JPS5879180A - 放射性ガス分析装置 - Google Patents
放射性ガス分析装置Info
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- JPS5879180A JPS5879180A JP56177088A JP17708881A JPS5879180A JP S5879180 A JPS5879180 A JP S5879180A JP 56177088 A JP56177088 A JP 56177088A JP 17708881 A JP17708881 A JP 17708881A JP S5879180 A JPS5879180 A JP S5879180A
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- Japan
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- gas
- radioactive
- dilution
- radioactive gas
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T7/00—Details of radiation-measuring instruments
- G01T7/02—Collecting means for receiving or storing samples to be investigated and possibly directly transporting the samples to the measuring arrangement; particularly for investigating radioactive fluids
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- Measurement Of Radiation (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、故旧＋ｌＩガス分１ノｌ装置Ｉ″ｌ゛に４ｔ
ｖ：す、喝、に、高循度の希釈が［１丁能な放Ｉ［Ｉ１
１力区分（Ｊｉ裟装に関するものである。
ｖ：す、喝、に、高循度の希釈が［１丁能な放Ｉ［Ｉ１
１力区分（Ｊｉ裟装に関するものである。
原子力発電所お」：ひ核燃岑１内処叶ト鳴などの放射性
物質取扱い設備よりリノゾリングされた高放射能レベル
の放射性ガスを含む試第１ガスを分析する場合には、放
帽線計副器で許容できる放射能レベル寸で試料ノノスを
希釈しなければならない。この希釈は、試料ガスを移送
する際の被ばくに対する頃境保全」二からも重要である
。試料カス希釈精度は、）Ｊ′ｉ！Ｊ」能濃度分析の精
度へ直接影響する。
物質取扱い設備よりリノゾリングされた高放射能レベル
の放射性ガスを含む試第１ガスを分析する場合には、放
帽線計副器で許容できる放射能レベル寸で試料ノノスを
希釈しなければならない。この希釈は、試料ガスを移送
する際の被ばくに対する頃境保全」二からも重要である
。試料カス希釈精度は、）Ｊ′ｉ！Ｊ」能濃度分析の精
度へ直接影響する。
従来の試料ガスの希釈は、試料ガスの流計と希釈ガスの
流計を所定の流量比になるように調節し、各々のガスを
混合タンク内に導いて混合することによって行なってい
る。この」：つな方法では、試料ガスの成分が明らかな
場合でかつその成分が常に一定でなければ、十分な精度
の希釈を実〃由できない。この閉山は流量計の正確さが
ガス成分に入きく依存するためである。ここで対象にし
ている高放射能レベルの試料ガスでは放射線分解により
、その組成比が大きく変化する。とくに、原子力発電所
の緊急時などにおいては、原子炉冷却水の放射線分解に
Ｊ：り水素、酸素が発生し、分析対象の試料ガスの組成
比は大きく変化する可能性がある。
流計を所定の流量比になるように調節し、各々のガスを
