JPS6161512B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6161512B2 JPS6161512B2 JP56140192A JP14019281A JPS6161512B2 JP S6161512 B2 JPS6161512 B2 JP S6161512B2 JP 56140192 A JP56140192 A JP 56140192A JP 14019281 A JP14019281 A JP 14019281A JP S6161512 B2 JPS6161512 B2 JP S6161512B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating chamber
- heating
- high frequency
- heated
- frequency
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 52
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 2
- 238000010411 cooking Methods 0.000 description 10
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- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B2206/00—Aspects relating to heating by electric, magnetic, or electromagnetic fields covered by group H05B6/00
- H05B2206/04—Heating using microwaves
- H05B2206/044—Microwave heating devices provided with two or more magnetrons or microwave sources of other kind
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高周波加熱装置に関するもので、特に
多量の被加熱物を一度に加熱調理する場合におい
て使い勝手がよく、かつ高周波分布のよい加熱装
置を提供するものである。
多量の被加熱物を一度に加熱調理する場合におい
て使い勝手がよく、かつ高周波分布のよい加熱装
置を提供するものである。
従来主に業務用として使用されるこの種の多量
の被加熱物を一度に加熱調理する高周波加熱装置
としては第１図に示すごとく加熱室の平面を広く
したものが商品化されていた。すなわち、本体１
内に加熱室２があり、前記加熱室２の平面積を広
くして皿３に載せられた被加熱物４が複数個入れ
られるようにしていた。そして高周波出力を強く
するために複数個のマグネトロン５が加熱室２上
壁につけられ、仕切板６で区切られた空間にモー
タ７で回転駆動される電波撹拌ハネ８が装着され
ていた。このような加熱装置においては当然なが
ら加熱装置の平面積が大きくなり、厨房器に設置
する際に大きな設置面積が必要となる欠点を有し
ていた。
の被加熱物を一度に加熱調理する高周波加熱装置
としては第１図に示すごとく加熱室の平面を広く
したものが商品化されていた。すなわち、本体１
内に加熱室２があり、前記加熱室２の平面積を広
くして皿３に載せられた被加熱物４が複数個入れ
られるようにしていた。そして高周波出力を強く
するために複数個のマグネトロン５が加熱室２上
壁につけられ、仕切板６で区切られた空間にモー
タ７で回転駆動される電波撹拌ハネ８が装着され
ていた。このような加熱装置においては当然なが
ら加熱装置の平面積が大きくなり、厨房器に設置
する際に大きな設置面積が必要となる欠点を有し
ていた。
本発明は前記欠点を解消するものであり、以下
図面により本発明の一実施例について説明する。
図面により本発明の一実施例について説明する。
本体１内の加熱室２の上壁にはマグネトロン５
で発振した電波が導波管９に導かれて給電口１０
の中心部でモータ７により回転駆動されている回
転アンテナ１１より加熱室２内に電波が放射され
る。なお１２は回転アンテナ１１を保護する仕切
板、１３，１４は回転アンテナ１１を軸支する軸
受である。加熱室下壁からも上壁と対称的に電波
が放射される。なお１５は皿３に入れられた被加
熱物４を載置する受台である。
で発振した電波が導波管９に導かれて給電口１０
の中心部でモータ７により回転駆動されている回
転アンテナ１１より加熱室２内に電波が放射され
る。なお１２は回転アンテナ１１を保護する仕切
板、１３，１４は回転アンテナ１１を軸支する軸
受である。加熱室下壁からも上壁と対称的に電波
が放射される。なお１５は皿３に入れられた被加
熱物４を載置する受台である。
この加熱室２の上下の中央部に金属板１６を着
脱自在に載置可能として必要な時には図示の如く
２段に使用可能としている。このようにすること
により、上部の被加熱物１７と下部の被加熱物１
８が互に干渉することがなく、調理性能が改善す
ることができた。すなわち、従来の概念では金属
