JPS587892A - 照射エネルギを制御できるレ−ザ装置 - Google Patents
照射エネルギを制御できるレ−ザ装置Info
- Publication number
- JPS587892A JPS587892A JP10531881A JP10531881A JPS587892A JP S587892 A JPS587892 A JP S587892A JP 10531881 A JP10531881 A JP 10531881A JP 10531881 A JP10531881 A JP 10531881A JP S587892 A JPS587892 A JP S587892A
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- timer
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/102—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
- H01S3/104—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation in gas lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発゛明はパルス繰り返し回数を設定することによりレ
ーザビームの総照射エネルギを制御できるレーザ装置に
関する。
ーザビームの総照射エネルギを制御できるレーザ装置に
関する。
従来、医療機器、加工機械等のレーザビームを使用する
レーザ装置においては、パルスの発振状態によりレーザ
ビームを制御できるレーザ装置は多く存在している。け
れども、これらの装置は１個のパルスについてのパルス
幅及びパルス繰り返し周期を設定できるだけであり、そ
のためレーザビームは単発パルスもしくは簿続無限回の
パルスにより制御されている。例えば、パルスを連続無
限回発振させその途中で適当に発振停止するかもしくは
レーザ凰耐蒔のシャッターを閉じる等の操作が行なわれ
ている。しかし、使用されている１個のパルス幅は数１
００ｍ５ｅｃ以下が通常であり、これを人間が正確にカ
ウントすることは不可能である。従って、従来のレーザ
装置は所望の総照射エネルギを設定したパルス制御がで
きない欠点がある。特に、レーザメス等の医療機器にお
いては、治療を受けている人身保護の観点からもレーザ
ビームの総照射エネルギを規定する必要があり、寸た長
いパルス幅の単発パルスによりレーザを附勢する場合と
短いパルス幅のパルスにょジ何回か連続して附勢する場
合とではその効果も異なってくるＯ 本発明の目的は、レーザ発振器を附勢するパルスのパル
ス幅、周期、繰り返し回数を指定し連続有限回のパルス
制御を行なうことができ、これによりレーザビームの総
照射エネルギを制御できるレーザ装置を提供することで
ある。
レーザ装置においては、パルスの発振状態によりレーザ
ビームを制御できるレーザ装置は多く存在している。け
れども、これらの装置は１個のパルスについてのパルス
幅及びパルス繰り返し周期を設定できるだけであり、そ
のためレーザビームは単発パルスもしくは簿続無限回の
パルスにより制御されている。例えば、パルスを連続無
限回発振させその途中で適当に発振停止するかもしくは
レーザ凰耐蒔のシャッターを閉じる等の操作が行なわれ
ている。しかし、使用されている１個のパルス幅は数１
００ｍ５ｅｃ以下が通常であり、これを人間が正確にカ
ウントすることは不可能である。従って、従来のレーザ
装置は所望の総照射エネルギを設定したパルス制御がで
きない欠点がある。特に、レーザメス等の医療機器にお
いては、治療を受けている人身保護の観点からもレーザ
ビームの総照射エネルギを規定する必要があり、寸た長
いパルス幅の単発パルスによりレーザを附勢する場合と
短いパルス幅のパルスにょジ何回か連続して附勢する場
合とではその効果も異なってくるＯ 本発明の目的は、レーザ発振器を附勢するパルスのパル
ス幅、周期、繰り返し回数を指定し連続有限回のパルス
制御を行なうことができ、これによりレーザビームの総
照射エネルギを制御できるレーザ装置を提供することで
ある。
以下に図面を参照して本発明について詳細に説明する。
第１図は本発明のレーザ装置の構成を示すブロック図で
ある。ｌはレーザ発振器、２は繰り返しパルス設定及び
発生部である。この繰り返しパルス設定及び発生部２は
、グリセット部８、パルス幅タイマ（カウンタ）４、パ
ルス周期（又ハパルス間隔、第１図において以下同じ）
タイマ（カウンタ）５、パルスカウンタ６、及び発振制