混合タンク内に導いて混合することによって行なってい
る。この」：つな方法では、試料ガスの成分が明らかな
場合でかつその成分が常に一定でなければ、十分な精度
の希釈を実〃由できない。この閉山は流量計の正確さが
ガス成分に入きく依存するためである。ここで対象にし
ている高放射能レベルの試料ガスでは放射線分解により
、その組成比が大きく変化する。とくに、原子力発電所
の緊急時などにおいては、原子炉冷却水の放射線分解に
Ｊ：り水素、酸素が発生し、分析対象の試料ガスの組成
比は大きく変化する可能性がある。
このため、従来の流喰比晶合による希釈法では分析誤差
が大きい。
が大きい。
本発明の１−１的は、サンプリング１−７た１ｆＪ臼：
１ガスの希釈精度を向上させろこ−に５ちる。
１ガスの希釈精度を向上させろこ−に５ちる。
本発明のｑ４徴Ｖ］１、ツ゛ン／’ ＩＪングされ／こ
放射性ガスの流れる通路から所定ｊ、、ｌの放射性ガス
を切取り、この切」■られた放Ｉ、１性ガスを了Ｉ）択
′？を器内に供給し、希釈容器内に圧縮箱釈ガ×を供給
することにある。
放射性ガスの流れる通路から所定ｊ、、ｌの放射性ガス
を切取り、この切」■られた放Ｉ、１性ガスを了Ｉ）択
′？を器内に供給し、希釈容器内に圧縮箱釈ガ×を供給
することにある。
本発明の一実施例である故旧１／Ｉガス分析装置に適用
される希釈に置を第１図に活づいて説明する。
される希釈に置を第１図に活づいて説明する。
希釈装置ｔ】］１、ケー／ング１内に、リノ取りバルブ
１１と希釈部１：３とをイ」１〜ている１３ 明取りバ
ルブ１１は、ケー／ノグ１内に設け１゛）れ／こ円形空
間２内に回転可能に取付りｌ’−：） ｉ １．−Ｃい
る。、 ｔノＪ１１ｖ、リパルプ１１ ｋ：Ｊ：、円板
状であり、その周縁部の２ ｉ’、’ｊｒ所に回転中心
に対して対象の位置に切欠部：３が設けられる。円形空
間２に”丈７ゾリング７７４ ’、ｌＬ−Ｊ：ひ刊出管
５が連絡される。希釈部＋ ３にす１．４釈ガス管６お
」：び分析ガス１１（給管７が接続さ、１１〜る。
１１と希釈部１：３とをイ」１〜ている１３ 明取りバ
ルブ１１は、ケー／ノグ１内に設け１゛）れ／こ円形空
間２内に回転可能に取付りｌ’−：） ｉ １．−Ｃい
る。、 ｔノＪ１１ｖ、リパルプ１１ ｋ：Ｊ：、円板
状であり、その周縁部の２ ｉ’、’ｊｒ所に回転中心
に対して対象の位置に切欠部：３が設けられる。円形空
間２に”丈７ゾリング７７４ ’、ｌＬ−Ｊ：ひ刊出管
５が連絡される。希釈部＋ ３にす１．４釈ガス管６お
」：び分析ガス１１（給管７が接続さ、１１〜る。
放射性物質取扱い施設、圀えＨ’、ｔル１府水型原子炉
の格納容器内からザ７ゾリング一＼れ／こ試料ガス１０
は、サンプリング管４を卸して円形空間２の側壁と切取
りバルブ１１の切欠部：３とに」：つて囲−止れる切取
り空間１４内に流入し、排出管５へと流出する。排出管
５幻２、放射性廃粱物処叩系につながっている。試料ガ
ス１０を希釈する場合には、切ｊ収りバルブ１１を１８
０°回転させる。切取りバルブ１１０回覧に伴って第１
図の」二部に位置している切取り空間１４が上部に移動
する。このため、−Ｊ二部の位置で切取り空間１４内に
サンプリング管４より流入した試料ガス１０は、切取り
空間１４が１ぐ部の位ｌ佇に到達した時、希釈部１３内
に放出される。その後、希釈部１３内へ、圧縮された希
釈ガスを矢印１５方向からパルス１６が設けられた希釈
ガス管６を通して圧入する。このときの希釈率は、排出
管５の圧力計１７の指示値を１）１、切取り空間１４の
容積Ｖｌ、希釈部１３の容積を■２、希釈後の希釈部１
３の圧力（圧力計１８の指示値） をｐ２とすると、（
ｐ、 ＨＶ、 ／’ｌ）、 ２ ・Ｖ２）となる。試料
ガス１０の希釈後、バルブ２０を開くことに」：って、
希釈部１３内で所定濃度まで希釈された試料ガス１０は
、圧力調整器１９を介して分析ガス供給管７に、１．す
放射面分（）１装置またはヨウ素、粒子等の性】１ノζ