板１６の代りにガラスあるいは陶器の受皿を使用
するのが普通であるが、この場合には上部の被加
熱物１７の影響により加熱室２内の電波が乱され
て下部の被加熱物１８の温度上昇が不均一となる
とともに、逆に下部の被加熱物１８の影響により
上部の被加熱物１７の温度上昇も不均一となり調
理性能が低下した。
脱自在に載置可能として必要な時には図示の如く
２段に使用可能としている。このようにすること
により、上部の被加熱物１７と下部の被加熱物１
８が互に干渉することがなく、調理性能が改善す
ることができた。すなわち、従来の概念では金属
板１６の代りにガラスあるいは陶器の受皿を使用
するのが普通であるが、この場合には上部の被加
熱物１７の影響により加熱室２内の電波が乱され
て下部の被加熱物１８の温度上昇が不均一となる
とともに、逆に下部の被加熱物１８の影響により
上部の被加熱物１７の温度上昇も不均一となり調
理性能が低下した。
前記金属板１６はその周辺部を図の如く丸みを
もたせ、ホーロ皮膜１７を覆せることにより加熱
室２壁と電波的に見て容量結合させているので、
接触していなくともスパーク等が発生せず、加熱
室２があたかも上下２つの加熱室のように使用す
ることができる。したがつて上部のマグネトロン
出力が1KW、下部のそれを1KWとすると金属板
を入れずに下部の受台１５上に被加熱物を載せて
加熱すると2KWで作動するが、金属板１６を入
れて上下に各々被加熱物を入れて加熱調理した時
には、加熱室の上部空間に1KW、下部空間に
1KW放射する。
もたせ、ホーロ皮膜１７を覆せることにより加熱
室２壁と電波的に見て容量結合させているので、
接触していなくともスパーク等が発生せず、加熱
室２があたかも上下２つの加熱室のように使用す
ることができる。したがつて上部のマグネトロン
出力が1KW、下部のそれを1KWとすると金属板
を入れずに下部の受台１５上に被加熱物を載せて
加熱すると2KWで作動するが、金属板１６を入
れて上下に各々被加熱物を入れて加熱調理した時
には、加熱室の上部空間に1KW、下部空間に
1KW放射する。
ここで加熱室内の電波モードについて述べる
が、加熱室を略直方体に形成し、加熱室の前後左
右の略対称位置から高周波を給電する構成とし、
かつ加熱室の巾寸法をａ、奥行寸法をｂ、巾方向
の奇数モード数をｍ、奥行方向の奇数モード数を
ｎ、光速度をc0、発振周波数をｆとして （ｍ／ａ）２＋（ｎ／ｂ）２＝（２ｆ／Ｃ０）
２ の寸法関係を満足する加熱室とすれば、加熱室内
のモードは（ｍ、ｎ、ｏ）となり、加熱室の高さ
方向には定在波が生じないことを明示した。
が、加熱室を略直方体に形成し、加熱室の前後左
右の略対称位置から高周波を給電する構成とし、
かつ加熱室の巾寸法をａ、奥行寸法をｂ、巾方向
の奇数モード数をｍ、奥行方向の奇数モード数を
ｎ、光速度をc0、発振周波数をｆとして （ｍ／ａ）２＋（ｎ／ｂ）２＝（２ｆ／Ｃ０）
２ の寸法関係を満足する加熱室とすれば、加熱室内
のモードは（ｍ、ｎ、ｏ）となり、加熱室の高さ
方向には定在波が生じないことを明示した。
この寸法関係を本発明の加熱装置に適用すると
最も良好な調理結果が得られるとともに、金属板
１６を入れた場合の効果も明確に説明できる。
最も良好な調理結果が得られるとともに、金属板
１６を入れた場合の効果も明確に説明できる。
第３図は上下２段調理した時に、加熱室内中央
部に金属板１６を入れた時と入れない時の電界分
布を模形的に示したものである。なお説明を簡単
にするために皿、受皿等の関係ないものを無視
し、３つの半波長の波が立つものとしている。第
３図ａは金属板１６の入つた状態を示し、金属板
１６が入ることにより被加熱物１７，１８の上下
に３つの半波長の定在波が立つており、被加熱物
１７，１８には隣りどおしの波がシヨートするよ
うに電界ができ均一に調理できる。一方第３図ｂ
はガラス等の上にのせた場合で、２つの被加熱物
１７，１８間の電界が乱されることにより被加熱
物中の電界強度が不均一になり調理性能が低下す
るものと考えられる。
部に金属板１６を入れた時と入れない時の電界分
布を模形的に示したものである。なお説明を簡単
にするために皿、受皿等の関係ないものを無視
し、３つの半波長の波が立つものとしている。第
３図ａは金属板１６の入つた状態を示し、金属板
１６が入ることにより被加熱物１７，１８の上下
に３つの半波長の定在波が立つており、被加熱物
１７，１８には隣りどおしの波がシヨートするよ
うに電界ができ均一に調理できる。一方第３図ｂ
はガラス等の上にのせた場合で、２つの被加熱物
１７，１８間の電界が乱されることにより被加熱
物中の電界強度が不均一になり調理性能が低下す
るものと考えられる。
以上の説明により明らかなごとく加熱室の定在
波を幅方向と奥行方向に奇数のモード数とし高さ
方向に０とする寸法の加熱室において上下の２段
調理で加熱室の中央部に金属板を載置可能とする
ことにより上下相互の干渉をなくすことができ、
調理性能の良い高周波加熱装置を提供することが
可能となつた。したがつて従来主として平面積の
大きい設置場所を多く必要とする高周波加熱装置
に比して設置場所の小さい高周波加熱装置を提供
することができるのでレストラン、ホテル等の厨
房室を有効に使用可能となる。
波を幅方向と奥行方向に奇数のモード数とし高さ
