JPS589133A - 縮小投影露光装置 - Google Patents
縮小投影露光装置Info
- Publication number
- JPS589133A JPS589133A JP56107076A JP10707681A JPS589133A JP S589133 A JPS589133 A JP S589133A JP 56107076 A JP56107076 A JP 56107076A JP 10707681 A JP10707681 A JP 10707681A JP S589133 A JPS589133 A JP S589133A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafers
- original
- projection optical
- reduction
- optical systems
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体素子の製作に用いられる縮小投影露光装
置に係り、特に、複数個の投影光学系を有する縮小露光
装置に関するものである。
置に係り、特に、複数個の投影光学系を有する縮小露光
装置に関するものである。
従来の縮小露光装置は単一の投影光学系しか備えていな
かったので、ウエノ・毎に投影露光操作と移動操作が必
要であった。ま尋、等信置光装置に比較して準備操作と
処理に多くの時間を必要としており、量産による生産効
率を向上させるのに大きな障害となっていた。
かったので、ウエノ・毎に投影露光操作と移動操作が必
要であった。ま尋、等信置光装置に比較して準備操作と
処理に多くの時間を必要としており、量産による生産効
率を向上させるのに大きな障害となっていた。
本発明は比較的簡単な改造によって生産能率を大幅に向
上させることができる縮小投影露光装置を提供すること
金目的とし、その特徴とするところは、複数個の投影光
学系と、これらの投影光学系中に設置した複数個の原画
台と、この原画台に載置した原画の縮小像を投影する半
導体ウエノ・全設置する１個のＸＹ移動台とを有し、こ
のＸＹ移動台を移動させるごとに複数枚の半導体ウエノ
・に同時に原画の縮小像を露光するごとく構成したこと
にある。
上させることができる縮小投影露光装置を提供すること
金目的とし、その特徴とするところは、複数個の投影光
学系と、これらの投影光学系中に設置した複数個の原画
台と、この原画台に載置した原画の縮小像を投影する半
導体ウエノ・全設置する１個のＸＹ移動台とを有し、こ
のＸＹ移動台を移動させるごとに複数枚の半導体ウエノ
・に同時に原画の縮小像を露光するごとく構成したこと
にある。
第１図は本発明の一実施例である縮小投影露光装置の斜
視図である。強力な光源１ａ、１ｂより発生した光は集
光レンズ２ａ、２ｂによって集光されて原画プレー１．
３ａ、３ｂ−１夫々照射す仝。
視図である。強力な光源１ａ、１ｂより発生した光は集
光レンズ２ａ、２ｂによって集光されて原画プレー１．
３ａ、３ｂ−１夫々照射す仝。
この原画プレー）３ａ、３ｂ’ｌ透過した光は夫々の縮
小レンズ４ａ、４ｂに入射し、ウェハ台６ａ。
小レンズ４ａ、４ｂに入射し、ウェハ台６ａ。
６ｂ上のウェハ５ａ、５ｂに夫々原画の縮小像を投影す
る。ウェハ台５ａ、５．ｂはＸＹ整動台８上に並設され
ており、駆動モータ９ａ、９ｂの作動によって任意の２
次元的方向に移動する。即ち、一対のウェハ５ａ、５ｂ
上に同時に投影露光を実施して加工することが可能とな
る。
る。ウェハ台５ａ、５．ｂはＸＹ整動台８上に並設され
ており、駆動モータ９ａ、９ｂの作動によって任意の２
次元的方向に移動する。即ち、一対のウェハ５ａ、５ｂ
上に同時に投影露光を実施して加工することが可能とな
る。
このように構成されている縮小投影露光装置は超精密な
移動制御を必要とするＸＹ移動台８を共有さイ、いる。
移動制御を必要とするＸＹ移動台８を共有さイ、いる。
工小形安価、形成す、Ｌｊｉｆｆすると共に、２枚のウ
ェハ５上に全く同じ位置精度で画像を投影露光すること
ができ、加工能率を倍増させることができる。また、露
光ピッチが同一であれば原画プレート３には異なる原画
を設置して２種類の露光ウェハ５を得ることもできる。
ェハ５上に全く同じ位置精度で画像を投影露光すること
ができ、加工能率を倍増させることができる。また、露
光ピッチが同一であれば原画プレート３には異なる原画
を設置して２種類の露光ウェハ５を得ることもできる。
゛このことは例えば１枚のウェハ５に原画Ａ、 Ｂを露
光する場合には、先ず夫々のウェハ５に跳び起し露光全
行い、その後ウェハ５を互いに交換して未露光位置に露
光すれば、従来の半分の時間でしかも原画Ａ、Ｂ’ｌＨ
交換することなく、Ａ、Ｂ原画混在露光を行うことがで
きることを意味する。
光する場合には、先ず夫々のウェハ５に跳び起し露光全
行い、その後ウェハ５を互いに交換して未露光位置に露
光すれば、従来の半分の時間でしかも原画Ａ、Ｂ’ｌＨ
交換することなく、Ａ、Ｂ原画混在露光を行うことがで
きることを意味する。
不実施例の縮小投影露光装置、は、一対の縮小投影露光