分離装置へと４かれる。
の格納容器内からザ７ゾリング一＼れ／こ試料ガス１０
は、サンプリング管４を卸して円形空間２の側壁と切取
りバルブ１１の切欠部：３とに」：つて囲−止れる切取
り空間１４内に流入し、排出管５へと流出する。排出管
５幻２、放射性廃粱物処叩系につながっている。試料ガ
ス１０を希釈する場合には、切ｊ収りバルブ１１を１８
０°回転させる。切取りバルブ１１０回覧に伴って第１
図の」二部に位置している切取り空間１４が上部に移動
する。このため、−Ｊ二部の位置で切取り空間１４内に
サンプリング管４より流入した試料ガス１０は、切取り
空間１４が１ぐ部の位ｌ佇に到達した時、希釈部１３内
に放出される。その後、希釈部１３内へ、圧縮された希
釈ガスを矢印１５方向からパルス１６が設けられた希釈
ガス管６を通して圧入する。このときの希釈率は、排出
管５の圧力計１７の指示値を１）１、切取り空間１４の
容積Ｖｌ、希釈部１３の容積を■２、希釈後の希釈部１
３の圧力（圧力計１８の指示値） をｐ２とすると、（
ｐ、 ＨＶ、 ／’ｌ）、 ２ ・Ｖ２）となる。試料
ガス１０の希釈後、バルブ２０を開くことに」：って、
希釈部１３内で所定濃度まで希釈された試料ガス１０は
、圧力調整器１９を介して分析ガス供給管７に、１．す
放射面分（）１装置またはヨウ素、粒子等の性】１ノζ
分離装置へと４かれる。
この希釈され／こ試別ガス】０の移送口、希釈部１３内
が高圧であるだめ、ボ／ゾ等を用いることなく容易に行
なえる。
が高圧であるだめ、ボ／ゾ等を用いることなく容易に行
なえる。
切取り空間１４の容積をＩＣＣ，試料ガス１０の排出管
５のｊ圧力を１． ｌ Ｉ＜７ ／ ｃｍ ”１ンい尺
部１３の容積３４０ＣＣお」：びイｉ′Ｉ８ｉノぐカス
の１１″人圧力を３０本実施例での試料ガス１０の成分
に依存Ｌｆｆい精度の高い希釈を実施できる。、このた
め、本実施例における試料ガス１０の分（１ｉ’ ；ｌ
′ｌ’ｒ度が著ｉ〜く向上する。−１：た、希釈装置の
構清を土、’ｌ′ｌ−純である。
５のｊ圧力を１． ｌ Ｉ＜７ ／ ｃｍ ”１ンい尺
部１３の容積３４０ＣＣお」：びイｉ′Ｉ８ｉノぐカス
の１１″人圧力を３０本実施例での試料ガス１０の成分
に依存Ｌｆｆい精度の高い希釈を実施できる。、このた
め、本実施例における試料ガス１０の分（１ｉ’ ；ｌ
′ｌ’ｒ度が著ｉ〜く向上する。−１：た、希釈装置の
構清を土、’ｌ′ｌ−純である。
希釈部１３内への高圧の？６釈ガ×のｌ１人は、切取り
バルブ■１の切欠部３に向って吹伺けるようにし、かつ
高い圧力差でパルス状に行なうことが望しい。これによ
って、希釈部１：３内に１・・ける試料ガス１０と希釈
ガスの混合および均一化を瞬時に行なうことができる。
バルブ■１の切欠部３に向って吹伺けるようにし、かつ
高い圧力差でパルス状に行なうことが望しい。これによ
って、希釈部１：３内に１・・ける試料ガス１０と希釈
ガスの混合および均一化を瞬時に行なうことができる。
第２図は、従来例の流１住比ン＾釈と不実施例の圧縮箱
釈との祁釈精度を比較したものである。Ｘ印が１′／Ｉ
Ｔ、量比希釈を○印か圧縮希釈を７１＜１７でいる。従
来例の橢・べ精度は、試料ガスの成分比に依存し、右釈
精度は数１０％以−１−になる場合もある。一方、本実
施例によれば、数％以下の希釈精度で安定した内現住が
得られる。この希釈精度は前述していることく、分析精
度へ直接影響するものであり、本実施例のイ」幼性が明
らかである。
釈との祁釈精度を比較したものである。Ｘ印が１′／Ｉ
Ｔ、量比希釈を○印か圧縮希釈を７１＜１７でいる。従
来例の橢・べ精度は、試料ガスの成分比に依存し、右釈
精度は数１０％以−１−になる場合もある。一方、本実
施例によれば、数％以下の希釈精度で安定した内現住が
得られる。この希釈精度は前述していることく、分析精
度へ直接影響するものであり、本実施例のイ」幼性が明
らかである。
第：３図は、本発明の放射性ガス分析装置に適用される