方向に０とする寸法の加熱室において上下の２段
調理で加熱室の中央部に金属板を載置可能とする
ことにより上下相互の干渉をなくすことができ、
調理性能の良い高周波加熱装置を提供することが
可能となつた。したがつて従来主として平面積の
大きい設置場所を多く必要とする高周波加熱装置
に比して設置場所の小さい高周波加熱装置を提供
することができるのでレストラン、ホテル等の厨
房室を有効に使用可能となる。
第１図は従来例を示す高周波加熱装置の正面断
面図、第２図は本発明の一実施例を示す高周波加
熱装置の正断面図、第３図ａは同加熱室内の電界
分布を模形的に示した図、ｂは従来の電界分布を
模形的に示した図である。 １……本体、２……加熱室、４……被加熱物、
５……マグネトロン、１３，１４……回転アンテ
ナ。
面図、第２図は本発明の一実施例を示す高周波加
熱装置の正断面図、第３図ａは同加熱室内の電界
分布を模形的に示した図、ｂは従来の電界分布を
模形的に示した図である。 １……本体、２……加熱室、４……被加熱物、
５……マグネトロン、１３，１４……回転アンテ
ナ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 本体内に略直方体に形成した加熱室と、この
加熱室内に高周波を放射する高周波発生装置と、
前記加熱室の前面開口部に開閉自在に設けられた
ドアとより成り、前記加熱室は加熱室の前後左右
の略対称の加熱室の上面および底面から高周波を
給電する構成とし、かつ加熱室の幅寸法をａ、奥
行寸法をｂ、幅方向の奇数モード数をｍ、奥行方
向の奇数モード数をｎ、光速度をC0発振周波数
をとし（ｍ／ａ）２＋（ｎ／ｅ）２＝（２／Ｃ０）
２の寸法関係 を満足する構成とし、かつ前記加熱室の上下の中
央部に金属板を着脱自在に載置可能とした高周波
加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14019281A JPS5842195A (ja) | 1981-09-04 | 1981-09-04 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14019281A JPS5842195A (ja) | 1981-09-04 | 1981-09-04 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5842195A JPS5842195A (ja) | 1983-03-11 |
| JPS6161512B2 true JPS6161512B2 (ja) | 1986-12-25 |
Family
ID=15263045
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14019281A Granted JPS5842195A (ja) | 1981-09-04 | 1981-09-04 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5842195A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11071176B2 (en) | 2016-08-11 | 2021-07-20 | Whirlpool Corporation | Divider assembly for a microwave oven |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5486833A (en) * | 1977-12-22 | 1979-07-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | High-frequency heater |
| JPS5437554B2 (ja) * | 1972-05-24 | 1979-11-15 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5437554U (ja) * | 1977-08-19 | 1979-03-12 | ||
| JPS5568297U (ja) * | 1978-11-02 | 1980-05-10 |
-
1981
- 1981-09-04 JP JP14019281A patent/JPS5842195A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5437554B2 (ja) * | 1972-05-24 | 1979-11-15 | ||
| JPS5486833A (en) * | 1977-12-22 | 1979-07-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | High-frequency heater |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5842195A (ja) | 1983-03-11 |
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