系を１個のＸＹ移動台上に構成することによって、極め
て精密で高価なＸＹ移動台の費用を半減して小形に構成
することができる。また、同時に一対のウェハに露光加
工することができるので、加工処理能率に倍増するとい
う効果をもっている。
系を１個のＸＹ移動台上に構成することによって、極め
て精密で高価なＸＹ移動台の費用を半減して小形に構成
することができる。また、同時に一対のウェハに露光加
工することができるので、加工処理能率に倍増するとい
う効果をもっている。
上記実施例では光源１ａ、１ｂ６用いているが、単一の
光源よりの光を反射鏡を用いて平行で強度の等しい２つ
の光束を得るようにした時は、より小形でエネルギー節
約形の装置とすることができ、る。また、上記実施例で
は一対の縮小投影露光系を設けた例を示したが、複数の
縮小投影露光系を１個のＸＹ移動台８上に設けることも
可能で、この場合は更に処理能力は向上する。
光源よりの光を反射鏡を用いて平行で強度の等しい２つ
の光束を得るようにした時は、より小形でエネルギー節
約形の装置とすることができ、る。また、上記実施例で
は一対の縮小投影露光系を設けた例を示したが、複数の
縮小投影露光系を１個のＸＹ移動台８上に設けることも
可能で、この場合は更に処理能力は向上する。
本発明の縮小投影露光装置は、精密高価なＸＹ移動台を
増設するこ吉なく縮小投影露光系を複数個設けることに
よって、ウェハを加工処理する能力を倍増させることが
できるという効果が得られる。
増設するこ吉なく縮小投影露光系を複数個設けることに
よって、ウェハを加工処理する能力を倍増させることが
できるという効果が得られる。
第１図は本発明の一実施例である縮小投影露光装置の斜
視図である。
視図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、原画パターンを半導体ウエノ・上に縮小転写する縮
小投影露光装置において、複数個の投影光学系と、これ
らの投影光学系中に設置した複数個の原画ｉと、この原
画台に載置した一画の縮小像を投影する上記半導体ウェ
ハを設置する１個のＸＹ移動、台とを有し、このＸＹだ
動台を移動させるごとに複数枚の上記半導体ウエノ・に
同時に上記原画の縮小像を露光するごとく構成したこと
を特徴とする縮小投影露光装置。 ２、上記投影光学系が、単一の光源よりの光束を分割し
た複数の投影光学系である特許請求の範囲第１項記載の
縮小投影露光ｉｔ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56107076A JPS589133A (ja) | 1981-07-10 | 1981-07-10 | 縮小投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56107076A JPS589133A (ja) | 1981-07-10 | 1981-07-10 | 縮小投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS589133A true JPS589133A (ja) | 1983-01-19 |
Family
ID=14449867
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56107076A Pending JPS589133A (ja) | 1981-07-10 | 1981-07-10 | 縮小投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS589133A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0687957A1 (en) * | 1994-06-17 | 1995-12-20 | International Business Machines Corporation | A multi-task semiconductor wafer stepper |
-
1981
- 1981-07-10 JP JP56107076A patent/JPS589133A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0687957A1 (en) * | 1994-06-17 | 1995-12-20 | International Business Machines Corporation | A multi-task semiconductor wafer stepper |
| US5715064A (en) * | 1994-06-17 | 1998-02-03 | International Business Machines Corporation | Step and repeat apparatus having enhanced accuracy and increased throughput |
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