御部７から構成されている。パルスによりレーザ発振器
ｌを附勢しレーザ２−ムを照射するレーザ装置では、各
パルス幅、パルス周期、及び有限風の連続繰り返しパル
ス数を指定することにより対象物体へのレーザビームに
よる単位時間当りの照射エネルギあるいは総照射エネル
ギを制御できる。レーザ発振器１と繰り返しパルス設定
及び発生部２とは同一筐体内に一体にも構成できるし、
別々に遠隔に設置することもできる。
ある。ｌはレーザ発振器、２は繰り返しパルス設定及び
発生部である。この繰り返しパルス設定及び発生部２は
、グリセット部８、パルス幅タイマ（カウンタ）４、パ
ルス周期（又ハパルス間隔、第１図において以下同じ）
タイマ（カウンタ）５、パルスカウンタ６、及び発振制
御部７から構成されている。パルスによりレーザ発振器
ｌを附勢しレーザ２−ムを照射するレーザ装置では、各
パルス幅、パルス周期、及び有限風の連続繰り返しパル
ス数を指定することにより対象物体へのレーザビームに
よる単位時間当りの照射エネルギあるいは総照射エネル
ギを制御できる。レーザ発振器１と繰り返しパルス設定
及び発生部２とは同一筐体内に一体にも構成できるし、
別々に遠隔に設置することもできる。
フリセット部８はパルス幅タイマ４、パルス周期タイマ
５、及ヒハルスヵウンタ６にそれぞれパルス幅、パルス
周期及び有限回のパルス繰り返し回数を予め設定するも
のである。パルス幅タイマ番は設定された時間幅のパル
スを発振制御部７に送る。パルス周期タイマ５は設定さ
れた時間周期毎にパルス幅タイマ４をセットする。パル
スカウンタ６はパルス幅タイマ４又はパルス周期タイマ
５の１パルス動作の終端をカウントし、設定回数のカウ
ントを終えるとパルス周期タイマ５にリセットをかける
。発振制御部７は基本クロックパルスに同期して、所望
のパルス幅、パルス周期及びパルス回数を有する繰り返
しパルスをレーザ発振器ｌに与える。この発振制御部５
は発振制御部ではなく、例えばシャッタ制御部のように
レーザ照射路をパルス的に開閉する装置でもよい。
５、及ヒハルスヵウンタ６にそれぞれパルス幅、パルス
周期及び有限回のパルス繰り返し回数を予め設定するも
のである。パルス幅タイマ番は設定された時間幅のパル
スを発振制御部７に送る。パルス周期タイマ５は設定さ
れた時間周期毎にパルス幅タイマ４をセットする。パル
スカウンタ６はパルス幅タイマ４又はパルス周期タイマ
５の１パルス動作の終端をカウントし、設定回数のカウ
ントを終えるとパルス周期タイマ５にリセットをかける
。発振制御部７は基本クロックパルスに同期して、所望
のパルス幅、パルス周期及びパルス回数を有する繰り返
しパルスをレーザ発振器ｌに与える。この発振制御部５
は発振制御部ではなく、例えばシャッタ制御部のように
レーザ照射路をパルス的に開閉する装置でもよい。
第２図は本発明のレーザ装置の繰り返しパルス設定及び
発生部の実施例を示す図である。この実施例ではパルス
周期タイマではなくパルス間隔タイマ５が使用されてい
る。８は基本クロック、９と同様である。基本クロック
ＢＦｉ、クロックパルスを発生する通常のタイマＩＣか
ら成り、パルス幅タイマ４及びパルス間隔タイマ５はこ
のクロックパルスに同期して動作する。パルス幅タイマ
４のプリセットカウンタ１０は、パルス幅を決定する所
定数のクロックパルスをカウントするようにドライバ９
を介してプリセットされる。同様に、パルス間隔タイマ
５のプリセットカウンタ１０は、各パルス間のパルス間
隔を決定する所定数のクロクパルスをカウントするよう
にプリセットされる。
発生部の実施例を示す図である。この実施例ではパルス
周期タイマではなくパルス間隔タイマ５が使用されてい
る。８は基本クロック、９と同様である。基本クロック
ＢＦｉ、クロックパルスを発生する通常のタイマＩＣか
ら成り、パルス幅タイマ４及びパルス間隔タイマ５はこ
のクロックパルスに同期して動作する。パルス幅タイマ
４のプリセットカウンタ１０は、パルス幅を決定する所
定数のクロックパルスをカウントするようにドライバ９
を介してプリセットされる。同様に、パルス間隔タイマ
５のプリセットカウンタ１０は、各パルス間のパルス間
隔を決定する所定数のクロクパルスをカウントするよう
にプリセットされる。
パルス幅タイマ４及びパルス間隔タイマ５共に所定数の
クロックパルスをカウントすると発振制御部７のＤ形フ
リップフロップ１１に入力を与える。
クロックパルスをカウントすると発振制御部７のＤ形フ
リップフロップ１１に入力を与える。
つまり、１つのパルスの立ち上がシまたは立ち下がり毎
にＤ形フリップフロップ１１の出力が変化する。パルス
カウンタ６のアップダウンカウンタ１０はＤ形フリップ
