JPS5872104A - ビ−ムスプリツテイングプリズム及びその製造方法 - Google Patents
ビ−ムスプリツテイングプリズム及びその製造方法Info
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- JPS5872104A JPS5872104A JP57174118A JP17411882A JPS5872104A JP S5872104 A JPS5872104 A JP S5872104A JP 57174118 A JP57174118 A JP 57174118A JP 17411882 A JP17411882 A JP 17411882A JP S5872104 A JPS5872104 A JP S5872104A
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- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
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- G11B7/08—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers
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- G11B7/0916—Foucault or knife-edge methods
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は放射ビームの入射丙と、ビームスプリッティン
グプリズムの内側に屈曲した放射ビームのビームスプリ
ッティング面及び射出面と、前記射出面上に配設され屈
折端縁を有するルーフエツジプリズムとを具え、プリズ
ム状のガラス要素の一部を前記入射面と、前記射出面と
で構成した前記ビームスプリッティングプリズムに関す
る。
グプリズムの内側に屈曲した放射ビームのビームスプリ
ッティング面及び射出面と、前記射出面上に配設され屈
折端縁を有するルーフエツジプリズムとを具え、プリズ
ム状のガラス要素の一部を前記入射面と、前記射出面と
で構成した前記ビームスプリッティングプリズムに関す
る。
とのよ５なプリズムを具備した読取りユニット（ｒｅａ
ｄ ｕｎｉｔ ）は［ラジオメントル（Ｒａｄｉｏ Ｍ
ｅ−ｎｔｏｒ ） ４５ 、１９７９年刊」の［８ｏ年
代のためのＰＣＭ−ディスク（ＰＣＭ−８ｃｈａｌｌｐ
ｌａｔｔｅ ・ｆｕｒｄｉｅ ８０ｅｒ Ｊａｂｒｅ
） Ｊと言う論文に記述されている。この続版りユニッ
トはソリッドステートレーザ形式の放射源を具えている
。このレーザから放出された放射ビームを対物装置によ
り丸い円板状のレコードキャリヤ上に形成した情報構造
体の上に焦点を結ばせる。情報構造体により反射された
読取りビーム（ｒｅａｄ ｂｅａｍ ）は対物装置と８
度交差し、放射源と対物装置との間に配設したスプリッ
ティングプリズムを通過する。上記プリズムは放射源よ
り放出される放射ビームと、この放射ビームの経路をは
ずれて変調された読取りビームとを対にする。従って変
調されたビームは放射ビームの変調に一致した電気信号
を供給する放射鋭敏検出装置に当ることができる。
ｄ ｕｎｉｔ ）は［ラジオメントル（Ｒａｄｉｏ Ｍ
ｅ−ｎｔｏｒ ） ４５ 、１９７９年刊」の［８ｏ年
代のためのＰＣＭ−ディスク（ＰＣＭ−８ｃｈａｌｌｐ
ｌａｔｔｅ ・ｆｕｒｄｉｅ ８０ｅｒ Ｊａｂｒｅ
） Ｊと言う論文に記述されている。この続版りユニッ
トはソリッドステートレーザ形式の放射源を具えている
。このレーザから放出された放射ビームを対物装置によ
り丸い円板状のレコードキャリヤ上に形成した情報構造
体の上に焦点を結ばせる。情報構造体により反射された
読取りビーム（ｒｅａｄ ｂｅａｍ ）は対物装置と８
度交差し、放射源と対物装置との間に配設したスプリッ
ティングプリズムを通過する。上記プリズムは放射源よ
り放出される放射ビームと、この放射ビームの経路をは
ずれて変調された読取りビームとを対にする。従って変
調されたビームは放射ビームの変調に一致した電気信号
を供給する放射鋭敏検出装置に当ることができる。
微小、例えば１μｍあるいはそれ以下のオーダの大きさ
の情報項目を有する情報構造体を読むには、大きな開口
数を有する対物装置が必要である。
の情報項目を有する情報構造体を読むには、大きな開口
数を有する対物装置が必要である。
この様な対物装置の焦点深度は小さい。情報構造体と対
物装置との間の距離は上述の焦点深度を越えた゛変化を
受けるので、上記変動を検出できる一連のステップを取
りこれに対応して焦点合わせを補正する。この為、上記
論文に記述されている様に、スプリッティングプリズム
の射出面にルーフエツジプリズムを配設する。上記プリ
ズムは読取りビームを２個のサブビームに分け、このサ
ブビームを放射鋭敏検出装置を構成する別個の要素に当
てる。この装置はルーフエツジプリズムの屈折端縁と交
差する線上に配設した４個の放射鋭敏要素より成る。外
側の２個の検出要素が供給する信号の総計から内側の２
個の検出要素が供給する信号の総計を減じることにより
、焦点合わせ誤差に比例した信号を得る。
物装置との間の距離は上述の焦点深度を越えた゛変化を
受けるので、上記変動を検出できる一連のステップを取
りこれに対応して焦点合わせを補正する。この為、上記
論文に記述されている様に、スプリッティングプリズム
の射出面にルーフエツジプリズムを配設する。上記プリ
ズムは読取りビームを２個のサブビームに分け、このサ
ブビームを放射鋭敏検出装置を構成する別個の要素に当
てる。この装置はルーフエツジプリズムの屈折端縁と交
差する線上に配設した４個の放射鋭敏要素より成る。外
側の２個の検出要素が供給する信号の総計から内側の２
個の検出要素が供給する信号の総計を減じることにより
