JPS5889878A - 超伝導回路装置 - Google Patents
超伝導回路装置Info
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- JPS5889878A JPS5889878A JP56187186A JP18718681A JPS5889878A JP S5889878 A JPS5889878 A JP S5889878A JP 56187186 A JP56187186 A JP 56187186A JP 18718681 A JP18718681 A JP 18718681A JP S5889878 A JPS5889878 A JP S5889878A
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- Japan
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- superconducting
- grounding
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N60/00—Superconducting devices
- H10N60/10—Junction-based devices
- H10N60/12—Josephson-effect devices
Landscapes
- Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、接地用超伝導体層上に層間絶縁層を形成し、
その層関糖縁層上に超伝導回路を構成してなる構成の超
伝導回路構成部が基板上に形成されてなる構成を有する
超伝導回路装置に関する。
その層関糖縁層上に超伝導回路を構成してなる構成の超
伝導回路構成部が基板上に形成されてなる構成を有する
超伝導回路装置に関する。
新株超伝導a路装置として、従来、第1図に示す如き、
シリコン、ガラス等でなる基板1上に、鉛、鉛−インジ
ウム−金合金、ニオブ等でなるam用超伝導体湘2が蒸
着、スパッタリング等・によって形成され、その接地用
超伝導体層2上に8102 等でなる層間絶縁層5が
蒸着勢によって形成され、一方層間@社層s上に超伝導
回路構成部4が構成され、この場合超伝導回路4が、層
間48轍層3上lこ鉛、鉛−インジウム−金合金、鉛−
ビス1フ合金、−ニオブ等でなる超伝導体層5が所要の
パターンを以って形成され、その少くとも遊端部の表面
上に超伝導体層5に対する酸化処珈によりトンネル障壁
となる薄い絶縁層6が形成され、又層間絶縁層5上に超
伝導体層5とt11様の材料でなる超伝導体層7が、超
伝導体層5と絶縁層6を介して対向延長せる態様を以っ
て所要のパターンを以って形成され、更に層間絶縁層s
上に超伝導体層5及び7を堀設せる態様を以って層間絶
縁層3ぷ同様の材料でな−る層間絶縁層8が形成され、
その層間絶縁層8上に、超伝導体層7が超伝導体層5と
絶縁層6を介して対向延長している部と対向延長せる態
様を以って超伝導体層5及び7と同様の材料でなる超伝
導体層9が所要のパターンを以って形成されてなる構成
を有するものが提案されている。
シリコン、ガラス等でなる基板1上に、鉛、鉛−インジ
ウム−金合金、ニオブ等でなるam用超伝導体湘2が蒸
着、スパッタリング等・によって形成され、その接地用
超伝導体層2上に8102 等でなる層間絶縁層5が
蒸着勢によって形成され、一方層間@社層s上に超伝導
回路構成部4が構成され、この場合超伝導回路4が、層
間48轍層3上lこ鉛、鉛−インジウム−金合金、鉛−
ビス1フ合金、−ニオブ等でなる超伝導体層5が所要の
パターンを以って形成され、その少くとも遊端部の表面
上に超伝導体層5に対する酸化処珈によりトンネル障壁
となる薄い絶縁層6が形成され、又層間絶縁層5上に超
伝導体層5とt11様の材料でなる超伝導体層7が、超
伝導体層5と絶縁層6を介して対向延長せる態様を以っ
て所要のパターンを以って形成され、更に層間絶縁層s
上に超伝導体層5及び7を堀設せる態様を以って層間絶
縁層3ぷ同様の材料でな−る層間絶縁層8が形成され、
その層間絶縁層8上に、超伝導体層7が超伝導体層5と
