JPS5893900A - 複数メツキ槽による電気メツキ浴のｐＨ管理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、硫酸浴を用いた鉄鋼のＦｅ系電気メツキ方法
に関し、さらに詳細には、不溶性陽極を陰イオン交換膜
隔膜によりメッキ浴から分離した陽極室中に設置した複
数個のメッキ槽により行う電気メッキ浴のｐＨ管理方法
に関する。

一般に、電気メッキにおける陽極としては、可溶性陽極
あるいは不溶性陽極が用いら【ている。ところが、可溶
性陽極ｔＦｅ系電気メッキに用いると次のような不都合
が生じる。

（１）　　Ｆｅ２　イオン濃度、ｐＨ等の浴組成が変化
する。

（２）高電流密度（４０Ａ／ｄｆｆ１以上）のメッキ条
件士は、Ｆｅ陽極の不働態が、生じ、陽極においてＦＳ
Ｖρ２＋イオンがＦｅ”＋イオンに酸化される。

（３）陽極の消耗によシ新しい陽極との交換が必要とな
る。

（（１）　同一ラインで多品種の電気メッキ全行う場合
には、品種別に可溶性陽極の取替が必要となる。

（５）陽極の消耗のため、陽極と鋼板間の間隙を一定に
することが困難である。

一方、不溶性陽極をＦｅ系電気メッキに用いる場合には
、上記（３）〜（５）の問題は解消さｎ１α）の問題も
容易に解決することができる。ところが、不溶性陽極を
用いると、次に詳細に述べるように、メッキ浴中のＦｅ
２　　イオンが不溶性陽３＋ 極によｆ）　Ｆｅ　　イオンに酸化さｎるという新たな
問題を生じることになる。すなわち、Ｆｅ系電気メ　キ
において不溶性陽極音用いた場合、不ツ 溶性陽極では次の２つのアノード反応が生じる。

（１）　　水の電気分解による０２の゛発生２ＨｓＯ−
＋　４Ｈ＋Ｏｚ　＋４　ｅ ３＋　　− ＠　　Ｆｅ”　の酸化　Ｆｅ”　　−＋Ｆｅ　　＋ｅ不
溶性陽極では先ずアノード反応（２）が生じ、＋ Ｆ−がＦｂ３　　に酸化さｎる。さらに、アノード反応
Ｕ）で生成された０２ガスによシメ、キ浴中のＦｅ２　
　イオンが順次Ｆｅ’イオンとなるので、メッキ浴中の
Ｆｅ３　　イオンが急速に増加することになる。メッキ
浴中に多量のＦｅ３　　イオンが存在する状態で電気メ
ッキを行うと、皮膜の相変化、皮膜の色ムラ、合金組織
の変化、電流効率の低下などメ　キ皮膜およびメ　キ条
件に悪影響をツ　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　ツ及ぼすのみならず、被メッキ物の裏面のＦｅ
やメッキ装置の腐食を促進することにもなる。

一方、不溶性陽極を用いる電気メツキ方法において、陰
イオン交換膜を隔膜として用い、メッキ液と分離さｎた
陽極室全形成し、この陽極室中に不溶性陽極を設置する
構成が、例えば、特公昭５１−２９００号公報に開示さ
扛ている。

この構成は、メッキ液を例えば金属の硫酸塩の形で供給
する場合、金属イオンはメッキによって系外に出さｎる
のに対し陰イオンである８０４２はメッキ浴中に蓄積し
メッキ浴のｐＨｔ−下げる事実に鑑みて提案さｎたもの
であって、メッキ浴中の余剰陰イオンを陰イオン交換膜
隔膜を介して陽極室側へ移動させることによシ、メッキ
浴から余剰陰イオンを除去し、メッキ浴のｐＨを一定に
保と、う、とするものである。

この方法ｔ−Ｆｅ系の電気メッキに適用すると、＋ メッキ浴中のＦｅ２　　イオンは隔膜である陰イオン交
換膜によシ阻止さｎて揚種室に移動することができない
と考えらｎるので、理論上は陽極室に設置された不溶性
陽極によるＦ　ｅ２”−＋　Ｆ　ｅ”十ｅ　−の酸化現
象は起り得ないことになる。しかし実際には、メッキ室
と陽極室間の金属イオンの濃度勾配によってメッキ室中
のＦｅ”４オンが若干陽極室へ漏洩し、不溶性陽極にょ
＃）Ｆｅ”４オンに酸化さｎることが生じる。