、焦点合わせ誤差に比例した信号を得る。
今まではルーフエツジプリズムを別個の要素として高品
質の光学ガラスより造り、次にスプリッティングプリズ
ムに取付けていた。このルーフエツジプリズムは比較的
小さな寸法をしており、かつ非常に傷つきやすい。ルー
フエツジプリズムは大きな頂角、たとえば１７０°と１
８０６との間の頂角を持つ必要があり、必要な精度を具
えた、かつばりのないルーフエツジプリズムを造ること
は離しい。これ等精度やばりは検出要素、すなわち。
質の光学ガラスより造り、次にスプリッティングプリズ
ムに取付けていた。このルーフエツジプリズムは比較的
小さな寸法をしており、かつ非常に傷つきやすい。ルー
フエツジプリズムは大きな頂角、たとえば１７０°と１
８０６との間の頂角を持つ必要があり、必要な精度を具
えた、かつばりのないルーフエツジプリズムを造ること
は離しい。これ等精度やばりは検出要素、すなわち。
これら検出要素の出力信号に関する放射分布に影響スる
。ルーフエツジプリズムの製造及び堆扱いの問題を別と
して、スプリッティングプリズムに対するルーフエツジ
プリズムの必要な精度での心合わせに関する諸問題が生
ずる。
。ルーフエツジプリズムの製造及び堆扱いの問題を別と
して、スプリッティングプリズムに対するルーフエツジ
プリズムの必要な精度での心合わせに関する諸問題が生
ずる。
本−明め目的は上記問題を除去すると共に簡単に製造で
き、しかも低コストなルーフエツジを具えたスプリッテ
ィングプリズムを提供するにある。
き、しかも低コストなルーフエツジを具えたスプリッテ
ィングプリズムを提供するにある。
本発明のスプリッティングプリズムは、硬化させた（
ｃｕｒｅｄ ）透明な合成樹脂材料でルーフエッジプリ
ズムを造ることを特徴とする。
ｃｕｒｅｄ ）透明な合成樹脂材料でルーフエッジプリ
ズムを造ることを特徴とする。
本発明はルーフエツジプリズムが薄い要素であると言う
事実を用いており、従ってルーフエツジプリズムを造る
材料はスプリッティングプリズムを造る材料のような厳
しい要求項目を満す必要はない。入射読取りビームと交
差し、このビームにより放射スポットを形成するこのス
プリッティングプリズムは非常に厳しい要求項目を満す
。
事実を用いており、従ってルーフエツジプリズムを造る
材料はスプリッティングプリズムを造る材料のような厳
しい要求項目を満す必要はない。入射読取りビームと交
差し、このビームにより放射スポットを形成するこのス
プリッティングプリズムは非常に厳しい要求項目を満す
。
ルーフエツジプリズム用の材料としては、充分な液体状
態でスプリッティングプリズムに落下した後、たとえば
熱的にあるー°は放射を受けて硬化可能なものであれば
、穐々の透明なプラスチックあるいはラッカ等もルーフ
エツジプリズム用の材料とし【使用できる。スプリッテ
ィングプリズムの好適な実施例では、ルーフエツジプリ
ズムを紫外線の影響により硬化する合成樹脂材料で造る
ことを特徴とする。
態でスプリッティングプリズムに落下した後、たとえば
熱的にあるー°は放射を受けて硬化可能なものであれば
、穐々の透明なプラスチックあるいはラッカ等もルーフ
エツジプリズム用の材料とし【使用できる。スプリッテ
ィングプリズムの好適な実施例では、ルーフエツジプリ
ズムを紫外線の影響により硬化する合成樹脂材料で造る
ことを特徴とする。
本発明のルーフエツジプリズムを具えるスプリッティン
グプリズムの製造方法は、液状の合成樹脂材料をビーム
スプリッティングプリズムの射出えるダイス面を持った
ダイスを滴下した合成樹脂材料に圧入し、合成樹脂材料
を硬化させた後ダイスを取除くことを特徴とする。
グプリズムの製造方法は、液状の合成樹脂材料をビーム
スプリッティングプリズムの射出えるダイス面を持った
ダイスを滴下した合成樹脂材料に圧入し、合成樹脂材料
を硬化させた後ダイスを取除くことを特徴とする。
調整工具により必要な精度を持ってダイスを位置決めし
心合わせすることができる。これはプリズム支持体に関
するルーフエツジプリズムの屈折端縁の方向及び位置、
すなわちスプリッティングプリズムの属する装置の光軸
に関するルーフエツジプリズムの屈折一端縁の方向及び
位置をスプリッティングプリズムの射出面の方向に正確
かつ無関係に決めることを可能とする。これは上記表面
とダイスとの間の全空間が透明な合成樹脂材料で満され
るととに因る。
心合わせすることができる。これはプリズム支持体に関
するルーフエツジプリズムの屈折端縁の方向及び位置、
すなわちスプリッティングプリズムの属する装置の光軸
に関するルーフエツジプリズムの屈折一端縁の方向及び
位置をスプリッティングプリズムの射出面の方向に正確
かつ無関係に決めることを可能とする。これは上記表面
とダイスとの間の全空間が透明な合成樹脂材料で満され
るととに因る。
合成樹脂材料が紫外線により硬化する物質であれば、こ
の物質がダイスを通して紫外線に晒らされるように透明
なダイスを用いるのが良い。
の物質がダイスを通して紫外線に晒らされるように透明
なダイスを用いるのが良い。
硬化した物質をダイスから容易に分離する為、゛好適に
はダイスに非粘着層を設ける。
はダイスに非粘着層を設ける。
以下図面を参照しながら本発明の詳細な説明する。
第１図は丸い円板状のレコードキャリヤ１の半径方向断
面における１部を示す。レコードキャリヤの上面に取付
けた放射線反射情報構造体は情報トラック２内に配設さ
れた多数の情報区域を具える。この情報構造体をたとえ
ばソリッドステートレーザのような読取りビームｂを発
生する放射源８によって走査する。レンズ番は発散ビー
ムを対物装置５の瞳を適切に満す断面積をした平行ビー
ムに形成する。従ってこの対物装置は情報構造体上に微
細な大きさの放射スボ７）Ｖを形成する。
面における１部を示す。レコードキャリヤの上面に取付
けた放射線反射情報構造体は情報トラック２内に配設さ
れた多数の情報区域を具える。この情報構造体をたとえ
