度にほぼ一致した。
【図面の簡単な説明】
181図はグラビアシリンダの斜視図である。 j2図はレジスト検査装置の測定回路の一例を示す回路
図、第3図はレジスト検査装置とシリンダとの関係を示
す説明図、184図は上記間室回路における一部波形図
である。 1g5図は、ポジ濃度対セル設定深度のグラフ、第6図
は、検査液の浸透時間対セルの設定探度の横動対数グラ
フ、@7図は検査液浸透時間対腐食液浸透時間の関係グ
ラフ、@8図、第14図は、回転数を変化させた場合の
検査液浸透時間対セル深度の横軸対数グラフ、189図
は、実腐食時間を変化させた場合の検査液浸透時間対セ
ル探度の横軸対数グラフ、@10図は試験用″C/シス
トに対する試験結果の表の一例、II!11図は、第6
図と嘱8図のグラフを比較した検査液浸透時間対セル深
度の横軸対数グラフである。 第12図はシリンダのレジスト及び銅層の模式垂直断面
図である、 @13図は116図と49tgとン比較した検査液浸透
時間対セル深度の横軸対数グラフである。 第15図は弗13図と第14図とを比較した検査液浸透
時間対セル深反の横軸対数グラフである。 416図はレジストの浸透特性カーブが第14図のグラ
フと全体的に一致しない場合の第15図と同様な対比グ
ラフである。 10・・・・・・・・レジスト 32・・・・・・・・・銅層 54・・・・・・・・レジスト浸透特性曲線特許出願人
 大日本印刷株式会社 代理人 弁理士   小 西 淳 債 才2図 才8図 才4図 to  t、        t2       を牙
6図 牙6図 X、X、  X、Xl Xp @Miq随塀?4 X 
)オフ図 XN−1xp   M液の浸透時間[X1才 11 図 〜−t XI xp   検査液の浸透時間(X+ト濡
N← 才8図 牙9図 検査液の浸透時間(Xl 才10図 回転数A 才 12  閃 牙 13  図 牙 14  図 Xs−′     検査液浸透時間(X1才 15  
図 検査液浸透時間(Xl 牙 16 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (11所定濃度の腐食液をグクビアシリンダ表面S二供
    給してシリンダ表面にグラビアセルを鳥食形成する際、
    シリンダの回転数を変化させてセルの腐食量を調整する
    一腋型腐食法Cおいて、kシストの多数のテスト用階調
    スケールの各段階における検査液浸透時間対腐食液浸透
    時間の関係データ並びに各種腐食時間及び各櫂i?ン!
    回転数の各々の組合わせにおける検査液浸透時間対セル
    腐食量の関係データからなる基準データに、印刷に供す
    べきシリンダのレジストの検査液浸透時間対セルの設定
    腐食量の関係データを対比させて腐食液を供給する前に
    総腐食時間及びシリンダ回転数を予め求め、しかる後当
    該求められた総腐食時間及びシリンダ回転1Ikt−従
    ってシリンダを腐食することを特徴とする一液型腐食法
    。 (2)所定濃度の腐食液をグラビアシリンダ表面に供給
    してV5ンダ衰11kHニグフピ1セに4I:員禽形成
    する際、v5ンダの回転数を変化させてセルの腐食量を
    調整する一液型腐食法において、 a、レジストの多数のテスト用階調スケールの各段階に
    おける検査液浸透時間と腐食液浸透時間との関係、 b、各槓腐食時間及び各種シリンダ回転数の各々の組合
    せにおける検査液浸透時間とセル腐食量との関係、 O0各種実腐食時間及び上記各種v99ンダ転数の各々
    の組合せl:おける上記すと同様な関係、 の三通りのデータを予め求め、腐食液を供給する前に d、印刷に供するグラビアシリンダのレジストの階調ス
    ケールの各段階鑑:おける検査液浸透時間とセルの設定
    腐食量との関係の検出、・、上記aのデー!と上記dの
    データからの総腐食lIIMlの検出、 f、上記・で検出した総腐食時間に対応する上記すのデ
    ータと上記dのデータとの比較による腐食第N期に使用
    すべきシリンダ回転数及び第(M−1)分岐点の検出、 g、上記aのデータと上記fのデータからの腐食第y期
    の腐食時間の検出、 h、上期gで検出した腐食第N期のりリング回転数での
    上記第(M−1)分岐点における実腐食時間の上記Cか
    らの検出、 1゜上記りで検出した実腐食時間及び上記fで検出した
    りリング回転数に対応する上記Cの関係を上記覆の関係
    から差し引く処理と、その処理による上記第(M−1)
    分岐点以前の腐食期における検査液浸透時間とセルの腐
    食量との関係の検出、 j、上記aのデータと上記1のデータによる腐食第(M
    −1)期以前の腐食時間の検出に、上記jで検出した腐
    食時間に対応する上記すのデータと上記1のデータとの
    比較C:よる当該腐食第(M−1)期以前の腐食におい
    て使用すべきシリンダ回転数の検出、1、上記Nが3以
    上の場合に必要に応じて上記に以降においてなされる上
    記fと同様な第(M−2)〜第1分岐点の検出と、上記
    g、h、i、j、にと同様な操作の繰返し6二よる腐食
    第(1!−2)期〜第1期C:使用すべきV9ンダ回転
    数及び腐食時間の検出、を行なった後、v9ンダに腐食
    液を供給しつつ各腐食期の腐食を第1.2.5、・・・
    ・・・・・・yの順C:各々の回転数及び腐食時間で行
    なうことを特徴とする一液型腐食法。
JP19535481A 1981-12-04 1981-12-04 グラビア製版における一液型腐食法 Pending JPS5896554A (ja)

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US06/444,517 US4420363A (en) 1981-12-04 1982-11-26 One-bath etching method for processing gravure plate, and etching condition calculating device
CH7040/82A CH650197A5 (fr) 1981-12-04 1982-12-03 Procede d'attaque chimique, utilisant un seul bain, pour la preparation d'une forme imprimante d'heliogravure, et dispositif pour le calcul des conditions d'attaque.
DE19823244870 DE3244870A1 (de) 1981-12-04 1982-12-03 Einbad-aetzverfahren zur bearbeitung einer tiefdruckplatte und aetzbedingung-errechnungsvorrichtung

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