一方、いま、陽極室に注目してみると、陽極室では水の
電気分解によシ０２ガスと共にＨが生成さｎる。このＨ
は陽イオンではあるが、本発明の発明者らの研究上よる
と、通常の陰イオン交換膜の場合には、膜の性能上、Ｈ
のような小さなイオンの透過は無視できないことが判明
した。さらに、陰イオン交換膜隔膜を設けた電気メッキ
における陽陰イオンの輸率について研究を進めたところ
、輸率は隔膜の性能によっても影響を受けるが、陽極室
における硫酸濃度あるいはｐＨによってＨの輸率が変化
することを知見した。すなわち、一般に１陽極室の硫激
濃度が高′くなるにつれて、Ｈの輸率は上昇する。いま
隔膜として陰イオン交換膜「ＮｅｏｓｅｐｔａＡＣＨ−
４ｓｒｊ　　（徳山曹達（株）製）を用いて、電流密度
２７Ａ／ｄ７Ｆｌ！、温度４０〜５１℃の条件下で行っ
た実験の結果を陽極室における硫酸濃度と陽極室での硫
酸生成効率との関係として示せば第１図のようになる。

第１図によｎば、陽極室での硫酸濃度が例えばトＮの場
合、硫酸の生成効率は約５８％であり、メッキ室から隔
膜　　−を介して陽極室に流入した８０４”−の移動率
すなわちＳＯ４”　　が運ぶ電流の割合である輸率は約
５８チ、逆に陽極室から隔膜を通過してメッキ室に流入
したＨ　の移動率すなわちＨの運ぶ電流の割合である輸
率は約４２％であることが判る。

ところが、陽極室における硫酸濃度が２Ｎの場合には、
陽極室での硫酸生成効率は約４３チとな’）、８０４”
−の輸率が約４３チと減少し、Ｈ＋の輸率が約５７％に
増加するようになる。このように、陽極室中の硫酸濃度
にょ＃）Ｈの輸率が変化することになる。

他方、メッキ室では、メッキの電流効率に応じＯＨが生
成する。すなわち、通電電気量のうちメッキ金属の析出
に有効利用さｎなが　た電り 気量は、次式のように水の電解に消費さｎＨ２カスと共
にＯＨ″″全生成する。

２Ｈ＊　Ｏ＋２　ｅ　→２０Ｈ−＋　Ｈ２↑上記したよ
うに、メッキ室には、陽極室液の硫酸濃度あるいはｐＨ
に応じて陽極室がらＨ＋が移行し、下方では電流効率に
応じＯＨ″′が生成さ扛る。ここで、陽極室からのＨ＋
移動量とメッキ室でのＯＨ″″生成量が等しけｎば、メ
　キ浴ツ のｐＨは常に一定に保たｎるが、等しくない場合、すな
わちＨ過剰の場合あるいはＯＨ−過剰ノ場合には、メッ
キ浴のｐＨは変動すルコトニなる。

本発明は以上の点に鑑みて成さｎたもので、本発明の目
的は、Ｆｅ系電気メッキにおいて致命的問題であるＦｅ
”＋のメッキ浴への混入を回避すると共に、メッキ室に
おけるＨ　量とＯＨ−量のバランスを効率よく調整する
ことにょシメ、キ浴のｐＨｋ一定に管理して、均一なメ
ッキ皮膜の形成を可能にする複数メッキ槽による電気メ
。

キのｐＨ管理方法を提供することである。

すなわち、本発明は、陰イオン交換膜隔膜によりメッキ
浴室から分離形成さｎた陽極室中に不溶性陽極を設置し
た複数個のメッキ槽により行う硫酸浴Ｆｅ系電気メッキ
において、各メッキ槽のメッキ浴供給系を共通にし、か
つ、各メッキ槽から返送さ扛るメッキ浴中の過剰Ｈある
いはＯＨが上記共通のメッキ浴供給系において全体とし
てバランスするように、各メッキ槽の陽極室におけるＨ
　の輸率を選ぶことを特徴とするものである。