ばソリッドステートレーザのような読取りビームｂを発
生する放射源８によって走査する。レンズ番は発散ビー
ムを対物装置５の瞳を適切に満す断面積をした平行ビー
ムに形成する。従ってこの対物装置は情報構造体上に微
細な大きさの放射スボ７）Ｖを形成する。
読取りビームは情報構造体により反射されるが、レコー
ドキャリヤが読取りビームに対し相対的運動する際、レ
コードキャリヤに記憶された情報に従いこれに合わせて
反射ビームは変調されるｉ変調されたビームを放射源よ
り放出されたビームから分離するため、放射源と対物装
置との間にビームスプリティングプリズム６を配設する
。このプリズムは２個のプリズム状要素７と８とを具え
、その間にはビームスプリティング層９が配置されてい
る。プリズム６は入射面１０と射出面１１とを有する。
ドキャリヤが読取りビームに対し相対的運動する際、レ
コードキャリヤに記憶された情報に従いこれに合わせて
反射ビームは変調されるｉ変調されたビームを放射源よ
り放出されたビームから分離するため、放射源と対物装
置との間にビームスプリティングプリズム６を配設する
。このプリズムは２個のプリズム状要素７と８とを具え
、その間にはビームスプリティング層９が配置されてい
る。プリズム６は入射面１０と射出面１１とを有する。
層９を半透値にすることができる。読取りユニツ）Ｋお
ける放射損失を最小にするため、偏光鋭敏スプリッティ
ング層を使用するのが好まし〜へ。対物装置とプリズム
６との間に４板１２を配設する。ここでλは読取りビー
ムｂの波長である。読取りビームはこのプリズムを２度
横切り、読取りビームの偏光面は全体と、して９０°回
転する。従って放射源から放出されたビームはどのプリ
ズムをほぼ完全に透過するのに対し、変調されたビーム
は放射鋭敏検出装置に向けほぼ完全に反射する。この検
出装置はレコードキャリヤ内に記憶された情報に従って
変調された信号を供給する。
ける放射損失を最小にするため、偏光鋭敏スプリッティ
ング層を使用するのが好まし〜へ。対物装置とプリズム
６との間に４板１２を配設する。ここでλは読取りビー
ムｂの波長である。読取りビームはこのプリズムを２度
横切り、読取りビームの偏光面は全体と、して９０°回
転する。従って放射源から放出されたビームはどのプリ
ズムをほぼ完全に透過するのに対し、変調されたビーム
は放射鋭敏検出装置に向けほぼ完全に反射する。この検
出装置はレコードキャリヤ内に記憶された情報に従って
変調された信号を供給する。
対物装置の焦点合わせの平面と情報構造体の平面との間
のずれの大きさと方向との指標を与える焦点合わせ誤差
信号を発生するため、ルーフエツジプリズム１４をビー
ムスプリッティングプリズム６の射出面１１上に配設し
、放射鋭敏装置１Ｂを４個の放射鋭敏要素で形成する。
のずれの大きさと方向との指標を与える焦点合わせ誤差
信号を発生するため、ルーフエツジプリズム１４をビー
ムスプリッティングプリズム６の射出面１１上に配設し
、放射鋭敏装置１Ｂを４個の放射鋭敏要素で形成する。
これ等要素を第２図の１６．１７．１８および１９に示
す。第２図は焦点合わせ誤差検出の原理を説明するもの
で、ルーフエツジプリズムを具えたビームスプリッティ
ングプリズムの平面図である。第２図に示すように、プ
リズム１４の屈折端縁１５を読取りユニットの光軸、す
なわち第１図の００′に平行−とすることができる。し
かしながら第１ｒＩＡＫ示すように、屈折端縁１５を光
軸００′に交差して配置すルタめ、ルーフエツジプリズ
ムと検出装置との配列を６０°回転することも択一的に
可能である。
す。第２図は焦点合わせ誤差検出の原理を説明するもの
で、ルーフエツジプリズムを具えたビームスプリッティ
ングプリズムの平面図である。第２図に示すように、プ
リズム１４の屈折端縁１５を読取りユニットの光軸、す
なわち第１図の００′に平行−とすることができる。し
かしながら第１ｒＩＡＫ示すように、屈折端縁１５を光
軸００′に交差して配置すルタめ、ルーフエツジプリズ
ムと検出装置との配列を６０°回転することも択一的に
可能である。
屈折端縁が光軸００′に平行な位置と、光軸００′に交
差する位置との間の中間装置にあっても良い。
差する位置との間の中間装置にあっても良い。
ルーフエツジプリズムは、検出要素１ｆ１．１７及び１
８．１９にそれぞれ共働する２個のサブビームｂ０とｂ
２とにビームｂを分ける。
８．１９にそれぞれ共働する２個のサブビームｂ０とｂ
２とにビームｂを分ける。
ビームスプリティングプリズムを通過すると、読取りビ
ームの２個のビーム半部は異なった強度を有する。すな
わち、第１図および第２図に示した実施例において、ビ
ームスプリッティング層９により反射されたビームの上
半部の強度は下半部の強度より小い。上述の効果の結果
としてのサブビームｂ０とす、との強度の差異を防ぐた
め、好適にはルーフエツジプリズムの屈折端縁を光軸Ｏ
Ｏ′に平行に配置するのが良い。
ームの２個のビーム半部は異なった強度を有する。すな
わち、第１図および第２図に示した実施例において、ビ
ームスプリッティング層９により反射されたビームの上
半部の強度は下半部の強度より小い。上述の効果の結果
としてのサブビームｂ０とす、との強度の差異を防ぐた
め、好適にはルーフエツジプリズムの屈折端縁を光軸Ｏ
Ｏ′に平行に配置するのが良い。
第１図及び第３図は読取りビームが正確に情報構造体の
平面上に焦点を結んだ状態を表わす。反射したビームの
焦点がルーフエツジプリズム１４の屈折端縁１５上に正
確に位置するよう読取りユニットを使用する。正確に焦
点が合った場合にサブビームｂ１とす、とは、関連する
それぞれの検出要素・１６．１？および１８．１９に対
称に入射する。焦点合わせが正確でない場合には、関連
する検出要素に対するそれぞれのサブビームｂ０とす。
平面上に焦点を結んだ状態を表わす。反射したビームの
焦点がルーフエツジプリズム１４の屈折端縁１５上に正
確に位置するよう読取りユニットを使用する。正確に焦