希釈装置の他の実施例を示す。これ１１自己回帰方式を
備えたイｂ釈装置である１、第１図の実施例と同一 １
ｈ成目、同一符号て゛示し、異なる部分のみ説明する。
希釈装置の他の実施例を示す。これ１１自己回帰方式を
備えたイｂ釈装置である１、第１図の実施例と同一 １
ｈ成目、同一符号て゛示し、異なる部分のみ説明する。
サンプリング管４お・」、ひ分析ガス供給管７にＩ：Ｊ
ｌ、玉り弁３０および；う１を設ける。配管３３が、三
方弁３０と三ツノ升；−３１とを連絡している。
ｌ、玉り弁３０および；う１を設ける。配管３３が、三
方弁３０と三ツノ升；−３１とを連絡している。
放則１１物質取扱い施設からサンプリングされた試料ガ
ス１． Ｏ＆ｊ、三方弁３０を辿って切取り空間１４内
に流入する。この時、パルプ３４お」＝ヒ３５は開いて
いる。切取り空間１４」：り排出された試料ガスは、二
）ｊ −ｊｐ ３２４Ｂ ：斤１ノ゛Ｃ，ｌ１Ｊｌ出管
５により廃果物処理系へとり１１１冒Ｎ；ｌ’Ｌる。
１ｉＩＪ取りパルプ１１を回転させることによって１．
り取り″）５間１４内の試￥−１ガスＩＯ＆Ｊ、前、ニ
ア１Ｓの実施例の土うに系釈部１３内に放出され、斉釈
ガス宜６から供給される高圧の希釈カスに」：って希釈
される１、毘釈部１３内で、一度、希釈され／Ｃ試試料
ｊスＩＪ、Ｉ、川力調整器１９、三方弁：３】、配’７
’（３３、Ｓ方）ｌ’３］、サンプリング管４、切取り
り）°間１４ ：ｌＬ・Ｕ：び排出管５へと導かれる。
ス１． Ｏ＆ｊ、三方弁３０を辿って切取り空間１４内
に流入する。この時、パルプ３４お」＝ヒ３５は開いて
いる。切取り空間１４」：り排出された試料ガスは、二
）ｊ −ｊｐ ３２４Ｂ ：斤１ノ゛Ｃ，ｌ１Ｊｌ出管
５により廃果物処理系へとり１１１冒Ｎ；ｌ’Ｌる。
１ｉＩＪ取りパルプ１１を回転させることによって１．
り取り″）５間１４内の試￥−１ガスＩＯ＆Ｊ、前、ニ
ア１Ｓの実施例の土うに系釈部１３内に放出され、斉釈
ガス宜６から供給される高圧の希釈カスに」：って希釈
される１、毘釈部１３内で、一度、希釈され／Ｃ試試料
ｊスＩＪ、Ｉ、川力調整器１９、三方弁：３】、配’７
’（３３、Ｓ方）ｌ’３］、サンプリング管４、切取り
り）°間１４ ：ｌＬ・Ｕ：び排出管５へと導かれる。
このイ簡ｌ＜さＩｌ、／；−試（′１力゛ス１０が流れ
ている間にパルプ：３４１．・５口Ｊ’ ：ｌ ５ろ−
・閉じる。
ている間にパルプ：３４１．・５口Ｊ’ ：ｌ ５ろ−
・閉じる。
その後、希釈部１：３内をイ管択ガスでθ−浄する３、
この洗浄ガスＣ１１、圧縮箱釈カス人１１配宜：３６、
パルプ１６、右釈夕／り１３、Ｉ １ｇ力調整〈口９、
三方弁：３１、配管；３：３およＯ・；目ｉ ：１．・
、１．’び：、）Ｊ弁３２を弁して排出管５へと導かＪ
ｌ、Ｉ発東物処理系・＼と送られる。必要に応じて、配
′１゛ζ：３にに設け／ζ貞空ポン；３７を耳ｊい−Ｃ
Ａ’ｒ’、＄、／ｆ１も用１止−ｅ；−１ｉ）る１゜パ
ルプ３４とパルプ３５ 、’−の間にイ６釈さ７１．だ
試料カス１０が存在してい゛１屹鴫で１．ＩＪ１区リバ
すソ１１を回転させて、希釈された試料ガス１０を再度
、希釈部１：う内へ導く。希釈部１３内に高圧の希釈ガ
スを注入し、丙ひ、試料ガス１０を圧縮希釈する。これ
によって試料ガス１０の高希釈を達成できる。この希釈
した試料カスは、圧力Ａ＝器１９おＪ：ひ三方弁３１を
介し、分析ガス供給管７を通って分析装置へと送られる
。本実施例に」、れば、試料ガスの希釈率を・渭度良く
著１〜く向にさぜることができる。
この洗浄ガスＣ１１、圧縮箱釈カス人１１配宜：３６、
パルプ１６、右釈夕／り１３、Ｉ １ｇ力調整〈口９、
三方弁：３１、配管；３：３およＯ・；目ｉ ：１．・
、１．’び：、）Ｊ弁３２を弁して排出管５へと導かＪ
ｌ、Ｉ発東物処理系・＼と送られる。必要に応じて、配
′１゛ζ：３にに設け／ζ貞空ポン；３７を耳ｊい−Ｃ
Ａ’ｒ’、＄、／ｆ１も用１止−ｅ；−１ｉ）る１゜パ
ルプ３４とパルプ３５ 、’−の間にイ６釈さ７１．だ
