JPS587795A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JPS587795A JPS587795A JP56104710A JP10471081A JPS587795A JP S587795 A JPS587795 A JP S587795A JP 56104710 A JP56104710 A JP 56104710A JP 10471081 A JP10471081 A JP 10471081A JP S587795 A JPS587795 A JP S587795A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating chamber
- frequency
- heated
- heating
- objects
- Prior art date
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- Granted
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- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高周波加熱装置に関するもので、特に多量の被
加熱物を一度に加熱調理する場合において使い勝手がよ
くかつ高周波分布のよい加熱装置を提供するにある。
加熱物を一度に加熱調理する場合において使い勝手がよ
くかつ高周波分布のよい加熱装置を提供するにある。
従来主に業務用として使用されるこの種の多量の被加熱
物を一度に加熱調理する高周波加熱装置としては、第１
図に示すごとく加熱室の平面を広くしたものが商品化さ
れていた。すなわち本体１内に加熱室２があシ、前記加
熱室２の平面積を広くして皿３に載せられた被加熱物４
が複数個入れられるようにしていた。高周波出力を強く
するために複数個のマグネトロン６カミ加熱室２上壁に
りけられ、仕切板６で区切られた空間にモータ７で回転
駆動される電波攪拌バネ８が装着されていた。
物を一度に加熱調理する高周波加熱装置としては、第１
図に示すごとく加熱室の平面を広くしたものが商品化さ
れていた。すなわち本体１内に加熱室２があシ、前記加
熱室２の平面積を広くして皿３に載せられた被加熱物４
が複数個入れられるようにしていた。高周波出力を強く
するために複数個のマグネトロン６カミ加熱室２上壁に
りけられ、仕切板６で区切られた空間にモータ７で回転
駆動される電波攪拌バネ８が装着されていた。
このような加熱装置においては当然ながら加熱装置の平
面積が大きくなシ、厨房器に設置する際に大きな設置面
積が必要となる欠点を有していた。
面積が大きくなシ、厨房器に設置する際に大きな設置面
積が必要となる欠点を有していた。
本発明は上記欠点を解消するとともに高周波分布のよい
高周波加熱室を提供するもので以下図面により本発明の
一実施例につき説明する。
高周波加熱室を提供するもので以下図面により本発明の
一実施例につき説明する。
上体１内の加熱室２の土壁には、マグネトロン６で発振
した電波が導波管９に導かれて、給電口１ｏの中心部で
モータ７にょシ回転駆動されている回転アンテナ１１よ
シ加熱室２内に電波が放射される。なお１２は回転アン
テナ１１を保護する仕切板、１３．１４は回転アンテナ
１１を軸支する軸受である。加熱室下壁からも土壁と対
称的に電波が放射される。なお１６は皿３に入れられた
被加熱物 を載置する受台である。
した電波が導波管９に導かれて、給電口１ｏの中心部で
モータ７にょシ回転駆動されている回転アンテナ１１よ
シ加熱室２内に電波が放射される。なお１２は回転アン
テナ１１を保護する仕切板、１３．１４は回転アンテナ
１１を軸支する軸受である。加熱室下壁からも土壁と対
称的に電波が放射される。なお１６は皿３に入れられた
被加熱物 を載置する受台である。
ここで加熱室の寸法についてであるが、加熱室の巾寸法
を１１奥行寸法をｂ１巾方向の奇数モード数を■、奥行
方向の奇数モード数をｎ１光速度をａｎ、発振周波数を
ｆとして （！！−）２＋（÷）２＝＜ ２．ｆ ）２のモードは
（ｍｎｏ）となシ、この電界分布の山部に高周波発生装
置からの給電部を設ければ、加熱室内の高周波分布がよ
いことを特許公告昭和６２−２４２６７号公報で既に明
示した。
を１１奥行寸法をｂ１巾方向の奇数モード数を■、奥行
方向の奇数モード数をｎ１光速度をａｎ、発振周波数を
ｆとして （！！−）２＋（÷）２＝＜ ２．ｆ ）２のモードは
（ｍｎｏ）となシ、この電界分布の山部に高周波発生装
置からの給電部を設ければ、加熱室内の高周波分布がよ
いことを特許公告昭和６２−２４２６７号公報で既に明
示した。
上記のモードを第２図の加熱室に適用すると、巾寸法２
を４０８ ｍｆｉ、奥行寸法を３４２ ｒｉｍ、発振周
波数を２４５０ＭＨｚとすれば、加熱室内に（３，・６
．０）のモードが表れる。すなわち第３図に示すごとく
中方向に３″：１１奥行方向に６コの半波長に相当する
波が発生する。なお、この波の山部＋前後左右の対称位
置（第３図のイ部）に高周波発生装置からの給電部（第