本発明でいうＦｅ系電気メッキには、Ｆｅメッキのｔｌ
か、Ｆｅを含む合金メッキ、例えハ、Ｆｅ−Ｚｎメッキ
、Ｆｅ−Ｎｉメッキ等が含ｔａｎる。

次に、本発明の具体例を図面によって説明する。

第２図は本発明方法によｐＦｅメッキを行う場合の構成
の一例を示すものである。本例ではＡタイプのメッキ槽
を２個、Ｂタイプのメッキ槽を１個備えたメッキ装置を
使用するが、第２図では、Ａタイプメッキ槽として１個
だけが示さｎている。このメッキ装置において、各メッ
キ槽１は、陰イオン交換膜隔膜によってメッキ浴室３と
陽極室４とに分離さｎてｌる。５はｐｔやｐｂ金合金か
らなる不溶性陽極、６は被メッキ物たとえば鋼板である
。こ扛らの間に電源７が接続さｎ１メツキ電圧が印加さ
れる構成となっている。またメッキ浴室３には、た−ｉ
ｄば、Ｆｅ５Ｏａ・７Ｈ，Ｏからなるメッキ液が満さｎ
ている。

さらにメッキ液は順次各メッヤ浴室３の上部から抜き出
さｎ１各メツキ槽に共通のメッキ液循環槽８に返送され
、またこのメッキ液循環槽８から送液ポンプ９によシ各
メッキ浴室３へ循環して送給される。メッキ浴室３内の
Ｆｅ２＋イオンは放電によ〕被メッキ物６に析出するた
め、とｌｆ′Ｌ″を補充すべ（メッキ液建浴槽１ｏにＦ
ｅＳＯ４・７迅０が添加さｎ、ポンプ１１にょシメッ゛
キ液循環槽８に補給さｎる。

他方、Ａタイプのメッキ槽１の陽極室４には陽極室液と
して例えばｐＨ１，５の硫酸塩例えばＮａｚＳＯ４が満
さ扛ている。陽極室４には、メッキ浴室３中てＦｅ２　
　と共に解離している５０４２が陰イオン交換膜隔膜２
を通って移行してくるので、メッキの進行に伴って硫酸
が生成さｎることになる。この生成さｎた硫酸金倉む陽
極室り陽極室４中に生成さ扛たＨｚ　Ｓ　０４　Ｋ’中
和するためにアルカリが添加さｎる。添加するアルカリ
としてｔｌ、ＮａＯＨ，ＫＯＨ等が用いらｎ１好ましク
ハ、水溶液の形で投入さｎる。アルカリの添加量は、生
成さｎた硫酸と反応するために必要な量である。アルカ
リの添加により生成硫酸が中和され、所定のｐＨに調整
さｎた陽極室液は循環ポンプ１３により陽極室４へ返送
される。

このように、陽極室液は常に当初の硫酸濃度を維持する
ことができる。したがって、メッキ室３へのＨの移動度
すなわちＨの輸率は一定に保たｎる。また、陽極室液循
環槽１２内では添加さ扛たアルカリとＨｚ　Ｓ　Ｏ４の
反応によシ、Ｎａ２８０４　、Ｋ２８０４等の塩が生成
さｎる。したがって、陽極室液循環槽１２から、こｎら
の塩の溶液を添加アルカリ溶液量に相当する分だけ除去
す扛ば陽極室４の液量と塩濃度を一定に保つことができ
る。隔膜を介してメツ・キ浴中のＦシ２＋イオンが一部
陽極室へ漏洩してＦｅ３に酸化さｎるような場合にも、
塩溶液と共に系外に除去さｎ１メツキ液の供給系の中に
再び混入することがないので、メッキにおけるＦｅ３　
の悪影響を避けることができる。

こｔに対し、Ｂタイプのメッキ槽１の陽極室４には陽極
室液として例えば１ｍｏｌ／ｌの硫酸が満さｎている。

上記し次ように、陽極室４には、メッキの進行に伴って
硫酸が生成さ扛ることになるので、このＢタイプのメッ
キ槽１では、陽極室４から硫酸を陽極室液循環槽１４に
回収して陽極室中の硫酸濃度を一定に保持すると共に、
回収さｎた硫酸を有効利用するためこｒＬｔ用いて金属
溶解槽１５においてＦｅ？溶解し、メッキ浴の金属イオ
ンを供給する構成としている。

ここで問題となるのは、メッキ浴中のＦｅ”　　が一部
隔膜２を透過して陽極室４へ漏洩し、陽極室４はおいて
メッキに有害なＦｅ３　　に酸化さ扛、その結果陽極室
液中に少量ながらＦｅ３が存在することである。したが
って、この陽極室液をメッキ浴へ還流させる構成を採ｔ
ば、メッキ浴中ニＦｅ３イオンが存在することになり、
メッキ皮膜の組成に変化をもたらし、色調ムラや電流効
率の低下をきたすこととなる。ところが、上記したよう
に回収さ扛た陽極室液を用いて金属音溶解させることに
よ’）、Ｆｅ３２　Ｆｅ２に還元させることができるの
で、こｒ′Ｌヲ金属イオン供給源としてメッキ浴に加え
ても、メッキ浴にＦｅ”が混入することは防止される。