試料カス１０が存在してい゛１屹鴫で１．ＩＪ１区リバ
すソ１１を回転させて、希釈された試料ガス１０を再度
、希釈部１：う内へ導く。希釈部１３内に高圧の希釈ガ
スを注入し、丙ひ、試料ガス１０を圧縮希釈する。これ
によって試料ガス１０の高希釈を達成できる。この希釈
した試料カスは、圧力Ａ＝器１９おＪ：ひ三方弁３１を
介し、分析ガス供給管７を通って分析装置へと送られる
。本実施例に」、れば、試料ガスの希釈率を・渭度良く
著１〜く向にさぜることができる。
第４図は、被ばく低減を目的に１〜／こ場合の放射性ガ
ス分析装置の一例を示す。試料ガス１０は、サンプリン
グ管４から希〉バ装置（第１図または第２図に壓す希釈
装置）４１の切取り空間１４内に供給され、排出管５へ
と排出される。希釈カス管６から供給する圧縮希釈ガス
で所定の希釈を実施した試料ガスはしやへい壁４５を貫
通し分析ノノス供給管７を通って、粒子分析器４６、ヨ
ウ素分析器４７などで性状分離を実施される。その後試
料ガスは、放射線検出器４８にて放射能が測定され、排
出管５に送られる。放射線検出器４８の測定値は、分析
の／ζめに放躬能白動分（１ｒ ’）’、； １１’ｉ
４９へ送られる。この構成かｒ）わかる１・−）に、
１−バ・へい壁４５以降へは必安計の箔択１．／こ試（
１万ソ、を′ｆＦ易に移送可能であり、被ばく低減の僕
１ｉ、’ｊ保１ゝも部分に保つことができる。
ス分析装置の一例を示す。試料ガス１０は、サンプリン
グ管４から希〉バ装置（第１図または第２図に壓す希釈
装置）４１の切取り空間１４内に供給され、排出管５へ
と排出される。希釈カス管６から供給する圧縮希釈ガス
で所定の希釈を実施した試料ガスはしやへい壁４５を貫
通し分析ノノス供給管７を通って、粒子分析器４６、ヨ
ウ素分析器４７などで性状分離を実施される。その後試
料ガスは、放射線検出器４８にて放射能が測定され、排
出管５に送られる。放射線検出器４８の測定値は、分析
の／ζめに放躬能白動分（１ｒ ’）’、； １１’ｉ
４９へ送られる。この構成かｒ）わかる１・−）に、
１−バ・へい壁４５以降へは必安計の箔択１．／こ試（
１万ソ、を′ｆＦ易に移送可能であり、被ばく低減の僕
１ｉ、’ｊ保１ゝも部分に保つことができる。
第５図は、希釈装置ｉ＜５の他の実／１１１」口・小才
、、この例ではサンプリング・ｆｌ’ｉ’ ５０、 ゛
）ｊ ’／１５１ ＩＪ・、１．び５２を介して、排１
１旨？５：３か１）・・−７才る試第１ガスを、三方弁
５１と五方プ「５２の間の流１１’ｉ’ｒで切取る。こ
の切取った試料ガスを、イい１ぐガス管５／Ｉから注入
する圧＋：ｈｉ’ｉ希釈ガスで４．釈クック５（）に移
送し、圧縮希釈を実、１１１“口する５１本実施１シ１
１ζ１、試才１ガ×の１刀取り容積を大きく取ることが
宥′弓で、１うり、１ｊ監＾択率の場合あるいは多量の
？６釈し／（試１′１．１ｊ、／、が必・皮となる場合
に有効となる。その他、配貨や希釈タンクにヒータ５５
を設け、試料ノノベ移送７１′５のパージ洗浄を容易に
する方法も考え）’、、ｌ＋る。
、、この例ではサンプリング・ｆｌ’ｉ’ ５０、 ゛
）ｊ ’／１５１ ＩＪ・、１．び５２を介して、排１
１旨？５：３か１）・・−７才る試第１ガスを、三方弁
５１と五方プ「５２の間の流１１’ｉ’ｒで切取る。こ
の切取った試料ガスを、イい１ぐガス管５／Ｉから注入
する圧＋：ｈｉ’ｉ希釈ガスで４．釈クック５（）に移
送し、圧縮希釈を実、１１１“口する５１本実施１シ１
１ζ１、試才１ガ×の１刀取り容積を大きく取ることが
宥′弓で、１うり、１ｊ監＾択率の場合あるいは多量の
？６釈し／（試１′１．１ｊ、／、が必・皮となる場合
に有効となる。その他、配貨や希釈タンクにヒータ５５
を設け、試料ノノベ移送７１′５のパージ洗浄を容易に
する方法も考え）’、、ｌ＋る。
第５図に示ず希釈装置にゴロ３図に、ｊ＜ず五ツノ′ｊ
［３ｏ、３１および；３２、配管３３ 、Ｌ・４１．ｏ