３図では回転アンテナ）が設けられているので加熱室内
の電界分布が良い。
を４０８ ｍｆｉ、奥行寸法を３４２ ｒｉｍ、発振周
波数を２４５０ＭＨｚとすれば、加熱室内に（３，・６
．０）のモードが表れる。すなわち第３図に示すごとく
中方向に３″：１１奥行方向に６コの半波長に相当する
波が発生する。なお、この波の山部＋前後左右の対称位
置（第３図のイ部）に高周波発生装置からの給電部（第
３図では回転アンテナ）が設けられているので加熱室内
の電界分布が良い。
しかしながら上記加熱室において、第２図の如く上下２
段に被加熱物１６．１７を載置した場合、上下の被加熱
物間の電界強度が乱されるので、特に下部の被加熱物で
は上部、上部の被加熱物では下部がうまくできなかった
。なお受台１８は電波が透過するガラス、陶器等の誘電
体である。
段に被加熱物１６．１７を載置した場合、上下の被加熱
物間の電界強度が乱されるので、特に下部の被加熱物で
は上部、上部の被加熱物では下部がうまくできなかった
。なお受台１８は電波が透過するガラス、陶器等の誘電
体である。
６ 、 。
本発明は上記電界強度の乱れをなくするもので第４図に
示すごとく、モードの山をつなぐ導電体すなわち第３図
の半波長に相当する波の山部をつなぐ電気の導体を上下
の被加熱物間に置けば、上下の被加熱物がきわめて良好
に加熱できることが発見できた。すなわち、受台１８を
透電体で調理した時には回転アンテナ部から被加熱物塩
の距離が影響し、下部の被加熱物の方が距離が短いので
温度上昇が早くなシ、上下の温度差が生じるが、被加熱
物間に第４図に示す導体を置くと、上下の被加熱物の温
度上昇がほぼ均一に温度上昇することが分った。また上
下の被加熱物による互の干渉すなわち上部の被加熱物１
７の影響によシ、加熱室内の電波が乱されて下部の被加
熱物の温度上昇が不均一になるとともに、逆に下部の被
加熱物１６の影響によシ上部の被加熱物１７の温度上昇
が不均一になることもなくなることが判った。
示すごとく、モードの山をつなぐ導電体すなわち第３図
の半波長に相当する波の山部をつなぐ電気の導体を上下
の被加熱物間に置けば、上下の被加熱物がきわめて良好
に加熱できることが発見できた。すなわち、受台１８を
透電体で調理した時には回転アンテナ部から被加熱物塩
の距離が影響し、下部の被加熱物の方が距離が短いので
温度上昇が早くなシ、上下の温度差が生じるが、被加熱
物間に第４図に示す導体を置くと、上下の被加熱物の温
度上昇がほぼ均一に温度上昇することが分った。また上
下の被加熱物による互の干渉すなわち上部の被加熱物１
７の影響によシ、加熱室内の電波が乱されて下部の被加
熱物の温度上昇が不均一になるとともに、逆に下部の被
加熱物１６の影響によシ上部の被加熱物１７の温度上昇
が不均一になることもなくなることが判った。
上記の加熱室内の電界分布を積形的に示したも態を示し
てネ・シ、導電体１ｅが入ることによって被加熱物１６
．１７の上下に３つの半波長の定在波が立っておジ、被
加熱物ｆｆ６．１７には隣シどうしの波がショートする
ように電界ができ均一に調理できるものと考えられる。
てネ・シ、導電体１ｅが入ることによって被加熱物１６
．１７の上下に３つの半波長の定在波が立っておジ、被
加熱物ｆｆ６．１７には隣シどうしの波がショートする
ように電界ができ均一に調理できるものと考えられる。
一方第６図すはガラス板上にのせた場合で、上下の被加
熱物１６．１７間の電界が乱されることによシ被加熱物
中の電界強度が不均一になシ調理分布性能が低下すると
ともに、アンテナからの距離も影響してきたものと考え
られる。
熱物１６．１７間の電界が乱されることによシ被加熱物
中の電界強度が不均一になシ調理分布性能が低下すると
ともに、アンテナからの距離も影響してきたものと考え
られる。
次に前記導電体１９を実用化する方法につき第６図で説
明する。図で前記導電体１９はガラス。
明する。図で前記導電体１９はガラス。
プラスチック等の耐熱性誘電体２ｏに埋め込み一体成形
して、上部被加熱物（第２図１７）の受皿としている。
して、上部被加熱物（第２図１７）の受皿としている。
また加熱室壁面２１に形成された凸部２２に載置できる
ようにして、導電体端部と加熱室壁を近接させることに
よシ高周波的に見て容量結合をすることによシ効果的な
らしめている。
ようにして、導電体端部と加熱室壁を近接させることに
よシ高周波的に見て容量結合をすることによシ効果的な
らしめている。
以上の説明によ）ＦｙＪらかなどとぐ、上下の２段調理
で上下の互の干汗をなくすることにより、調理性能のよ
い高周波加熱装置を提供することができ、従来主として
平面積の大きい、設置場所の多く必要な高周波加熱装置
と比較して、設置場所の小さい高周波加熱装置を提供す
ることができ、ホテル、レストラン等の厨房室を有効に
使用可能となる。
で上下の互の干汗をなくすることにより、調理性能のよ
い高周波加熱装置を提供することができ、従来主として
平面積の大きい、設置場所の多く必要な高周波加熱装置
と比較して、設置場所の小さい高周波加熱装置を提供す
ることができ、ホテル、レストラン等の厨房室を有効に