絶縁層6を介して対向延長している部と対向延長せる態
様を以って超伝導体層5及び7と同様の材料でなる超伝
導体層9が所要のパターンを以って形成されてなる構成
を有するものが提案されている。
所で欺る構成を有する超伝導回路装置は、接地用超伝導
体層2、層間絶縁層5及び超伝導回路4による超伝導−
結構底部10を有し、その超伝導−結構底部10が基板
1上に形成されてなる構成を有するものである。そして
この場合、I!ji伝導回路構成一部10の超伝導回路
4が、超伝導体層7が超伝導体層5に48縁層6を介し
て対向−擾している部に於て形成されたジョセフソン−
合11を有し、そのジョセフソン接合11が、超伝導体
層7が超伝導体層5に絶縁層6を合11と対向延長して
いる超伝導体層9に制御用電流が流されることによって
その超伝導体層9の周りに発生する磁場の影響を愛社て
スイッチング制御されるものである。又接地用超伝導体
層2が、上述せる如くに超伝導体層9の周りに発生する
磁場を、接地用超伝導体層2と超伝導体層9との間に局
在せしめ、従って上述せるジョセフソン接合11のスイ
ッチング制御を効果的になさしめるものである。
体層2、層間絶縁層5及び超伝導回路4による超伝導−
結構底部10を有し、その超伝導−結構底部10が基板
1上に形成されてなる構成を有するものである。そして
この場合、I!ji伝導回路構成一部10の超伝導回路
4が、超伝導体層7が超伝導体層5に48縁層6を介し
て対向−擾している部に於て形成されたジョセフソン−
合11を有し、そのジョセフソン接合11が、超伝導体
層7が超伝導体層5に絶縁層6を合11と対向延長して
いる超伝導体層9に制御用電流が流されることによって
その超伝導体層9の周りに発生する磁場の影響を愛社て
スイッチング制御されるものである。又接地用超伝導体
層2が、上述せる如くに超伝導体層9の周りに発生する
磁場を、接地用超伝導体層2と超伝導体層9との間に局
在せしめ、従って上述せるジョセフソン接合11のスイ
ッチング制御を効果的になさしめるものである。
従ってWX1図に示す従来のヌ伝導回路装置によれば、
接地用超伝導体層2上に層間絶縁層5を形成し、その層
間絶縁層3上に超伝導回路4を構成してなる構成の超伝
導回路構成@10が、基板1上に形成さnてなる構成を
有し、そして接地用超伝導体層2にて、超伝導回路4を
構成せる超伝導体層9に流される電流によってその超伝
導体層9の属り、に発生する磁場を、接地用超伝導体層
2と超伝導体層9との闇に局在せしめて、超伝導回路4
を構成゛せるジョセフソン接合11を効果的にスイッチ
ング制御せしめ得るものである。 ゛ 然し乍ら、接地用超伝導体層2にて、超伏4回1li8
4を構成せる超伝導体層9に流される電、流によってそ
の超伝導体層9の周りに発生する磁場を、接地用超伝導
体層2と超伝導体層9との間に局在せしめる様になされ
ている為、接地用超伝導体42と超伝導体層9との間に
、磁場の影響を受けてはならない超伝導体層、他のジョ
セフソン接合等を配し得ないという制約を有し、この為
超伝導回路装置が全体として大面積化するものであるb 依って本発明は、全体として小ml横化し得る、tir
規′な斯all[超伝導回路装置を提案せんとするもの
で、以下詳述する所より明らかとなるであろう。
接地用超伝導体層2上に層間絶縁層5を形成し、その層
間絶縁層3上に超伝導回路4を構成してなる構成の超伝
導回路構成@10が、基板1上に形成さnてなる構成を
有し、そして接地用超伝導体層2にて、超伝導回路4を
構成せる超伝導体層9に流される電流によってその超伝
導体層9の属り、に発生する磁場を、接地用超伝導体層
2と超伝導体層9との闇に局在せしめて、超伝導回路4
を構成゛せるジョセフソン接合11を効果的にスイッチ
ング制御せしめ得るものである。 ゛ 然し乍ら、接地用超伝導体層2にて、超伏4回1li8
4を構成せる超伝導体層9に流される電、流によってそ
の超伝導体層9の周りに発生する磁場を、接地用超伝導
体層2と超伝導体層9との間に局在せしめる様になされ
ている為、接地用超伝導体42と超伝導体層9との間に
、磁場の影響を受けてはならない超伝導体層、他のジョ
セフソン接合等を配し得ないという制約を有し、この為