、：３６を設置し、高範囲の希釈率を千「；ｊ’ｉ’ｌ
に達成することもできる。
［３ｏ、３１および；３２、配管３３ 、Ｌ・４１．ｏ
、：３６を設置し、高範囲の希釈率を千「；ｊ’ｉ’ｌ
に達成することもできる。
本発明によれは、放射性ガスの希釈を精度良く行なうこ
とができ、分析精度を向上できる。
とができ、分析精度を向上できる。
第１図は本発明の放射性ガス分析装置に適用される希釈
装置の一実施例の構造図、第２図は試料ガスの希釈率と
希釈精度との関係を示す特性図、第３図４つ・よひ第５
図は希釈装置の他の実施例の系統図、第４図は放射性ガ
ス分析装置の系統図である。 １ ケーシング、１４ ・ツ゛ノゾリング管、６・・・
希釈第 ／ 囚 第 ２ 図 倉入米子力゛スの４未１＊− （ｌ］） 目 ３ ２ ７ 第 ４ 国 ＄４ 第１頁の続き （７多発 明 者 北口博司 日立市森山町１１６８番地株式会社 日立製作所エネルギー研究所内 ＠発 明 者 北森武彦 日立市森山町１１６８番地株式会社 日立製作所エネルギー研究所内 Ｑ多発 明 者 藤井正昭 日立市森山町１１６８番地株式会社 日立製作所エネルギー研究所内 ヴ多発 明 者 神谷九二男 日立市森山町１１６８番地株式会社 日立製作所エネルキー研究所内 （７す出 願 人 東北電力株式会社 仙台市１番町３丁目７番１号 ＠出 願 人 中部電力株式会社 名古屋市東区東新町一番地 ・′７υ出 願 人 北陸電力株式会社富山市桜橋通り
３番１号 ・７ｐ出 願 人 中国電力株式会社 広島市中区小町４番３３号 １１℃出 願 人 日本原子力発電株式会社東京都千代
田区大手町−下目６ 番１号 （？〔出 願 人 株式会社日立製作所東京都千代田区
丸の内−丁目５ 番１号
装置の一実施例の構造図、第２図は試料ガスの希釈率と
希釈精度との関係を示す特性図、第３図４つ・よひ第５
図は希釈装置の他の実施例の系統図、第４図は放射性ガ
ス分析装置の系統図である。 １ ケーシング、１４ ・ツ゛ノゾリング管、６・・・
希釈第 ／ 囚 第 ２ 図 倉入米子力゛スの４未１＊− （ｌ］） 目 ３ ２ ７ 第 ４ 国 ＄４ 第１頁の続き （７多発 明 者 北口博司 日立市森山町１１６８番地株式会社 日立製作所エネルギー研究所内 ＠発 明 者 北森武彦 日立市森山町１１６８番地株式会社 日立製作所エネルギー研究所内 Ｑ多発 明 者 藤井正昭 日立市森山町１１６８番地株式会社 日立製作所エネルギー研究所内 ヴ多発 明 者 神谷九二男 日立市森山町１１６８番地株式会社 日立製作所エネルキー研究所内 （７す出 願 人 東北電力株式会社 仙台市１番町３丁目７番１号 ＠出 願 人 中部電力株式会社 名古屋市東区東新町一番地 ・′７υ出 願 人 北陸電力株式会社富山市桜橋通り
３番１号 ・７ｐ出 願 人 中国電力株式会社 広島市中区小町４番３３号 １１℃出 願 人 日本原子力発電株式会社東京都千代
田区大手町−下目６ 番１号 （？〔出 願 人 株式会社日立製作所東京都千代田区
丸の内−丁目５ 番１号
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■、放射性物質取扱い設備」。リザンゾリングされた放
射性ガスが流れる通路と、前ｉ己通路内の放射性ガスを
所定容積だけ切取る手段と、前ｄ己切取り手段にて得ら
れた所定容積の放射性ガスが内部に導かれる希釈容器と
、前記ｒｂ釈谷器内に圧縮希釈ガスを供給する手段と、
前記希釈容器から取出された＃釈後の放射性カスを分析
する手段とからなる放射性ガス分析装置。 ２、前記切工収り手段が、前記通路お」：ひ前ｄ己希釈
容器に連絡される・・ウシングと、前記・・ウジノブ内
に設置されて前記通路と前６己イ、択答器との連絡を遮
断し、前記ハウジングの内向との間で前記通路から供給
される放射性ガスの保持部を形成する切欠部が設けられ
る回転体とからなる特許請求の範囲第１項記載の放射性
ガス分析装置。 ３、放射性物質取扱い設備よりザ／プリングされた放射