点が合った場合にサブビームｂ１とす、とは、関連する
それぞれの検出要素・１６．１？および１８．１９に対
称に入射する。焦点合わせが正確でない場合には、関連
する検出要素に対するそれぞれのサブビームｂ０とす。
とのエネルギ分布が変化するが、これは検出要素に対す
るサブビームの偏移と見なすことができる。
るサブビームの偏移と見なすことができる。
放射源より放出されたビームの焦点が、情報源の平面よ
り上方に位置する場合、反射したビームの焦点ｙは第３
図において屈折端縁１５の右側に位置する。これはビー
ムｂ１． ｂ、の内側への偏移に対応するので、検出要
素１６．１９の受ける放射エネルギは検出要素１７．１
８の受ける放射エネルギより少ない。放射源より放出さ
れたリードビームの焦点が情報構造体の平面より下方に
位置する場合には、状態は逆転し検出要素１７，１８の
受ける放射エネルギは検出要素１６．１９の受ける放射
エネルギより少ない。第２図に示した様に、検出要素１
７．１８からの信号を第１の加算器２０に加えると共に
検出要素１６．１９からの信号を第２の加算器２１に加
え、これら加算器からのｄ力信号な差動増幅器２１に加
えるととＫより、焦点合わせ誤差信号Ｓ、が得られる。
り上方に位置する場合、反射したビームの焦点ｙは第３
図において屈折端縁１５の右側に位置する。これはビー
ムｂ１． ｂ、の内側への偏移に対応するので、検出要
素１６．１９の受ける放射エネルギは検出要素１７．１
８の受ける放射エネルギより少ない。放射源より放出さ
れたリードビームの焦点が情報構造体の平面より下方に
位置する場合には、状態は逆転し検出要素１７，１８の
受ける放射エネルギは検出要素１６．１９の受ける放射
エネルギより少ない。第２図に示した様に、検出要素１
７．１８からの信号を第１の加算器２０に加えると共に
検出要素１６．１９からの信号を第２の加算器２１に加
え、これら加算器からのｄ力信号な差動増幅器２１に加
えるととＫより、焦点合わせ誤差信号Ｓ、が得られる。
入力側を加算器２０．２１に接続した第゛８の加算器２
８により情報信号８１を回復することができる。
８により情報信号８１を回復することができる。
代案として正確に焦点合わせが行なわれた場合に反射し
たビームの焦点Ｆが検出要素の平面内に位置するよ５に
読取りユニットを構成することも可能である。すなわち
放射源より放出されたビームの焦点があまりにも高い場
合には、焦点Ｆは右側に移動するが検出要素１６．１９
の受ける放射エネルギは検出要素１７．１８の受ける放
射エネルギより太い。
たビームの焦点Ｆが検出要素の平面内に位置するよ５に
読取りユニットを構成することも可能である。すなわち
放射源より放出されたビームの焦点があまりにも高い場
合には、焦点Ｆは右側に移動するが検出要素１６．１９
の受ける放射エネルギは検出要素１７．１８の受ける放
射エネルギより太い。
４個の放射鋭敏要素の代りに８個の検出要素、たとえば
第３図の要素１６．１７．１８だけを具えた検出装置も
可能である。この場合には、検出要素１６．１？の出力
信号を互いに減することにより焦点合わせ誤差信号を得
ると共に８個の要素１６．１７および１８の出力信号を
互いに加えるととＫより情報信号を得る。
第３図の要素１６．１７．１８だけを具えた検出装置も
可能である。この場合には、検出要素１６．１？の出力
信号を互いに減することにより焦点合わせ誤差信号を得
ると共に８個の要素１６．１７および１８の出力信号を
互いに加えるととＫより情報信号を得る。
第１図と第２図とＫそれぞれ示すよ５に、ルーフエツジ
プリズム１４の基底あるいは屈折端縁Ｉｓのいずれか一
方をビームスプリッティングプリズムの射出面１１に対
向して取付ける。ルーフエツジプリズムの頂角αを大き
な値、例えばおよそ１７０６に選ぶとすると、プリズム
１４はどちらの場合にも実質的に同一の作用を有する。
プリズム１４の基底あるいは屈折端縁Ｉｓのいずれか一
方をビームスプリッティングプリズムの射出面１１に対
向して取付ける。ルーフエツジプリズムの頂角αを大き
な値、例えばおよそ１７０６に選ぶとすると、プリズム
１４はどちらの場合にも実質的に同一の作用を有する。
検出要素を可能な限り近づけて配設すると共に単一の一
体の検出器として構成できるようＫするため、頂角を可
能な限り大きく選ぶ。
体の検出器として構成できるようＫするため、頂角を可
能な限り大きく選ぶ。
本発明では、ルーフエツジプリズムを硬化させた合成樹
脂材料より造る。第８図はルーフエツジプリズム１４が
配設されたビームスプリッティングプリズムのプリズム
半部テを誇張した斜視図である。実施例ではプリズムは
底面積４ Ｘ ４ ｒｎｗｔ 、最大高さ２００μｍオ
ーダ、頂角αはぼ１７０°である。
脂材料より造る。第８図はルーフエツジプリズム１４が
配設されたビームスプリッティングプリズムのプリズム
半部テを誇張した斜視図である。実施例ではプリズムは
底面積４ Ｘ ４ ｒｎｗｔ 、最大高さ２００μｍオ
ーダ、頂角αはぼ１７０°である。
第４図はどのようにしたらルーフエツジプリズムを造る
ことができるかを略図的に表わす図である。たとえば紫
外線に晒すと硬化する透明物質の適量をプリズム要素７
の射出面ＩＮＫ落す。これを平面図に示す。工具（図示
せず）のダイス２５を必要な高精度で位置決めし、２個
のダイス面部分２５Ａと２５Ｂとの交線をビームスプリ
ッティングプリズム支持体（図示せず）の中心の軸線か
ら正確に離間して位置させ、上記軸線を光軸００′に対
し正しく、すなわち、上記光軸に平行あるいは交差させ
て向ける。次に滴下した合成樹脂材料に紫外線２８を照
射する。透明なダイスを用いれば、ダイスを通して照射
が可能である。材料が硬化したらダイスを後退させる。
ことができるかを略図的に表わす図である。たとえば紫
外線に晒すと硬化する透明物質の適量をプリズム要素７
の射出面ＩＮＫ落す。これを平面図に示す。工具（図示
せず）のダイス２５を必要な高精度で位置決めし、２個