フロップ１１からの出力により所定数のパルスの立ち上
がりまたは立ち下がりをカウントするとパルス間隔タイ
マ５をリセットし、以後繰り返しパルス出力が発振制御
部７がらレーザ発振器１へ出力されないようにする。こ
のように、本発明のレーザ装置は、連続パルスにおいて
もパルス繰り返し回数を指定できるためレーザビームに
よる対象物への総照射エネルギを正確に制御できる。
にＤ形フリップフロップ１１の出力が変化する。パルス
カウンタ６のアップダウンカウンタ１０はＤ形フリップ
フロップ１１からの出力により所定数のパルスの立ち上
がりまたは立ち下がりをカウントするとパルス間隔タイ
マ５をリセットし、以後繰り返しパルス出力が発振制御
部７がらレーザ発振器１へ出力されないようにする。こ
のように、本発明のレーザ装置は、連続パルスにおいて
もパルス繰り返し回数を指定できるためレーザビームに
よる対象物への総照射エネルギを正確に制御できる。
本発明の応用分野は、医療用レーザ装置、加工用レーザ
装置等各種のレーザ装置がある。
装置等各種のレーザ装置がある。
第１図は本発明のレーザ装置の構成を示すブロック図、
第２図は本発明のレーザ装置の繰り返しパルス設定及び
発生部の実施例を示す図である。 ■、：レーザ発振器 ２、：繰り返しパルス設定及び発生部 ８ニブリセット部 ４：パルス幅タイマ５：パル
ス周期タイマ ６：パル、スカッフ２フ８発振制御部
８：基本クロック拳 ９：ドライハ ｌＯ：プリセットカラ：ｌ
り１］：Ｄ形フリツブフＲツブ 特許出願人 住友電気工業株式会社 紙／図
第２図は本発明のレーザ装置の繰り返しパルス設定及び
発生部の実施例を示す図である。 ■、：レーザ発振器 ２、：繰り返しパルス設定及び発生部 ８ニブリセット部 ４：パルス幅タイマ５：パル
ス周期タイマ ６：パル、スカッフ２フ８発振制御部
８：基本クロック拳 ９：ドライハ ｌＯ：プリセットカラ：ｌ
り１］：Ｄ形フリツブフＲツブ 特許出願人 住友電気工業株式会社 紙／図
Claims (1)
- （１）パルスによりレーザ発振器を附勢するレーザ装置
において、繰り返しパルスのパルス幅、パルス周期及び
有限回のパルス繰り返し回数を指定しこれに基づいて繰
り返しパルスを発生する繰り返しパルス設定及び発生部
を備え、対象物へのレーザビームの照射エネルギを制御
できることを特徴とするレーザ装置。 （２、特許請求の範囲第１項記載のレーザ装置において
、前記繰り返しパルス設定及び発生部が、各タイマ及び
カウンタをそれぞれプリセットするプリセット部と、パ
ルス幅を決定するパルス幅タイマと、パルス周期を決定
し周期毎に前記パルス幅タイマをリセットするパルス周
期タイマと、前記パルス幅タイマまたは前記パルス周期
タイマからの１パルスの始端または終端をカウントし設
定された有限回の繰り返しパルス数をカウントすると前
記パルス周期タイマをリセットするパルスカウンタと、
前記パルス幅タイマからのパルス出力をレーザ発振器に
与える発振制御部と、から成ることを特徴とするレーザ
装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10531881A JPS587892A (ja) | 1981-07-06 | 1981-07-06 | 照射エネルギを制御できるレ−ザ装置 |
| EP82106001A EP0069381B1 (en) | 1981-07-06 | 1982-07-05 | Laser device having laser beam energy control |
| DE8282106001T DE3267403D1 (en) | 1981-07-06 | 1982-07-05 | Laser device having laser beam energy control |
| AU85635/82A AU8563582A (en) | 1981-07-06 | 1982-07-06 | Pulse controlled laser device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10531881A JPS587892A (ja) | 1981-07-06 | 1981-07-06 | 照射エネルギを制御できるレ−ザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS587892A true JPS587892A (ja) | 1983-01-17 |
Family