使用可能となる。
第１図は従来の高周波加熱調理器の正断面図、第２図は
本発明の一実施例における高周波加熱調理器の正断面図
、第３図は同電界モード３６０を示す図、第４図は同電
界モード３５０における導電体を示す図、第６図ａは本
発明の高周波加熱調理器の加熱室内の電界分布を模式的
に示す図、第６図すは従来の加熱室内の電界分布を模式
的に示す図、第６図は本発明の導電体と受台を一体とし
た断面図である。 ２・・・・・・加熱室、６・・・・・・マグネトロン、
９・・・・・・導波管、１０・・・・・・給電口、１１
・・・・・・回転アンテナ、１２・・・・・・仕切板。 ＠１図
本発明の一実施例における高周波加熱調理器の正断面図
、第３図は同電界モード３６０を示す図、第４図は同電
界モード３５０における導電体を示す図、第６図ａは本
発明の高周波加熱調理器の加熱室内の電界分布を模式的
に示す図、第６図すは従来の加熱室内の電界分布を模式
的に示す図、第６図は本発明の導電体と受台を一体とし
た断面図である。 ２・・・・・・加熱室、６・・・・・・マグネトロン、
９・・・・・・導波管、１０・・・・・・給電口、１１
・・・・・・回転アンテナ、１２・・・・・・仕切板。 ＠１図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）本体内に略直方体に形成した加熱室と、前記加熱
室の前面開口部に開閉自在に設けられたドアと、前記加
熱室内に高周波を放射する高周波発生装置とを有し、前
記加熱室の巾寸法をａ１奥行寸法をｂ、巾方向の奇数モ
ード数をｍ、奥行方向の奇数モードをｎ１光速度をｃｏ
、発振周波数をｆとしく ＩＩ ）２ ＋＜ ％ ）２
＝＜ ％シ）２−の寸法関係を満足する加熱室として
、前記加熱室の上壁底壁の電界モードの山部に高周波発
生装置からの給電部を設けるとともに加熱室の上下に被
加熱物を載置する台を設け、かつ上下の被加熱物間に加
熱室内のモードの山をつなぐ導電体を挿入したことを特
徴とする高周波加熱装置。 （閾 前記導電体を被加熱物を載置する上部誘電体で形
成された受台中に挿入したととを特徴とする特許請求の
範囲第１項に記載の高周波加熱装置０ （３）前記導電体の端部と加熱室壁間で容量結合させた
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の高周波
加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56104710A JPS587795A (ja) | 1981-07-03 | 1981-07-03 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56104710A JPS587795A (ja) | 1981-07-03 | 1981-07-03 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS587795A true JPS587795A (ja) | 1983-01-17 |
| JPS6219038B2 JPS6219038B2 (ja) | 1987-04-25 |
Family
ID=14388030
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56104710A Granted JPS587795A (ja) | 1981-07-03 | 1981-07-03 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS587795A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002542601A (ja) * | 1999-04-19 | 2002-12-10 | エナシスト、ディヴェラップマント、センタ、エル、エル、シー | 多棚式対流マイクロ波加熱炉 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5437554U (ja) * | 1977-08-19 | 1979-03-12 |
-
1981
- 1981-07-03 JP JP56104710A patent/JPS587795A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5437554U (ja) * | 1977-08-19 | 1979-03-12 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002542601A (ja) * | 1999-04-19 | 2002-12-10 | エナシスト、ディヴェラップマント、センタ、エル、エル、シー | 多棚式対流マイクロ波加熱炉 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6219038B2 (ja) | 1987-04-25 |
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