なお本装置・では陽極室液回収系のほかは同一の構成と
するのが好ましい。

次に、上記のような構成のメッキ装置を用いて電気メツ
７キを行う場合のメッキ浴ｐＨの管理方法について述べ
る。

いま、陰イオン交換膜−膜２として徳山曹達物製ｒＮｅ
ｏｓｅｐｔａ　ＡＣＨ−４５Ｔ　Ｊを用い、メッキ浴と
して、Ｆｅ　ｓｏ４＊　７Ｈ１０２５０ｇ　／Ｌ　％Ｎ
ａｇ　５ｏａ１００９／１．　ｐＨ：　２．０．５０℃
のＦｅメッキ浴を用い、Ａタイプのメッキ槽１の陽極室
４にｐＨ１，５の硫酸酸性のＮａｚ　Ｓｏａ　１００９
　／ｌの溶液を満し、Ｂタイプのメッキ槽１の陽極室４
に１ｍｏｌ／ｌの硫酸を満し、各陽極室４にｐｔの不溶
性陽極５を設け、３０Ａ／ｄｉの電流密度で電気メッキ
を行う場合を例にとって説明する。

この例に使用した陰イオン交換膜隔膜２の特性に−よ扛
ば、Ａタイプのメッキ槽１における陽極室液のｐＨでは
Ｈの輸率は１０ｆＤであり、Ｂタイプのメッキ槽１にお
ける陽極室液の硫酸濃度ではＨの輸率は５０％である。

一方、不例の電流効率は７５チであるため、各メッキ槽
１のメッキ浴室３では通電電気量の２５％に相当するＯ
Ｈ−が発生する。いま、Ａタイプのメッキ槽１のメッキ
浴室３について考えてみると、メ、キ浴室に流入し７’
ｃｆ（量が１０チであるのに対しＯＨ″″の生成量が２
５チであるため、Ａタイプの各メッキ槽１におけるメッ
キ浴室出口でのメ　キ浴は１５ｅｓ分のＯＨ−過剰とな
る。一方、ツ Ｂタイプの一メッキ槽１では、Ｈの輸率力（５０チであ
りＯＨ−の生成率が２５チであるので、メッキ浴室３出
口でのメッキ浴は２５％のＨ過剰となる。いまへタイプ
のメッキ槽１は２基設けらｎているから、Ａタイプメッ
キ槽系ｆｉ−らメッキ浴循環槽８に戻さｎるメッキ浴は
１個のメッキ槽あたりの通電電気量の１５％ｘ２−３０
％のＯＲ−過剰、Ｂタイプメッキ槽１から循環槽８に戻
さｎるメッキ浴は２５チのＨ過剰となる。

ここで、Ｂタイプメッキ槽１に設けらｎる金属溶解槽１
５の溶解能力が９０チすなわち通電電気量の５０チに相
当する硫酸が陽極室４にて生成されさらに回収されて金
属溶解槽１５に供給さｎるが、通電電気量の４５％相当
の硫酸が金属の溶解に消費さｔ通電電気量゛の５チのＨ
２Ｓｏｎが未反応として残る性能のものであるとすると
、メッキ浴循環槽８には金属溶解槽１５から５チのＨが
持ち込まｎることになシ、メッキ浴循環槽８では、全体
としてＨおよびＯＨ″″がバランスさｎることになる。

このように、メッキ浴循環槽８を各メッキ槽１に共通に
設けたので、メッキ浴のＰＨ管理は、共通メッキ浴循環
槽８に各基から持ち込ま；ｒｌｌＨ＋、ＯＨ″″量の総
計がバランスするように管理することによりメッキ浴Ｏ
ｐＨを常に一定にすることができると同様に、各メッキ
槽に均一のメッキ浴全供給することができる。