ID=14404354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10531881A Pending JPS587892A (ja) | 1981-07-06 | 1981-07-06 | 照射エネルギを制御できるレ−ザ装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0069381B1 (ja) |
| JP (1) | JPS587892A (ja) |
| AU (1) | AU8563582A (ja) |
| DE (1) | DE3267403D1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59135787A (ja) * | 1983-01-24 | 1984-08-04 | Mitsubishi Electric Corp | パルスレ−ザ装置 |
| JPS63280480A (ja) * | 1987-05-12 | 1988-11-17 | Amada Co Ltd | レ−ザ発振器のｎｃ制御方法 |
| JPH02143481A (ja) * | 1988-11-24 | 1990-06-01 | Shimadzu Corp | エキシマレーザ装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3738690A1 (de) * | 1987-11-13 | 1989-05-24 | Rodenstock Instr | Schaltregler fuer einen argon-laser |
| DE4127421A1 (de) * | 1990-08-17 | 1993-01-07 | Roman Koller | Sicherheitsschaltung und verfahren fuer laser |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3806829A (en) * | 1971-04-13 | 1974-04-23 | Sys Inc | Pulsed laser system having improved energy control with improved power supply laser emission energy sensor and adjustable repetition rate control features |
-
1981
- 1981-07-06 JP JP10531881A patent/JPS587892A/ja active Pending
-
1982
- 1982-07-05 DE DE8282106001T patent/DE3267403D1/de not_active Expired
- 1982-07-05 EP EP82106001A patent/EP0069381B1/en not_active Expired
- 1982-07-06 AU AU85635/82A patent/AU8563582A/en not_active Abandoned
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59135787A (ja) * | 1983-01-24 | 1984-08-04 | Mitsubishi Electric Corp | パルスレ−ザ装置 |
| JPH0123957B2 (ja) * | 1983-01-24 | 1989-05-09 | Mitsubishi Electric Corp | |
| JPS63280480A (ja) * | 1987-05-12 | 1988-11-17 | Amada Co Ltd | レ−ザ発振器のｎｃ制御方法 |
| JPH02143481A (ja) * | 1988-11-24 | 1990-06-01 | Shimadzu Corp | エキシマレーザ装置 |
| JPH0714099B2 (ja) * | 1988-11-24 | 1995-02-15 | 株式会社島津製作所 | エキシマレーザ装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0069381A1 (en) | 1983-01-12 |
| AU8563582A (en) | 1983-01-13 |
| DE3267403D1 (en) | 1985-12-19 |
| EP0069381B1 (en) | 1985-11-13 |
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