超伝導回路装置が全体として大面積化するものであるb 依って本発明は、全体として小ml横化し得る、tir
規′な斯all[超伝導回路装置を提案せんとするもの
で、以下詳述する所より明らかとなるであろう。
第2図は本発明による超伝導回路装置、の−例を示し、
第1図にて上述せる接地用S@導体層2上に層間′@縁
層5を形成し、その層間絶縁層s上に超伝導回路4を構
成してなる構成の超伝導回路構成部10と同様の構成を
有する超伝導回路構成部の少くとも2つが、第1丞び第
2の超伝導回路構成部10A及び10Bとして有し、而
してそれ等温1及び第2の超伝導回路構成部10人及び
IDBが、第1図の場合と同様の基板1上に積重ね−ら
れて形成されてなる構成を有する。同第1及び嬉2の超
伝導回路構成部10ム及び10Bに於て、第1図との対
応部分には同一1号にA及びBの附された符号が附され
ている。
第1図にて上述せる接地用S@導体層2上に層間′@縁
層5を形成し、その層間絶縁層s上に超伝導回路4を構
成してなる構成の超伝導回路構成部10と同様の構成を
有する超伝導回路構成部の少くとも2つが、第1丞び第
2の超伝導回路構成部10A及び10Bとして有し、而
してそれ等温1及び第2の超伝導回路構成部10人及び
IDBが、第1図の場合と同様の基板1上に積重ね−ら
れて形成されてなる構成を有する。同第1及び嬉2の超
伝導回路構成部10ム及び10Bに於て、第1図との対
応部分には同一1号にA及びBの附された符号が附され
ている。
この場合、超伝導回路構成fi10A及びI DBは、
超伝導回路構成部IOAを基板1w4として基板1上に
積重ねられて形成され、又超伝導−祁構成N10A及び
10B閣に層間絶縁層5と同様の絶縁421が介挿され
ているものである。
超伝導回路構成部IOAを基板1w4として基板1上に
積重ねられて形成され、又超伝導−祁構成N10A及び
10B閣に層間絶縁層5と同様の絶縁421が介挿され
ているものである。
以上が本発明による超伝導回路装置の一例構成であるが
、斯る構成によ°れば、その超伝導−路構成1@S10
&及゛び10Bの夫々が、爾1diilにて上述せる
超伝導回路構成部10と同様の構成を有する・めで、超
伝導回路構成部10Aに於て、第1図の場合と同様に、
接地用超伝導体層2人にて、超伝導回路4人を構成せる
超伝導体層9人に流される電流によってその超伝導体層
9Aの周りに発生する磁場を、接地用超伝導体l曽2人
と超伝導体層9’Aとの間に局在せしめて、超伝導回路
4Aを構成せるジョセフソン接合11Aを効果的にスイ
ッチング制御せしめ得、又超伝導回路構成410Bに於
ても、同様に、接地用超伝導体層2Bにて、超伝導回路
4Bを構成せる超伏導体層’9 Bに流される電流によ
ってその超伝導体49Bの周りに発生する磁場を、接地
用超伝導体42Bと超伝導体層9Bとの間番と局在せし
めて、超伝導回路4Bを構成せるジョセフソン接$11
Bを効果的にスイッチングli′Il@せしめ得るもの
である。又この為、第1図の場合と同様に、超伝導回路
構成部1−0λに於て、接地用超伝導体層2人と超伝導
体層9Aとのl1i1に、磁場の影響を受けてはならな
い超伝導体層、他のジョセフソン接合等を配し得ないも
めであり、又超伝導回路構成1510Bに於ても、同様
に、接地用超伝導体層2Bと超伝導体層9Bとの間に、
磁場の影響を受ゆではならない超伝導体層、他のジョセ
フソン接合等を配し得ないものである。
、斯る構成によ°れば、その超伝導−路構成1@S10
&及゛び10Bの夫々が、爾1diilにて上述せる
超伝導回路構成部10と同様の構成を有する・めで、超
伝導回路構成部10Aに於て、第1図の場合と同様に、
接地用超伝導体層2人にて、超伝導回路4人を構成せる
超伝導体層9人に流される電流によってその超伝導体層
9Aの周りに発生する磁場を、接地用超伝導体l曽2人
と超伝導体層9’Aとの間に局在せしめて、超伝導回路
4Aを構成せるジョセフソン接合11Aを効果的にスイ
ッチング制御せしめ得、又超伝導回路構成410Bに於
ても、同様に、接地用超伝導体層2Bにて、超伝導回路
4Bを構成せる超伏導体層’9 Bに流される電流によ
ってその超伝導体49Bの周りに発生する磁場を、接地