次に、共通メッキ浴循環槽８に持ち込まｎるＨ＋、ＯＨ
量を全体としてバランスするように管理する方法につい
て説明する。先ずＯＨについて考えると、各メッキ槽１
におけるメッキ浴室３のＯＨ生成量は電流効率で決まる
が、この電流効率は各メッキ槽で均一なメッキ皮膜を得
るためには各メッキ槽において同一の電流効率であるこ
とが好ましい。電流効率が同一に定めら扛る場合には各
メッキ槽におけるＯＨ″″の生成量は同率である。した
がって、各メッキ槽における陽極室液のｐＨあるいは硫
酸濃度をそれぞｎ適当に選ぶことによってＨの輸率を調
整し、あるいは、設置するメッキ槽の基数を変えること
によシ、共通メッキ浴循環槽８に戻る各基からのメッキ
浴のＯＨ，Ｈ量全全体としてバランスさせる。

このように、共通メッキ浴循環槽８における全体として
のＯＨ−量およびＨ量がバランスするように、各メッキ
槽１における陽極室液のｐＨあるいは硫酸濃度を適宜選
んでＨの輸率を定めｎばよいから、本発明に用いる複数
個のメッキ槽は、上記したようなタイプのメッキ槽の組
合せに限らず、Ａタイプ同志の組合せ、あるいはＢタイ
プ同志の組合せであってもよい。さらに、陽極室液とし
てＮａ２ＳＯ４に用いたメッキ槽同志の組合せ、陽極室
液として硫酸音用いたメッキ槽同志の組合せであっても
よい。また、陽極室液を金属溶解に用いるメッキ槽同志
の組合せ、あるいは陽・、極室液を中和して塩として系
外に除去するメ、キ槽同志の組合せであってもよい。た
とえば、第３図に示すように、一部のメ、キ槽の陽極室
液に硫酸塩を用い、他のメッキ槽の陽極室に硫酸を用い
、いずｎの陽極室液をも中和により塩として系外に出す
ようにしてもよい。また、設けるメッキ槽の数は必要に
応じ選ぶことができる。なお、メッキ浴循環槽８に戻ル
メッキ浴のＯＨ，Ｈのハフンス方法としては、各メッキ
槽において、そｎぞ３．　Ｈの輸率と生成ＯＨ量全全バ
ランスせてもよい。

さらに、本発明では、複数個のメッキ槽を設けて、各種
から共通メッキ槽に戻されるメッキ浴のｐＨｔＨ体とし
て調整するものであるから、各メッキ槽の陽極室液のＰ
ＨＩるいは硫酸濃度を大きく変えることも可能で、そｎ
によって各メッキ槽に異なる機能を持たせてシステム全
体として多機能かつ系統的なメッキ操業を行うことがで
きるようにすることもできる。例えば、一部のメッキ槽
における陽極室の硫酸濃度金高く選ぶことによシ、陽極
室液による金属溶解を容易にし、金属溶解による金属イ
オン供給に好適なメッキ槽を形成することもできる。

次に、本発明の実施例により、本発明の効果について説
明する。

実施例 ＦｅＳＯ４・７Ｈ２０２５０，！ｉ’／／　、　Ｎａ２
ＳＯ４１００ｇ／ｌから成るｐＨ＝　２．０．５０℃の
Ｆｅメッキ液を用い、陰イオン交換膜隔膜（徳山曹達■
製ｒＮｅｏｓｅｐｔａＡＣＨ−４５Ｔｊ　）をへだてて
た３個のメッキ槽を用い、このうち２個のメッキ槽（Ａ
タイプ）の陽極室にはｐＨ１，５の硫酸酸性のＮａｚＳ
Ｏｉ　１００ｇ／ｌの溶液を満し、残！１ｌ１１個のメ
ッキ槽（Ｂタイプ）の陽極室には１ｍｏｌ／ｌのＨｚＳ
Ｏａを満し、そｎぞｎの陽極室にはｐｔの陽極を設け、
３０Ａ／ｄｍ”で連続メッキを行った０３個のメッキ槽
の設備条件、メッキ条件は同一であった。

なお、本例の陰イオン交換膜の特性は、ｐＨ１，５の硫
酸酸性のＮａｔｉｏｎ　１００９／ｌの溶液を満し念陽
極室のＨの輸率は１（ｌであり、Ｓ０４”の輸率は９０
チであった０　”！　＊　ｓ　Ｈ２ＳＯ４１ｍｏｌ／／
を満した陽極室のＨの輸率は５０チであシ、５０４２　
　の輸率はｓｏｆであった。