のダイス面部分２５Ａと２５Ｂとの交線をビームスプリ
ッティングプリズム支持体（図示せず）の中心の軸線か
ら正確に離間して位置させ、上記軸線を光軸００′に対
し正しく、すなわち、上記光軸に平行あるいは交差させ
て向ける。次に滴下した合成樹脂材料に紫外線２８を照
射する。透明なダイスを用いれば、ダイスを通して照射
が可能である。材料が硬化したらダイスを後退させる。
硬化した材料からのダイスの分離を容易にするため非粘
着性コーティングをダイスに施しても良い。
着性コーティングをダイスに施しても良い。
ダイスを通して照射する場合、ダイスの材料は紫外線照
射に対してだけは充分透明でなくてはなラナイ、ビーム
スプリッティングプリズムを通しての照射も可能である
。その場合、プリズム材料は紫外線と読取りビームとの
放射の両方に対し充分透明でなくてはならない。ビーム
スプリッティングプリズムを通して照射される場合には
、ダイスを介して照射される場合より照射を受ける面積
はより大きいのでダイス面の外側の余分な合成樹脂材料
もまた硬化する。
射に対してだけは充分透明でなくてはなラナイ、ビーム
スプリッティングプリズムを通しての照射も可能である
。その場合、プリズム材料は紫外線と読取りビームとの
放射の両方に対し充分透明でなくてはならない。ビーム
スプリッティングプリズムを通して照射される場合には
、ダイスを介して照射される場合より照射を受ける面積
はより大きいのでダイス面の外側の余分な合成樹脂材料
もまた硬化する。
紫外線により硬化する物質の代わりに、たとえばエポキ
シ樹脂のようなほぼ液体状で使用でき、ダイスをあてた
時加熱により硬化する、あるいは冷却した状態で硬化す
る他の合成樹脂材料、または紫外線以外のものの放射を
受は硬化する合成樹脂材料を用いることもできる。
シ樹脂のようなほぼ液体状で使用でき、ダイスをあてた
時加熱により硬化する、あるいは冷却した状態で硬化す
る他の合成樹脂材料、または紫外線以外のものの放射を
受は硬化する合成樹脂材料を用いることもできる。
好適には突出したダイス面を具える第４図に示すダイス
を使用し、第８図に示したルーフエツジプリズムを得る
ことができる。この様にして造る場合には、ルーフエツ
ジプリズムの中に気泡が発生する危険性は最小となる。
を使用し、第８図に示したルーフエツジプリズムを得る
ことができる。この様にして造る場合には、ルーフエツ
ジプリズムの中に気泡が発生する危険性は最小となる。
また、もし合成樹脂材料が収縮するならば追加の合成樹
脂材料をダイス面の外側から補充すれば良い。
脂材料をダイス面の外側から補充すれば良い。
ビームスプリッティングプリズム６”は２個の要素フと
８とを具え、この中の一方がスプリッティング層９を担
持する。この２個の要素を紫外線により硬化する接合剤
で互いに固着する。ビームスプリッティングプリズムの
組立てとルーフエツジプリズムの形成とを１個の取付具
を使用して同時に行うことができる。
８とを具え、この中の一方がスプリッティング層９を担
持する。この２個の要素を紫外線により硬化する接合剤
で互いに固着する。ビームスプリッティングプリズムの
組立てとルーフエツジプリズムの形成とを１個の取付具
を使用して同時に行うことができる。
光学的読取りユニツ）ＫＳける使用に関連して本発明を
説明してきたが、書込みユニットあるいはこれ等を組み
合わせた書込み一読取りユニットにおいても使用できる
。既述した読取りユニットと同様な方法で書込みユニッ
トを構成する。たとえば金属層にピットを設けて情報を
記録するＫは、読取るより一層のエネルギを必要とし、
更に、書込むべき情報に対応して時間的に書込み用ビー
ムを変調しなければならない。書込みユニット用の放射
源は、ヘリウムネオンレーザのようなガスレーザであっ
て良く、電気−光学あるいは音蕃−光学変調器のような
変調器を書込みビームの経路に配設する。あるいはダイ
オードレーザな使用することができ、ダイオードレーザ
により電流を変化させることにより書込みビームを変調
するので別個の変ｉｌｌ器は必要でない。
説明してきたが、書込みユニットあるいはこれ等を組み
合わせた書込み一読取りユニットにおいても使用できる
。既述した読取りユニットと同様な方法で書込みユニッ
トを構成する。たとえば金属層にピットを設けて情報を
記録するＫは、読取るより一層のエネルギを必要とし、
更に、書込むべき情報に対応して時間的に書込み用ビー
ムを変調しなければならない。書込みユニット用の放射
源は、ヘリウムネオンレーザのようなガスレーザであっ
て良く、電気−光学あるいは音蕃−光学変調器のような
変調器を書込みビームの経路に配設する。あるいはダイ
オードレーザな使用することができ、ダイオードレーザ
により電流を変化させることにより書込みビームを変調
するので別個の変ｉｌｌ器は必要でない。
第１図はビームスプリッティングプリズムと、関連する
ルーフエツジプリズムとを具備した光学的読取りユニッ
トの実施例の縦断面図、第２図はビームスプリッティン
グプリズムと、関連する放射鋭敏検出装置の平面図、 第８図はビームスプリッティングルーフエツジプリズム
を具備したスプリッティングプリズムの一部斜視図、 第４図はルーフエツジプリズムの製造方法を示す説明図
である。４ １・・・レコードキャリヤ、２・・・情報トラック、８
・・・放射１．４・・・レンズ、６・・・対物システム
、６・・・ビームスプリッティングプリズム、フ、８・
・・プリズム状要素、 ９・・・ビームスプリッティング層、 １０・・・入射面、１１・・・射出面、１８・・・放射
鋭敏装置、１４・・・プリズム、１５・・・屈折端縁、
１６〜１９・・・放射鋭敏要素、２０・・・第１の加算
器、２１・・・第２の加算器、２２・・・差動増幅器、
２５・・・ダイス、２５Ａ、２５Ｂ・・・ダイス面部分
、２８・・・紫外線。 フルーイランペンファブリケン
ルーフエツジプリズムとを具備した光学的読取りユニッ
トの実施例の縦断面図、第２図はビームスプリッティン