用超伝導体42Bと超伝導体層9Bとの間番と局在せし
めて、超伝導回路4Bを構成せるジョセフソン接$11
Bを効果的にスイッチングli′Il@せしめ得るもの
である。又この為、第1図の場合と同様に、超伝導回路
構成部1−0λに於て、接地用超伝導体層2人と超伝導
体層9Aとのl1i1に、磁場の影響を受けてはならな
い超伝導体層、他のジョセフソン接合等を配し得ないも
めであり、又超伝導回路構成1510Bに於ても、同様
に、接地用超伝導体層2Bと超伝導体層9Bとの間に、
磁場の影響を受ゆではならない超伝導体層、他のジョセ
フソン接合等を配し得ないものである。
然し乍ら、第2図に示す本発明による超伝導回路装置の
場合、第1図にて上述せる超伝導回路構成部10と同様
の超伝導回路構成部10A及び10Bが、基板1上に積
重ねられて形成されているので、基板1の面積を第1図
′の場合の172程度迄小としても、#!1図の場合と
同様の機能を得る事ができるものである。又超伝導回路
構成j@lI DA及びIOBを夫々構成せる接地用超
伝導体層2人及び2Bは、蟲然乍ら反磁性を呈するもの
であるが、斯ぐ反磁性を呈する接地用超伝導体層2Bが
超伝導−結構底部10A及び10B間に介挿されてなる
構成を有するので、超伝導回路構成部10ム゛及び10
Bが、接地用超伝導体層2Bによって、磁気的に互に分
離された状態で動作するものである。
場合、第1図にて上述せる超伝導回路構成部10と同様
の超伝導回路構成部10A及び10Bが、基板1上に積
重ねられて形成されているので、基板1の面積を第1図
′の場合の172程度迄小としても、#!1図の場合と
同様の機能を得る事ができるものである。又超伝導回路
構成j@lI DA及びIOBを夫々構成せる接地用超
伝導体層2人及び2Bは、蟲然乍ら反磁性を呈するもの
であるが、斯ぐ反磁性を呈する接地用超伝導体層2Bが
超伝導−結構底部10A及び10B間に介挿されてなる
構成を有するので、超伝導回路構成部10ム゛及び10
Bが、接地用超伝導体層2Bによって、磁気的に互に分
離された状態で動作するものである。
依って第2図にて上述せる本発明による超伝導回路装置
によれば、第1図にて上述せる従来の超伝導回路装置に
て得られると同様の機能を、第1図にて上述せる従来の
超伝導回路装置に比し格段的に小面積化して得ることか
できるという大なる特徴を有するものである。
によれば、第1図にて上述せる従来の超伝導回路装置に
て得られると同様の機能を、第1図にて上述せる従来の
超伝導回路装置に比し格段的に小面積化して得ることか
できるという大なる特徴を有するものである。
次に本発明による超伝導回路装置の他の例につき第6図
を伴なう、て述べるに、第2図との対応部分には同一符
号を附し詳細説明はこV、を省略するも、第2図にて上
述せる構成に於て、超伝導回路構成部10A及010B
閣に、絶縁層21と超伝導回路構成部10Bを構成せる
接地用超伝導体層2Bとの間に介挿せる態様を以って、
パーマロイ、ミューメタル等の高透磁率を有する材料で
なるを可とする磁性層22が介挿されてなる事を除いて
は、第2図の場合と同様の構成を有する0 以上が本発明による超伝導回路装置の他の例の構成であ
るが、斯る構成によれば、それが第2図にて上述せる構
成に於て、その超伝導回路#411t部10A及び10
B間に、磁性層22が介挿されてなる事を除いては、第
2図の場合と同様の構成を有するので、詳細説明はこれ
を省略する□も第2図の場合と同様゛の優れた特徴を有
するものである。
を伴なう、て述べるに、第2図との対応部分には同一符
号を附し詳細説明はこV、を省略するも、第2図にて上
述せる構成に於て、超伝導回路構成部10A及010B
閣に、絶縁層21と超伝導回路構成部10Bを構成せる
接地用超伝導体層2Bとの間に介挿せる態様を以って、
パーマロイ、ミューメタル等の高透磁率を有する材料で
なるを可とする磁性層22が介挿されてなる事を除いて
は、第2図の場合と同様の構成を有する0 以上が本発明による超伝導回路装置の他の例の構成であ
るが、斯る構成によれば、それが第2図にて上述せる構
成に於て、その超伝導回路#411t部10A及び10
B間に、磁性層22が介挿されてなる事を除いては、第