さらに、本例のＦｅメッキの電流効率は７５チであった
。その結果、Ｎａ２ＳＯ４？満した陽極室含有するＡタ
イプメッキ槽では、陽′極室４に通電電気量の９０％に
相当する電気量分の１−ｈ　Ｓ　０４が生成さｎ１陽極
室４の出口のｐＨは１．０と低下した。そのため、その
ＨｇＳＯ４に見合うＩＯＮ、ＮａＯＨを添加し、ｐＨｔ
ｌ、５とした。さらに、陽極室中のＮａ２ＳＯ４の濃度
が上昇するた′め生成したＮａ２ＳＯ４に見合う量のＮ
ａ２ＳＯ４を除去した。

また、Ａタイプメッキ槽のメッキ浴室３には通電電気量
の１５％に相当するＯＨイオンが残存したため、メッキ
浴室３の出口でのメッキ浴のｐＨは２．２と上昇した。

また、Ｈ２Ｓ０Ａを満した陽極室含有するＢタイプメッ
キ槽では、陽極室４に通、電電気量の５０チに相当する
電気量分のＨ，Ｓ　Ｏ４が生成さｎ１硫酸濃度が上昇す
るため、生成しｆｃ、Ｈ２Ｓ　０４量に見合うＨ２８０
４Ｋ’除去し、そのＨ２Ｓ　０４　’Ｊ”金属溶解槽１
５に導き、Ｆｅｔ溶解させＦｅ２＋４オンを得た。その
際、通電電気量の５０％相当のＨ２ＳＯ４また、Ｂタイ
プメッキ槽のメッキ浴には通電電気量の２５チのＨが残
存したため、メッキ浴室３の出口のメッキ浴のｐＨは１
．８と低下した。

２個のＡタイプのメッキ槽のメッキ浴室３から回収さｔ
−Ｌｆｃメッキ浴にはＯＨ−イオンが残ｉし、１個のメ
ッキ槽の通電電気量の３０％に相当する分のＯＨ−イオ
ンが存在した。又、１個のＢタイプのメッキ槽のメッキ
浴室３から回収さ【たメ　ツキ浴には、１個のメッキ槽
の、通電電気量の÷ ２５チに相当する分のＨが存在し更に、Ｂタイプメッキ
槽の金属溶解槽１５からは未反応のＨとして、１個のメ
ッキ槽の通電電気量の５チに相当するＨ２　Ｓ　Ｃ）４
が供給されるため、メッキ浴のｐＨは常に２．０に保た
ｎた。

又、メッキによって系外にもちさらｎｆｃＦｅ”イオン
のうち、Ｆｅの溶解によらない分は、メッキ浴建浴槽１
２にてＦｅ１ｏ４・７ＨｚＯｔ供給することによってＦ
ｅ濃度は一定に管理さｎた。

一方、メッキ浴中のＦｅ”　イオンは常に数１０ｐｐｍ
以下であり常に安定したＦｅメッキ皮膜が得らｎた。

【図面の簡単な説明】

第１図はある条件下である隔膜を用いた場合における硫
酸濃度と硫酸生成効率の関係を示す図、第２図は本発明
によるＦｅメッキの一例を示す構成図、第３図は本発明
によるＦｅメッキの他の例を示す構成図である。 １０．メッキ槽　　　　　２０．陰イオン交換膜隔膜３
０．メ　キ浴室　　　４０．陽極室 ツ ５１．不溶性陽極　　　６０．被メ歩キ物８０．メッキ
浴循環槽　　ｌＯｏ、建浴槽１２、１２’　、　１４　
、　、陽極室液循環槽１５０．金属溶解槽 特許出願人　　住友金属工業株式会社 徳山曹達株式会社 代理人弁理士　　　永　　　井　　　義　　　久第１図 第２ｇ 第３図 第１頁の続き ０発　明　者　谷善雄 徳山市御影町１番１号徳山曹達 株式会社内 ■出　願　人□徳山曹達株式会社 徳山市御影町１番１号

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）陰イオン交換膜隔膜によシメ　キ浴室かツ ら分離形成さｎた陽極室中に不溶性陽極全設置した複数
   個のメッキ槽により行う硫酸浴Ｆｅ系電気メッキにおい
   て、各メッキ槽のメッキ浴供給系を共通にし、かつ、各
   メッキ槽から返送さｎるメッキ浴中の過剰Ｈ＋あるいは
   ＯＨが上記共通のメッキ浴供給系において全体としてバ
   ランスするように、各メッキ槽の陽極室におけるＨの輸
   率を選ぶことｔ−特徴とする複数メッキ槽による電気メ
   ッキ槽による電気メッキ浴のｐＨ管理方法。