グプリズムと、関連する放射鋭敏検出装置の平面図、 第８図はビームスプリッティングルーフエツジプリズム
を具備したスプリッティングプリズムの一部斜視図、 第４図はルーフエツジプリズムの製造方法を示す説明図
である。４ １・・・レコードキャリヤ、２・・・情報トラック、８
・・・放射１．４・・・レンズ、６・・・対物システム
、６・・・ビームスプリッティングプリズム、フ、８・
・・プリズム状要素、 ９・・・ビームスプリッティング層、 １０・・・入射面、１１・・・射出面、１８・・・放射
鋭敏装置、１４・・・プリズム、１５・・・屈折端縁、
１６〜１９・・・放射鋭敏要素、２０・・・第１の加算
器、２１・・・第２の加算器、２２・・・差動増幅器、
２５・・・ダイス、２５Ａ、２５Ｂ・・・ダイス面部分
、２８・・・紫外線。 フルーイランペンファブリケン
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 Ｌ 放射ビームの入射面と、ビームスプリッティングプ
リズムの内側に屈曲した放射ビームのビームスプリッテ
ィング面及び射出面と、前記射出面上に配設され屈折端
縁な有するルー７エツジプリズムとを具え、プリズム状
のガラス要素の一部を前記−入射面と、前記射出面とで
構成した前記ビームスプリッティングプリズムにおいて
、 前記ルーフエツジプリズムを硬化させた透明な合成樹脂
材料で造ることを特徴とするビームスプリッティングプ
リズム。 亀 前記ルーフエツジプリズムを紫外線の影響により硬
化する合成樹脂材料で造ることを特徴とする特許請求の
範囲第１項に記載のビームスプリッティングプリズム。 亀 放射源と、放射スポットを情報面に形成するよ５前
記放射源より放射されたビームを焦点合わせする対物装
置と、前記放射源と前記対物装置との間に配列され前記
ルー７エツジプリズムを具備する前記ビームスプリッテ
ィングプリズムとを具え、前記情報面で反射されるビー
ムを前記放射源より放出されると一部の放射経路からそ
らすと共に、前記情報面で反射される前記ビームを放射
鋭敏検出装置に向ける作用を有するよう前記ビームスプ
リッティングプリズムを構成した放射線反射情報面の情
報区域の読取りおよび／または書込み用の光学的読取り
および／または書込みユニットに使用する特許請求の範
囲第１項に記載のビームスプリッティングプリズム。 ４ 放射ビームの入射面と、ビームスプリッティングプ
リズムの内側に屈曲した放射ビームのビームスプリッテ
ィング面及び射出間と、前記射出面上に配設された屈折
端縁を有するルーフエツジプリズムとを具え、プリズム
状のガラス要素の一部を前記入射面と、前記射出面とで
構成した前記ビームスプリッティングプリズムを製造す
るにあたり、 液状の合成樹脂材料を前記−ビームスプリッティングプ
リズムの射出面に滴下し、鈍角に囲む２個のダイス面部
分を具えるダイス面を持ったダイスを前記滴下した合成
樹脂材料に圧入し、前記合成樹脂材料を硬化させた後前
記ダイスを取除くことを特徴とするビームスプリッティ
ングプリズムの製造方法。 狐 前記合成樹脂材料が紫外線により硬化する物質であ
って、透明なにダイスを使用することを特徴とする特許
饋求の範囲第４項に記載のビームスプリッティングプリ
ズムの製造方法。 ａ 非粘着性コーティングを施したダイスを使用するこ
とを特徴とする特許饋求の範囲第４項または第６項のい
ずれか一項に記載のビームスプリッティングプリズムの
製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8104588A NL8104588A (nl) | 1981-10-08 | 1981-10-08 | Bundelscheidingsprisma, werkwijze voor het vervaardigen van dit prisma en van dit prisma voorziene optische lees- en/of schrijfeenheid. |
| NL8104588 | 1981-10-08 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5872104A true JPS5872104A (ja) | 1983-04-30 |
Family
ID=19838192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57174118A Pending JPS5872104A (ja) | 1981-10-08 | 1982-10-05 | ビ−ムスプリツテイングプリズム及びその製造方法 |
Country Status (17)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4489408A (ja) |
| JP (1) | JPS5872104A (ja) |
| KR (1) | KR890001223B1 (ja) |
| AU (1) | AU549592B2 (ja) |
| BE (1) | BE894618A (ja) |
| CA (1) | CA1186926A (ja) |
| CH (1) | CH660803A5 (ja) |
| DD (1) | DD204168A5 (ja) |
| DE (1) | DE3235627A1 (ja) |
| ES (2) | ES8400828A1 (ja) |
| FR (1) | FR2514516B1 (ja) |
| GB (1) | GB2107483B (ja) |
| HK (1) | HK2686A (ja) |
| IT (1) | IT1152694B (ja) |
| NL (1) | NL8104588A (ja) |
| SE (1) | SE8205670L (ja) |