2図の場合と同様の構成を有するので、詳細説明はこれ
を省略する□も第2図の場合と同様゛の優れた特徴を有
するものである。
然し乍ら第3図にて上述せる本発明による超伝導回路装
置の場合、超伝導回路構成部10ム及び10B間に磁性
層22を有するので、超伝導回路構成部10Aの超伝導
体層9人と超伝導回路構成部10Bの接地用超伝導体層
2Bとの間の間隔が第2図の場合に比し格段的に小であ
りが、磁性層22内に留められて、超伝導回路m底部1
0Bを構成せる接地用超伝導体層2Bに達せず、依って
超伝導回路構成部10Bの接地用超伝導体層2Bが超伝
導、回路構成部10Aの接地用超伝導体層として、接地
用超伝導体層2人と同様の作用をなすことがなく、依っ
て超伝導回路構成部10Aの超伝導体層9ムと超伝導U
@Ii8粥成部to底部接地用超伝導体層2Bと、の間
の間隔が少であっても、超伝導体回路構成部10Aが所
期の特性を以って作動するものである。
置の場合、超伝導回路構成部10ム及び10B間に磁性
層22を有するので、超伝導回路構成部10Aの超伝導
体層9人と超伝導回路構成部10Bの接地用超伝導体層
2Bとの間の間隔が第2図の場合に比し格段的に小であ
りが、磁性層22内に留められて、超伝導回路m底部1
0Bを構成せる接地用超伝導体層2Bに達せず、依って
超伝導回路構成部10Bの接地用超伝導体層2Bが超伝
導、回路構成部10Aの接地用超伝導体層として、接地
用超伝導体層2人と同様の作用をなすことがなく、依っ
て超伝導回路構成部10Aの超伝導体層9ムと超伝導U
@Ii8粥成部to底部接地用超伝導体層2Bと、の間
の間隔が少であっても、超伝導体回路構成部10Aが所
期の特性を以って作動するものである。
尚上述に於ては本発明の僅かな例を示したに留まり、あ
る場合は、#!2図にて上述せる構成に於て、その基板
1が超伝導回路構成部10Bの超伝導回路構成部10人
側とは反対糊にある構成とすることもでき、又第5図に
て上述せる構成に於て、その超伝導回路構成部10Bが
その接地用超伝導体層2Bをして超伝導回路構成@’H
oA@とは反対側とせる構成とするこ−ともでき、更に
超伝導回路構成部10A及び10Bの何れか一力が、超
伝導体層を有するもジョセフソン接合を有さざる構成と
することもできるものである。父上述に於ては、ンヨセ
フソン接合が所幽トンネル接合・直amである′として
図示説明したものであるぎ、ジョセフソン接合を所浦ト
ンネル接合・直交型とすることもでき、史にはブリッジ
型とするこ−ともでき、その他車発明の精神を脱するこ
となしに檀々の変型変更をなし得るであろう。
る場合は、#!2図にて上述せる構成に於て、その基板
1が超伝導回路構成部10Bの超伝導回路構成部10人
側とは反対糊にある構成とすることもでき、又第5図に
て上述せる構成に於て、その超伝導回路構成部10Bが
その接地用超伝導体層2Bをして超伝導回路構成@’H
oA@とは反対側とせる構成とするこ−ともでき、更に
超伝導回路構成部10A及び10Bの何れか一力が、超
伝導体層を有するもジョセフソン接合を有さざる構成と
することもできるものである。父上述に於ては、ンヨセ
フソン接合が所幽トンネル接合・直amである′として
図示説明したものであるぎ、ジョセフソン接合を所浦ト
ンネル接合・直交型とすることもでき、史にはブリッジ
型とするこ−ともでき、その他車発明の精神を脱するこ
となしに檀々の変型変更をなし得るであろう。
第1図は従来の超伝導回路装置を示・す路線的断面図、
第2図は本発明による超伝導回路装置の一例を示す路線
的断面図、第5図は本発明による超伝導回路装置の他の
例を示す路線的断面図である。 図中1は基板、2A及び2Bは接地用超伝導体層、5A
及び3Bは眉間絶縁層、4A及び4Bは超伝導回路、5
A、5B、7ム、7B。 9A及び9Bは超伝導体層、IOA及び10Bは超伝導
回路構成部、11人及011Bはジョセフソン接合、2
1は絶縁層、2には磁性層を夫々示す。 出願人 日本電信X砧公社
第2図は本発明による超伝導回路装置の一例を示す路線
的断面図、第5図は本発明による超伝導回路装置の他の
例を示す路線的断面図である。 図中1は基板、2A及び2Bは接地用超伝導体層、5A