性ガスが流れる第１通路と、前記第１通路内の放射性ガ
スを所定容積／Ｃす１力取る手段と、前記切取り手段に
てイ４Ｉられ／ζ所定容積の放射性ガスが内部に導かれ
る希釈容′乙と、前認令択容器内に圧縮イｈ釈カスを供
給する日文で、前記希釈容器から取出されたＬツ［定濃
度に〆１釈され／ｒ、）Ｊ（Ｚ！Ｉｊ性ガス全ガスする
手段と、前記界沢′ｆ’Ｌ′Ｉ’ｒ＋と前記！；ＩＪ
１＋ｙり手段を連絡する第２通路と、ｌ’ｌ！Ｉ １尼
箱釈容２：・；か１ユ〕取出される放射性ガスが所定濃
度に系・；ｌ＜されていない時、前記希釈容語内のノＪ
′ｙ、躬性ツノｘを前ｌｊ己第２目的烙を通してＡｊＪ
配り取り丁・段山に導き、かつ前ｔｊｉシ放射性物質取
扱い設備か１゛）す／ソリフグ５Ｊｉ４１攻羽性ガスの
前記切取り丁−１夕へ、のＩｌｌ、、＋ｉ・１′１イ「
・停止Ｉ−・する１ｌｉｌ１画千１蒙とからなる放射性
ガス分析９目１゛飢。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56177088A JPS5879180A (ja) | 1981-11-06 | 1981-11-06 | 放射性ガス分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56177088A JPS5879180A (ja) | 1981-11-06 | 1981-11-06 | 放射性ガス分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5879180A true JPS5879180A (ja) | 1983-05-12 |
| JPS6128956B2 JPS6128956B2 (ja) | 1986-07-03 |
Family
ID=16024913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56177088A Granted JPS5879180A (ja) | 1981-11-06 | 1981-11-06 | 放射性ガス分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5879180A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10132429B2 (en) | 2014-06-13 | 2018-11-20 | Siemens Aktiengesellschaft | Connecting clip having a metal wire mat as a damping element |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50142286A (ja) * | 1974-05-07 | 1975-11-15 |
-
1981
- 1981-11-06 JP JP56177088A patent/JPS5879180A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50142286A (ja) * | 1974-05-07 | 1975-11-15 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10132429B2 (en) | 2014-06-13 | 2018-11-20 | Siemens Aktiengesellschaft | Connecting clip having a metal wire mat as a damping element |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6128956B2 (ja) | 1986-07-03 |
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