| ZA (1) | ZA826547B (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL8304212A (nl) * | 1983-12-07 | 1984-10-01 | Philips Nv | Enkelvoudige collimatorlens met een asferisch oppervlak. |
| US4670869A (en) * | 1984-01-03 | 1987-06-02 | Magnetic Peripherals Inc. | Switching laser beam apparatus with recombined beam for recording |
| NL8400868A (nl) * | 1984-03-19 | 1984-10-01 | Philips Nv | Gelaagde optische component. |
| NL8403034A (nl) * | 1984-10-05 | 1986-05-01 | Philips Nv | Opto-elektronisch fokusfout-detektiestelsel. |
| NL8501489A (nl) * | 1985-05-24 | 1986-12-16 | Philips Nv | Positie-gevoelige stralingsdetector. |
| US5231621A (en) * | 1986-09-05 | 1993-07-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Focus detector which serves to split off a portion of a detected light beam only when the detected light beam is not refocused at an expected refocus point |
| JPH0734264B2 (ja) * | 1986-09-05 | 1995-04-12 | キヤノン株式会社 | 光学式情報記録再生装置 |
| EP0283002B1 (en) * | 1987-03-17 | 1994-02-16 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical head |
| JPH02265028A (ja) * | 1989-04-06 | 1990-10-29 | Mitsubishi Electric Corp | 光記録再生装置 |
| CA2012401C (en) * | 1989-05-26 | 1994-05-10 | Anthony G. Dewey | Focus-error detection using prism-enhanced spot size monitoring |
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| US5216562A (en) * | 1990-09-25 | 1993-06-01 | International Business Machines Corporation | Multi-beam optical recording system and method |
| US5245174A (en) * | 1990-10-15 | 1993-09-14 | Applied Magnetics Corporation | Focus sensing apparatus utilizing a reflecting surface having variable reflectivity |
| GB2248989B (en) * | 1990-10-15 | 1995-05-24 | Applied Magnetics Corp | Focus sensing apparatus and method |
| US5331622A (en) * | 1991-05-28 | 1994-07-19 | Applied Magnetics Corporation | Compact optical head |
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| DE10125469B4 (de) | 2001-05-25 | 2008-01-10 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Vorrichtung zur Ermittlung einer Lichtleistung, Mikroskop und Verfahren zur Mikroskopie |
| US7808617B2 (en) * | 2007-09-17 | 2010-10-05 | Quality Vision International, Inc. | Dual resolution, dual range sensor system and method |
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| JPS5512774A (en) * | 1978-07-13 | 1980-01-29 | Mitsubishi Electric Corp | Manufacturing method for semiconductor luminescent device |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL63926C (ja) * | ||||
| US2178245A (en) * | 1936-06-24 | 1939-10-31 | Klangfilm Gmbh | Sound recording apparatus |