及び3Bは眉間絶縁層、4A及び4Bは超伝導回路、5
A、5B、7ム、7B。 9A及び9Bは超伝導体層、IOA及び10Bは超伝導
回路構成部、11人及011Bはジョセフソン接合、2
1は絶縁層、2には磁性層を夫々示す。 出願人 日本電信X砧公社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、W!地用超伝導体層上に層間絶縁層を形成し、娘層
間絶縁層上&C超伏−回路を構成してなる構成の超伝導
−路構底部の少くとも2つを第1及びm2の超伝導回路
構成部として有し、該第1及びIIE2の超伝導−路構
底部が基板上に積電ねられて形成されてなる拳を4I像
とする超伝導回路装置。 2、接地用逓伝導体層上に層間絶縁層を形成し、該層閲
絶醸層上に超伝導回路を構成してなる構成の超伝導−路
構底部の少くとも2つを第1及び第2の超伝導−路構底
部と゛して有し、該第1及び嬉2の超伝導−路構底部が
基板上に積重ねられて形成され、上記gt及び[2の超
伝導回路iII!iLs閏蟇こ磁性層が介挿されてなる
事を特徴とする超伝導回路装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56187186A JPS5889878A (ja) | 1981-11-21 | 1981-11-21 | 超伝導回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56187186A JPS5889878A (ja) | 1981-11-21 | 1981-11-21 | 超伝導回路装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5889878A true JPS5889878A (ja) | 1983-05-28 |
JPS6328516B2 JPS6328516B2 (ja) | 1988-06-08 |
Family
ID=16201609
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56187186A Granted JPS5889878A (ja) | 1981-11-21 | 1981-11-21 | 超伝導回路装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5889878A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60198788A (ja) * | 1984-03-22 | 1985-10-08 | Agency Of Ind Science & Technol | ジヨセフソン集積回路の構造 |
JPS63124585A (ja) * | 1986-11-14 | 1988-05-28 | Fujitsu Ltd | 磁界結合型ジヨセフソン集積回路 |
JP2006278384A (ja) * | 2005-03-28 | 2006-10-12 | Nec Corp | 超伝導ランダムアクセスメモリおよびその製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5853874A (ja) * | 1981-09-26 | 1983-03-30 | Fujitsu Ltd | ジヨセフソン集積回路 |
-
1981
- 1981-11-21 JP JP56187186A patent/JPS5889878A/ja active Granted
Patent Citations (1)
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JPS5853874A (ja) * | 1981-09-26 | 1983-03-30 | Fujitsu Ltd | ジヨセフソン集積回路 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6328516B2 (ja) | 1988-06-08 |
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