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| DE2722470A1 (de) * | 1977-05-18 | 1978-11-23 | Eder Siebdruck Kunststoffverar | Keilscheibenanordnung zur gleichmaessigen ausleuchtung von flaechen |
-
1981
- 1981-10-08 NL NL8104588A patent/NL8104588A/nl not_active Application Discontinuation
- 1981-12-09 US US06/328,969 patent/US4489408A/en not_active Expired - Fee Related
-
1982
- 1982-09-07 ZA ZA826547A patent/ZA826547B/xx unknown
- 1982-09-25 DE DE19823235627 patent/DE3235627A1/de active Granted
- 1982-09-30 CA CA000412615A patent/CA1186926A/en not_active Expired
- 1982-10-04 GB GB08228244A patent/GB2107483B/en not_active Expired
- 1982-10-05 KR KR8204481A patent/KR890001223B1/ko active
- 1982-10-05 IT IT23619/82A patent/IT1152694B/it active
- 1982-10-05 SE SE8205670A patent/SE8205670L/xx not_active Application Discontinuation
- 1982-10-05 DD DD82243800A patent/DD204168A5/de unknown
- 1982-10-05 JP JP57174118A patent/JPS5872104A/ja active Pending
- 1982-10-05 CH CH5848/82A patent/CH660803A5/de not_active IP Right Cessation
- 1982-10-05 AU AU89125/82A patent/AU549592B2/en not_active Ceased
- 1982-10-05 ES ES516223A patent/ES8400828A1/es not_active Expired
- 1982-10-06 BE BE0/209185A patent/BE894618A/fr not_active IP Right Cessation
- 1982-10-06 FR FR8216740A patent/FR2514516B1/fr not_active Expired
-
1983
- 1983-07-27 ES ES524474A patent/ES524474A0/es active Granted
-
1986
- 1986-01-16 HK HK26/86A patent/HK2686A/xx unknown
Patent Citations (1)
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|---|---|---|---|---|
| JPS5512774A (en) * | 1978-07-13 | 1980-01-29 | Mitsubishi Electric Corp | Manufacturing method for semiconductor luminescent device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ES8404520A1 (es) | 1984-04-16 |
| DE3235627C2 (ja) | 1987-11-26 |
| GB2107483A (en) | 1983-04-27 |
| FR2514516B1 (fr) | 1986-08-29 |
| CA1186926A (en) | 1985-05-14 |
| ES524474A0 (es) | 1984-04-16 |
| SE8205670D0 (sv) | 1982-10-05 |
| FR2514516A1 (fr) | 1983-04-15 |
| BE894618A (fr) | 1983-04-06 |
| NL8104588A (nl) | 1983-05-02 |
| GB2107483B (en) | 1985-07-17 |
| CH660803A5 (de) | 1987-06-15 |
| ES516223A0 (es) | 1983-11-01 |
| IT8223619A0 (it) | 1982-10-05 |
| US4489408A (en) | 1984-12-18 |
| KR840002113A (ko) | 1984-06-11 |
| AU8912582A (en) | 1983-04-14 |
| AU549592B2 (en) | 1986-01-30 |
| DD204168A5 (de) | 1983-11-16 |
| HK2686A (en) | 1986-01-24 |
| ZA826547B (en) | 1984-04-25 |
| DE3235627A1 (de) | 1983-04-28 |
| ES8400828A1 (es) | 1983-11-01 |
| SE8205670L (sv) | 1983-04-09 |
| IT1152694B (it) | 1987-01-07 |
| KR890001223B1 (ko) | 1989-04-27 |
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